JPH0620300A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】ダスト付着防止効果に優れた光記録媒体を提供
する。 【構成】記録層の設けられた側と反対側の基板表面上
に、非磁性の金属又は金属酸化物より形成される導電層
を設け、さらにその表面に硬化性樹脂からなる表面保護
層を厚さ０．０５〜１．０μｍの範囲で設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体に関する。詳
しくは、基板表面上にゴミやホコリ等のダストの付着の
少ない光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大容量、高速のメモリ媒体として
光記録媒体が注目されている。光記録媒体としては再生
専用型光ディスク（ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ等）、記録再生
型光ディスク（ライトワンス型）、記録、再生、消去、
再書込可能型光ディスク（リライタブル型）等が知られ
ている。これらの光記録媒体の基板としては一般に樹脂
基板（ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等）が用い
られており、該樹脂基板はそれ自体電気の不良導体であ
るため摩擦により帯電しやすく、このため光記録媒体の
製造、保存及び使用中に該光記録媒体の基板表面上にゴ
ミやホコリ等のダストが付着して、読み取りエラーの発
生原因となっていた。また、これをディスクドライブ機
構に装着した場合には高電圧の放電が起こってノイズに
よる読み取りエラーが発生したり、ドライブ機構にダメ
ージを与えてしまうという問題があった。このため、光
記録媒体の基板に帯電防止剤を混練したり、あるいは基
板上の表面に帯電防止剤を塗布したりする提案（特開昭
６１−２７６１４５号）がなされている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た前者の方法では光記録媒体の記録層を酸化・劣化しや
すくする恐れがあり、また、後者の方法では基板表面の
帯電防止性が十分であっても、ダストの付着防止が十分
とは言いがたい。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者等は光記録媒体
の上記問題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、記録
層の設けられた側と反対側の基板表面に特定の保護層を
設けることにより、上記問題点が解決できることを見出
し、本発明を解決するに至った。

【０００５】すなわち、本発明は基板上に記録層を設け
た光記録媒体において、記録層の設けられた側と反対側
の基板表面上に、非磁性の金属又は金属酸化物より形成
される導電層を設け、さらにその表面に硬化性樹脂から
なる表面保護層を厚さ０．０５〜１．０μｍの範囲で設
けてなる光記録媒体に存する。以下、本発明につきさら
に詳細に説明する。本発明は基板上に記録層を設けた光
記録媒体において記録層の設けられた側とは反対側の基
板表面に特定の導電層を設け、さらにその表面に硬化性
樹脂からなる表面保護層（オーバコート層）を設けたこ
とを特徴とするものである。

【０００６】該光記録媒体はその構造から第１図に示す
ようなエアーサンドイッチ構造方式、第２図に示すよう
な全面密着貼り合せ方式、第３図に示すような単板コー
ティング方式等に大別される。本発明はこれらのいずれ
の構造にも適用できる。図中１は基板、２は記録層、３
はスペーサ、４は空気層、５は接着層、６は保護層、７
は表面保護層（オーバコート層）、８は導電層を示す。

【０００７】本発明において基板１としては、ポリカー
ボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
メチルメタクリレート樹脂等の樹脂基板が用いられる。
記録層２としては一般に公知の光記録として用いられる
層構成のものが全て使用可能である。例えば、Ａｌ，Ａ
ｕ等の高反射率の金属からなる再生専用型記録層、ま
た、Ｔｅ等の低融点金属からなるライトワンス型記録
層。また、例えばＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏ、ＴｂＣｏ、
ＤｙＦｅＣｏ等の希土類と遷移金属の非晶質磁性合金、
ＭｎＢｉ、ＭｎＣｕＢｉ等の多結晶垂直磁化膜等からな
る光磁気記録層が挙げられる。光磁気記録層としては単
一層を用いても良いし、ＧｄＴｂＦｅ／ＴｂＦｅのよう
に２層以上の記録層を重ねても良い。

【０００８】通常、ライトワンス型（穴開けタイプ）の
場合には第１図に示すように、空気層４を形成するよう
にスペーサー３を介したエアーサンドイッチ型、光磁気
記録型の場合には第２図に示すように接着層５によって
２枚の基板を貼合せた貼合せ型や第３図に示すような記
録層２の表面に保護層６をコーティングしたコーティン
グ型として用いられる。本発明はいずれの型式の媒体で
も適用可能である。本発明においては基板１の表面上に
特定の導電層８を設け、その表面に表面保護層７を特定
の厚みで設けたことを特徴とするものである。

【０００９】上記導電層８としては金、銀、銅、パラジ
ウム、酸化インジウム、酸化スズ、酸化アンチモン、酸
化チタン、ＳｎＯ₂／Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₅／ＳｉＯ₂等の
非磁性の金属又は金属酸化物が用いられる。上記基板１
の表面上に該導電層を形成する方法として、上記非磁性
の金属又は金属酸化物を真空蒸着法、反応性蒸着法、ス
パッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等の方法が採用される。

【００１０】該導電層８の層厚みとしては特に制限を設
けるものではないが、その表面に表面保護層７形成後の
保護層表面の表面固有抵抗が１×１０⁶Ω／口〜５×１
０¹³Ω／口望ましくは５×１０⁸Ω／口〜５×１０¹³Ω
／口の範囲の割合となる層厚みが好ましい。表面保護層
７としてはエネルギー線（例えば、紫外線）硬化型或る
いは熱硬化型の硬化性樹脂からなる所謂ハードコート剤
が用いられる。エネルギー線（例えば、紫外線（Ｕ
Ｖ））硬化型樹脂としてはアクリレート又はメタアクリ
レート基を単一、あるいは複数有する化合物よりなるも
の、例えばエポキシアクリレートやウレタンアクリレー
ト等を主成分としたものが好適に用いられる。また、熱
硬化型樹脂としてはシリコン系、エポキシ系、チタン系
等が用いられる。

【００１１】該硬化樹脂は、ディスク基板の導電層８の
表面に直接、又は他の層を介して設ければ良く、その方
法としては、スピンコーター、ディッピング、スプレ
ー、ロールコーター、フローコーター法等のコーティン
グ法等を用いることができる。また、塗膜形成後の塗膜
硬化条件は各コート剤に合った硬化方法を用いれば良
く、例えばエネルギー硬化型、すなわち紫外線（ＵＶ）
硬化型であれば紫外線を照射し、電子線硬化型であれば
電子線を照射し、また、熱硬化型であれば加熱処理する
などの方法が採用される。

【００１２】形成される表面保護層７の厚味（硬化後）
は０．０５〜１．０μｍ，望ましくは０．１〜０．５μ
ｍの範囲であり、下限未満では耐擦傷性が不十分で、ハ
ードコート層としてはその機能が不十分であり、また、
上限より厚いと表面固有抵抗が高くなりすぎ、ダスト付
着防止効果が不十分となる。

【００１３】

【実施例】以下に実施例を示すが、本発明は以下の実施
例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として中央に直径１５ｍｍの孔を有する直径１
３０ｍｍ、板厚１．２ｍｍの案内溝付き円形平板状のポ
リカーボネート射出成形基板を用い、その上に以下の層
構成の記録膜（カッコ内は膜厚を示す。）を連続スパッ
タ装置で成膜して記録ディスクを製造した。 基板 ／ ＳｉＮｘ（７５０Å） ／ＴｂＦｅＣｏ（３
００Å） ／ ＡｌＳｉ（４００Å） ／ ＳｉＮｘ
（３５０Å）

【００１４】上記のような光記録媒体の透明基板の表面
（磁性層が設けられていない表面）に、パラジウム金属
をＤＣマグネトロンスパッタ装置を用いて３×１８^-8Ｔ
ｏｒｒの減圧下Ａｒガス中にてスパッタリングし、導電
層を形成させた。この導電層の表面固有抵抗は８×１０
⁸Ω／口であった。アクリル樹脂としてジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート（東亜合成社製アロニック
スＭ−４００）を１０重量％、Ｎ−ビニルピロリドン
（東亜合成社製アロニックスＭ−１５０）３．０重量
％、２官能タイプウレタンアクリレート（サートマー社
製ケムリン７９５０４）２．０重量％からなる樹脂成分
を用いた。

【００１５】光重合開始剤として２−メチル−１−［４
−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン
−１（商品名イルガキュア−９０７）を５．０重量％溶
剤としてトルエン５０重量％、イソブチルアルコール１
０重量％、酢酸ブチル１０重量％、エチレングリコール
モノアセテート１０重量％を上記樹脂成分に混合しオー
バーコート剤を得た。得られたオーバーコート剤をスピ
ンコーターを用いて塗布し、紫外線照射装置で硬化さ
せ、厚さ０．５μｍの保護膜を得た。得られた光記録媒
体につき表面固有抵抗値、ダスト付着試験、耐擦傷性試
験を実施し表１に示す。

【００１６】評価方法は以下の通りである。 １）表面固有抵抗 装置名：ＳＭＥ−８３１０超絶縁計 装置会社名：東亜電波工業（株） 方法：資料をリング電極上に乗せ２２℃／４８％ＲＨの
雰囲気下で測定、測定値は測定開始から１分後の値を読
みとった。

【００１７】２）ダスト付着テスト 装置名：ＭＴ式ダートチェムバー 装置会社名：植木工作所有限会社 方法：テスト前にディスクのバイトエラーレートを測定
する。ディスクをドライブごとダートチェムバー内に入
れ、ダスト（関東ローム粉体１０〜２０ｍｇ）を風速
０．７ｍ／ｓで撹拌し、４時間後に取り出し、再びバイ
トエラーレートを測定する。 ３）耐擦傷性 市販の光磁気ディスククリーナーを用いてクリーニング
後ディスク表面を目視及び光学顕微鏡にて観察した。 クリーナー：商品名ＭＯＡ−Ｄ５５（ソニー（株）製） 方法：カートリッジに組み込んだディスクをクリーナー
にセットし約３時間乾式にて摺動（クリーニング）さ
せ、その後観察した。

【００１８】実施例２ 実施例１と同様にして導電層を形成しその上にオーバー
コート剤を塗布し、膜厚が０．１μｍの保護層を形成し
た。得られた光記録媒体を実施例１と同様に試験を行な
いその結果を表１に示す。 比較例１ 実施例１と同様にして得られた導電層の上に実施例１で
用いたのと同じオーバーコート剤を用い、膜厚２μの保
護層を形成させた。得られた光記録媒体を実施例１と同
様に試験した。結果を表１に示す。

【００１９】比較例２ 実施例１と同様にして導電層を形成した。この媒体には
オーバーコート層を設けなかった。実施例１と同様な試
験を行ない、結果を表１に示す。 比較例３ 実施例１と同様にして得た光記録媒体に導電層を設けず
透明基板上に厚さ０．５μｍのオーバーコート層（保護
層）のみを形成させた。実施例１と同様な試験を行ない
結果を表１に示す。

【００２０】比較例４ 実施例１と同様にして得られた光記録媒体（導電層も保
護層も設けず）に実施例１と同様な試験を行なった。結
果を表１に示す。

【００２１】

【表１】

【００２２】

【発明の効果】本発明の光記録媒体は媒体の表面を特殊
な帯電防止処理構造としており、ダスト等が付着するこ
とがなく、使用上大変有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】断面図

【図２】断面図

【図３】断面図

【符号の説明】

１ 基板 ２ 記録層 ７ 表面保護層 ８ 導電層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に記録層を設けた光記録媒体に
   おいて、記録層の設けられた側と反対側の基板表面上
   に、非磁性の金属又は金属酸化物より形成される導電層
   を設け、さらにその表面に硬化性樹脂からなる表面保護
   層を厚さ０．０５〜１．０μｍの範囲で設けてなる光記
   録媒体