JPH0834865A - Method for improving adhesion of polyimide film and polyimide film having improved adhesion - Google Patents

Method for improving adhesion of polyimide film and polyimide film having improved adhesion

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JPH0834865A
JPH0834865A JP19370694A JP19370694A JPH0834865A JP H0834865 A JPH0834865 A JP H0834865A JP 19370694 A JP19370694 A JP 19370694A JP 19370694 A JP19370694 A JP 19370694A JP H0834865 A JPH0834865 A JP H0834865A
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Japan
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polyimide film
film
adhesiveness
improving
treatment
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JP19370694A
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Japanese (ja)
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Masao Nakada
雅郎 中田
Kosuke Kataoka
孝介 片岡
Yoshihide Onari
義秀 大成
Kosaku Nagano
広作 永野
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 近年の高接着化要求を満足する優れた接着性
改善効果を得ることのできるポリイミドフィルムの接着
性改善方法及び接着性を改善したポリイミドフィルムを
提供することを目的とする。 【構成】 ポリイミドフィルム18を一定のラインスピ
ードで走行させ、サンドブラスト処理装置12のサンド
ブラスト吹き出しノズル22からフィルム表面に研削材
を吹き付けて表面処理を行い、その後、コロナ放電処理
装置14に導入して該表面にコロナ放電処理を施すこと
により、優れたポリイミドフィルムの接着性改善効果が
安定的に得られた。かかる方法により表面処理されたポ
リイミドフィルムは、フィルム表面に凹凸が形成されて
接着面積が増加するとともに表面脆弱層及び汚染層が除
去され、さらに該表面が親水化されており、優れた接着
性を示すものである。
(57) [Summary] [Objective] An object of the present invention is to provide a method for improving the adhesiveness of a polyimide film capable of obtaining an excellent effect of improving the adhesiveness that satisfies the recent demand for high adhesiveness, and a polyimide film having the improved adhesiveness. And [Structure] A polyimide film 18 is run at a constant line speed, an abrasive is sprayed onto the film surface from a sandblasting nozzle 22 of a sandblasting treatment device 12 to perform a surface treatment, and then the film is introduced into a corona discharge treatment device 14. By subjecting the surface to corona discharge treatment, an excellent effect of improving the adhesiveness of the polyimide film was stably obtained. Polyimide film surface-treated by such a method, unevenness is formed on the film surface to increase the adhesive area and the surface fragile layer and the contaminated layer are removed, and the surface is hydrophilized to provide excellent adhesiveness. It is shown.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ポリイミドフィルムの
接着性改善方法及び接着性を改善したポリイミドフィル
ムに関し、更に詳しくは接着剤に影響を与えず、優れた
接着性改善効果が安定的に得られるポリイミドフィルム
の接着性改善方法及びかかる接着性改善方法により接着
性を改善したポリイミドフィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for improving the adhesiveness of a polyimide film and a polyimide film having an improved adhesiveness, more specifically, it does not affect the adhesive and can stably obtain an excellent adhesiveness improving effect. The present invention relates to a method for improving adhesion of a polyimide film, and a polyimide film having improved adhesion by the method for improving adhesion.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、ポリイミドフィルムは、接着剤を
用いて金属箔(主に銅箔)と張り合わせたり、蒸着法、
メッキ法、又はスパッタ法によりフィルム層と金属層か
らなる積層板に加工したりして、FPC(フレキシブル
プリント配線板)のベースフィルムとして使用される。
ところが、従来のポリイミドフィルムは表面の接着性に
乏しいことが問題になっており、そのままでは製品の不
良を生じる原因となっていた。
2. Description of the Related Art Generally, a polyimide film is laminated with a metal foil (mainly a copper foil) using an adhesive, a vapor deposition method,
It is used as a base film of an FPC (flexible printed wiring board) after being processed into a laminated plate composed of a film layer and a metal layer by a plating method or a sputtering method.
However, the conventional polyimide film has a problem that the surface has poor adhesiveness, and as it is, it has been a cause of product defects.

【0003】ところで、ポリイミドフィルムの表面は、
フィルムの製膜工程において溶液をキャスティングし縮
合重合させて製膜する結果、安定剤や添加剤等を混入し
た場合にも、フィルムの表面形状は平滑となる。そし
て、ポリイミドフィルムの表面の接着性が乏しい原因の
1つは、この平滑な表面形状にあることが考えられる。
すなわち、フィルムの表面形状が平滑であると、フィル
ムと接着剤との実接着面積が比較的小さくなってしまう
ことから、充分な接着強度が得られないと考えられる。
By the way, the surface of the polyimide film is
As a result of casting a solution and conducting condensation polymerization to form a film in the film forming step, the surface shape of the film becomes smooth even when a stabilizer, an additive or the like is mixed. It is considered that one of the causes of the poor adhesion of the surface of the polyimide film is the smooth surface shape.
That is, if the surface shape of the film is smooth, the actual adhesive area between the film and the adhesive becomes relatively small, and it is considered that sufficient adhesive strength cannot be obtained.

【0004】また、このようにして溶液キャスト法で得
られたポリイミドフィルムの表面には、製膜時に混入さ
れた安定剤や添加剤が優先的にブリードし、表面脆弱層
(WBL;Weak Boundary Layer )が形成されること
や、この他にもWBL形成物としてオリゴマー等の低分
子重合体の表面への移行が加速される場合があることが
学術的に知られている。また、製膜工程中の設備から発
生したり、大気中に存在する油分等の汚染物質がフィル
ムに付着し、汚染層を形成する場合も考えられる。これ
らの層はフィルム表面から剥離しやすいため、接着剤等
により接着させる場合にフィルムのモレキュラスケール
まで強力に接着させることができず、かかる層の存在も
フィルムの接着性を阻害する要因となると考えられてい
る。
Further, the surface of the polyimide film thus obtained by the solution casting method is predominantly bleeded with the stabilizers and additives mixed during the film formation, and the surface fragile layer (WBL: Weak Boundary Layer). ) Is formed, and in addition to this, the transfer to the surface of a low molecular weight polymer such as an oligomer as a WBL forming product may be accelerated in some cases. It is also conceivable that contaminants such as oil components generated in the equipment during the film forming process or existing in the atmosphere may adhere to the film to form a contaminated layer. Since these layers are easily peeled from the film surface, it is not possible to strongly adhere to the molecular scale of the film when adhered with an adhesive or the like, and the presence of such a layer also becomes a factor that inhibits the adhesiveness of the film. It is considered.

【0005】そこで、ポリイミドフィルムの表面の接着
性を改善することを目的に、フィルム表面にけい砂その
他の砂を圧縮空気又は遠心力で吹き付けて処理するサン
ドブラスト処理を施すことにより、フィルム表面に凹凸
を形成してフィルムと接着剤との接触面積を増加させる
と同時にフィルム表面のWBLや汚染層を除去して接着
性を向上させる方法が用いられている。
Therefore, for the purpose of improving the adhesiveness of the surface of the polyimide film, the film surface is subjected to a sandblasting treatment by blowing silica sand or other sand with compressed air or centrifugal force to treat the film surface with unevenness. Is used to increase the contact area between the film and the adhesive, and at the same time to remove the WBL and the contaminated layer on the film surface to improve the adhesiveness.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、サンド
ブラスト処理は、ポリイミドフィルム表面に凹凸を形成
して、接着剤とのアンカー効果による接着強度の増加を
期待する方法であるので、ポリイミドフィルムの強度を
落とさないような処理条件に制限する必要がある。この
ため、サンドブラスト処理では接着強度の向上に限界が
あり、近年の高接着化要求を満足するほどの接着性が得
られないという問題がある。
However, the sand blast treatment is a method of forming irregularities on the surface of the polyimide film and expecting an increase in the adhesive strength due to the anchor effect with the adhesive, so that the strength of the polyimide film is reduced. It is necessary to limit to processing conditions that do not exist. For this reason, there is a limit to the improvement of the adhesive strength in the sandblast treatment, and there is a problem in that the adhesiveness that satisfies the recent demand for high adhesion cannot be obtained.

【0007】そこで、本発明者らは、上記問題点を解決
し、ポリイミドフィルムの接着性をさらに向上させる優
れた接着性改善効果を得ることのできるポリイミドフィ
ルムの接着性改善方法及び接着性を改善したポリイミド
フィルムを提供することを目的に鋭意研究を重ねた結
果、本発明に至ったのである。
[0007] Therefore, the inventors of the present invention have solved the above-mentioned problems and improved the adhesiveness improving method and the adhesiveness of a polyimide film capable of obtaining an excellent adhesiveness improving effect of further improving the adhesiveness of the polyimide film. As a result of intensive studies for the purpose of providing such a polyimide film, the present invention has been achieved.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明に係るポリイミド
フィルムの接着性改善方法の要旨とするところは、細か
い粒度の研削材をポリイミドフィルムの表面に高速投射
することにより表面処理を行った後、該表面にコロナ放
電処理を行うことにある。
Means for Solving the Problem The gist of the method for improving the adhesiveness of a polyimide film according to the present invention is that after performing a surface treatment by projecting an abrasive having a fine grain size onto the surface of the polyimide film at a high speed, Corona discharge treatment is applied to the surface.

【0009】また、かかるポリイミドフィルムの接着性
改善方法において、前記研削材を高速投射する表面処理
が、サンドブラスト処理であることにある。
Further, in the method for improving the adhesiveness of the polyimide film, the surface treatment for projecting the abrasive at a high speed is a sandblast treatment.

【0010】次に、本発明に係る接着性を改善したポリ
イミドフィルムの要旨とするところは、上記のいずれか
に記載するポリイミドフィルムの接着性改善方法により
表面処理して得られることにある。
Next, the gist of the polyimide film having improved adhesion according to the present invention is that it is obtained by surface treatment by the method for improving adhesion of a polyimide film described in any of the above.

【0011】[0011]

【作用】本発明に係るポリイミドフィルムの接着性改善
方法は、細かい粒度の研削材をポリイミドフィルムの表
面に高速投射することにより表面処理を行った後、該表
面にコロナ放電処理を行うことを特徴とし、フィルム表
面に研削材を高速投射することにより、フィルム表面に
凹凸を形成して接着剤との接触面積を増大させ、更にフ
ィルム表面に形成されているWBLや汚染層をも除去す
ることができる。またコロナ放電処理により、フィルム
表面に親水基(水酸基、カルボン酸基、カルボニル基
等)を導入してポリイミドフィルム表面の親水性を向上
させることができる。
The method for improving the adhesion of a polyimide film according to the present invention is characterized in that a surface treatment is performed by projecting an abrasive having a fine grain size onto the surface of the polyimide film at high speed, and then the surface is subjected to corona discharge treatment. By projecting an abrasive on the film surface at high speed, unevenness can be formed on the film surface to increase the contact area with the adhesive, and further, the WBL and the contamination layer formed on the film surface can be removed. it can. Further, by the corona discharge treatment, a hydrophilic group (hydroxyl group, carboxylic acid group, carbonyl group, etc.) can be introduced into the film surface to improve the hydrophilicity of the polyimide film surface.

【0012】ここで、ポリイミドフィルムの接着性が低
い原因として、フィルム表面が平滑で接着面積が小さい
こと、WBLや汚染層の存在によりモレキュラスケール
での接着ができないこと、フィルム表面の溌水性が高く
接着剤が均一に付着されないことなどが考えられる。そ
こで、これらの原因を取り除くことによりポリイミドフ
ィルムの接着性を改善するのである。
Here, the causes of the low adhesion of the polyimide film are that the film surface is smooth and has a small adhesion area, that the adhesion on a molecular scale is not possible due to the presence of WBL and a contaminated layer, and the water repellency of the film surface is It is conceivable that the adhesive is not evenly adhered evenly. Therefore, the adhesiveness of the polyimide film is improved by removing these causes.

【0013】すなわち、フィルム表面に研削材を高速投
射することによってフィルム表面に凹凸を形成するとと
もに、フィルム表面に形成されているWBLや汚染層を
除去し、フィルムの接着性不良の要因の一部を取り除い
て接着性を向上させるのであるが、かかる処理の後に更
にコロナ放電処理を行うことにより、凹凸が形成されて
WBLや汚染層が除去されたフィルム表面が親水化され
て、接着性不良の別の要因であるフィルム表面の溌水性
の問題をも解消することができる。その結果、フィルム
表面の接着性を飛躍的に向上させることができる。
That is, the abrasives are projected onto the film surface at a high speed to form irregularities on the film surface, and the WBL and the contamination layer formed on the film surface are removed. However, by further performing corona discharge treatment after such treatment, unevenness is formed and the film surface from which the WBL and the contaminated layer are removed is hydrophilized, resulting in poor adhesion. The problem of water repellency on the film surface, which is another factor, can be solved. As a result, the adhesiveness of the film surface can be dramatically improved.

【0014】なお、フィルム表面に研削材を高速投射す
る手段としては、研削材を圧縮空気又は遠心力によりフ
ィルム表面に吹き付ける方法があるが、更に圧縮空気法
では、乾式法や湿式法が考えられる。また、研削材で
は、けい砂、合成樹脂粒子、ガラスビーズ、スティール
グリッド、銅スラグ等が考えられるが、特には研削材と
してけい砂その他の砂を用いるサンドブラスト処理は、
処理条件の適正化が容易でフィルムの強度を低下させる
ことなく表面処理を行うことができ好ましい。
As a means for projecting the abrasive on the film surface at high speed, there is a method of spraying the abrasive on the film surface with compressed air or centrifugal force. Further, the compressed air method may be a dry method or a wet method. . Further, in the abrasive, silica sand, synthetic resin particles, glass beads, steel grid, copper slag, etc. are considered, but especially sandblasting using silica sand or other sand as the abrasive material,
It is preferable because the treatment conditions can be easily optimized and the surface treatment can be performed without lowering the strength of the film.

【0015】[0015]

【実施例】以下に、本発明に係るポリイミドフィルムの
接着性改善方法を、図面に基づいて詳細に説明する。こ
こでいうポリイミドフィルムは、厚み数μmの薄膜か
ら、厚み数百μmのシート状物も含めて広義のフィルム
を意味し、ポリイミドフィルムの分子構造は問わない。
The method for improving the adhesiveness of a polyimide film according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The polyimide film as used herein means a film in a broad sense including a thin film having a thickness of several μm to a sheet-like material having a thickness of several hundred μm, and the molecular structure of the polyimide film is not limited.

【0016】かかるポリイミドフィルムの接着性改善方
法は、細かい粒度の研削材をポリイミドフィルムの表面
に高速投射することにより表面処理を行った後、該表面
にコロナ放電処理を行うことを特徴とし、例えば、図1
に示す表面処理装置10を用いて実施することができ
る。かかる表面処理装置10は、サンドブラスト処理を
行った後にコロナ放電処理を行うものであり、サンドブ
ラスト処理装置12とコロナ放電処理装置14とを備え
て構成されている。そして、繰り出し装置16から送り
出されたポリイミドフィルム18は、サンドブラスト処
理装置12によってフィルム表面に研削材が吹き付けら
れ、その後、引き続いてコロナ放電処理装置14内に導
入されてコロナ放電処理が行われ、表面処理の施された
ポリイミドフィルム18が巻取り装置20に巻き取られ
るように構成されている。
Such a method for improving the adhesiveness of a polyimide film is characterized in that a surface treatment is carried out by projecting an abrasive having a fine grain size onto the surface of the polyimide film at a high speed, and then the surface is subjected to corona discharge treatment. , Figure 1
The surface treatment apparatus 10 shown in FIG. The surface treatment device 10 performs a corona discharge treatment after performing a sandblast treatment, and includes a sandblast treatment device 12 and a corona discharge treatment device 14. Then, the polyimide film 18 delivered from the delivery device 16 is sprayed with an abrasive material on the film surface by the sandblasting device 12, and subsequently introduced into the corona discharge device 14 to be subjected to corona discharge treatment. The treated polyimide film 18 is wound around the winding device 20.

【0017】なお、サンドブラスト処理装置12及びコ
ロナ放電処理装置14は従来公知の装置が用いられ、特
に限定するものではない。詳しくは、サンドブラスト処
理装置12は、研削材を吹き付けるサンドブラスト吹き
出しノズル22と、ノズル22からの吹き出し量(ブラ
スト量)を調整する調整弁24と、研削材を貯留するホ
ッパー26と、圧縮空気を送り出すエアチャンバー28
とを備え、サンドブラスト吹き出しノズル22は可変し
てポリイミドフィルム18との角度及び間隔(ブラスト
角度、ブラスト距離)を調整できるようになっている。
そして、ブラスト量、ブラスト角度、ブラスト距離を最
適な条件に設定してサンドブラスト処理を行うことがで
きるように構成されている。また、コロナ放電処理装置
14は、1対の高度に絶縁されたロール30とロール3
0に近接させて配置した線条のコロナ電極32を備えて
おり、コロナ電極32は複数の碍子34を介してフレー
ム36に固定されてコロナ電極32に高エネルギーを作
用させるとコロナ電極32からコロナ放電が起こるよう
に構成されている。なお、符号38は搬送ロールであ
り、フィルム18を良好に走行させるために設けられて
いる。
As the sand blast treatment device 12 and the corona discharge treatment device 14, conventionally known devices are used, and there is no particular limitation. Specifically, the sandblasting apparatus 12 sends a sandblasting nozzle 22 that blows an abrasive, an adjusting valve 24 that adjusts the blowout amount (blast amount) from the nozzle 22, a hopper 26 that stores the abrasive, and compressed air. Air chamber 28
The sand blast blowing nozzle 22 can be variably adjusted to adjust the angle and interval (blast angle, blast distance) with the polyimide film 18.
The sandblasting process is performed by setting the blasting amount, the blasting angle, and the blasting distance to optimal conditions. In addition, the corona discharge treatment device 14 includes a pair of highly insulated rolls 30 and 3
The corona electrode 32 is arranged in the vicinity of 0, and the corona electrode 32 is fixed to the frame 36 via a plurality of insulators 34, and when high energy is applied to the corona electrode 32, the corona electrode 32 is corona electrode 32. It is configured to cause a discharge. Note that reference numeral 38 is a transport roll, which is provided to allow the film 18 to travel favorably.

【0018】さらに詳しくは、サンドブラスト処理は、
研削材を圧縮空気又は遠心力でフィルム表面に吹き付け
ることにより表面処理を行うものであり、サンドブラス
ト処理装置12においては、サンドブラスト吹き出しノ
ズル22から研削材を吹き出してポリイミドフィルム1
8に吹き付けるのであるが、研削材の吹き出し量(ブラ
スト量)は調整弁24で調整し、ポリイミドフィルム1
8とサンドブラスト吹き出しノズル22との角度及び間
隔(ブラスト角度、ブラスト距離)は、ノズル22を可
変させて調整する。そして、エアチャンバー28から送
り出す圧縮空気によってホッパー26内の研削材をサン
ドブラスト吹き出しノズル22から吹き出させてポリイ
ミドフィルム18に吹き付けることにより、適正化した
処理条件でサンドブラスト処理をするのである。
More specifically, the sandblasting process is
The surface treatment is performed by blowing the abrasive on the film surface with compressed air or centrifugal force. In the sandblasting apparatus 12, the abrasive is blown from the sandblast blowing nozzle 22 to remove the polyimide film 1.
The amount of blast of abrasive (blast amount) is adjusted by the adjusting valve 24.
The angle and the interval (blast angle, blast distance) between the nozzle 8 and the sandblast blowing nozzle 22 are adjusted by changing the nozzle 22. Then, the abrasive in the hopper 26 is blown out from the sandblast blowing nozzle 22 by the compressed air sent from the air chamber 28 and is blown onto the polyimide film 18, so that the sandblasting is performed under the optimized processing conditions.

【0019】ここで、かかるサンドブラスト処理におけ
る処理条件は、処理後に研削材や被研削物がポリイミド
フィルム表面に残らず、また、ポリイミドフィルムの強
度が低下しないような条件にする必要があるが、かかる
処理条件は経験的に適宜設定することができる。
Here, the treatment conditions in the sandblast treatment must be such that the abrasive or the object to be ground does not remain on the surface of the polyimide film after the treatment and the strength of the polyimide film does not decrease. The processing conditions can be appropriately set empirically.

【0020】具体的には、研削材としてはけい砂その他
の研削材が用いられるが、特には粒径が0.05〜10
mm、更には0.5〜1mmのけい砂を用いることが好まし
い。また、ブラスト距離は100〜300mmとするのが
好ましく、ブラスト角度は45〜90度、更には45〜
60度とするのが好ましい。また、ブラスト量は1〜1
0kg/min とすることが好ましい。サンドブラスト処理
により、ポリイミドフィルム表面に該研削材や被研削物
が残らないようにし、更に研削深さを制御するためであ
る。なお、研削深さは0.01〜0.1μmにとどめる
ことが好ましく、それによりフィルムの強度が低下しな
いようにすることができる。
Specifically, silica sand or other abrasives are used as the abrasive, and particularly, the particle diameter is 0.05 to 10.
It is preferable to use silica sand having a diameter of 0.5 mm, more preferably 0.5 to 1 mm. Further, the blast distance is preferably 100 to 300 mm, the blast angle is 45 to 90 degrees, and further 45 to
It is preferably 60 degrees. The blast amount is 1 to 1
It is preferably 0 kg / min. This is because the abrasive or the object to be ground is not left on the surface of the polyimide film by sandblasting, and the grinding depth is further controlled. The grinding depth is preferably 0.01 to 0.1 μm so that the strength of the film is not reduced.

【0021】なお、サンドブラスト処理装置12におい
ては、ポリイミドフィルムの片面を処理するように構成
されているが、サンドブラスト吹き出しノズル22をポ
リイミドフィルム18の両側に配置して、フィルムの両
面を処理できるように構成してもよい。
Although the sandblasting apparatus 12 is configured to treat one side of the polyimide film, the sandblasting nozzles 22 are arranged on both sides of the polyimide film 18 so that both sides of the film can be treated. You may comprise.

【0022】このようにしてフィルム表面にサンドブラ
スト処理をすることにより、フィルム表面に凹凸を形成
し、フィルムと接着剤との接触面積を増加させることが
できる。また、同時にWBLや汚染層が除去され、接着
剤とフィルム表面をモレキュラスケールで接着させるこ
とができる。
By thus sandblasting the film surface, it is possible to form irregularities on the film surface and increase the contact area between the film and the adhesive. At the same time, the WBL and the contaminated layer are removed, and the adhesive and the film surface can be adhered on a molecular scale.

【0023】次いで、上記サンドブラスト処理工程によ
り表面に凹凸が形成されたポリイミドフィルム18がコ
ロナ放電処理装置14に導入され、該表面にコロナ放電
処理が施されるのである。
Next, the polyimide film 18 having irregularities formed on its surface by the above sandblasting process is introduced into the corona discharge treatment device 14, and the surface is subjected to corona discharge treatment.

【0024】かかるコロナ放電処理装置14において、
コロナ電極32はコロナ処理をすべき長さ、換言すれば
ほぼポリイミドフィルムの幅に成型されており、ポリイ
ミドフィルム18は高度に絶縁されたロール30と線条
のコロナ電極32の間をロール30に沿って走行し、コ
ロナ電極32はロール30に沿って走行するポリイミド
フィルム18の下側に複数の碍子34を介してフレーム
36に固定されている。従って、コロナ電極32に高エ
ネルギーを作用させてコロナ放電を起こすことにより、
ポリイミドフィルム18の下面(サンドブラスト処理
面)にコロナ放電処理を施すことができる。
In such a corona discharge treatment device 14,
The corona electrode 32 is formed to have a length to be subjected to corona treatment, in other words, approximately the width of a polyimide film, and the polyimide film 18 is formed between the highly insulated roll 30 and the linear corona electrode 32 in the roll 30. The corona electrode 32 running along the roll 30 is fixed to a frame 36 below the polyimide film 18 running along the roll 30 via a plurality of insulators 34. Therefore, by applying high energy to the corona electrode 32 to cause corona discharge,
Corona discharge treatment can be applied to the lower surface (sandblasted surface) of the polyimide film 18.

【0025】このときのコロナ放電処理の電力密度は1
00〜700W・min /m2 にすることが好ましく、フ
ィルムの種類や厚さ等により経験的に適宜設定される。
また、電極の材質は特に制限されず、経験的に適宜選
択、設定される。
The power density of the corona discharge treatment at this time is 1
It is preferably from 00 to 700 W · min / m 2 , and is appropriately set empirically depending on the type and thickness of the film.
In addition, the material of the electrode is not particularly limited and is appropriately selected and set empirically.

【0026】なお、コロナ放電処理はサンドブラスト処
理の施されたフィルム表面に行えばよく、図2に示すよ
うな、2つのロール30に相対向して線条のコロナ電極
32を配置したコロナ放電処理装置40により、フィル
ム両面にコロナ放電処理を施すようにしてもよい。
The corona discharge treatment may be performed on the surface of the film that has been subjected to the sandblast treatment, and as shown in FIG. 2, the corona discharge treatment in which the linear corona electrodes 32 are arranged opposite to the two rolls 30. The device 40 may perform corona discharge treatment on both sides of the film.

【0027】また、コロナ放電処理を行う際、フィルム
の熱膨張により生じる皺を防ぐため、フィルムの幅方向
に伸びを付与した後、コロナ放電処理を1回又は複数回
にわたって施してもよい。また、コロナ放電処理に引き
続いて、フィルムに帯電した静電気の極性と逆極性のイ
オンを有するイオン化ガスを該フィルムに吹き付けて、
静電気を除電すると同時に付着した微粉末を除去するよ
うにしてもよい。
When corona discharge treatment is performed, in order to prevent wrinkles caused by thermal expansion of the film, the corona discharge treatment may be performed once or plural times after the film is stretched in the width direction. Further, following the corona discharge treatment, an ionized gas having ions having a polarity opposite to the polarity of static electricity charged on the film is sprayed on the film,
You may make it remove static electricity and remove the adhered fine powder at the same time.

【0028】かかる処理工程により、フィルム表面を酸
化させてフィルム表面に水酸基、カルボン酸基、カルボ
ニル基等の親水性官能基を形成することができ、フィル
ム表面の親水性が向上される。
By such a treatment step, the film surface can be oxidized to form hydrophilic functional groups such as hydroxyl group, carboxylic acid group and carbonyl group on the film surface, and the hydrophilicity of the film surface is improved.

【0029】このようにして、サンドブラスト処理をし
た後、連続してコロナ放電処理を行うことにより、凹凸
が形成されて接着面積が増加したポリイミドフィルム表
面を更に親水化させることができ、非常に優れた接着性
改善効果を得ることができる。すなわち、ポリイミドフ
ィルムの接着性不良の原因と考えられる要因をそれぞれ
取り除くことにより、接着性の飛躍的向上を実現するこ
とができるのである。
In this way, after the sandblasting treatment, the corona discharge treatment is continuously carried out, whereby the surface of the polyimide film having irregularities formed and having an increased adhesive area can be further hydrophilized, which is very excellent. The effect of improving the adhesiveness can be obtained. That is, it is possible to realize a dramatic improvement in the adhesiveness by removing the factors considered to be the cause of the poor adhesiveness of the polyimide film.

【0030】以上、本発明に係るポリイミドフィルムの
接着性改善方法の実施例を説明したが、サンドブラスト
処理において、上述のように研削材を圧縮空気によりフ
ィルム表面に吹き付けるのではなく、高速回転する羽根
車によりフィルム表面にたたき付けるようにしてもよ
い。
The embodiments of the method for improving the adhesiveness of the polyimide film according to the present invention have been described above. In the sand blasting process, the abrasives are not blown onto the film surface by compressed air as described above, but are rotated at high speed. You may make it hit on the film surface by a car.

【0031】なお、研削材としてはポリイミドフィルム
より硬度の高い砥粒を用いればよく、研削材をポリイミ
ドフィルムの表面に高速投射する手段として、上述した
サンドブラスト処理の他に、ショットブラスト、ショッ
トピーニング、液体ホーニングなどの方法を用いること
も可能である。ショットブラスト又はショットピーニン
グは、研削材として砂の代わりに球状の鋼粒(ショッ
ト)を用いる方法であり、ブラスト角度、ブラスト距
離、ブラスト量の他、鋼粒の硬度、粒度などを適正化し
て行えばよい。また、液体ホーニングは、これらの研削
材を液体とともに高速で噴射する方法であり、該研削材
が鋼粒の場合には、これらを防錆剤を加えた水に混合し
たものが用いられる。これらの方法によっても、サンド
ブラスト処理と同様の効果が得られる。
As the abrasive, abrasive grains having a hardness higher than that of the polyimide film may be used. As means for projecting the abrasive on the surface of the polyimide film at high speed, in addition to the above sand blasting treatment, shot blasting, shot peening, It is also possible to use a method such as liquid honing. Shot blasting or shot peening is a method in which spherical steel particles (shots) are used as abrasives instead of sand, and the hardness, particle size, etc. of steel particles are optimized in addition to the blast angle, blast distance, and blast amount. I'll do it. Liquid honing is a method in which these abrasives are jetted at a high speed together with a liquid. When the abrasives are steel particles, a mixture of these with water containing a rust preventive is used. With these methods, the same effect as the sandblast treatment can be obtained.

【0032】また、上述のようにサンドブラスト処理と
コロナ放電処理を連続的に行わずに、別工程で実施する
ようにしてもよい。その他、本発明はこれらの実施例の
みに限定されるものではなく、本発明はその趣旨を逸脱
しない範囲内で当業者の知識に基づき、種々なる改良、
変更、修正を加えた態様で実施しうるものである。
Further, the sandblast treatment and the corona discharge treatment may not be continuously performed as described above, but may be performed in separate steps. In addition, the present invention is not limited to these examples, and the present invention is based on the knowledge of those skilled in the art within the scope not departing from the gist thereof, and various improvements,
It can be implemented in a mode in which changes and modifications are made.

【0033】なお、かかるポリイミドフィルムの接着性
改善方法により表面処理されたポリイミドフィルムは、
フィルム表面に凹凸が形成されるとともに表面脆弱層及
び汚染層が除去されており、さらにその表面が安定的に
親水化されているので、従来のサンドブラスト処理のみ
によって表面処理されたポリイミドフィルムに比べて優
れた接着性を示し、接着剤を用いてフィルムと金属箔
(銅箔等)とを強固に張り合わせることができる。ま
た、蒸着法、メッキ法、又はスパッタ法によってもフィ
ルム表面に均一に金属層を形成することができる。すな
わち、本発明に係る接着性を改善したポリイミドフィル
ムは、FPC(フレキシブルプリント配線板)のベース
フィルムとして好適に使用することができるものであ
る。
The polyimide film surface-treated by the method for improving the adhesion of the polyimide film is
Since the surface fragile layer and the contaminated layer have been removed along with the unevenness formed on the film surface, and since the surface has been stably hydrophilized, compared to the conventional polyimide film surface-treated only by sandblasting. It exhibits excellent adhesiveness and can firmly bond the film and the metal foil (copper foil or the like) using an adhesive. Further, the metal layer can be uniformly formed on the film surface by the vapor deposition method, the plating method, or the sputtering method. That is, the polyimide film having improved adhesion according to the present invention can be suitably used as a base film of FPC (flexible printed wiring board).

【0034】以下に実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0035】実施例 1 図1に示したものとほぼ同じ処理装置を用い、4,4’
−ジアミノジフェニルエーテルに代表される芳香族ジア
ミンとピロメリット酸二無水物に代表される芳香族テト
ラカルボン酸二無水物とから公知の方法で得られた25
μm厚のポリイミドフィルムを用いて、サンドブラスト
処理とコロナ放電処理を連続的に行い、ポリイミドフィ
ルムの表面処理を行った。処理条件はラインスピードを
1.5m/min とし、サンドブラスト処理は、加圧一段
式で粒径0.1〜1mmのけい砂を使用し、吹き出しノズ
ルとポリイミドフィルムとの角度、間隔をそれぞれ45
度、100mmとした。吹き出し量は調整弁により6kg/
min とした。コロナ放電処理は、アルミニウム電極を用
いて電極とフィルム間の距離を3mmとし、電力密度を2
00W・min /m2 で処理した。
Example 1 Using the same processing apparatus as shown in FIG. 1, 4, 4 '
25 obtained by a known method from an aromatic diamine typified by diaminodiphenyl ether and an aromatic tetracarboxylic dianhydride typified by pyromellitic dianhydride.
Using a polyimide film having a thickness of μm, the sandblast treatment and the corona discharge treatment were continuously performed to perform the surface treatment of the polyimide film. The processing conditions were a line speed of 1.5 m / min, and sandblasting was performed using a pressure one-step type silica sand with a grain size of 0.1 to 1 mm, and the angle and interval between the blowing nozzle and the polyimide film were 45 each.
The degree is 100 mm. The amount of blowout is 6 kg /
set to min. The corona discharge treatment uses an aluminum electrode, the distance between the electrode and the film is 3 mm, and the power density is 2
It was processed at 00 W · min / m 2 .

【0036】このように処理したポリイミドフィルムに
ついて、以下の方法で接着強度の評価を行った。アクリ
ル系接着剤(デュポン(株)製 "パイララックス”)を
用いて上記処理フィルムと銅箔(三井金属鉱業(株)製
電解銅箔 "3EC”35μm厚)とをラミネートし、1
85℃×1時間で接着剤の硬化反応を行い、FCCL
(フィルム・銅箔積層板)を作製した。得られたFCC
Lの銅パターン幅が3mmとなるようサンプルを切り出
し、引張試験器(島津製作所(株)製 "S−100−
C”)によりピールテストスピード50mm/min で90
°剥離の引張試験を行った。n=5の平均値による測定
結果を表1に示す。なお、引き剥がし後の破壊面は、す
べてフィルム/接着剤界面で発生した。
With respect to the polyimide film thus treated, the adhesive strength was evaluated by the following method. Using an acrylic adhesive ("Pyralux" manufactured by DuPont), the above treated film and a copper foil (electrolytic copper foil "3EC" 35 μm thick manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) were laminated to form 1
The adhesive is cured at 85 ° C for 1 hour, and FCCL
(Film / copper foil laminate) was produced. The obtained FCC
A sample was cut out so that the copper pattern width of L would be 3 mm, and a tensile tester ("S-100-" manufactured by Shimadzu Corporation)
C ") 90 at peel test speed of 50 mm / min
A peeling tensile test was performed. Table 1 shows the measurement results based on the average value of n = 5. All the fractured surfaces after peeling occurred at the film / adhesive interface.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】比較例 1 比較のために、実施例1で使用した25μm厚のポリイ
ミドフィルムについて、表面処理を施さずに用い、実施
例1と同様にして接着強度を評価した。n=5の平均値
による測定結果を表1に示す。なお、引き剥がし後の破
壊面は、すべてフィルム/接着剤界面で発生した。
Comparative Example 1 For comparison, the 25 μm thick polyimide film used in Example 1 was used without surface treatment, and the adhesive strength was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the measurement results based on the average value of n = 5. All the fractured surfaces after peeling occurred at the film / adhesive interface.

【0039】比較例 2 比較のために、実施例1で使用した25μm厚のポリイ
ミドフィルムについて、サンドブラスト処理のみを施し
て用い、実施例1と同様にして接着強度を評価した。サ
ンドブラスト処理は実施例1と同様の条件で行った。n
=5の平均値による測定結果を表1に示す。なお、引き
剥がし後の破壊面は、すべてフィルム/接着剤界面で発
生した。
Comparative Example 2 For comparison, the polyimide film having a thickness of 25 μm used in Example 1 was sandblasted and used, and the adhesive strength was evaluated in the same manner as in Example 1. The sandblast treatment was performed under the same conditions as in Example 1. n
Table 1 shows the measurement results based on the average value of = 5. All the fractured surfaces after peeling occurred at the film / adhesive interface.

【0040】[0040]

【発明の効果】本発明に係るポリイミドフィルムの接着
性改善方法は、細かい粒度の研削材をポリイミドフィル
ムの表面に高速投射することにより表面処理を行った
後、該表面にコロナ放電処理を行うことを特徴とし、か
かる方法によりフィルム表面に凹凸を形成した後、更に
そのフィルム表面に親水性官能基を導入することができ
る。その結果、フィルム表面と接着剤との接触面積が増
加されるとともに、WBLや汚染層が除去されて接着剤
がフィルム表面とモレキュラスケールで接着できるよう
になり、更にフィルム表面が安定的に親水化され、優れ
た接着性改善効果を得ることができる。かかるポリイミ
ドフィルムの接着性改善方法により接着性を改善したポ
リイミドフィルムは、フィルム表面の接着剤との接触面
積が増加されるとともにフィルム表面が安定的に親水化
されており、更にWBLや汚染層が存在しないため、優
れた接着性を示し、FPCのベースフィルムとして好適
に使用することができる。
EFFECT OF THE INVENTION In the method for improving the adhesion of a polyimide film according to the present invention, a surface treatment is performed by projecting an abrasive having a fine grain size onto the surface of the polyimide film at a high speed, and then a corona discharge treatment is applied to the surface. After forming irregularities on the film surface by such a method, a hydrophilic functional group can be further introduced on the film surface. As a result, the contact area between the film surface and the adhesive is increased, the WBL and the contamination layer are removed, and the adhesive can adhere to the film surface on a molecular scale, and the film surface is stably hydrophilic. And an excellent effect of improving the adhesiveness can be obtained. The polyimide film whose adhesiveness is improved by the method for improving the adhesiveness of such a polyimide film is such that the contact area of the film surface with the adhesive is increased and the film surface is stably hydrophilized, and further, the WBL and the contamination layer are Since it does not exist, it exhibits excellent adhesiveness and can be suitably used as a base film for FPC.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るポリイミドフィルムの接着性改善
方法を実施するための表面処理装置を示した説明図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory view showing a surface treatment apparatus for carrying out a method for improving adhesion of a polyimide film according to the present invention.

【図2】本発明におけるコロナ放電処理工程を行うため
の他のコロナ放電処理装置を示した説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing another corona discharge treatment apparatus for performing the corona discharge treatment step in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10;表面処理装置 12;サンドブラスト処理装置 14、40;コロナ放電処理装置 16;繰り出し装置 18;ポリイミドフィルム 20;巻取り装置 22;サンドブラスト吹き出しノズル 24;調整弁 26;ホッパー 28;エアチャンバー 32;コロナ電極 10; Surface treatment device 12; Sandblast treatment device 14, 40; Corona discharge treatment device 16; Feeding device 18; Polyimide film 20; Winding device 22; Sandblast blowing nozzle 24; Adjustment valve 26; Hopper 28; Air chamber 32; Corona electrode

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 細かい粒度の研削材をポリイミドフィル
ムの表面に高速投射することにより表面処理を行った
後、該表面にコロナ放電処理を行うことを特徴とするポ
リイミドフィルムの接着性改善方法。
1. A method for improving the adhesiveness of a polyimide film, which comprises subjecting a surface of a polyimide film to high speed projection of an abrasive having a fine grain size, and then subjecting the surface to corona discharge treatment.
【請求項2】 前記研削材を高速投射する表面処理が、
サンドブラスト処理であることを特徴とする請求項1に
記載するポリイミドフィルムの接着性改善方法。
2. The surface treatment for projecting the abrasive at high speed comprises:
The method for improving adhesion of a polyimide film according to claim 1, wherein the method is sandblasting.
【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載するポリイ
ミドフィルムの接着性改善方法により表面処理して得ら
れることを特徴とする接着性を改善したポリイミドフィ
ルム。
3. A polyimide film having improved adhesiveness, which is obtained by subjecting a surface of the polyimide film according to claim 1 or 2 to a method for improving adhesiveness.
JP19370694A 1994-07-25 1994-07-25 Method for improving adhesion of polyimide film and polyimide film having improved adhesion Withdrawn JPH0834865A (en)

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