JPH0835932A - レーザーアブレーション装置 - Google Patents
レーザーアブレーション装置Info
- Publication number
- JPH0835932A JPH0835932A JP6173905A JP17390594A JPH0835932A JP H0835932 A JPH0835932 A JP H0835932A JP 6173905 A JP6173905 A JP 6173905A JP 17390594 A JP17390594 A JP 17390594A JP H0835932 A JPH0835932 A JP H0835932A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- carrier gas
- sample chamber
- inlet
- ablation device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Optical Measuring Cells (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス窓や壁へ試料が付着するのを防止する
ことができるレーザーアブレーション装置を提供する。 【構成】 アブレーション装置本体１０はステム１１に
よって支持されている。本体１０内には円筒を横にした
形の試料室１２が形成されており、底部に試料導入口１
３が設けられ、上部にレーザー光Ｌを導入して試料に照
射するための窓１８が設けられている。この試料導入口
１３を介して、ホルダ１４に保持された試料１５が試料
室内へ挿入される。試料室１２の内周面には、キャリア
ガスを導入するための導入口１６が設けられており、こ
の導入口１６から円筒の周方向にキャリアガスが噴出さ
れる。１７はキャリアガスを軸方向に取り出すため端部
側面に設けられたキャリアガス排出口である。
ことができるレーザーアブレーション装置を提供する。 【構成】 アブレーション装置本体１０はステム１１に
よって支持されている。本体１０内には円筒を横にした
形の試料室１２が形成されており、底部に試料導入口１
３が設けられ、上部にレーザー光Ｌを導入して試料に照
射するための窓１８が設けられている。この試料導入口
１３を介して、ホルダ１４に保持された試料１５が試料
室内へ挿入される。試料室１２の内周面には、キャリア
ガスを導入するための導入口１６が設けられており、こ
の導入口１６から円筒の周方向にキャリアガスが噴出さ
れる。１７はキャリアガスを軸方向に取り出すため端部
側面に設けられたキャリアガス排出口である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、誘導結合プラ
ズマ質量分析装置（ＩＣＰＭＳ）で固体試料を分析する
際に用いられるレーザーアブレーション装置に関するも
のである。
ズマ質量分析装置（ＩＣＰＭＳ）で固体試料を分析する
際に用いられるレーザーアブレーション装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣＰＭＳで固体試料を分析する際、試
料を気化させてプラズマトーチへ導入するため、例えば
図１に示すようなレーザーアブレーション装置が用いら
れる。図１において、１は試料室で、底面に試料２が配
置され、上部開口３はガラス窓４により封止されてい
る。試料室内の一つの側壁にはキャリアガス導入口５が
設けられ、対向する側壁には排出口６が設けられてい
る。
料を気化させてプラズマトーチへ導入するため、例えば
図１に示すようなレーザーアブレーション装置が用いら
れる。図１において、１は試料室で、底面に試料２が配
置され、上部開口３はガラス窓４により封止されてい
る。試料室内の一つの側壁にはキャリアガス導入口５が
設けられ、対向する側壁には排出口６が設けられてい
る。
【０００３】レーザー光Ｌはガラス窓４を介して試料に
照射され、照射点で瞬間的に溶融気化された試料は、試
料室内に形成されるキャリアガス流にのって排出口６か
ら外部へ排出され、ＩＣＰＭＳへ導入される。
照射され、照射点で瞬間的に溶融気化された試料は、試
料室内に形成されるキャリアガス流にのって排出口６か
ら外部へ排出され、ＩＣＰＭＳへ導入される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この様な従来のレーザ
ーアブレーション装置では、レーザー光照射点で発生す
る試料ガスや試料の微粒子が試料面から急上昇し、試料
直上のガラス窓や上方の試料室壁に付着する。ガラス窓
や壁に試料が付着することは、それだけＩＣＰＭＳの方
への試料の導入量が減ることにつながるし、清掃や交換
をする必要も出てくる。
ーアブレーション装置では、レーザー光照射点で発生す
る試料ガスや試料の微粒子が試料面から急上昇し、試料
直上のガラス窓や上方の試料室壁に付着する。ガラス窓
や壁に試料が付着することは、それだけＩＣＰＭＳの方
への試料の導入量が減ることにつながるし、清掃や交換
をする必要も出てくる。
【０００５】本発明は上述した点に鑑みてなされたもの
であり、ガラス窓や壁へ試料が付着するのを防止あるい
は減少させることができるレーザーアブレーション装置
を提供することを目的としている。
であり、ガラス窓や壁へ試料が付着するのを防止あるい
は減少させることができるレーザーアブレーション装置
を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明のレーザーアブレーション装置は、筒状試料
室と、該試料室内に配置される試料に照射するレーザー
光を透過させるため試料室周壁に設けられる窓と、試料
室内に周壁に沿った周方向のキャリアガスの流れを形成
するためのキャリアガス導入手段と、前記試料室の軸方
向にキャリアガスを取り出すためのキャリアガス排出口
を備えたことを特徴としている。
め、本発明のレーザーアブレーション装置は、筒状試料
室と、該試料室内に配置される試料に照射するレーザー
光を透過させるため試料室周壁に設けられる窓と、試料
室内に周壁に沿った周方向のキャリアガスの流れを形成
するためのキャリアガス導入手段と、前記試料室の軸方
向にキャリアガスを取り出すためのキャリアガス排出口
を備えたことを特徴としている。
【０００７】
【作用】本発明においては、試料室内に周壁に沿った周
方向のキャリアガスの流れを形成するためのキャリアガ
ス導入手段を設けたため、試料から発生したガスや微粒
子が窓に付着するのを防止することができる。
方向のキャリアガスの流れを形成するためのキャリアガ
ス導入手段を設けたため、試料から発生したガスや微粒
子が窓に付着するのを防止することができる。
【０００８】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の一実施例を詳
説する。図２は本発明の一実施例を示しており、図３は
そのＡ−Ａ断面図である。図２及び図３において、アブ
レーション装置本体１０はステム１１によって支持され
ている。本体１０内には円筒を横にした形の試料室１２
が形成されており、底部に試料導入口１３が設けられ、
上部にレーザー光Ｌを導入して試料に照射するための窓
１８が設けられている。この試料導入口１３を介して、
ホルダ１４に保持された試料１５が試料室内へ挿入され
る。ホルダの挿入量を調節することにより、レーザー光
の焦点位置へ試料面を合わせることができる。
説する。図２は本発明の一実施例を示しており、図３は
そのＡ−Ａ断面図である。図２及び図３において、アブ
レーション装置本体１０はステム１１によって支持され
ている。本体１０内には円筒を横にした形の試料室１２
が形成されており、底部に試料導入口１３が設けられ、
上部にレーザー光Ｌを導入して試料に照射するための窓
１８が設けられている。この試料導入口１３を介して、
ホルダ１４に保持された試料１５が試料室内へ挿入され
る。ホルダの挿入量を調節することにより、レーザー光
の焦点位置へ試料面を合わせることができる。
【０００９】試料室１２の内周面には、キャリアガスを
導入するための導入口１６が設けられており、この導入
口１６から円筒の周方向にキャリアガスが噴出される。
１７はキャリアガスを軸方向に取り出すため端部側面に
設けられたキャリアガス排出口である。
導入するための導入口１６が設けられており、この導入
口１６から円筒の周方向にキャリアガスが噴出される。
１７はキャリアガスを軸方向に取り出すため端部側面に
設けられたキャリアガス排出口である。
【００１０】上記構成において、試料室内には、導入口
１６から導入され内周面に沿って流れるキャリアガスの
流れ（図３におけるＧ１〜３）が形成される。そして、
レーザー光Ｌがパルス的に例えば１０Ｈz 程度の繰り返
し周波数で照射されると、照射点において高温度の試料
のプラズマが発生し、発生したプラズマは急激に上昇し
つつ温度が低下してガスあるいは微粒子となる。これら
のガス及び微粒子は前記キャリアガス流に巻き込まれて
キャリアガスと共に周方向に移送されつつ撹拌される。
この撹拌については、試料の側を通るキャリアガス流Ｇ
２が最も寄与することは言うまでもない。周方向のキャ
リアガス流がなかった従来では、上昇する試料プラズマ
がそのままの速度で窓及び上部壁に衝突してそこに付着
するものも多かったが、本発明では、試料のガス及び微
粒子には周方向の運動が与えられるので、従来に比べて
付着する確率は極めて低い。
１６から導入され内周面に沿って流れるキャリアガスの
流れ（図３におけるＧ１〜３）が形成される。そして、
レーザー光Ｌがパルス的に例えば１０Ｈz 程度の繰り返
し周波数で照射されると、照射点において高温度の試料
のプラズマが発生し、発生したプラズマは急激に上昇し
つつ温度が低下してガスあるいは微粒子となる。これら
のガス及び微粒子は前記キャリアガス流に巻き込まれて
キャリアガスと共に周方向に移送されつつ撹拌される。
この撹拌については、試料の側を通るキャリアガス流Ｇ
２が最も寄与することは言うまでもない。周方向のキャ
リアガス流がなかった従来では、上昇する試料プラズマ
がそのままの速度で窓及び上部壁に衝突してそこに付着
するものも多かったが、本発明では、試料のガス及び微
粒子には周方向の運動が与えられるので、従来に比べて
付着する確率は極めて低い。
【００１１】また、キャリアガス流Ｇ３については、試
料室内周壁面に沿った定常的な流れが形成され、キャリ
アガス流Ｇ２によって十分に撹拌され試料のガス及び微
粒子を含んだキャリアガスは、試料室内周壁面に接近す
ることなく中心部を排出口１７へ向けて進む。そのた
め、試料のガス及び微粒子は壁面に付着することなく排
出口１７から排出され、ＩＣＰＭＳのプラズマトーチへ
向けて送り込まれる。
料室内周壁面に沿った定常的な流れが形成され、キャリ
アガス流Ｇ２によって十分に撹拌され試料のガス及び微
粒子を含んだキャリアガスは、試料室内周壁面に接近す
ることなく中心部を排出口１７へ向けて進む。そのた
め、試料のガス及び微粒子は壁面に付着することなく排
出口１７から排出され、ＩＣＰＭＳのプラズマトーチへ
向けて送り込まれる。
【００１２】キャリアガス流の速度は、キャリアガスの
噴出速度の調節や、試料室の径の選定により適宜設定す
ることができる。
噴出速度の調節や、試料室の径の選定により適宜設定す
ることができる。
【００１３】図２において矢印Ｇ４で示すように、試料
室の排出口１７に対向する位置にキャリアガス導入口を
増設することも可能である。
室の排出口１７に対向する位置にキャリアガス導入口を
増設することも可能である。
【００１４】図４は本発明の他の実施例を示しており、
本実施例では試料は水平方向から試料室内へ挿入され
る。本実施例においても、導入口１６から噴出されるキ
ャリアガスによって試料室の周面に沿ったガス流が形成
され、試料室の中心軸近傍に配置された試料１５から発
生したガス及び微粒子は、試料室内周壁面に接近するこ
となく、流速の速くない中心軸部分を通って排出口１７
へ向けて移動する。そのため、周壁や窓への試料の付着
は抑制され、試料のガス及び微粒子を効率良く排出口１
７へ導くことができる。
本実施例では試料は水平方向から試料室内へ挿入され
る。本実施例においても、導入口１６から噴出されるキ
ャリアガスによって試料室の周面に沿ったガス流が形成
され、試料室の中心軸近傍に配置された試料１５から発
生したガス及び微粒子は、試料室内周壁面に接近するこ
となく、流速の速くない中心軸部分を通って排出口１７
へ向けて移動する。そのため、周壁や窓への試料の付着
は抑制され、試料のガス及び微粒子を効率良く排出口１
７へ導くことができる。
【００１５】
【発明の効果】以上詳述したごとく、本発明では試料室
内に周壁に沿った周方向のキャリアガスの流れを形成す
るためのキャリアガス導入手段を設けたため、試料から
発生したガスや微粒子が周壁や窓に付着するのを防止す
ることができる。
内に周壁に沿った周方向のキャリアガスの流れを形成す
るためのキャリアガス導入手段を設けたため、試料から
発生したガスや微粒子が周壁や窓に付着するのを防止す
ることができる。
【図１】 レーザーアブレーション装置の従来例を示す
図である。
図である。
【図２】 本発明の一実施例を示す図である。
【図３】 図２のＡ−Ａ断面図である。
【図４】 本発明の一実施例を示す図である。
１０ アブレーション装置本体 １２ 試料室 １３ 試料導入口 １４ ホルダ １５ 試料 １６ キャリアガス導入口 １７ キャリアガス排出口
Claims (1)
- 【請求項１】 筒状試料室と、該試料室内に配置される
試料に照射するレーザー光を透過させるため試料室周壁
に設けられる窓と、試料室内に周壁に沿った周方向のキ
ャリアガスの流れを形成するためのキャリアガス導入手
段と、前記試料室の軸方向にキャリアガスを取り出すた
めのキャリアガス排出口とを備えたことを特徴とするレ
ーザーアブレーション装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6173905A JPH0835932A (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | レーザーアブレーション装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6173905A JPH0835932A (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | レーザーアブレーション装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0835932A true JPH0835932A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=15969260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6173905A Withdrawn JPH0835932A (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | レーザーアブレーション装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0835932A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006153748A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Tdk Corp | レーザアブレーション装置、レーザアブレーション試料分析システム及び試料導入方法 |
| CN104075932A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-10-01 | 袁洪林 | 一种多靶位的激光剥蚀样品室 |
| CN109668818A (zh) * | 2018-12-26 | 2019-04-23 | 宁波大学 | 基于激光烧蚀的细胞分析装置及方法 |
| JP2025179505A (ja) * | 2024-05-28 | 2025-12-10 | ジェイ・エス・ティ有限会社 | レーザーアブレーション用セル |
-
1994
- 1994-07-26 JP JP6173905A patent/JPH0835932A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006153748A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Tdk Corp | レーザアブレーション装置、レーザアブレーション試料分析システム及び試料導入方法 |
| CN104075932A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-10-01 | 袁洪林 | 一种多靶位的激光剥蚀样品室 |
| CN104075932B (zh) * | 2014-06-19 | 2016-08-24 | 袁洪林 | 一种多靶位的激光剥蚀样品室 |
| CN109668818A (zh) * | 2018-12-26 | 2019-04-23 | 宁波大学 | 基于激光烧蚀的细胞分析装置及方法 |
| JP2025179505A (ja) * | 2024-05-28 | 2025-12-10 | ジェイ・エス・ティ有限会社 | レーザーアブレーション用セル |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011002 |