JPH083740A - マグネトロンスパッタ用磁気回路 - Google Patents
マグネトロンスパッタ用磁気回路Info
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- JPH083740A JPH083740A JP15794194A JP15794194A JPH083740A JP H083740 A JPH083740 A JP H083740A JP 15794194 A JP15794194 A JP 15794194A JP 15794194 A JP15794194 A JP 15794194A JP H083740 A JPH083740 A JP H083740A
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- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 41
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 abstract description 44
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- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 abstract description 15
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 abstract description 10
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- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 3
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- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】ターゲットの使用効率を良くしてターゲットの
寿命が長くするとともに、基板に形成される膜の膜厚分
布を良くするマグネトロンスパッタ用磁気回路を提供す
る。 【構成】平板状の矩形ヨークと、この平板状の矩形ヨー
クの周縁部に沿って立設することによって、矩形ヨーク
上でリング状をした長方形に配置された周縁部磁石と、
矩形ヨークの中央部で、矩形ヨークの一辺と同方向に立
設された棒状の中央部磁石とを、ターゲットの背後に配
設して、レーストラック状の磁場を形成するマグネトロ
ンスパッタ用磁気回路において、棒状の中央部磁石の幅
を大きくするとともに、周縁部磁石における棒状の中央
部磁石と平行する棒状の中央部磁石とほぼ同じ長さの部
分の幅のみを大きくする。
寿命が長くするとともに、基板に形成される膜の膜厚分
布を良くするマグネトロンスパッタ用磁気回路を提供す
る。 【構成】平板状の矩形ヨークと、この平板状の矩形ヨー
クの周縁部に沿って立設することによって、矩形ヨーク
上でリング状をした長方形に配置された周縁部磁石と、
矩形ヨークの中央部で、矩形ヨークの一辺と同方向に立
設された棒状の中央部磁石とを、ターゲットの背後に配
設して、レーストラック状の磁場を形成するマグネトロ
ンスパッタ用磁気回路において、棒状の中央部磁石の幅
を大きくするとともに、周縁部磁石における棒状の中央
部磁石と平行する棒状の中央部磁石とほぼ同じ長さの部
分の幅のみを大きくする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はターゲットの使用効率
および膜の膜厚分布の向上を図るマグネトロンスパッタ
用磁気回路に関するものである。
および膜の膜厚分布の向上を図るマグネトロンスパッタ
用磁気回路に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のマグネトロンスパッタ用磁気回路
は図５および図６に示されており、同図において、平板
状の矩形ターゲット１の裏面には磁気回路２が配設され
ている。磁気回路２の一部を構成する純鉄製の平板状の
矩形ヨーク３はその周縁部に沿って周縁部フェライト系
磁石４が立設されている。そのため、周縁部フェライト
系磁石４は矩形ヨーク３上においてリング状をした長方
形になるように配置されている。矩形ヨーク３の中央部
には棒状の中央部希土類系磁石５が立設されている。周
縁部フェライト系磁石２の内側には極性の異なる周縁部
内側フェライト系磁石６が矩形ヨーク３上に立設されて
いる。中央部希土類系磁石５の外側にはこれを囲むよう
に極性の異なる中央部外側フェライト系磁石７が矩形ヨ
ーク３上に立設されている。周縁部内側フェライト系磁
石６と中央部外側フェライト系磁石７との間の矩形ヨー
ク３には中間部フェライト系磁石８がリング状をした長
方形状に立設されている。
は図５および図６に示されており、同図において、平板
状の矩形ターゲット１の裏面には磁気回路２が配設され
ている。磁気回路２の一部を構成する純鉄製の平板状の
矩形ヨーク３はその周縁部に沿って周縁部フェライト系
磁石４が立設されている。そのため、周縁部フェライト
系磁石４は矩形ヨーク３上においてリング状をした長方
形になるように配置されている。矩形ヨーク３の中央部
には棒状の中央部希土類系磁石５が立設されている。周
縁部フェライト系磁石２の内側には極性の異なる周縁部
内側フェライト系磁石６が矩形ヨーク３上に立設されて
いる。中央部希土類系磁石５の外側にはこれを囲むよう
に極性の異なる中央部外側フェライト系磁石７が矩形ヨ
ーク３上に立設されている。周縁部内側フェライト系磁
石６と中央部外側フェライト系磁石７との間の矩形ヨー
ク３には中間部フェライト系磁石８がリング状をした長
方形状に立設されている。
【０００３】従来のマグネトロンスパッタ用磁気回路に
おける磁場分布が図７に示されており、同図において、
横軸はターゲット１の中心軸からの距離、縦軸は磁場強
度であり、Ｂ１はターゲット１に垂直な磁場強度を示す
曲線、Ｂ２はターゲット１に平行な磁場強度を示す曲線
である。
おける磁場分布が図７に示されており、同図において、
横軸はターゲット１の中心軸からの距離、縦軸は磁場強
度であり、Ｂ１はターゲット１に垂直な磁場強度を示す
曲線、Ｂ２はターゲット１に平行な磁場強度を示す曲線
である。
【０００４】このような従来のマグネトロンスパッタ用
磁気回路において、ターゲット１表面近傍の空間は、磁
場の作用により、高密度プラズマが発生するようになる
が、特に、ターゲット１に垂直な磁場強度Ｂ１が０にな
る領域、即ち、図７のａ領域においてプラズマの密度が
高くなる。そのため、ターゲット１のａ領域を中心とし
て、プラズマ中のイオンがスパツタするようになる。
磁気回路において、ターゲット１表面近傍の空間は、磁
場の作用により、高密度プラズマが発生するようになる
が、特に、ターゲット１に垂直な磁場強度Ｂ１が０にな
る領域、即ち、図７のａ領域においてプラズマの密度が
高くなる。そのため、ターゲット１のａ領域を中心とし
て、プラズマ中のイオンがスパツタするようになる。
【０００５】ターゲット１におけるエロージョンの状況
を説明するために、図８に示されターゲット１におい
て、Ｂ−Ｂ’線とＣ−Ｃ’線との間を直線部、Ｃ−Ｃ’
線よりターゲット１の端までをコーナー部と区分する。
を説明するために、図８に示されターゲット１におい
て、Ｂ−Ｂ’線とＣ−Ｃ’線との間を直線部、Ｃ−Ｃ’
線よりターゲット１の端までをコーナー部と区分する。
【０００６】ターゲット１の直線部でのエロージョンの
深さは図９に示されるようにαとなり、一方、ターゲッ
ト１のコーナー部でのエロージョンの深さは図１０に示
されるようにβとなる。
深さは図９に示されるようにαとなり、一方、ターゲッ
ト１のコーナー部でのエロージョンの深さは図１０に示
されるようにβとなる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来のマグネトロンス
パッタ用磁気回路は、上記のようにターゲット１に垂直
な磁場強度Ｂ１が０になる領域にプラズマの密度が高く
なり、その領域を中心にエロージョンが進行するように
なる。しかし、同じターゲット１であっても、ターゲッ
ト１を直線部とコーナー部とに区分すると、コーナー部
でのエロージョンの深さβは直線部でのエロージョンの
深さαより大きくなり、ターゲットの使用効率が悪くな
って、ターゲットの寿命が短くなるとともに、基板に形
成される膜の膜厚分布も悪くなる等の問題が起きた。
パッタ用磁気回路は、上記のようにターゲット１に垂直
な磁場強度Ｂ１が０になる領域にプラズマの密度が高く
なり、その領域を中心にエロージョンが進行するように
なる。しかし、同じターゲット１であっても、ターゲッ
ト１を直線部とコーナー部とに区分すると、コーナー部
でのエロージョンの深さβは直線部でのエロージョンの
深さαより大きくなり、ターゲットの使用効率が悪くな
って、ターゲットの寿命が短くなるとともに、基板に形
成される膜の膜厚分布も悪くなる等の問題が起きた。
【０００８】この発明の目的は、従来の問題を解決し
て、ターゲットの使用効率を良くしてターゲットの寿命
が長くするとともに、基板に形成される膜の膜厚分布を
良くするマグネトロンスパッタ用磁気回路を提供するも
のである。
て、ターゲットの使用効率を良くしてターゲットの寿命
が長くするとともに、基板に形成される膜の膜厚分布を
良くするマグネトロンスパッタ用磁気回路を提供するも
のである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、平板状の矩形ヨークと、この平板状の
矩形ヨークの周縁部に沿って立設することによって、矩
形ヨーク上でリング状をした長方形に配置された周縁部
磁石と、矩形ヨークの中央部で、矩形ヨークの一辺と同
方向に立設された棒状の中央部磁石とを、ターゲットの
背後に配設して、レーストラック状の磁場を形成するマ
グネトロンスパッタ用磁気回路において、上記棒状の中
央部磁石の幅を大きくするとともに、上記周縁部磁石に
おける上記棒状の中央部磁石と平行する上記棒状の中央
部磁石とほぼ同じ長さの部分の幅のみを大きくしたこと
を特徴とするものである。
に、この発明は、平板状の矩形ヨークと、この平板状の
矩形ヨークの周縁部に沿って立設することによって、矩
形ヨーク上でリング状をした長方形に配置された周縁部
磁石と、矩形ヨークの中央部で、矩形ヨークの一辺と同
方向に立設された棒状の中央部磁石とを、ターゲットの
背後に配設して、レーストラック状の磁場を形成するマ
グネトロンスパッタ用磁気回路において、上記棒状の中
央部磁石の幅を大きくするとともに、上記周縁部磁石に
おける上記棒状の中央部磁石と平行する上記棒状の中央
部磁石とほぼ同じ長さの部分の幅のみを大きくしたこと
を特徴とするものである。
【００１０】
【作用】この発明においては、棒状の中央部磁石の幅
と、周縁部磁石における棒状の中央部磁石と平行する棒
状の中央部磁石とほぼ同じ長さの部分の幅とを大きくし
ているので、ターゲットの直線部の磁場分布の形を変え
ることなく、磁場強度を強くすることができる。そのた
め、ターゲットの直線部とコーナー部とにおけるエロー
ジョンの深さに差異がなくなるとともに、基板に形成さ
れる膜の膜厚分布が良くなる。
と、周縁部磁石における棒状の中央部磁石と平行する棒
状の中央部磁石とほぼ同じ長さの部分の幅とを大きくし
ているので、ターゲットの直線部の磁場分布の形を変え
ることなく、磁場強度を強くすることができる。そのた
め、ターゲットの直線部とコーナー部とにおけるエロー
ジョンの深さに差異がなくなるとともに、基板に形成さ
れる膜の膜厚分布が良くなる。
【００１１】
【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
しながら説明する。この発明の実施例のマグネトロンス
パッタ用磁気回路は図１および図２に示されており、こ
れらの図において、マグネトロンスパッタ用磁気回路１
０は平板状の矩形ターゲット１の裏面に配設されてい
る。マグネトロンスパッタ用磁気回路１０の一部を構成
する純鉄製の平板状の矩形ヨーク３はその周縁部に沿っ
て周縁部フェライト系磁石４が立設されている。そのた
め、周縁部フェライト系磁石４は矩形ヨーク３上におい
てリング状をした長方形になるように配置されている。
周縁部フェライト系磁石２の内側には極性の異なる周縁
部内側フェライト系磁石６が矩形ヨーク３上に立設され
ている。矩形ヨーク３の中央部には棒状の中央部希土類
系磁石５が立設されている。棒状の中央部希土類系磁石
５の両側には中央部希土類系外側磁石１１が設けられて
いる。中央部希土類系外側磁石１１の外周にはこれを囲
むように極性の異なる中央部外側フェライト系磁石７が
矩形ヨーク３上に立設されている。中央部外側フェライ
ト系磁石７の両側には中央部フェライト系外側磁石１２
が設けられている。したがって、中央部磁石１３は中央
部希土類系磁石５、中央部希土類系外側磁石１１、中央
部外側フェライト系磁石７、中央部フェライト系外側磁
石１２によって、その幅が大きくなっている。また、周
縁部内側フェライト系磁石６の内側には棒状の中央部希
土類系磁石５と平行し、かつ、これとほぼ同じ長さをも
つ周縁部フェライト系内側磁石１４が設けられている。
周縁部フェライト系磁石４の外側には棒状の中央部希土
類系磁石５と平行し、かつ、これとほぼ同じ長さをもつ
周縁部フェライト系外側磁石１５が設けられている。し
たがって、周縁部磁石１６は周縁部フェライト系磁石
４、周縁部内側フェライト系磁石６、周縁部フェライト
系内側磁石１４、周縁部フェライト系外側磁石１５によ
って、その幅が中央部希土類系磁石５と平行かつ同じ長
さだけ大きくなっている。周縁部内側フェライト系磁石
６と中央部外側フェライト系磁石７との間の矩形ヨーク
３には中間部フェライト系磁石８がリング状をした長方
形状に立設されている。
しながら説明する。この発明の実施例のマグネトロンス
パッタ用磁気回路は図１および図２に示されており、こ
れらの図において、マグネトロンスパッタ用磁気回路１
０は平板状の矩形ターゲット１の裏面に配設されてい
る。マグネトロンスパッタ用磁気回路１０の一部を構成
する純鉄製の平板状の矩形ヨーク３はその周縁部に沿っ
て周縁部フェライト系磁石４が立設されている。そのた
め、周縁部フェライト系磁石４は矩形ヨーク３上におい
てリング状をした長方形になるように配置されている。
周縁部フェライト系磁石２の内側には極性の異なる周縁
部内側フェライト系磁石６が矩形ヨーク３上に立設され
ている。矩形ヨーク３の中央部には棒状の中央部希土類
系磁石５が立設されている。棒状の中央部希土類系磁石
５の両側には中央部希土類系外側磁石１１が設けられて
いる。中央部希土類系外側磁石１１の外周にはこれを囲
むように極性の異なる中央部外側フェライト系磁石７が
矩形ヨーク３上に立設されている。中央部外側フェライ
ト系磁石７の両側には中央部フェライト系外側磁石１２
が設けられている。したがって、中央部磁石１３は中央
部希土類系磁石５、中央部希土類系外側磁石１１、中央
部外側フェライト系磁石７、中央部フェライト系外側磁
石１２によって、その幅が大きくなっている。また、周
縁部内側フェライト系磁石６の内側には棒状の中央部希
土類系磁石５と平行し、かつ、これとほぼ同じ長さをも
つ周縁部フェライト系内側磁石１４が設けられている。
周縁部フェライト系磁石４の外側には棒状の中央部希土
類系磁石５と平行し、かつ、これとほぼ同じ長さをもつ
周縁部フェライト系外側磁石１５が設けられている。し
たがって、周縁部磁石１６は周縁部フェライト系磁石
４、周縁部内側フェライト系磁石６、周縁部フェライト
系内側磁石１４、周縁部フェライト系外側磁石１５によ
って、その幅が中央部希土類系磁石５と平行かつ同じ長
さだけ大きくなっている。周縁部内側フェライト系磁石
６と中央部外側フェライト系磁石７との間の矩形ヨーク
３には中間部フェライト系磁石８がリング状をした長方
形状に立設されている。
【００１２】このような実施例における磁場分布が図３
に示されており、同図において、破線は実施例の磁場分
布を示し、実線は従来例の磁場分布を示している。な
お、同図において、横軸はターゲット１の中心軸からの
距離、縦軸は磁場強度であり、Ｂ１はターゲット１に垂
直な磁場強度を示す曲線、Ｂ２はターゲット１に平行な
磁場強度を示す曲線である。
に示されており、同図において、破線は実施例の磁場分
布を示し、実線は従来例の磁場分布を示している。な
お、同図において、横軸はターゲット１の中心軸からの
距離、縦軸は磁場強度であり、Ｂ１はターゲット１に垂
直な磁場強度を示す曲線、Ｂ２はターゲット１に平行な
磁場強度を示す曲線である。
【００１３】このような実施例においにおいては、従来
例と同様に、ターゲット１のａ領域を中心として、プラ
ズマ中のイオンがスパツタするようになるが、中央部磁
石１３の幅と、周縁部磁石１６における棒状の中央部磁
石１３と平行する棒状の中央部磁石１３とほぼ同じ長さ
の部分の幅とを大きくしているので、ターゲット１のの
直線部の磁場分布の形を変えることなく、磁場強度を強
くすることができる。そのため、ターゲット１の直線部
とコーナー部とにおけるエロージョンの深さに差異がな
くなるとともに、基板に形成される膜の膜厚分布が良く
なる。
例と同様に、ターゲット１のａ領域を中心として、プラ
ズマ中のイオンがスパツタするようになるが、中央部磁
石１３の幅と、周縁部磁石１６における棒状の中央部磁
石１３と平行する棒状の中央部磁石１３とほぼ同じ長さ
の部分の幅とを大きくしているので、ターゲット１のの
直線部の磁場分布の形を変えることなく、磁場強度を強
くすることができる。そのため、ターゲット１の直線部
とコーナー部とにおけるエロージョンの深さに差異がな
くなるとともに、基板に形成される膜の膜厚分布が良く
なる。
【００１４】なお、ターゲット１は、図４に示されるよ
うにＢ−Ｂ’線とＣ−Ｃ’線との間を直線部、Ｃ−Ｃ’
線よりターゲット１の端までをコーナー部と区分してい
る。
うにＢ−Ｂ’線とＣ−Ｃ’線との間を直線部、Ｃ−Ｃ’
線よりターゲット１の端までをコーナー部と区分してい
る。
【００１５】ところで、上記実施例において、ターゲッ
トのコーナー部背後の周縁部磁石を削って、ターゲット
の直線部背後の周縁部磁石の幅より狭くしてもよく、ま
た、ターゲットの直線部背後の周縁部磁石の縦断面を紡
錘形にすることによって、周縁部磁石の幅を大きくして
もよい。更に、中央部磁石や周縁部磁石は電磁石または
永久磁石であってもよい。
トのコーナー部背後の周縁部磁石を削って、ターゲット
の直線部背後の周縁部磁石の幅より狭くしてもよく、ま
た、ターゲットの直線部背後の周縁部磁石の縦断面を紡
錘形にすることによって、周縁部磁石の幅を大きくして
もよい。更に、中央部磁石や周縁部磁石は電磁石または
永久磁石であってもよい。
【００１６】
【発明の効果】この発明は、棒状の中央部磁石の幅と、
周縁部磁石における棒状の中央部磁石と平行する棒状の
中央部磁石とほぼ同じ長さの部分の幅とを大きくしてい
るので、ターゲットの直線部の磁場分布の形を変えるこ
となく、磁場強度を強くすることができる。そのため、
ターゲットの直線部とコーナー部とにおけるエロージョ
ンの深さに差異がなくなるとともに、基板に形成される
膜の膜厚分布が良くなる。
周縁部磁石における棒状の中央部磁石と平行する棒状の
中央部磁石とほぼ同じ長さの部分の幅とを大きくしてい
るので、ターゲットの直線部の磁場分布の形を変えるこ
となく、磁場強度を強くすることができる。そのため、
ターゲットの直線部とコーナー部とにおけるエロージョ
ンの深さに差異がなくなるとともに、基板に形成される
膜の膜厚分布が良くなる。
【図１】この発明の実施例の平面図
【図２】この発明の実施例の断面図
【図３】この発明の実施例における磁場分布を示すグラ
フ
フ
【図４】この発明の実施例の説明図
【図５】従来のマグネトロンスパッタ用磁気回路の平面
図
図
【図６】従来のマグネトロンスパッタ用磁気回路の断面
図
図
【図７】従来のマグネトロンスパッタ用磁気回路におけ
る磁場分布を示すグラフ
る磁場分布を示すグラフ
【図８】従来のマグネトロンスパッタ用磁気回路
１・・・・・・・ターゲット ３・・・・・・・矩形ヨーク ４・・・・・・・周縁部フェライト系磁石 ５・・・・・・・中央部希土類系磁石 ６・・・・・・・周縁部内側フェライト系磁石 ７・・・・・・・中央部外側フェライト系磁石 ８・・・・・・・中間部フェライト系磁石 １０・・・・・・・マグネトロンスパッタ用磁気回路 １１・・・・・・・中央部希土類系外側磁石 １２・・・・・・・中央部フェライト系外側磁石 １３・・・・・・・中央部磁石 １４・・・・・・・周縁部フェライト系内側磁石 １５・・・・・・・周縁部フェライト系外側磁石 １６・・・・・・・周縁部磁石
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年３月２８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施例の平面図
【図２】この発明の実施例の断面図
【図３】この発明の実施例における磁場分布を示すグラ
フ
フ
【図４】この発明の実施例の説明図
【図５】従来のマグネトロンスパツタ用磁気回路の平面
図
図
【図６】従来のマグネトロンスパツタ用磁気回路の断面
図
図
【図７】従来のマグネトロンスパツタ用磁気回路におけ
る磁場分布を示すグラフ
る磁場分布を示すグラフ
【図８】従来のマグネトロンスパツタ用磁気回路
【図９】図８のＡ−Ａ’線より見た断面図
【図１０】図８のコーナー部（例えばＢ−Ｂ’線より上
部）の断面図
部）の断面図
【符号の説明】 １・・・・・・・・ターゲット ３・・・・・・・・矩形ヨーク ４・・・・・・・・周縁部フェライト系磁石 ５・・・・・・・・中央部希上類系磁石 ６・・・・・・・・周縁部内側フェライト系磁石 ７・・・・・・・・中央部外側フェライト系磁石 ８・・・・・・・・中間部フェライト系磁石 １０・・・・・・・マグネトロンスパッタ用磁気回路 １１・・・・・・・中央部希土類系外側磁石 １２・・・・・・・中央部フェライト系外側磁石 １３・・・・・・・中央部磁石 １４・・・・・・・周縁部フェライト系内側磁石 １５・・・・・・・周縁部フェライト系外側磁石 １６・・・・・・・周縁部磁石
フロントページの続き (72)発明者 末代 政輔 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内 (72)発明者 平野 裕之 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内 (72)発明者 諏訪 秀則 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】平板状の矩形ヨークと、この平板状の矩形
ヨークの周縁部に沿って立設することによって、矩形ヨ
ーク上でリング状をした長方形に配置された周縁部磁石
と、矩形ヨークの中央部で、矩形ヨークの一辺と同方向
に立設された棒状の中央部磁石とを、ターゲットの背後
に配設して、レーストラック状の磁場を形成するマグネ
トロンスパッタ用磁気回路において、上記棒状の中央部
磁石の幅を大きくするとともに、上記周縁部磁石におけ
る上記棒状の中央部磁石と平行する上記棒状の中央部磁
石とほぼ同じ長さの部分の幅のみを大きくしたことを特
徴とするマグネトロンスパッタ用磁気回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15794194A JPH083740A (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | マグネトロンスパッタ用磁気回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15794194A JPH083740A (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | マグネトロンスパッタ用磁気回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH083740A true JPH083740A (ja) | 1996-01-09 |
Family
ID=15660820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15794194A Pending JPH083740A (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | マグネトロンスパッタ用磁気回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH083740A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001029874A1 (en) * | 1999-10-15 | 2001-04-26 | Cierra Photonics, Inc. | Planar magnetron sputtering apparatus |
| JP2012237047A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | マグネトロンスパッタリングカソード及びスパッタリング装置 |
| JP2013091831A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Canon Tokki Corp | 磁界発生装置 |
-
1994
- 1994-06-15 JP JP15794194A patent/JPH083740A/ja active Pending
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