JPH0836791A - 滑性膜つき光ディスクの製造方法 - Google Patents
滑性膜つき光ディスクの製造方法Info
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- JPH0836791A JPH0836791A JP6172665A JP17266594A JPH0836791A JP H0836791 A JPH0836791 A JP H0836791A JP 6172665 A JP6172665 A JP 6172665A JP 17266594 A JP17266594 A JP 17266594A JP H0836791 A JPH0836791 A JP H0836791A
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- resin
- curable resin
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ディスクとカートリッジとの接触部からの
切削屑の発生の少ないカートリッジ入り光ディスクを提
供する。 【構成】 光ディスクのリム接触部に導電層を形成し、
次いで滑り剤を含有させた硬化性樹脂に正電荷を加えた
状態で噴霧、導電層上に選択的に塗布し、硬化するも
の。
切削屑の発生の少ないカートリッジ入り光ディスクを提
供する。 【構成】 光ディスクのリム接触部に導電層を形成し、
次いで滑り剤を含有させた硬化性樹脂に正電荷を加えた
状態で噴霧、導電層上に選択的に塗布し、硬化するも
の。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は滑性膜つき光ディスクの
製造方法に関する。詳しくはカートリッジと光ディスク
とが接触した部分から切削屑の発生することの少ない滑
性膜つき光ディスクの製造方法に関する。
製造方法に関する。詳しくはカートリッジと光ディスク
とが接触した部分から切削屑の発生することの少ない滑
性膜つき光ディスクの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に光ディスクのうち、特にコンピュ
ータメモリとしての使用が期待される光磁気ディスク等
においては、その使用目的から記録・再生に高い信頼性
が要求される。このため、保管時においてディスク面に
ホコリ等が付着し又は傷等が生ずることを防止するため
に、又使用時にはディスク回転駆動装置に装着する際に
ディスク表面に指紋等が付着しないようにするためにプ
ラスチック製のケース（カートリッジ）内に収容されて
取り扱われている。
ータメモリとしての使用が期待される光磁気ディスク等
においては、その使用目的から記録・再生に高い信頼性
が要求される。このため、保管時においてディスク面に
ホコリ等が付着し又は傷等が生ずることを防止するため
に、又使用時にはディスク回転駆動装置に装着する際に
ディスク表面に指紋等が付着しないようにするためにプ
ラスチック製のケース（カートリッジ）内に収容されて
取り扱われている。
【０００３】カートリッジケース内に収納された光ディ
スクは、使用時に駆動装置内に挿入され回転される。そ
して、使用後、駆動装置内より取り出される時は、回転
が完全に停止していない状態でカートリッジケースごと
持ち上げられる。この時、カートリッジケース内のディ
スク支持用のリムと回転している光ディスクがこすれ、
カートリッジケースのリム及び光ディスクの表面が削れ
てゴミが発生する。
スクは、使用時に駆動装置内に挿入され回転される。そ
して、使用後、駆動装置内より取り出される時は、回転
が完全に停止していない状態でカートリッジケースごと
持ち上げられる。この時、カートリッジケース内のディ
スク支持用のリムと回転している光ディスクがこすれ、
カートリッジケースのリム及び光ディスクの表面が削れ
てゴミが発生する。
【０００４】このゴミは、光ディスクの書込み、読みだ
しに支障となる場合がある。このため、このようなディ
スクカートリッジに収納される光ディスクは、通常、デ
ィスク支持部に対応する位置にＰＥＴ（ポリエチレンテ
レフタレート）製フィルム等の滑性に優れた樹脂よりな
る滑性リングを配し、上記ディスク内周支持リブと光デ
ィスクとが擦れ合うのを防止するようになされているも
のもある。
しに支障となる場合がある。このため、このようなディ
スクカートリッジに収納される光ディスクは、通常、デ
ィスク支持部に対応する位置にＰＥＴ（ポリエチレンテ
レフタレート）製フィルム等の滑性に優れた樹脂よりな
る滑性リングを配し、上記ディスク内周支持リブと光デ
ィスクとが擦れ合うのを防止するようになされているも
のもある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＰＥＴ
製フィルムよりなる滑性リングを光ディスクに貼り合わ
せるため用いている接着剤は、通常感圧接着剤等であり
高温時或いは経時的変化により劣化し、貼り合わせた滑
性リングが剥がれたりすることがある。またＰＥＴから
なるフィルムは非常に扱いにくく所定の位置に貼り合わ
せるのも難しい技術を要し生産性が低かった。
製フィルムよりなる滑性リングを光ディスクに貼り合わ
せるため用いている接着剤は、通常感圧接着剤等であり
高温時或いは経時的変化により劣化し、貼り合わせた滑
性リングが剥がれたりすることがある。またＰＥＴから
なるフィルムは非常に扱いにくく所定の位置に貼り合わ
せるのも難しい技術を要し生産性が低かった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで本発明はこのよう
な従来の問題点に鑑み鋭意検討を重ねた結果接着剤を使
用せず目的とする滑性膜を形成する方法を見いだし生産
性の優れた滑性膜つき光ディスクの製造方法を完成する
に至った。すなわち本発明の要旨は光ディスク基板のカ
ートリッジケースのリム部と接触する位置に導電層を形
成し、次いで、滑り剤を含有させた硬化性樹脂に正電荷
を加えた状態でディスク表面に噴霧することにより導電
層上に硬化性樹脂を付着させ、その後硬化性樹脂を硬化
することを特徴とする滑性膜つき光ディスクの製造方
法。
な従来の問題点に鑑み鋭意検討を重ねた結果接着剤を使
用せず目的とする滑性膜を形成する方法を見いだし生産
性の優れた滑性膜つき光ディスクの製造方法を完成する
に至った。すなわち本発明の要旨は光ディスク基板のカ
ートリッジケースのリム部と接触する位置に導電層を形
成し、次いで、滑り剤を含有させた硬化性樹脂に正電荷
を加えた状態でディスク表面に噴霧することにより導電
層上に硬化性樹脂を付着させ、その後硬化性樹脂を硬化
することを特徴とする滑性膜つき光ディスクの製造方
法。
【０００７】本発明において用いられる基板としては、
ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン
樹脂等の樹脂基板が挙げられる。この基板の厚みは１〜
２ｍｍ程度が一般的である。このような樹脂基板上に形
成する光磁気記録層の層構成としては特に制限はなく、
公知の光磁気記録層の層構成を採用することができる。
ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン
樹脂等の樹脂基板が挙げられる。この基板の厚みは１〜
２ｍｍ程度が一般的である。このような樹脂基板上に形
成する光磁気記録層の層構成としては特に制限はなく、
公知の光磁気記録層の層構成を採用することができる。
【０００８】例えばＴｂＦｅ，ＴｂＦｅＣｏ，ＴｂＣ
ｏ，ＤｙＴｂＦｅＣｏ等の希土類と遷移金属との非晶質
磁性合金、ＭｎＢｉ，ＭｎＣｕＢｉ等の多結晶垂直磁化
膜等が用いられる。光磁気記録層としては単一の層を用
いても良いし、ＧｄＴｂＦｅ／ＴｂＦｅのように２層以
上の記録層を重ねて用いても良い。
ｏ，ＤｙＴｂＦｅＣｏ等の希土類と遷移金属との非晶質
磁性合金、ＭｎＢｉ，ＭｎＣｕＢｉ等の多結晶垂直磁化
膜等が用いられる。光磁気記録層としては単一の層を用
いても良いし、ＧｄＴｂＦｅ／ＴｂＦｅのように２層以
上の記録層を重ねて用いても良い。
【０００９】上記基板と光磁気記録層との間には、干渉
層を設けることもできる。この層は、高屈折率の透明膜
による光の干渉効果により反射率を落とすことでノイズ
を低下させＣ／Ｎを向上させるためのものである。干渉
層は単層膜でも多層膜でも良い。干渉層の構成物質とし
ては、金属酸化物や金属窒化物が用いられる。
層を設けることもできる。この層は、高屈折率の透明膜
による光の干渉効果により反射率を落とすことでノイズ
を低下させＣ／Ｎを向上させるためのものである。干渉
層は単層膜でも多層膜でも良い。干渉層の構成物質とし
ては、金属酸化物や金属窒化物が用いられる。
【００１０】金属酸化物としてはＡｌ2 Ｏ3 ，Ｔａ2 Ｏ
5 ，ＳｉＯ2 ，ＳｉＯ，ＴｉＯ2 等の金属酸化物単独又
はこれらの混合物、或いはＡｌ−Ｔａ−Ｏの複合酸化物
等が挙げられる。更に、これらの酸化物に、他の元素、
例えば、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｗ，Ｍｏ，Ｙｂ等が酸化物の形で
単独で、或いはＡｌ，Ｔａと複合して酸化物を形成して
いるものでも良い。
5 ，ＳｉＯ2 ，ＳｉＯ，ＴｉＯ2 等の金属酸化物単独又
はこれらの混合物、或いはＡｌ−Ｔａ−Ｏの複合酸化物
等が挙げられる。更に、これらの酸化物に、他の元素、
例えば、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｗ，Ｍｏ，Ｙｂ等が酸化物の形で
単独で、或いはＡｌ，Ｔａと複合して酸化物を形成して
いるものでも良い。
【００１１】これらの金属化物よりなる干渉層は、緻密
で外部からの水分や酸素の浸入を防ぐことができ、ま
た、耐食性が高く後述の反射層との反応性も小さい。更
に、基板として樹脂基板を使用する場合、基板を構成す
る樹脂との密着性にも優れている。金属窒化物として
は、窒化シリコン、窒化アルミニウム等が挙げられる。
で外部からの水分や酸素の浸入を防ぐことができ、ま
た、耐食性が高く後述の反射層との反応性も小さい。更
に、基板として樹脂基板を使用する場合、基板を構成す
る樹脂との密着性にも優れている。金属窒化物として
は、窒化シリコン、窒化アルミニウム等が挙げられる。
【００１２】これらの金属窒化物のうち、特に緻密で外
部からの水分や酸素の浸入を防ぐ効果に優れることか
ら、窒化シリコンを用いるのが好ましい。このような金
属酸化物又は金属窒化物よりなる干渉層の膜厚は、その
屈折率により最適膜厚が異なるが、通常４００〜１５０
０Å程度、特に５００〜１０００Å程度とするのが適当
である。
部からの水分や酸素の浸入を防ぐ効果に優れることか
ら、窒化シリコンを用いるのが好ましい。このような金
属酸化物又は金属窒化物よりなる干渉層の膜厚は、その
屈折率により最適膜厚が異なるが、通常４００〜１５０
０Å程度、特に５００〜１０００Å程度とするのが適当
である。
【００１３】光磁気記録層の干渉層と反対の面には、干
渉層と同様の材質を持つ誘電体よりなる保護層、即ち誘
電体層を設けるのが望ましい。この誘電体層の膜厚は通
常の場合、５００〜１５００Å程度とするのが良い。反
射層を設ける構造の媒体では、記録層に接して、又は数
百Åの誘電体層を介して高反射率の金属（例えばＡｌ，
Ｃｕ等）の単体又はその合金の層を反射層として設け
る。反射層の上に更に誘電体層をもうけることもでき
る。
渉層と同様の材質を持つ誘電体よりなる保護層、即ち誘
電体層を設けるのが望ましい。この誘電体層の膜厚は通
常の場合、５００〜１５００Å程度とするのが良い。反
射層を設ける構造の媒体では、記録層に接して、又は数
百Åの誘電体層を介して高反射率の金属（例えばＡｌ，
Ｃｕ等）の単体又はその合金の層を反射層として設け
る。反射層の上に更に誘電体層をもうけることもでき
る。
【００１４】なお、本発明において、基板上に干渉層、
記録層、誘電体層、反射層、誘電体層等の各層を形成す
る方法としては、スパッタリング等の物理蒸着法（ＰＶ
Ｄ）、プラズマＣＶＤのような化学蒸着法（ＣＶＤ）等
が適用される。また、イオンプレーティングを用いる方
法でも良い。ＰＶＤ法にて干渉層、光磁気記録層、誘電
体層、反射層、誘電体層等を成膜形成するには、所定の
組成をもったターゲットを用いて電子ビーム蒸着又はス
パッタリングにより基板上に各層を堆積するのが通常の
方法である。
記録層、誘電体層、反射層、誘電体層等の各層を形成す
る方法としては、スパッタリング等の物理蒸着法（ＰＶ
Ｄ）、プラズマＣＶＤのような化学蒸着法（ＣＶＤ）等
が適用される。また、イオンプレーティングを用いる方
法でも良い。ＰＶＤ法にて干渉層、光磁気記録層、誘電
体層、反射層、誘電体層等を成膜形成するには、所定の
組成をもったターゲットを用いて電子ビーム蒸着又はス
パッタリングにより基板上に各層を堆積するのが通常の
方法である。
【００１５】膜の堆積速度は速すぎると膜応力を増加さ
せ、遅すぎると生産性が低下するので、通常、０．１〜
１００Å／ｓｅｃ程度の範囲で適宜決定される。以下、
干渉層、光磁気記録層、誘電体層及び反射層等を含めて
「記録層」と称する。以下本発明を詳細に説明する。
せ、遅すぎると生産性が低下するので、通常、０．１〜
１００Å／ｓｅｃ程度の範囲で適宜決定される。以下、
干渉層、光磁気記録層、誘電体層及び反射層等を含めて
「記録層」と称する。以下本発明を詳細に説明する。
【００１６】図１は本発明の方法を説明するための説明
図である。図中１は光ディスク基板、２は導電層、３は
軸、４は硬化性樹脂、５はノズル、６は正電荷発生装
置、７はタンク、８はフィルターをそれぞれ示す。まず
光ディスク基板１として用いられるポリカーボネート樹
脂などからなる樹脂を射出成形法により厚さ１〜２ｍｍ
程度の円板状の光ディスク基板１を作成する。
図である。図中１は光ディスク基板、２は導電層、３は
軸、４は硬化性樹脂、５はノズル、６は正電荷発生装
置、７はタンク、８はフィルターをそれぞれ示す。まず
光ディスク基板１として用いられるポリカーボネート樹
脂などからなる樹脂を射出成形法により厚さ１〜２ｍｍ
程度の円板状の光ディスク基板１を作成する。
【００１７】光ディスク基板１の表面に記録層等を形成
した後もしくは形成する前に、所定の部分に導電層２を
形成する。導電層２を形成する部分はカートリッジのリ
ムと接触する部分である。導電層を形成する手段として
は、ＩＴＯ，Ａｌ等の膜を蒸着法やスパッタリング法、
などを用いて薄膜に形成すれば良い。他の方法としては
例えば、カーボン粒子や導電性フィラーを含有した硬化
性樹脂を塗布等により形成してもよい。次に、導電層部
分に滑り性を付加するため、滑り剤を含有させた硬化性
樹脂を吹きつけるが、滑り剤としては、流動パラフィ
ン、天然ワックス、マイクロワックス、ポリエチレンワ
ックス等の脂肪族炭化水素系、ステアリン酸、ラウリン
酸等の炭素数１４〜３２の高級脂肪酸系、セチルアルコ
ール、ステアリルアルコール等の炭素数１４以上の脂肪
族アルコール系、ステアリン酸アミド、パルミチン酸ア
ミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステ
アロアミド、オレイン酸アミド、エルシン酸アミド等の
脂肪酸アミド系、ブチルステアレートなどの脂肪酸の低
級アルコールエステル、硬化ヒマシ油などの脂肪酸の多
価アルコールエステル及びエチレングリコールモノステ
アレートなどの脂肪酸のグリコールエステル等の脂肪酸
エステル系、ステアリン酸の金属塩などの炭素数１２〜
３０の脂肪酸から誘導される金属石けん系及びシリコー
ン系等があげられる。
した後もしくは形成する前に、所定の部分に導電層２を
形成する。導電層２を形成する部分はカートリッジのリ
ムと接触する部分である。導電層を形成する手段として
は、ＩＴＯ，Ａｌ等の膜を蒸着法やスパッタリング法、
などを用いて薄膜に形成すれば良い。他の方法としては
例えば、カーボン粒子や導電性フィラーを含有した硬化
性樹脂を塗布等により形成してもよい。次に、導電層部
分に滑り性を付加するため、滑り剤を含有させた硬化性
樹脂を吹きつけるが、滑り剤としては、流動パラフィ
ン、天然ワックス、マイクロワックス、ポリエチレンワ
ックス等の脂肪族炭化水素系、ステアリン酸、ラウリン
酸等の炭素数１４〜３２の高級脂肪酸系、セチルアルコ
ール、ステアリルアルコール等の炭素数１４以上の脂肪
族アルコール系、ステアリン酸アミド、パルミチン酸ア
ミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステ
アロアミド、オレイン酸アミド、エルシン酸アミド等の
脂肪酸アミド系、ブチルステアレートなどの脂肪酸の低
級アルコールエステル、硬化ヒマシ油などの脂肪酸の多
価アルコールエステル及びエチレングリコールモノステ
アレートなどの脂肪酸のグリコールエステル等の脂肪酸
エステル系、ステアリン酸の金属塩などの炭素数１２〜
３０の脂肪酸から誘導される金属石けん系及びシリコー
ン系等があげられる。
【００１８】滑り剤の配合量は硬化性樹脂の硬化後の滑
性膜とカートリッジ内周リブとの動摩擦係数が１．０以
下となる量配合するのが望ましく、通常硬化性樹脂成分
１００重量部当り（５〜１００）重量部の範囲が適当で
ある。上記滑り剤を硬化性樹脂に配合するに際し、該樹
脂との相溶性を良くするために滑り剤を溶媒に溶解させ
てもよい。
性膜とカートリッジ内周リブとの動摩擦係数が１．０以
下となる量配合するのが望ましく、通常硬化性樹脂成分
１００重量部当り（５〜１００）重量部の範囲が適当で
ある。上記滑り剤を硬化性樹脂に配合するに際し、該樹
脂との相溶性を良くするために滑り剤を溶媒に溶解させ
てもよい。
【００１９】硬化性樹脂としては、エネルギー線（例え
ば、紫外線）硬化型或いは熱硬化型の硬化性樹脂等が用
いられる。エネルギー線（例えば、紫外線（ＵＶ））硬
化型樹脂としてはアクリレート又はメタアクリレート基
を単一或いは複数有する化合物よりなるものが、好適に
用いられる。
ば、紫外線）硬化型或いは熱硬化型の硬化性樹脂等が用
いられる。エネルギー線（例えば、紫外線（ＵＶ））硬
化型樹脂としてはアクリレート又はメタアクリレート基
を単一或いは複数有する化合物よりなるものが、好適に
用いられる。
【００２０】熱硬化性樹脂としてはシリコン系、エポキ
シ系、チタン系等が用いられる。このように滑り剤を含
有した硬化性樹脂４はタンク７からフィルター８等を
経、ノズル５から軸３を中心に回転している光ディスク
基板の表面に噴霧状にスプレイされる。硬化性樹脂はノ
ズルから出た直後に正電荷発生装置６により正電荷が加
えられる。
シ系、チタン系等が用いられる。このように滑り剤を含
有した硬化性樹脂４はタンク７からフィルター８等を
経、ノズル５から軸３を中心に回転している光ディスク
基板の表面に噴霧状にスプレイされる。硬化性樹脂はノ
ズルから出た直後に正電荷発生装置６により正電荷が加
えられる。
【００２１】電荷をもったコート液の粒子は、導電層２
の部分をアースとし選択的に導電層２の部分に付着する
こととなる。付着し形成された膜は紫外線あるいは熱に
より硬化され滑性膜を有する光ディスクとなる。
の部分をアースとし選択的に導電層２の部分に付着する
こととなる。付着し形成された膜は紫外線あるいは熱に
より硬化され滑性膜を有する光ディスクとなる。
【００２２】
【発明の効果】本発明の光ディスクは生産性が良好で、
長期連続使用においても、光ディスクの内周部表面とカ
ートリッジケースの内周リム部とのこすれによるゴミの
発生を防ぐことができる。
長期連続使用においても、光ディスクの内周部表面とカ
ートリッジケースの内周リム部とのこすれによるゴミの
発生を防ぐことができる。
【図１】本発明の方法を説明する説明図。
１ 光ディスク基板 ２ 導電層 ３ 軸 ４ 硬化性樹脂 ６ 正電荷発生装置
Claims (1)
- 【請求項１】 光ディスク基板のカートリッジケースの
リム部と接触する位置に導電層を形成し、次いで、滑り
剤を含有させた硬化性樹脂に正電荷を加えた状態でディ
スク表面に噴霧することにより導電層上に硬化性樹脂を
付着させ、その後硬化性樹脂を硬化することを特徴とす
る滑性膜つき光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6172665A JPH0836791A (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 滑性膜つき光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6172665A JPH0836791A (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 滑性膜つき光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0836791A true JPH0836791A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=15946108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6172665A Pending JPH0836791A (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 滑性膜つき光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0836791A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0999249A3 (de) * | 1998-11-04 | 2003-02-26 | Singulus Technologies AG | Verfahren zum Verhindern von Blasen oder Bläschen beim Verbinden von Substratteilen optischer Datenträger durch einen Kleber |
| EP1152408A3 (en) * | 2000-04-27 | 2003-02-26 | Origin Electric Co. Ltd. | Method and apparatus for bonding optical disc substrates together, and method for supplying liquid material |
-
1994
- 1994-07-25 JP JP6172665A patent/JPH0836791A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0999249A3 (de) * | 1998-11-04 | 2003-02-26 | Singulus Technologies AG | Verfahren zum Verhindern von Blasen oder Bläschen beim Verbinden von Substratteilen optischer Datenträger durch einen Kleber |
| EP1152408A3 (en) * | 2000-04-27 | 2003-02-26 | Origin Electric Co. Ltd. | Method and apparatus for bonding optical disc substrates together, and method for supplying liquid material |
| US6685794B2 (en) | 2000-04-27 | 2004-02-03 | Origin Electric Co., Ltd. | Method and apparatus for bonding optical disc substrates together, and method for supplying liquid material |
| EP1656999A1 (en) * | 2000-04-27 | 2006-05-17 | Origin Electric Co. Ltd. | Method for supplying liquid material |
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