JPH0837220A - 真空装置用基板搬送装置 - Google Patents
真空装置用基板搬送装置Info
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- JPH0837220A JPH0837220A JP30068493A JP30068493A JPH0837220A JP H0837220 A JPH0837220 A JP H0837220A JP 30068493 A JP30068493 A JP 30068493A JP 30068493 A JP30068493 A JP 30068493A JP H0837220 A JPH0837220 A JP H0837220A
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- Pending
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Landscapes
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単で、低価な構造の、基板にダメージを与
えることのない搬送装置とする。 【構成】 真空装置内で被処理物である基板を収めた収
納カセット室と基板の反応、成膜、もしくは加工を行う
処理室との間で基板搬送を行う装置であって、（ａ）基
板を一定の間隔にして収める収納カセットを保持し、こ
のカセットを上下に昇降できるエレベータ機構を備えた
カセット室と、（ｂ）収納カセット室から基板を一枚づ
つ取り出し、もしくは挿入する直線的に移動するカセッ
ト側引出し装置と、（ｃ）引き出された基板を受けて上
下に昇降できる機構を持ち、処理室側に配置された引出
し装置に移動させるスライド構造を備えたＸ−Ｙテーブ
ルと、（ｄ）Ｘ−Ｙテーブルより基板を取り出して処理
室に挿入する処理室側引出し装置、および（ｅ）処理室
側引出し装置から被処理物である基板を受けて上下に昇
降する機構を持つ処理室とを備えたことを特徴とする真
空装置用基板搬送装置。
えることのない搬送装置とする。 【構成】 真空装置内で被処理物である基板を収めた収
納カセット室と基板の反応、成膜、もしくは加工を行う
処理室との間で基板搬送を行う装置であって、（ａ）基
板を一定の間隔にして収める収納カセットを保持し、こ
のカセットを上下に昇降できるエレベータ機構を備えた
カセット室と、（ｂ）収納カセット室から基板を一枚づ
つ取り出し、もしくは挿入する直線的に移動するカセッ
ト側引出し装置と、（ｃ）引き出された基板を受けて上
下に昇降できる機構を持ち、処理室側に配置された引出
し装置に移動させるスライド構造を備えたＸ−Ｙテーブ
ルと、（ｄ）Ｘ−Ｙテーブルより基板を取り出して処理
室に挿入する処理室側引出し装置、および（ｅ）処理室
側引出し装置から被処理物である基板を受けて上下に昇
降する機構を持つ処理室とを備えたことを特徴とする真
空装置用基板搬送装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、真空装置用基板搬送
装置に関するものである。さらに詳しくは、この発明
は、プラズマエッチング、イオンプレーティング、真空
蒸着、ＣＶＤ等のための真空装置の、ガラス、プラスチ
ック、セラミックス、金属、半導体等の板状の基板の搬
送装置に関するものである。
装置に関するものである。さらに詳しくは、この発明
は、プラズマエッチング、イオンプレーティング、真空
蒸着、ＣＶＤ等のための真空装置の、ガラス、プラスチ
ック、セラミックス、金属、半導体等の板状の基板の搬
送装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術とその課題】従来一般的には、真空装置内の
被処理物の処理では、バッチ方式と呼ばれる面倒で、非
能率的な、非連続式で人手による交換作業が行われてい
る。また連続的に被処理物を交換する方式の装置も使用
されているが、通常は、構造が複雑でスカラーロボット
等の高価な装置を多数使用する必要があり、簡単にこれ
らの装置を生産ラインに組み込むことはできなかった。
また、近年、その技術的発展が注目されている液晶基板
の処理のための装置では、基板そのものが大きく、透明
体でもあるため従来の装置では不都合な面があった。た
とえば半導体の場合には、シリコンウェハーは小型で比
較的強度もあり、搬送は容易であるが、ガラスのよう
な、キズがつきやすく、透明な基板の場合にはベルトコ
ンベアやエアーで搬送すると裏面が物理的化学的ダメー
ジを受けやすいという欠点がある。このため、透明体の
場合にはこれらの理由のために、裏面であっても吸着パ
ットは用いることはできない。このように、現状ではこ
れらの要因によって、搬送、交換プロセスの自動化は問
題を残しているのが実情である。
被処理物の処理では、バッチ方式と呼ばれる面倒で、非
能率的な、非連続式で人手による交換作業が行われてい
る。また連続的に被処理物を交換する方式の装置も使用
されているが、通常は、構造が複雑でスカラーロボット
等の高価な装置を多数使用する必要があり、簡単にこれ
らの装置を生産ラインに組み込むことはできなかった。
また、近年、その技術的発展が注目されている液晶基板
の処理のための装置では、基板そのものが大きく、透明
体でもあるため従来の装置では不都合な面があった。た
とえば半導体の場合には、シリコンウェハーは小型で比
較的強度もあり、搬送は容易であるが、ガラスのよう
な、キズがつきやすく、透明な基板の場合にはベルトコ
ンベアやエアーで搬送すると裏面が物理的化学的ダメー
ジを受けやすいという欠点がある。このため、透明体の
場合にはこれらの理由のために、裏面であっても吸着パ
ットは用いることはできない。このように、現状ではこ
れらの要因によって、搬送、交換プロセスの自動化は問
題を残しているのが実情である。
【０００３】一方、ガラスは破損しやすく、人手による
作業には問題があり、特にホコリの発生は大きな問題が
あって、歩留まり低下の要因となっていた。またコスト
や信頼性の点からも、これらのことは是非とも解決され
なければならない問題となっていた。この発明は、これ
らの事情に鑑みてなされたものであり、ロボットのよう
な高価な装置を用いることなく、確実に、かつ、ガラス
等の基板にダメージを与えることなく、高効率で基板搬
送することのできる新しい真空装置用の基板搬送装置を
提供することを目的としている。
作業には問題があり、特にホコリの発生は大きな問題が
あって、歩留まり低下の要因となっていた。またコスト
や信頼性の点からも、これらのことは是非とも解決され
なければならない問題となっていた。この発明は、これ
らの事情に鑑みてなされたものであり、ロボットのよう
な高価な装置を用いることなく、確実に、かつ、ガラス
等の基板にダメージを与えることなく、高効率で基板搬
送することのできる新しい真空装置用の基板搬送装置を
提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】これらの課題を解決する
ために、この発明は、真空装置内で被処理物である基板
を収めた収納カセット室と基板の反応、成膜、もしくは
加工を行う処理室との間で基板搬送を行う装置であっ
て、（ａ）基板を一定の間隔にして収める収納カセット
を保持し、このカセットを上下に昇降できるエレベータ
機構を備えたカセット室と、（ｂ）収納カセット室から
基板を一枚づつ取り出し、もしくは挿入する直線的に移
動するカセット側引出し装置と、（ｃ）引き出された基
板を受けて上下に昇降できる機構を持ち、処理室側に配
置された引出し装置に移動させるスライド構造を備えた
Ｘ−Ｙテーブルと、（ｄ）Ｘ−Ｙテーブルより基板を取
り出して処理室に挿入する処理室側引出し装置、および
（ｅ）処理室側引出し装置から被処理物である基板を受
けて上下に昇降する機構を持つ処理室とを備えたことを
特徴とする真空装置用基板搬送装置を提供する。
ために、この発明は、真空装置内で被処理物である基板
を収めた収納カセット室と基板の反応、成膜、もしくは
加工を行う処理室との間で基板搬送を行う装置であっ
て、（ａ）基板を一定の間隔にして収める収納カセット
を保持し、このカセットを上下に昇降できるエレベータ
機構を備えたカセット室と、（ｂ）収納カセット室から
基板を一枚づつ取り出し、もしくは挿入する直線的に移
動するカセット側引出し装置と、（ｃ）引き出された基
板を受けて上下に昇降できる機構を持ち、処理室側に配
置された引出し装置に移動させるスライド構造を備えた
Ｘ−Ｙテーブルと、（ｄ）Ｘ−Ｙテーブルより基板を取
り出して処理室に挿入する処理室側引出し装置、および
（ｅ）処理室側引出し装置から被処理物である基板を受
けて上下に昇降する機構を持つ処理室とを備えたことを
特徴とする真空装置用基板搬送装置を提供する。
【０００５】この装置によって、簡便、かつ低価な構造
で、基板にダメージを与えることなく、高効率での基板
搬送が可能になる。
で、基板にダメージを与えることなく、高効率での基板
搬送が可能になる。
【０００６】
【実施例】以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発明
の装置について説明する。 （ａ）カセット室 カセット室は、図１および図２に例示したように、基板
ホルダー（１）を載せエレベータ機構により任意の位置
に固定することができる。この機構は二つの目的があ
り、一つは多段に並べられた基板の選択であり、他の一
つはカセット側引出し装置に基板を受け渡す時に上部基
板に接触しない程度の微少下降移動を行い、引出し装置
に基板を載せることである。 （ｂ）引出し装置 引出し装置（２）は、カセット側と処理室側の２本使用
する。いずれも目的及び機構は同じであり、必要なスト
ロークだけ直線的に移動させることができる。図面では
省略してあるが、ベルトに固定した引出し装置（２）及
びその上に固定されたガラス載物台（３）をモータによ
り駆動する。 （ｃ）Ｘ−Ｙテーブル Ｘ−Ｙテーブルは、基板を載せる台としての機能と処理
室側に移動させる機能がある。図面上は省略してあるが
ベルトに固定されたテーブルはモーターにより駆動され
スライド４を滑走させて移動する。また引出し装置から
基板の受渡しを確実に行うためＸ−Ｙテーブル、スライ
ド（４）及び支持アングル（５）は一体として支柱
（６）により支えられ昇降する。 （ｄ）処理室 処理室は、処理室側の引出し装置により基板を受け、固
定する機能がある。この処理室の機能はその他に処理す
る目的により内部には加熱装置、ガス導入装置、真空セ
ンサ、膜厚モニタ、各種分析センサ等が組み込まれる。
当然、図面では省略されているが引出し装置が元にもど
ればゲートバルブを閉じて処理を開始する。
の装置について説明する。 （ａ）カセット室 カセット室は、図１および図２に例示したように、基板
ホルダー（１）を載せエレベータ機構により任意の位置
に固定することができる。この機構は二つの目的があ
り、一つは多段に並べられた基板の選択であり、他の一
つはカセット側引出し装置に基板を受け渡す時に上部基
板に接触しない程度の微少下降移動を行い、引出し装置
に基板を載せることである。 （ｂ）引出し装置 引出し装置（２）は、カセット側と処理室側の２本使用
する。いずれも目的及び機構は同じであり、必要なスト
ロークだけ直線的に移動させることができる。図面では
省略してあるが、ベルトに固定した引出し装置（２）及
びその上に固定されたガラス載物台（３）をモータによ
り駆動する。 （ｃ）Ｘ−Ｙテーブル Ｘ−Ｙテーブルは、基板を載せる台としての機能と処理
室側に移動させる機能がある。図面上は省略してあるが
ベルトに固定されたテーブルはモーターにより駆動され
スライド４を滑走させて移動する。また引出し装置から
基板の受渡しを確実に行うためＸ−Ｙテーブル、スライ
ド（４）及び支持アングル（５）は一体として支柱
（６）により支えられ昇降する。 （ｄ）処理室 処理室は、処理室側の引出し装置により基板を受け、固
定する機能がある。この処理室の機能はその他に処理す
る目的により内部には加熱装置、ガス導入装置、真空セ
ンサ、膜厚モニタ、各種分析センサ等が組み込まれる。
当然、図面では省略されているが引出し装置が元にもど
ればゲートバルブを閉じて処理を開始する。
【０００７】処理を終了して基板を元のカセットホルダ
に戻すには逆の工程を行い元のカセットに基板を収納す
ることになる。実際にはこの図面には記載されていない
が位置センサ、シーケンサまたはマイコン等の制御機器
が適宜に配設される。さらに図３は、この発明の基板の
保持機構を例示している。ガラス基板のような場合には
特に面接触することは極力さける必要があるが、テーパ
状の四本の化学的耐性のある硬質ゴムの爪（８）で側面
で受けるようになっている。したがって基板表面及び裏
面に接触することなく搬送できる。
に戻すには逆の工程を行い元のカセットに基板を収納す
ることになる。実際にはこの図面には記載されていない
が位置センサ、シーケンサまたはマイコン等の制御機器
が適宜に配設される。さらに図３は、この発明の基板の
保持機構を例示している。ガラス基板のような場合には
特に面接触することは極力さける必要があるが、テーパ
状の四本の化学的耐性のある硬質ゴムの爪（８）で側面
で受けるようになっている。したがって基板表面及び裏
面に接触することなく搬送できる。
【０００８】
【発明の効果】この発明の機構の構成により以下の効果
がある １）構造が簡単であるので大きなスペースを必要とせず
効率的な搬送装置をつくることができる。 ２）従来のような高価なスカラーロボットを必要としな
いので、廉価な自動搬送システムをつくることができ
る。従って、枚葉装置のようなシステムも従来ではバッ
チ方式のみしか考えられなかった分野でも小型廉価に組
み入れることが可能となる。
がある １）構造が簡単であるので大きなスペースを必要とせず
効率的な搬送装置をつくることができる。 ２）従来のような高価なスカラーロボットを必要としな
いので、廉価な自動搬送システムをつくることができ
る。従って、枚葉装置のようなシステムも従来ではバッ
チ方式のみしか考えられなかった分野でも小型廉価に組
み入れることが可能となる。
【０００９】３）液晶基板用ガラス加工のような大型で
破損しやすい基板でも従来のアーム式のロボットより確
実で安全に搬送することができる。 ４）液晶用ガラス基板のような場合、ロボットアームが
保持するときには吸着パットをもちいることが不可欠で
あるが、後工程でパットの痕跡が残る問題があり満足す
る解決策はないが、この発明ではガラスの端面のみで処
理するため、これらの問題は基本的に発生しない。
破損しやすい基板でも従来のアーム式のロボットより確
実で安全に搬送することができる。 ４）液晶用ガラス基板のような場合、ロボットアームが
保持するときには吸着パットをもちいることが不可欠で
あるが、後工程でパットの痕跡が残る問題があり満足す
る解決策はないが、この発明ではガラスの端面のみで処
理するため、これらの問題は基本的に発生しない。
【図１】この発明の全体を示した側面図である。
【図２】図１に対応する平面図である。
【図３】基板保持用の治具を示した正面図である。
Ａ カセット室 Ｂ Ｘ−Ｙテーブル Ｃ 処理室 １ 基板ホルダー ２ 引出し装置 ３ ガラス載物台 ４ スライド ５ 支持アングル ６ 支柱 ７ 基板 ８ 爪
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/203 9545−4Ｍ 21/205 21/3065
Claims (4)
- 【請求項１】 真空装置内で被処理物である基板を収め
た収納カセット室と基板の反応、成膜、もしくは加工を
行う処理室との間で基板搬送を行う装置であって、 （ａ）基板を一定の間隔にして収める収納カセットを保
持し、このカセットを上下に昇降できるエレベータ機構
を備えたカセット室と、 （ｂ）収納カセット室から基板を一枚づつ取り出し、も
しくは挿入する直線的に移動するカセット側引出し装置
と、 （ｃ）引き出された基板を受けて上下に昇降できる機構
を持ち、処理室側に配置された引出し装置に移動させる
スライド構造を備えたＸ−Ｙテーブルと、 （ｄ）Ｘ−Ｙテーブルより基板を取り出して処理室に挿
入する処理室側引出し装置、および （ｅ）処理室側引出し装置から被処理物である基板を受
けて上下に昇降する機構を持つ処理室 とを備えたことを特徴とする真空装置用基板搬送装置。 - 【請求項２】 液晶用基板に成膜された透明導電膜、ブ
ラックマトリックスもしくはカラーフィルタ用のプラズ
マエッチング装置に備えた請求項１の搬送装置。 - 【請求項３】 スパッタリング装置、イオンプレーティ
ング装置、真空蒸着装置、ＣＶＤ装置等の枚葉式成膜装
置に備えた請求項１の搬送装置。 - 【請求項４】 円錐状の複数個の爪の側面において基板
を支持する請求項１の搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30068493A JPH0837220A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 真空装置用基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30068493A JPH0837220A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 真空装置用基板搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0837220A true JPH0837220A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=17887834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30068493A Pending JPH0837220A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 真空装置用基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0837220A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003168717A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Yaskawa Electric Corp | ウェハ搬送フォーク |
| JP2005064432A (ja) * | 2003-08-20 | 2005-03-10 | Shinko Electric Co Ltd | 基板搬入出装置及び基板搬入出方法 |
-
1993
- 1993-11-30 JP JP30068493A patent/JPH0837220A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003168717A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Yaskawa Electric Corp | ウェハ搬送フォーク |
| JP2005064432A (ja) * | 2003-08-20 | 2005-03-10 | Shinko Electric Co Ltd | 基板搬入出装置及び基板搬入出方法 |
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