JPH0836201A - Wavelength variable laser device and laser printer device - Google Patents

Wavelength variable laser device and laser printer device

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JPH0836201A
JPH0836201A JP17395494A JP17395494A JPH0836201A JP H0836201 A JPH0836201 A JP H0836201A JP 17395494 A JP17395494 A JP 17395494A JP 17395494 A JP17395494 A JP 17395494A JP H0836201 A JPH0836201 A JP H0836201A
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JP
Japan
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wavelength
laser
laser device
semiconductor laser
resonator
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JP17395494A
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Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Makio
諭 牧尾
Masazumi Sato
正純 佐藤
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Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To stably control the oscillation wavelength of a semiconductor laser and to realize miniaturization and low power consumption by using a wavelength control element for controlling the oscillation wavelength in the external resonator of an external resonator laser. CONSTITUTION:A P type semiconductor laser of AlGaI having a rear end face where a non-reflection coating 12 having 2% reflectance to the oscillation wavelength is formed and having a front end face 13 where a reflection surface is formed by cleavage is used as the semiconductor laser 11. The oscillating beam 17 emitted from the semiconductor laser 11 is condensed by a lens 14 and forms the external resonator between a plane mirror 16 to which total reflection coating having >=99.9% reflectance is applied and the front end face 13. The wavelength is controlled by arranging the wavelength control element 15 between the lens 14 and the plane mirror 16. A double refraction filter consisting of three quartz plates having different thickness is used as the wavelength control element 15, which is arranged at a Brewsters's angle to an optical axis and rotated around the optical axis, thereby controlling the wavelength. The laser beam whose wavelength is controlled is emitted from the front end face 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光エレクトロニクス分
野、特にレーザ光源および可視レーザ光源を用いたレー
ザプリンタ装置または光ディスク装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the field of optoelectronics, and more particularly to a laser printer device or an optical disk device using a laser light source and a visible laser light source.

【0002】[0002]

【従来の技術】高度情報化時代の進展に伴い、光ディス
ク装置やレーザプリンタ装置などの光記録分野において
記録密度向上や高速印刷の要求を満足するため、短波長
化への要求が高まっている。しかし製品化レベルでは要
求の多い波長域である青領域を満足する光源としてはH
e−Cd(ヘリウム−カドミウム)レーザ装置やAr
(アルゴン)レーザ装置などのガスレーザ装置しかな
く、例えば光ディスク装置に搭載するには大型で消費電
力が大きく不向きであった。また、前記ガスレーザ装置
は一部のレーザプリンタ装置に光源として搭載されてい
るが、将来小型・低消費電力化を進める上で障害となる
可能性を有していた。
2. Description of the Related Art With the progress of the advanced information age, there is an increasing demand for a shorter wavelength in order to satisfy the demands for higher recording density and higher speed printing in the optical recording field such as optical disc devices and laser printer devices. However, as a light source that satisfies the blue region, which is a highly demanded wavelength region at the commercial level,
e-Cd (helium-cadmium) laser device and Ar
There is only a gas laser device such as an (argon) laser device, and it is not suitable for mounting on an optical disk device, for example, because of its large size and large power consumption. Further, although the gas laser device is mounted as a light source in some laser printer devices, there is a possibility that it will be an obstacle to further miniaturization and lower power consumption in the future.

【0003】これに対して光第2高調波発生(SHG;
Second Harmonic Generation)を用いることで短波長化
する技術が提案された。このSHG光源の実用化技術の
検討は半導体レーザの高出力化と伴に進展した。その背
景には従来のガスレーザのような放電を必要とせず小
型、低消費電力化を実現する可能性を有していた点、
次に励起用半導体レーザの出力安定性および長寿命に依
存したSHG光源の高い信頼性(出力安定性、長寿
命)にある。前記ガスレーザと同等の出力波長を有する
SHG光源として、例えば近赤外の半導体レーザ出力を
第1の発振波すなわち基本波とし、外部共振器で共振さ
せて、その中に非線形光学結晶(以下で取り扱う波長変
換は全てSHGであるため単にSHG結晶と称す)であ
るKN(KNbO3;ニオブ酸カリウム)を配置することで
第2の発振波すなわちSH波である青色レーザ光を得る
方法が提案されている(W.J.Kozlovsky and W.Lenth,"G
eneration of 41mW of blue radiation by frequency d
oubling of a GaAlAsdiode laser",Appl.Phys.Lett.,vo
l.56,no.23,p2291,1990)。
On the other hand, optical second harmonic generation (SHG;
A technology for shortening the wavelength by using Second Harmonic Generation) was proposed. The examination of the technology for practical use of the SHG light source has advanced along with the increase in the output of the semiconductor laser. Behind that, there was the possibility of realizing small size and low power consumption without the need for discharge like conventional gas lasers,
Next is the high reliability (output stability, long life) of the SHG light source that depends on the output stability and long life of the pumping semiconductor laser. As an SHG light source having an output wavelength equivalent to that of the gas laser, for example, a near-infrared semiconductor laser output is used as a first oscillating wave, that is, a fundamental wave, and it is resonated by an external resonator, and a nonlinear optical crystal (which will be dealt with below) Since all wavelength conversion is SHG, it is simply referred to as SHG crystal.) A method has been proposed in which KN (KNbO 3 ; potassium niobate), which is a SHG crystal, is arranged to obtain a blue laser beam that is a second oscillation wave, that is, an SH wave. (WJ Kozlovsky and W.Lenth, "G
eneration of 41mW of blue radiation by frequency d
oubling of a GaAlAsdiode laser ", Appl.Phys.Lett., vo
l.56, no.23, p2291, 1990).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、SHG光源において外乱の影響を受けやす
い半導体レーザの発振波長を非線形結晶の変換効率が最
大となる波長に安定に合わせることと、非線形結晶を含
む外部共振器の共振器長を基本波の波長オーダで波長可
変制御することである。
The problem to be solved by the present invention is to stably adjust the oscillation wavelength of a semiconductor laser which is easily affected by disturbance in an SHG light source to a wavelength at which the conversion efficiency of a nonlinear crystal is maximized. That is, the resonator length of the external resonator including the nonlinear crystal is tunably controlled in the wavelength order of the fundamental wave.

【0005】SHG光源に必要とされる基本波光源の波
長制御がSHG出力の安定、高出力化には必要不可欠の
技術である。基本波の光源であるレーザ発振器の波長を
制御する方法として、従来から分散プリズム法、グレー
ティング法等がある。以下、その特徴と問題点を述べ
る。
The wavelength control of the fundamental wave light source required for the SHG light source is an essential technique for stabilizing the SHG output and increasing the output. As a method of controlling the wavelength of a laser oscillator which is a light source of a fundamental wave, there have been conventionally known a dispersion prism method, a grating method and the like. The features and problems are described below.

【0006】(1)分散プリズム法はプリズム材質にお
ける屈折率の波長分散によって波長の分離角度を変え、
任意の角度に反射ミラーを置くことで特定の波長を共振
器内で発振させる方法である。分離角度が小さいため、
ガスレーザ等のように発振線が十数nm以上離れている
場合に有効である。
(1) In the dispersion prism method, the wavelength separation angle is changed by the wavelength dispersion of the refractive index of the prism material,
This is a method of oscillating a specific wavelength in a resonator by placing a reflection mirror at an arbitrary angle. Because the separation angle is small,
This is effective when the oscillation lines are more than 10 nm apart, such as in a gas laser.

【0007】(2)グレーティング法はガラス基板表面
に形成した周期的な溝が回折格子となり特定の波長と次
数により回折効率が異なることを利用するもので、任意
の波長における±1、2次の回折光を取り出すことがで
きる。しかし、回折効率が最大60%程度と低く、レー
ザ共振器内に挿入することは出来ないため、複合外部共
振器として用いることで波長制御を行う。図6はグレー
ティング61による半導体レーザ11の発振波長の制御
を行なう構成図である。グレーティング61に入射する
レーザビーム17は平行ビームとする必要があり入射角
度がずれることで回折効率が低下し、発振スペクトル幅
が広がってしまう。また、グレーティング面と半導体レ
ーザ端面で構成する共振器は不安定領域に入りやすいた
めに調整が難しい等の問題点があった。
(2) The grating method takes advantage of the fact that the periodic grooves formed on the surface of the glass substrate serve as a diffraction grating, and the diffraction efficiency differs depending on a specific wavelength and order. Diffracted light can be extracted. However, since the diffraction efficiency is as low as about 60% at maximum and it cannot be inserted into the laser resonator, the wavelength is controlled by using it as a composite external resonator. FIG. 6 is a configuration diagram in which the oscillation wavelength of the semiconductor laser 11 is controlled by the grating 61. The laser beam 17 incident on the grating 61 needs to be a parallel beam, and if the incident angle shifts, the diffraction efficiency decreases and the oscillation spectrum width widens. Further, there is a problem in that it is difficult to adjust the resonator composed of the grating surface and the end face of the semiconductor laser because it easily enters the unstable region.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、検討を続
けた結果、半導体レーザと共振器ミラーにより形成され
る外部共振器レーザの外部共振器内に発振波長を制御す
るための波長制御素子を用いることにより、半導体レー
ザの発振波長を安定に制御した波長可変レーザ装置をえ
ることができることに想到した。また、その波長制御素
子としてブリュースタ角に傾けた複屈折結晶を用いるこ
とにより、損失の少ない広帯域な波長可変ができる。前
記複屈折結晶には水晶(SiO2)、LiNbO3、LiTa
3の何れかを用いる。前記半導体レーザの両端面もし
くは一つの端面に反射率2%以下の反射防止膜を施した
ものを用いる。
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of continuous studies, the inventors of the present invention have performed wavelength control for controlling an oscillation wavelength in an external cavity of an external cavity laser formed by a semiconductor laser and a cavity mirror. It has been conceived that a tunable laser device in which the oscillation wavelength of a semiconductor laser is stably controlled can be obtained by using the element. Further, by using a birefringent crystal tilted at Brewster's angle as the wavelength control element, it is possible to tune the wavelength in a wide band with less loss. The birefringent crystal includes quartz (SiO 2 ), LiNbO 3 and LiTa.
Any of O 3 is used. The semiconductor laser having both end faces or one end face coated with an antireflection film having a reflectance of 2% or less is used.

【0009】通常複屈折フィルタ法は複数の波長板(複
屈折結晶)と偏光子を組み合わせたもので、結晶の複屈
折性により常光と異常光とがそれぞれ異なった位相速度
で伝搬することを利用したものであり、結晶の厚さによ
り波長に対する偏光特性が異なるために任意の波長のみ
が透過するバンドパスフィルタとなる。複屈折結晶を共
振器内にブリュースター角で挿入することにより、理論
上、フィルタの損失は無くなり偏光子としての機能を合
わせ持つことができることにより、偏光子が不要とな
る。
Generally, the birefringence filter method is a combination of a plurality of wave plates (birefringence crystals) and a polarizer, and it is used that ordinary light and extraordinary light propagate at different phase velocities due to the birefringence of the crystals. Since the polarization characteristics with respect to the wavelength differ depending on the thickness of the crystal, the bandpass filter transmits only an arbitrary wavelength. By inserting the birefringent crystal into the resonator at Brewster's angle, theoretically, the loss of the filter is eliminated and the filter can have a function as a polarizer, so that the polarizer becomes unnecessary.

【0010】前記外部共振器は少なくとも2枚以上の共
振器ミラーから構成し、少なくとも1枚が反射率99.9%
以上の全反射ミラーとすることで波長可変レーザ装置を
構成する。
The external resonator comprises at least two resonator mirrors, at least one of which has a reflectance of 99.9%.
A wavelength tunable laser device is configured by using the above total reflection mirror.

【0011】また、前記外部共振器内に非線形結晶を配
置し、発振波長の半分の第二高調波を発生させる。前記
非線形結晶にはKN(KNbO3)、KLN(K3Li2-XNb
5+XO15+)、LBO(LiB3O5)を用い、共振器構造を形成す
る少なくとも1枚のミラーにおいて前記第二高調波の透
過率を60%以上とすることで効率よくSHG光を発生
させることができる。
Further, a non-linear crystal is arranged in the external resonator to generate the second harmonic of half the oscillation wavelength. The nonlinear crystal includes KN (KNbO 3 ), KLN (K 3 Li 2-X Nb
5 + X O 15+ ), LBO (LiB 3 O 5 ) and at least one mirror forming the resonator structure has a transmittance of the second harmonic of 60% or more for efficient SHG light Can be generated.

【0012】これらの手段を採用することで半導体レー
ザを用いた小型で、かつ低消費電力な波長可変レーザ装
置を実現できた。この波長可変レーザ装置はレーザプリ
ンタ装置の光源として使用可能である。
By adopting these means, a compact and low power consumption wavelength tunable laser device using a semiconductor laser can be realized. This tunable laser device can be used as a light source of a laser printer device.

【0013】[0013]

【実施例】【Example】

(実施例1)図1は本発明の一実施例を説明するための
図である。半導体レーザ11(LD)は後方端面に発振
波長に対して反射率2%以下の無反射(以下単にAR;
Anti-Reflection)コーティング12、前方端面13は
劈開による反射面を形成しているAlGaInP系半導体レー
ザを用い、出力150mW、発振波長850nmであ
る。半導体レーザから出射された発振ビーム17はレン
ズ14により集光され、反射率99.9%以上の全反射
(以下単にHR;High-Reflection)コーティングを施
した平面ミラー16と前方端面13との間で外部共振器
を形成する。レンズ14と平面ミラー16間に波長制御
素子15を配置することで波長制御する。波長制御素子
15は厚さの異なる3枚の水晶板(1、2、3mm)からなる
複屈折フィルタを用い、光軸に対してブリュースター角
に配置して光軸の回りを回転させることで波長制御す
る。波長制御されたレーザ光は前方端面13から出射さ
れる。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment of the present invention. The semiconductor laser 11 (LD) is non-reflective (hereinafter simply referred to as AR;
The Anti-Reflection) coating 12 and the front end face 13 are made of an AlGaInP-based semiconductor laser forming a reflection surface by cleavage, and have an output of 150 mW and an oscillation wavelength of 850 nm. The oscillation beam 17 emitted from the semiconductor laser is condensed by the lens 14 and is provided between the front end face 13 and the plane mirror 16 which is subjected to total reflection (hereinafter simply referred to as HR; High-Reflection) coating having a reflectance of 99.9% or more. To form an external resonator. The wavelength is controlled by disposing the wavelength control element 15 between the lens 14 and the plane mirror 16. The wavelength control element 15 uses a birefringent filter composed of three crystal plates (1, 2, 3 mm) having different thicknesses, and is arranged at Brewster's angle with respect to the optical axis and rotated around the optical axis. Control the wavelength. The wavelength-controlled laser light is emitted from the front end face 13.

【0014】図4に複屈折フィルタ15を回転させた場
合の波長可変特性を示す。最大波長可変幅は約11nm
から数nmの小さな幅で不連続な波長可変特性を示して
いる。これはLD自身の発振特性であるゲイン幅が10
nm程度であることから複屈折フィルタの透過波長特性
の第1ピークで10nmの波長可変幅で発振し、第2ピ
ークでもLDの発振ゲインが高いために数nm幅で発振
特性を示している。図5にLD自身の発振スペクトル
(LD mode)と複屈折フィルタにより波長制御された発
振スペクトル(Control mode)を示す。図より制御され
た発振スペクトルはLD自身のモート゛から離れたところに
ピークを持ち、サイドモードが40dB以上抑圧された安定
な発振特性を示している。
FIG. 4 shows wavelength tunable characteristics when the birefringent filter 15 is rotated. Maximum wavelength variable width is about 11 nm
Shows a discontinuous wavelength tunable characteristic with a small width of several nm. This is because the gain width, which is the oscillation characteristic of the LD itself, is 10
Since it is about nm, the birefringent filter oscillates with a wavelength tunable width of 10 nm at the first peak of the transmission wavelength characteristics, and the lasing gain of the LD is high even at the second peak, so that the oscillation characteristics are shown with a width of several nm. FIG. 5 shows the oscillation spectrum (LD mode) of the LD itself and the oscillation spectrum (Control mode) whose wavelength is controlled by the birefringent filter. From the figure, the controlled oscillation spectrum has a peak away from the mode of the LD itself, and shows stable oscillation characteristics in which the side mode is suppressed by 40 dB or more.

【0015】(実施例2)図2は本発明の他の実施例を
説明するための図である。半導体レーザ11の両端面を
ARコート12した場合で後方端面から反射ミラーまで
の光学系は実施例1と同様である。前方端面側の凹面ミ
ラー21と平面ミラー16による共振器を形成した場合
である。凹面ミラー21は発振波長に対して反射率95
%の反射コーティングを施すことで5%の出力を共振器
外に取り出している。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention. The optical system from the rear end face to the reflection mirror when the both end faces of the semiconductor laser 11 are AR-coated 12 is the same as that of the first embodiment. This is a case where a resonator is formed by the concave mirror 21 on the front end face side and the plane mirror 16. The concave mirror 21 has a reflectance of 95 with respect to the oscillation wavelength.
By applying a reflective coating of 5%, 5% of the output is taken out of the resonator.

【0016】(実施例3)図3は本発明の他の実施例を
説明するための図である。半導体レーザ11および共振
器光学系は実施例2と同様である。前方端面側に非線形
結晶31を挿入し、凹面ミラー32は基本波波長に対し
て反射率99.9%以上のHRコーティング、SH波長
に対しては透過率85%以上のARコーティングを施し
ている。非線形結晶31は3×3×5mmのKN結晶で
両端面には基本波波長に対して反射率0.2%以下、S
H波長に対して反射率1%以下のARコーティングを施
した。非線形結晶31の変換効率が最大となる波長に複
屈折フィルタを回転調整した。この時の出力ミラー32
から共振器外部に10mWのSH出力33が得られた。
非線形結晶31にはKLN(K3Li2-XNb5+XO15)、LBO
(LiB3O5)結晶を用いても良い。
(Embodiment 3) FIG. 3 is a view for explaining another embodiment of the present invention. The semiconductor laser 11 and the resonator optical system are the same as in the second embodiment. The nonlinear crystal 31 is inserted on the front end face side, and the concave mirror 32 is provided with an HR coating having a reflectance of 99.9% or more for the fundamental wavelength and an AR coating having a transmittance of 85% or more for the SH wavelength. . The non-linear crystal 31 is a 3 × 3 × 5 mm KN crystal and has a reflectance of 0.2% or less with respect to the fundamental wave wavelength on both end surfaces, S
An AR coating having a reflectance of 1% or less for H wavelength was applied. The birefringent filter was rotationally adjusted to a wavelength at which the conversion efficiency of the nonlinear crystal 31 was maximized. Output mirror 32 at this time
From, an SH output 33 of 10 mW was obtained outside the resonator.
The non-linear crystal 31 includes KLN (K 3 Li 2-X Nb 5 + X O 15 ), LBO.
A (LiB 3 O 5 ) crystal may be used.

【0017】(実施例4)図7は本発明を用いた一実施
例としてレーザビームプリンタの構成を説明するための
図である。実施例3で説明した波長可変レーザ装置10
0から出射されたSH出力33は、音響光学(以下単に
AO;Acousto-Optical)変調器201、折り返しミラ
ー206、ビームエキスパンダ202、回転多面鏡20
3、fθレンズ204を通過し、感光ドラム205に集
光される。AO変調器201は画像情報に応じてSH出
力33の変調を行い、回転多面鏡203は水平(紙面
内)方向に走査する。この組合せで2次元情報は感光ド
ラム205に部分的な電位差として記録される。感光ド
ラム205は前記電位差に応じてトナーを付着して回転
し、記録用紙に情報を再生する。
(Embodiment 4) FIG. 7 is a diagram for explaining the configuration of a laser beam printer as an embodiment using the present invention. Tunable laser device 10 described in the third embodiment
The SH output 33 emitted from 0 is an acousto-optic (AO; Acousto-Optical) modulator 201, a folding mirror 206, a beam expander 202, a rotary polygon mirror 20.
3, the light passes through the fθ lens 204 and is condensed on the photosensitive drum 205. The AO modulator 201 modulates the SH output 33 according to the image information, and the rotary polygon mirror 203 scans in the horizontal (inside the paper) direction. With this combination, the two-dimensional information is recorded on the photosensitive drum 205 as a partial potential difference. The photosensitive drum 205 attaches toner according to the potential difference and rotates to reproduce information on a recording sheet.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明では半導体レーザの発振波長を複
屈折フィルタにより制御することで安定化された波長可
変レーザ装置を実現した。また、その発振波長を基本波
として用いることで第二高調波発生の効率および信頼性
向上を実現した。さらに、この波長可変レーザ装置を光
源とする応用製品としてレーザプリンタなどの信頼性が
向上した。
According to the present invention, a stabilized wavelength tunable laser device is realized by controlling the oscillation wavelength of a semiconductor laser with a birefringent filter. Moreover, the efficiency and reliability of the second harmonic generation are improved by using the oscillation wavelength as the fundamental wave. Furthermore, the reliability of a laser printer etc. has been improved as an applied product using this tunable laser device as a light source.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を説明するための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例を説明するための図であ
る。
FIG. 2 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の他の実施例を説明するための図であ
る。
FIG. 3 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention.

【図4】半導体レーザの発振波長の波長制御素子におけ
る波長可変特性を示すための図である。
FIG. 4 is a diagram showing wavelength tunable characteristics in a wavelength control element for the oscillation wavelength of a semiconductor laser.

【図5】半導体レーザの波長制御の有無による発振スペ
クトルを示すための図である。
FIG. 5 is a diagram showing an oscillation spectrum of a semiconductor laser with and without wavelength control.

【図6】従来の半導体レーザの波長制御方法を説明する
ための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining a conventional wavelength control method for a semiconductor laser.

【図7】本発明を用いた一実施例を説明するための図で
ある。
FIG. 7 is a diagram for explaining one embodiment using the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 半導体レーザ 12 ARコーティング 14 レンズ 15 波長制御素子 16 平面ミラー 17 発振ビーム 21 凹面ミラー 31 非線形結晶 32 凹面ミラー 33 SH波またはSH出力 11 Semiconductor Laser 12 AR Coating 14 Lens 15 Wavelength Control Element 16 Planar Mirror 17 Oscillation Beam 21 Concave Mirror 31 Nonlinear Crystal 32 Concave Mirror 33 SH Wave or SH Output

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体レーザと共振器ミラーにより形成
される外部共振器レーザにおいて外部共振器内に発振波
長を制御するための波長制御素子を有することを特徴と
する波長可変レーザ装置。
1. A wavelength tunable laser device having a wavelength control element for controlling an oscillation wavelength in an external resonator of an external resonator laser formed by a semiconductor laser and a resonator mirror.
【請求項2】 前記波長制御素子としてブリュースタ角
に傾けた複屈折結晶を用いることを特徴とする請求項1
に記載の波長可変レーザ装置。
2. A birefringent crystal tilted at Brewster's angle is used as the wavelength control element.
The wavelength tunable laser device described in.
【請求項3】 前記複屈折結晶に水晶(SiO2)、LiNb
3、LiTaO3の何れかを用いることを特徴とする請
求項2に記載の波長可変レーザ装置。
3. The birefringent crystal is made of quartz (SiO 2 ), LiNb.
3. The tunable laser device according to claim 2, wherein either O 3 or LiTaO 3 is used.
【請求項4】 前記半導体レーザの少なくとも一つの端
面に反射率2%以下の反射防止膜が形成されていること
を特徴とする請求項1〜3のいずれかの項に記載の波長
可変レーザ装置。
4. The wavelength tunable laser device according to claim 1, wherein an antireflection film having a reflectance of 2% or less is formed on at least one end face of the semiconductor laser. .
【請求項5】 前記外部共振器が少なくとも2枚の共振
器ミラーから構成されていることを特徴とする請求項1
〜4のいずれかの項に記載の波長可変レーザ装置。
5. The external resonator comprises at least two resonator mirrors.
The tunable laser device according to any one of items 1 to 4.
【請求項6】 前記共振器ミラーの少なくとも1枚が反
射率99.9%以上の全反射することを特徴とする請求項1
〜5のいずれかの項に記載の波長可変レーザ装置。
6. The resonator according to claim 1, wherein at least one of the resonator mirrors is totally reflected with a reflectance of 99.9% or more.
5. The wavelength tunable laser device according to any one of items 5 to 5.
【請求項7】 前記外部共振器内に非線形結晶を配置
し、前記非線形結晶により発振波長の半分の第二高調波
を発生させることを特徴とする請求項1〜6のいずれか
の項に記載の波長可変レーザ装置。
7. The non-linear crystal is arranged in the external resonator, and the non-linear crystal generates a second harmonic having a half of the oscillation wavelength. Tunable laser device.
【請求項8】 前記非線形結晶にKN(KNbO3)、KLN
(K3Li2-XNb5+XO15)、LBO(LiB3O5)のうちの何れかを
用いたことを特徴とする請求項7に記載の波長可変レー
ザ装置。
8. The nonlinear crystal contains KN (KNbO 3 ), KLN
The tunable laser device according to claim 7, wherein any one of (K 3 Li 2-X Nb 5 + X O 15 ) and LBO (LiB 3 O 5 ) is used.
【請求項9】 前記外部共振器を形成する少なくとも1
枚のミラーにおいて前記第二高調波の透過率が60%以
上であることを特徴とする請求項7または8に記載の波
長可変レーザ装置。
9. At least one forming the external resonator.
9. The wavelength tunable laser device according to claim 7, wherein the second harmonic has a transmittance of 60% or more in one mirror.
【請求項10】 請求項1〜9のいずれかの項に記載の
波長可変レーザ装置を用いたことを特徴とするレーザプ
リンタ装置。
10. A laser printer device using the wavelength tunable laser device according to claim 1. Description:
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013546022A (en) * 2010-11-14 2013-12-26 ケーエルエー−テンカー コーポレイション High damage threshold frequency conversion system
CN114374137A (en) * 2021-12-29 2022-04-19 武汉安扬激光技术股份有限公司 Optical fiber ultraviolet femtosecond laser

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013546022A (en) * 2010-11-14 2013-12-26 ケーエルエー−テンカー コーポレイション High damage threshold frequency conversion system
US9753352B1 (en) 2010-11-14 2017-09-05 Kla-Tencor Corporation High damage threshold frequency conversion system
CN114374137A (en) * 2021-12-29 2022-04-19 武汉安扬激光技术股份有限公司 Optical fiber ultraviolet femtosecond laser
CN114374137B (en) * 2021-12-29 2024-03-26 武汉安扬激光技术股份有限公司 Optical fiber ultraviolet femtosecond laser

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