JPH0838901A - 酸化銅／酸化ジルコニウム触媒およびその製造方法 - Google Patents
酸化銅／酸化ジルコニウム触媒およびその製造方法Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/72—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/44—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
- C07C209/48—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】混合した第二アミンを製造するには、第一また
は第二アミンをニトリルの水素化の間に添加することが
可能であるが、高価なパラジウム触媒を用いない高い時
空収率が得られる新規の触媒を提供すること。 【構成】酸化銅および酸化ジルコニウム、および任意に
周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族およびＶＩＩＩ族の
金属酸化物から実質的に成り、昇温および昇圧下におい
て、ニトリルおよび窒素化合物からアミンを製造する用
途に用いられる新規の触媒およびその製造方法。
は第二アミンをニトリルの水素化の間に添加することが
可能であるが、高価なパラジウム触媒を用いない高い時
空収率が得られる新規の触媒を提供すること。 【構成】酸化銅および酸化ジルコニウム、および任意に
周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族およびＶＩＩＩ族の
金属酸化物から実質的に成り、昇温および昇圧下におい
て、ニトリルおよび窒素化合物からアミンを製造する用
途に用いられる新規の触媒およびその製造方法。
Description
【０００１】
【技術分野】本願発明は、酸化銅および酸化ジルコニウ
ム、および任意に周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族お
よびＶＩＩＩ族の金属酸化物から実質的に成り、昇温お
よび昇圧下において、ニトリルおよび窒素化合物からア
ミンを製造する用途に用いられる新規の触媒に関する。
ム、および任意に周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族お
よびＶＩＩＩ族の金属酸化物から実質的に成り、昇温お
よび昇圧下において、ニトリルおよび窒素化合物からア
ミンを製造する用途に用いられる新規の触媒に関する。
【０００２】
【従来技術】Archiv der Pharmazie 271 1933 439-445
に、ニトリルの還元において対応する第二および第三ア
ミンが第一アミンに付随して生成することが明らかにさ
れている。混合した第二アミンを製造するには、第一ま
たは第二アミンをニトリルの水素化の間に添加すること
が可能である。しかしながら記述された反応は、高価な
パラジウム触媒を用い実施され、乏しい時空収率が得ら
れるのみであった。
に、ニトリルの還元において対応する第二および第三ア
ミンが第一アミンに付随して生成することが明らかにさ
れている。混合した第二アミンを製造するには、第一ま
たは第二アミンをニトリルの水素化の間に添加すること
が可能である。しかしながら記述された反応は、高価な
パラジウム触媒を用い実施され、乏しい時空収率が得ら
れるのみであった。
【０００３】特開昭５０−４７９１０号および特開昭５
０−４７９１１号に、第二および第三エチルアミンがそ
れぞれ、ラネーコバルトまたはラネーニッケルを用い
て、アセトニトリルとエチルアミンの反応によって、製
造することができることが明らかにされている。しかし
ながら同様に記述された操作の不連続モードが、満足な
時空収率を得ることができない。
０−４７９１１号に、第二および第三エチルアミンがそ
れぞれ、ラネーコバルトまたはラネーニッケルを用い
て、アセトニトリルとエチルアミンの反応によって、製
造することができることが明らかにされている。しかし
ながら同様に記述された操作の不連続モードが、満足な
時空収率を得ることができない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本願発明の課題は、前
記の欠点を克服することである。
記の欠点を克服することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】従って、８５から１００
重量％の酸化銅および酸化ジルコニウム、および１５か
ら０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族および
ＶＩＩＩ族の金属酸化物から成る新規の触媒、およびア
ンモニアおよび第一および第二アミンを含む群から選択
される、８０から２５０℃の温度、上記触媒の存在下水
素を用い、１から４００バールの圧力において、ニトリ
ルおよび窒素化合物からアミンを製造する方法を見出し
た。
重量％の酸化銅および酸化ジルコニウム、および１５か
ら０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族および
ＶＩＩＩ族の金属酸化物から成る新規の触媒、およびア
ンモニアおよび第一および第二アミンを含む群から選択
される、８０から２５０℃の温度、上記触媒の存在下水
素を用い、１から４００バールの圧力において、ニトリ
ルおよび窒素化合物からアミンを製造する方法を見出し
た。
【０００６】本願発明の酸化銅／酸化ジルコニウム触媒
は、８５から１００重量％の酸化銅および酸化ジルコニ
ウムおよび１５から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩ
Ｉｂの亜族およびＶＩＩＩ族の金属酸化物、望ましくは
９０から１００重量％の酸化銅および酸化ジルコニウム
および１０から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂ
の亜族およびＶＩＩＩ族の金属酸化物、更に望ましくは
９５から１００重量％の酸化銅および酸化ジルコニウム
および５から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂの
亜族およびＶＩＩＩ族の金属酸化物、および特に９８か
ら１００重量％の酸化銅および酸化ジルコニウムおよび
２から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族お
よびＶＩＩＩ族の金属酸化物、殊に特に９９．５から１
００重量％の酸化銅および酸化ジルコニウムおよび０．
５から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族お
よびＶＩＩＩ族の金属酸化物より成り、更に８０から２
５０℃の温度、１から４００バールの圧力においてニト
リルおよび第一および第二アミンを含む群から選択され
る、窒素化合物からアミンを製造する方法より成る。
は、８５から１００重量％の酸化銅および酸化ジルコニ
ウムおよび１５から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩ
Ｉｂの亜族およびＶＩＩＩ族の金属酸化物、望ましくは
９０から１００重量％の酸化銅および酸化ジルコニウム
および１０から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂ
の亜族およびＶＩＩＩ族の金属酸化物、更に望ましくは
９５から１００重量％の酸化銅および酸化ジルコニウム
および５から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂの
亜族およびＶＩＩＩ族の金属酸化物、および特に９８か
ら１００重量％の酸化銅および酸化ジルコニウムおよび
２から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族お
よびＶＩＩＩ族の金属酸化物、殊に特に９９．５から１
００重量％の酸化銅および酸化ジルコニウムおよび０．
５から０重量％の周期律表のＩｂからＶＩＩｂの亜族お
よびＶＩＩＩ族の金属酸化物より成り、更に８０から２
５０℃の温度、１から４００バールの圧力においてニト
リルおよび第一および第二アミンを含む群から選択され
る、窒素化合物からアミンを製造する方法より成る。
【０００７】本願発明の方法は次のように実施すること
ができる。
ができる。
【０００８】反応は一般的に溶媒を添加することなしに
実施される。高分子、高粘性または室温で固体の出発物
質または生成物では、反応条件下でテトロヒドロフラ
ン、ジオキサン、水またはエチレングリコールジメチル
エーテルのような不活性溶媒を補助的に使用するのが有
利である。
実施される。高分子、高粘性または室温で固体の出発物
質または生成物では、反応条件下でテトロヒドロフラ
ン、ジオキサン、水またはエチレングリコールジメチル
エーテルのような不活性溶媒を補助的に使用するのが有
利である。
【０００９】反応は通常８０から２３０℃、望ましくは
９０から１７０℃、更に望ましくは１００から１４０℃
の温度範囲で実施される。反応は一般に１から４００バ
ールの圧力下で実施される。しかしながら１０から２５
０バールの圧力、特に３０から２００の圧力が用いられ
るのが好ましい。
９０から１７０℃、更に望ましくは１００から１４０℃
の温度範囲で実施される。反応は一般に１から４００バ
ールの圧力下で実施される。しかしながら１０から２５
０バールの圧力、特に３０から２００の圧力が用いられ
るのが好ましい。
【００１０】より高い温度および全体的により高い圧力
の使用は可能である。ニトリルのアミノ化剤および生成
される反応生成物および上記温度で用いられる全ての溶
媒の分圧の総量に等しい反応容器中の全圧力は水素で促
進する望ましい反応圧に適合するのが有利である。
の使用は可能である。ニトリルのアミノ化剤および生成
される反応生成物および上記温度で用いられる全ての溶
媒の分圧の総量に等しい反応容器中の全圧力は水素で促
進する望ましい反応圧に適合するのが有利である。
【００１１】水素を一般に、ニトリル成分当たり５から
４００Ｌ（ＳＴＰ）の速度、望ましくは５０から２００
Ｌ（ＳＴＰ）の速度で通過させる。
４００Ｌ（ＳＴＰ）の速度、望ましくは５０から２００
Ｌ（ＳＴＰ）の速度で通過させる。
【００１２】本法の選択性の観点から、成形触媒成分、
それらが希釈されているように不活性被覆成分と反応容
器中で混合するのが有利である。このような触媒処方の
上記被覆成分の割合は、２０から８０、好ましくは３０
から６０、および更に好ましくは４０から５０容量％で
あることができる。
それらが希釈されているように不活性被覆成分と反応容
器中で混合するのが有利である。このような触媒処方の
上記被覆成分の割合は、２０から８０、好ましくは３０
から６０、および更に好ましくは４０から５０容量％で
あることができる。
【００１３】実際に、この方法は一般に次のように実施
された：ニトリルとアミノ化剤は、通常、望ましくは外
部加熱の固定床反応器に、望ましい反応温度および望ま
しい圧力で、設置される触媒に同時に供給される。この
方法では比材料供給量は、一般に０．０２、望ましくは
０．０５から１、および更に望ましくは０．１から０．
８のニトリルが触媒リットル、時間あたり用いられる。
された：ニトリルとアミノ化剤は、通常、望ましくは外
部加熱の固定床反応器に、望ましい反応温度および望ま
しい圧力で、設置される触媒に同時に供給される。この
方法では比材料供給量は、一般に０．０２、望ましくは
０．０５から１、および更に望ましくは０．１から０．
８のニトリルが触媒リットル、時間あたり用いられる。
【００１４】反応器は上昇流モードでも下降流モードで
も操業することができ、すなわち反応物は反応器を通し
て上昇でも下降でも通過することができる。このプロセ
スはバッチ式でも連続的にも実施できることは自明であ
る。両者の場合、アミノ化剤は、水素と共に循環するこ
とができる。もしこの反応によって得られる変換が、定
量的でないならば、未変換の出発物質は同様に反応領域
に再循環させることができる。
も操業することができ、すなわち反応物は反応器を通し
て上昇でも下降でも通過することができる。このプロセ
スはバッチ式でも連続的にも実施できることは自明であ
る。両者の場合、アミノ化剤は、水素と共に循環するこ
とができる。もしこの反応によって得られる変換が、定
量的でないならば、未変換の出発物質は同様に反応領域
に再循環させることができる。
【００１５】ニトリルの水素添加によるアミノ化に用い
られるアミノ化剤は、アンモニアかまたは望ましくは第
一または第二脂肪族または脂環式アミンであることがで
きる。
られるアミノ化剤は、アンモニアかまたは望ましくは第
一または第二脂肪族または脂環式アミンであることがで
きる。
【００１６】これらのアミノ化剤は、望ましくはエチル
ジイソプロピルアミンおよびエチルジシクロヘキシルア
ミンのような非対称置換のジ−またはトリ−アルキルア
ミンの製造に使用される。例えば次のモノ−およびジ−
アルキルアミンがアミノ化剤として使用されるのが好ま
しい：メチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、
ジエチルアミン、プロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミンお
よびシクロヘキシルアミンがある。
ジイソプロピルアミンおよびエチルジシクロヘキシルア
ミンのような非対称置換のジ−またはトリ−アルキルア
ミンの製造に使用される。例えば次のモノ−およびジ−
アルキルアミンがアミノ化剤として使用されるのが好ま
しい：メチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、
ジエチルアミン、プロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミンお
よびシクロヘキシルアミンがある。
【００１７】アミノ化剤は、アミノ化されるニトリル基
に関して、化学量論的に用いることができる。しかしな
がら、本法は過剰なアミノ化剤を過剰量、一般にはアミ
ノ化さるべきニトリル基の２倍のモル過剰以上を用いて
実施されるのが望ましい。一般には変換さるべきニトリ
ル基のモル当たり、２から５０倍のモル過剰、望ましく
は５から２５倍のモル過剰、更に望ましくは１０から２
０倍のモル過剰量が用いられる。第一または第二アミン
の高度の過剰量もまた可能である。
に関して、化学量論的に用いることができる。しかしな
がら、本法は過剰なアミノ化剤を過剰量、一般にはアミ
ノ化さるべきニトリル基の２倍のモル過剰以上を用いて
実施されるのが望ましい。一般には変換さるべきニトリ
ル基のモル当たり、２から５０倍のモル過剰、望ましく
は５から２５倍のモル過剰、更に望ましくは１０から２
０倍のモル過剰量が用いられる。第一または第二アミン
の高度の過剰量もまた可能である。
【００１８】アミノ化剤および水素は、有利には減圧さ
れた後、廃水から除去することができ、得られたアミノ
化生成物は、蒸留、液体抽出、または結晶化によって精
製することができる。過剰のアミノ化剤および水素は、
反応領域に再循環させることが有利である。同様に未変
換のまたは不完全に変換されたニトリル成分にも適用さ
れる。
れた後、廃水から除去することができ、得られたアミノ
化生成物は、蒸留、液体抽出、または結晶化によって精
製することができる。過剰のアミノ化剤および水素は、
反応領域に再循環させることが有利である。同様に未変
換のまたは不完全に変換されたニトリル成分にも適用さ
れる。
【００１９】本願発明の触媒は一般に固体の形で用いる
のが好ましい。“固体触媒”と言う語句により、支持さ
れた触媒とは異なった触媒的に活性材料のみからなる触
媒を意味する。固体触媒は次の使用することができる：
触媒的に活性材料を粉末に磨砕し、反応容器中に装入す
るか、または触媒的な活性な材料をミルし、成形剤と混
合し成型加熱し、成形触媒成分を成形し−例えば球状、
円筒状、環状または螺旋状−反応器中に装入する。濃縮
データが−もし異なって述べていないならば−触媒の触
媒的に活性な材料に適用されるので、下に示した触媒の
触媒的に活性な材料は、最終の熱処理前および水素によ
る還元の前の酸化物として計算した触媒の触媒的に活性
な成分の材料の総和として定義される。
のが好ましい。“固体触媒”と言う語句により、支持さ
れた触媒とは異なった触媒的に活性材料のみからなる触
媒を意味する。固体触媒は次の使用することができる：
触媒的に活性材料を粉末に磨砕し、反応容器中に装入す
るか、または触媒的な活性な材料をミルし、成形剤と混
合し成型加熱し、成形触媒成分を成形し−例えば球状、
円筒状、環状または螺旋状−反応器中に装入する。濃縮
データが−もし異なって述べていないならば−触媒の触
媒的に活性な材料に適用されるので、下に示した触媒の
触媒的に活性な材料は、最終の熱処理前および水素によ
る還元の前の酸化物として計算した触媒の触媒的に活性
な成分の材料の総和として定義される。
【００２０】固体触媒の製造のためには、種々の方法が
可能である。例えば水酸化物、炭酸塩、酸化物、および
／またはジルコニウムおよび銅の成分の他の塩および場
合により周期律表の亜蔟ＩｂからＶＩＩｂまたはＶＩＩ
Ｉ族の１種以上の粉末混合物を水でペーストに形成し、
このようにして得られた材料を押出し、加熱して得るこ
とができる。
可能である。例えば水酸化物、炭酸塩、酸化物、および
／またはジルコニウムおよび銅の成分の他の塩および場
合により周期律表の亜蔟ＩｂからＶＩＩｂまたはＶＩＩ
Ｉ族の１種以上の粉末混合物を水でペーストに形成し、
このようにして得られた材料を押出し、加熱して得るこ
とができる。
【００２１】しかしながら、沈殿法は一般に本発明の触
媒の製造に用いられる。かくてそれらは、例えば難溶性
の酸素を含むジルコニウム化合物のスラリーの存在下、
鉱物性塩基による成分を含む塩の水溶液の同時に生じる
沈殿により得ることができ、次に得られた沈殿を洗浄、
乾燥およびカ焼される。難溶性の酸素を含むジルコニウ
ム化合物の例は、ジルコニウムジオキサイド、ジルコニ
ウムオキサイドハイドレート、およびジルコニウムホス
フェート、ボレートおよびシリケートがある。難溶性の
ジルコニウム化合物のスラリーは、これらの化合物の微
粒子粉を水中で強撹拌して懸濁させることにより製造す
ることができる。これらのスラリーは、難溶性のジルコ
ニウム化合物を鉱物性塩基によるジルコニウム塩の水溶
液から沈殿することにより得るのが有利である。
媒の製造に用いられる。かくてそれらは、例えば難溶性
の酸素を含むジルコニウム化合物のスラリーの存在下、
鉱物性塩基による成分を含む塩の水溶液の同時に生じる
沈殿により得ることができ、次に得られた沈殿を洗浄、
乾燥およびカ焼される。難溶性の酸素を含むジルコニウ
ム化合物の例は、ジルコニウムジオキサイド、ジルコニ
ウムオキサイドハイドレート、およびジルコニウムホス
フェート、ボレートおよびシリケートがある。難溶性の
ジルコニウム化合物のスラリーは、これらの化合物の微
粒子粉を水中で強撹拌して懸濁させることにより製造す
ることができる。これらのスラリーは、難溶性のジルコ
ニウム化合物を鉱物性塩基によるジルコニウム塩の水溶
液から沈殿することにより得るのが有利である。
【００２２】本願発明の触媒は、全てのこの化合物を同
時に生じる沈殿（混合沈殿）を経て作られるのが望まし
い。終わりに触媒成分を含む塩の水溶液が、水性鉱物塩
基、特にアルカリ金属塩基−例えば炭酸ナトリウム、水
酸化ナトリウム、炭酸カリウムまたは水酸化カリウム−
と沈殿が完了するまで混合、加熱および撹拌されるのが
有利である。用いられる塩の性質は、一般的には特に重
要ではない。この方法を用いるとき、塩の水溶性が指標
になるので、観察される一つの基準はこれらの比較的高
度に濃縮された塩の溶液を製造し得るに充分な水溶性で
ある。個々の成分の塩を選択するとき、当然間違った反
応を導かない、例えば望ましくない沈殿または錯塩によ
る沈殿を妨害または防止するアニオンを有する塩のみが
選択されることが自明であると見做される。
時に生じる沈殿（混合沈殿）を経て作られるのが望まし
い。終わりに触媒成分を含む塩の水溶液が、水性鉱物塩
基、特にアルカリ金属塩基−例えば炭酸ナトリウム、水
酸化ナトリウム、炭酸カリウムまたは水酸化カリウム−
と沈殿が完了するまで混合、加熱および撹拌されるのが
有利である。用いられる塩の性質は、一般的には特に重
要ではない。この方法を用いるとき、塩の水溶性が指標
になるので、観察される一つの基準はこれらの比較的高
度に濃縮された塩の溶液を製造し得るに充分な水溶性で
ある。個々の成分の塩を選択するとき、当然間違った反
応を導かない、例えば望ましくない沈殿または錯塩によ
る沈殿を妨害または防止するアニオンを有する塩のみが
選択されることが自明であると見做される。
【００２３】特に有利な性質を有する本願発明の触媒
は、触媒のジルコニウム成分の一部分を有利にはジルコ
ニウム水溶液から、沈殿装置中で水性鉱物塩基の添加に
より沈殿分離させるのが有利である。望ましくは新たに
沈殿させこのようにして得られたジルコニウムオキサイ
ドハイドレートに、触媒のジルコニウム成分の残余部分
を、他の触媒的に活性成分と一緒に上記のような混合沈
殿により沈殿させることができる。
は、触媒のジルコニウム成分の一部分を有利にはジルコ
ニウム水溶液から、沈殿装置中で水性鉱物塩基の添加に
より沈殿分離させるのが有利である。望ましくは新たに
沈殿させこのようにして得られたジルコニウムオキサイ
ドハイドレートに、触媒のジルコニウム成分の残余部分
を、他の触媒的に活性成分と一緒に上記のような混合沈
殿により沈殿させることができる。
【００２４】この方法では、９５から１００重量％の酸
化銅およびジルコニウムオキサイドおよび５から０重量
％の、周期率表のＩｂからＶｂの亜族およびＶＩＩＩ族
の金属酸化物、望ましくは９８から１００重量％の酸化
銅およびジルコニウムオキサイドおよび２から０重量％
の、周期率表のＩｂからＶｂの亜族およびＶＩＩＩ族の
金属酸化物、更に望ましくは９９．５から１００重量％
の酸化銅およびジルコニウムオキサイドおよび０．５か
ら０重量％の、周期率表のＩｂからＶｂの亜族およびＶ
ＩＩＩ族の金属酸化物および特に１００重量％の酸化銅
およびジルコニウムオキサイドより成る触媒を用いるこ
とが通常有利である。
化銅およびジルコニウムオキサイドおよび５から０重量
％の、周期率表のＩｂからＶｂの亜族およびＶＩＩＩ族
の金属酸化物、望ましくは９８から１００重量％の酸化
銅およびジルコニウムオキサイドおよび２から０重量％
の、周期率表のＩｂからＶｂの亜族およびＶＩＩＩ族の
金属酸化物、更に望ましくは９９．５から１００重量％
の酸化銅およびジルコニウムオキサイドおよび０．５か
ら０重量％の、周期率表のＩｂからＶｂの亜族およびＶ
ＩＩＩ族の金属酸化物および特に１００重量％の酸化銅
およびジルコニウムオキサイドより成る触媒を用いるこ
とが通常有利である。
【００２５】酸化銅のジルコニウムオキサイドの内部比
率は通常３０から７０重量％の酸素含有の銅化合物、望
ましくは４０から６０重量％の酸素含有の銅化合物、更
に望ましくは４５から５５重量％の酸素含有の銅化合
物、および非常に望ましくは４９から５３重量％の酸素
含有の銅化合物を含む。
率は通常３０から７０重量％の酸素含有の銅化合物、望
ましくは４０から６０重量％の酸素含有の銅化合物、更
に望ましくは４５から５５重量％の酸素含有の銅化合
物、および非常に望ましくは４９から５３重量％の酸素
含有の銅化合物を含む。
【００２６】これらの沈殿反応で得られる沈殿物は、一
般に化学的に均一で、就中酸化物、オキサイドハイドレ
ート、水酸化物、炭酸塩および不溶性で引用金属の塩基
性塩よりなる。沈殿物の時効は濾過性、すなわち沈殿
後、持続放置し、場合により加熱または通気により得ら
れる、時効に好ましい効果を与える。
般に化学的に均一で、就中酸化物、オキサイドハイドレ
ート、水酸化物、炭酸塩および不溶性で引用金属の塩基
性塩よりなる。沈殿物の時効は濾過性、すなわち沈殿
後、持続放置し、場合により加熱または通気により得ら
れる、時効に好ましい効果を与える。
【００２７】この沈殿反応で得られる沈殿物は、通常の
方法で加工され本法の触媒を形成する。洗浄後、一般に
８０から２００℃および好ましくは１００から１５０℃
で乾燥される。
方法で加工され本法の触媒を形成する。洗浄後、一般に
８０から２００℃および好ましくは１００から１５０℃
で乾燥される。
【００２８】乾燥に続いて、調整されるのが有利であ
り、例えば特定の粒子径に粉砕され、また粉砕し、黒鉛
またはステアリン酸のような成型材料と混合されペレタ
イジングプレスにより成型され加熱される。本法で用い
られる加熱温度は、一般に乾燥温度と同等である。
り、例えば特定の粒子径に粉砕され、また粉砕し、黒鉛
またはステアリン酸のような成型材料と混合されペレタ
イジングプレスにより成型され加熱される。本法で用い
られる加熱温度は、一般に乾燥温度と同等である。
【００２９】この方法で作られた触媒は、酸素含有化合
物の混合物、すなわち特に酸化物または混合された酸化
物の形態の触媒的に活性な金属を含む。
物の混合物、すなわち特に酸化物または混合された酸化
物の形態の触媒的に活性な金属を含む。
【００３０】この方法で作られた触媒は貯蔵され、更に
場合により、そのように売買される。ニトリルからアミ
ンを製造するための触媒として使用する前に、通常予備
還元される。しかしながら、必要ならば予備還元なしに
用いることができ、この場合反応器中に存在する水素に
よる水素添加アミノ化の条件下で還元される。予備還元
を作用させるために、触媒は一般にまず、１５０から２
００℃の温度で１２から２０時間、窒素／水素雰囲気に
曝し、次に水素雰囲気で約２４時間、水素雰囲気中で処
理される。予備還元のプロセスにおいて、触媒中に存在
する酸素を含む金属化合物の一部は還元されて、相当す
る金属を形成し、これらは種々の酸素化合物と共に、触
媒の活性形の中に存在する。
場合により、そのように売買される。ニトリルからアミ
ンを製造するための触媒として使用する前に、通常予備
還元される。しかしながら、必要ならば予備還元なしに
用いることができ、この場合反応器中に存在する水素に
よる水素添加アミノ化の条件下で還元される。予備還元
を作用させるために、触媒は一般にまず、１５０から２
００℃の温度で１２から２０時間、窒素／水素雰囲気に
曝し、次に水素雰囲気で約２４時間、水素雰囲気中で処
理される。予備還元のプロセスにおいて、触媒中に存在
する酸素を含む金属化合物の一部は還元されて、相当す
る金属を形成し、これらは種々の酸素化合物と共に、触
媒の活性形の中に存在する。
【００３１】化合物Ｉ、ＩＩおよびＩＩＩ中の置換基Ｒ
1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 および指数ｌ、ｍ、ｎ互い
に無関係に次の意味を有する：Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5
が −水素、Ｒ2 が水素でないときＲ1 が水素であるのが望
ましく、 Ｒ3 −Ｃ1 −Ｃ200 アルキル、望ましくはＣ1 −Ｃ8 アルキ
ル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｓｅｃ−ペ
ンチル、ネオペンチル、１，２−ジメチルフロピル、ｎ
−ヘキシル、イソヘキシル、ｓｅｃヘキシル、ｎ−ヘプ
チル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２
−エチルヘキシル、ｎ−デシル、２−ｎ−プロピル−ｎ
−ヘプチル、ｎ−トリデシル、２−ｎ−ブチル−ｎ−ノ
ニルおよび３−ｎ−ブチル−ｎ−ノニル、更に望ましく
はイソプロピル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシル、２
−ｎ−プロピル−ｎ−ヘプチル、ｎ−トリデシル、２−
ｎ−プロピル−ｎ−ヘプチル、ｎ−トリデシル、２−ｎ
−ブチル−ｎ−ノニルおよび３−ｎ−ブチル−ｎ−ノニ
ル、および望ましくはポリブチル、ポリイソブチル、ポ
リプロピル、ポリイソプロピルおよびポリエチル、更に
望ましくはポリプチルおよびポリイソブチルのようなＣ
40−Ｃ200 アルキルを意味し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 が −シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチルおよびシクロオクチルの
ようなＣ3 −Ｃ12シクロアルキル、望ましくはＣ3 −Ｃ
8 シクロアルキルを意味し、 −フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アント
リル、２−アントリルおよび９−アントリルのようなア
リール、望ましくはフェニル、１−ナフチルおよび２−
ナフチル、更に望ましくはフェニルを意味し、 −Ｃ7 −Ｃ20アルキルアリール、望ましくはＣ7 −Ｃ12
アルキルフェニル、例えば２−メチルフェニル、３−メ
チルフェニル、４−メチルフェニル、２，４−ジメチル
フェニル、２，５−ジメチルフェニル、２．６−ジメチ
ルフェニル、３．４−ジメチルフェニル、３，５−ジメ
チルフェニル、２，３，４−トリメチルフェニル、２，
３，５−トリメチルフェニル、２，３，６−トリメチル
フェニル、２，４，６−トリメチルフェニル、２−エチ
ルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチルフェニ
ル、２−ｎ−プロピルフェニル、３−ｎ−プロピルフェ
ニル、および４−ｎ−プロピルフェニルを意味し、 −Ｃ7 −Ｃ20アルアルキル、望ましくはＣ7 −Ｃ12フェ
ニルアルキル、例えばベンジル、１−フェネチル、２−
フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロ
ピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２
−フェニルブチル、３−フェニルブチルおよび４−フェ
ニルブチル、より望ましくはベンジル、１−フェネチル
および２−フェネチルを意味し、Ｒ3 が −Ｃ1 −Ｃ20ヒドロキシアルキル、望ましくはＣ1 −Ｃ
8 ヒドロキシアルキルおよび更に望ましくはＣ1 −Ｃ4
ヒドロキシアルキル、例えばヒドロキシメチル、１−ヒ
ドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキ
シ−ｎ−プロピル、２−ヒドロキシ−ｎ−プロピル、３
−ヒドロキシ−ｎ−プロピル、および１−ヒドロキシ−
メチルエチルを意味し、 −アミノおよび／またはメチルアミノおよび／またはジ
メチルアミノおよびヒドロキシで置換されたＣ1 −Ｃ20
アルキル、望ましくはアミノおよび／またはメチルアミ
ノおよび／またはジメチルアミノおよびヒドロキシで置
換されたＣ1−Ｃ8 アルキル、更に望ましくはＮ−（ヒ
ドロキシエチル）アミノエチルおよびＮ−（アミノエチ
ル）アミノエチルのようなアミノおよび／またはメチル
アミノおよび／またはジメチルアミノおよびヒドロキシ
で置換されたＣ1 −Ｃ4アルキルを意味し、 −Ｃ2 −Ｃ30アルコキシアルキル、望ましくはＣ2 −Ｃ
20アルコキシアルキル、および更に望ましくはＣ2 −Ｃ
8 アルコキシアルキル、例えばメトキシメチル、エトキ
シメチル、ｎ−プロポキシメチル、イソプロポキシメチ
ル、ｎ−ブトキシメチル、イソブトキシメチル、ｓｅｃ
−ブトキシメチル、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル、１−メ
トキシエチル、２−メトキシエチル、更に望ましくはＣ
2−Ｃ4 アルコキシアルキル、例えばメトキシメチル、
エトキシメチル、ｎ−プロポキシメチル、イソプロポキ
シメチル、ｎ−ブトキシメチル、イソブトキシメチル、
ｓｅｃ−ブトキシメチル、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル、
１−メトキシエチルおよび２−メトキシエチルを意味
し、 −Ｒ4 −（ＯＣＨＲ5 ＣＨ2 ）n を意味し、Ｒ1 および
Ｒ2 がＣ1 −Ｃ20アルキル、望ましくはＣ1 −Ｃ8 アル
キル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅ
ｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｓｅｃ−
ペンチル、ネオペンチル、１，２−ジメチルプロピル、
ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシル、ｎ−
ヘプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチ
ル、更に望ましくはＣ1 −Ｃ4 アルキル、例えばメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチ
ルを意味し、Ｒ4 が −Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅ
ｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチル、望ましくはメチル
およびエチル、更に望ましくはメチルを意味し、Ｒ5 が −メチル、Ｘが −酸素、 −Ｎ−Ｒ5 、ｌが −２から４の整数、例えば２，３，および４、望ましく
は２および３、更に望ましくは２、ｍが −１から４の整数、例えば１，２，３，および４、望ま
しくは２，３および４、更に望ましくは２および３、ｎ
が −２から１０の整数、望ましくは２から８の整数、例え
ば２，３．４．５，６，７または８、更に望ましくは２
から６の整数、例えば２，３，４，５または６を意味す
る。
1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 および指数ｌ、ｍ、ｎ互い
に無関係に次の意味を有する：Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5
が −水素、Ｒ2 が水素でないときＲ1 が水素であるのが望
ましく、 Ｒ3 −Ｃ1 −Ｃ200 アルキル、望ましくはＣ1 −Ｃ8 アルキ
ル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｓｅｃ−ペ
ンチル、ネオペンチル、１，２−ジメチルフロピル、ｎ
−ヘキシル、イソヘキシル、ｓｅｃヘキシル、ｎ−ヘプ
チル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２
−エチルヘキシル、ｎ−デシル、２−ｎ−プロピル−ｎ
−ヘプチル、ｎ−トリデシル、２−ｎ−ブチル−ｎ−ノ
ニルおよび３−ｎ−ブチル−ｎ−ノニル、更に望ましく
はイソプロピル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシル、２
−ｎ−プロピル−ｎ−ヘプチル、ｎ−トリデシル、２−
ｎ−プロピル−ｎ−ヘプチル、ｎ−トリデシル、２−ｎ
−ブチル−ｎ−ノニルおよび３−ｎ−ブチル−ｎ−ノニ
ル、および望ましくはポリブチル、ポリイソブチル、ポ
リプロピル、ポリイソプロピルおよびポリエチル、更に
望ましくはポリプチルおよびポリイソブチルのようなＣ
40−Ｃ200 アルキルを意味し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 が −シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチルおよびシクロオクチルの
ようなＣ3 −Ｃ12シクロアルキル、望ましくはＣ3 −Ｃ
8 シクロアルキルを意味し、 −フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アント
リル、２−アントリルおよび９−アントリルのようなア
リール、望ましくはフェニル、１−ナフチルおよび２−
ナフチル、更に望ましくはフェニルを意味し、 −Ｃ7 −Ｃ20アルキルアリール、望ましくはＣ7 −Ｃ12
アルキルフェニル、例えば２−メチルフェニル、３−メ
チルフェニル、４−メチルフェニル、２，４−ジメチル
フェニル、２，５−ジメチルフェニル、２．６−ジメチ
ルフェニル、３．４−ジメチルフェニル、３，５−ジメ
チルフェニル、２，３，４−トリメチルフェニル、２，
３，５−トリメチルフェニル、２，３，６−トリメチル
フェニル、２，４，６−トリメチルフェニル、２−エチ
ルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチルフェニ
ル、２−ｎ−プロピルフェニル、３−ｎ−プロピルフェ
ニル、および４−ｎ−プロピルフェニルを意味し、 −Ｃ7 −Ｃ20アルアルキル、望ましくはＣ7 −Ｃ12フェ
ニルアルキル、例えばベンジル、１−フェネチル、２−
フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロ
ピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２
−フェニルブチル、３−フェニルブチルおよび４−フェ
ニルブチル、より望ましくはベンジル、１−フェネチル
および２−フェネチルを意味し、Ｒ3 が −Ｃ1 −Ｃ20ヒドロキシアルキル、望ましくはＣ1 −Ｃ
8 ヒドロキシアルキルおよび更に望ましくはＣ1 −Ｃ4
ヒドロキシアルキル、例えばヒドロキシメチル、１−ヒ
ドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキ
シ−ｎ−プロピル、２−ヒドロキシ−ｎ−プロピル、３
−ヒドロキシ−ｎ−プロピル、および１−ヒドロキシ−
メチルエチルを意味し、 −アミノおよび／またはメチルアミノおよび／またはジ
メチルアミノおよびヒドロキシで置換されたＣ1 −Ｃ20
アルキル、望ましくはアミノおよび／またはメチルアミ
ノおよび／またはジメチルアミノおよびヒドロキシで置
換されたＣ1−Ｃ8 アルキル、更に望ましくはＮ−（ヒ
ドロキシエチル）アミノエチルおよびＮ−（アミノエチ
ル）アミノエチルのようなアミノおよび／またはメチル
アミノおよび／またはジメチルアミノおよびヒドロキシ
で置換されたＣ1 −Ｃ4アルキルを意味し、 −Ｃ2 −Ｃ30アルコキシアルキル、望ましくはＣ2 −Ｃ
20アルコキシアルキル、および更に望ましくはＣ2 −Ｃ
8 アルコキシアルキル、例えばメトキシメチル、エトキ
シメチル、ｎ−プロポキシメチル、イソプロポキシメチ
ル、ｎ−ブトキシメチル、イソブトキシメチル、ｓｅｃ
−ブトキシメチル、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル、１−メ
トキシエチル、２−メトキシエチル、更に望ましくはＣ
2−Ｃ4 アルコキシアルキル、例えばメトキシメチル、
エトキシメチル、ｎ−プロポキシメチル、イソプロポキ
シメチル、ｎ−ブトキシメチル、イソブトキシメチル、
ｓｅｃ−ブトキシメチル、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル、
１−メトキシエチルおよび２−メトキシエチルを意味
し、 −Ｒ4 −（ＯＣＨＲ5 ＣＨ2 ）n を意味し、Ｒ1 および
Ｒ2 がＣ1 −Ｃ20アルキル、望ましくはＣ1 −Ｃ8 アル
キル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅ
ｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｓｅｃ−
ペンチル、ネオペンチル、１，２−ジメチルプロピル、
ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシル、ｎ−
ヘプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチ
ル、更に望ましくはＣ1 −Ｃ4 アルキル、例えばメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチ
ルを意味し、Ｒ4 が −Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅ
ｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチル、望ましくはメチル
およびエチル、更に望ましくはメチルを意味し、Ｒ5 が −メチル、Ｘが −酸素、 −Ｎ−Ｒ5 、ｌが −２から４の整数、例えば２，３，および４、望ましく
は２および３、更に望ましくは２、ｍが −１から４の整数、例えば１，２，３，および４、望ま
しくは２，３および４、更に望ましくは２および３、ｎ
が −２から１０の整数、望ましくは２から８の整数、例え
ば２，３．４．５，６，７または８、更に望ましくは２
から６の整数、例えば２，３，４，５または６を意味す
る。
【００３２】本願発明の方法で作られたアミンは、就
中、燃料添加剤（米国特許第３２７５５５４号明細書、
ドイツ特許出願公開第２１２５０３９号公報およびドイ
ツ特許出願公開第３６１１２３０号公報）、界面活性
剤、薬剤、植物保護剤および加硫促進剤の製造の中間体
として適当である。
中、燃料添加剤（米国特許第３２７５５５４号明細書、
ドイツ特許出願公開第２１２５０３９号公報およびドイ
ツ特許出願公開第３６１１２３０号公報）、界面活性
剤、薬剤、植物保護剤および加硫促進剤の製造の中間体
として適当である。
【００３３】
【実施例】触媒の製造 溶液１：ジルコニウムアセテートおよび硝酸銅は蒸留水
に溶解され、その結果２．４ｋｇのジルコニウム（Ｚｒ
Ｏ2 として計算）および５．２５ｋｇの銅（ＣｕＯとし
て計算）を含む２７．４リットルの溶液が生成する。溶
液のｐＨは、ＨＮＯ3 で約１に調整される。
に溶解され、その結果２．４ｋｇのジルコニウム（Ｚｒ
Ｏ2 として計算）および５．２５ｋｇの銅（ＣｕＯとし
て計算）を含む２７．４リットルの溶液が生成する。溶
液のｐＨは、ＨＮＯ3 で約１に調整される。
【００３４】溶液２：炭酸ナトリウムは蒸留水に溶解さ
れ、その結果ソーダを含む２０重量％の溶液が生成す
る。
れ、その結果ソーダを含む２０重量％の溶液が生成す
る。
【００３５】２．４ｋｇの二酸化ジルコニウムが６０リ
ットルの水に懸濁され、溶液は８０℃に加熱される。溶
液１と溶液２は、この良く撹拌されたスラリーに同時に
供給され、沈殿容器中のｐＨは、５．５に保持される。
溶液１の添加が完了して、溶液２の添加によりｐＨは
７．５に上昇する。
ットルの水に懸濁され、溶液は８０℃に加熱される。溶
液１と溶液２は、この良く撹拌されたスラリーに同時に
供給され、沈殿容器中のｐＨは、５．５に保持される。
溶液１の添加が完了して、溶液２の添加によりｐＨは
７．５に上昇する。
【００３６】このようにして得られた沈殿したどろどろ
の材料は、洗浄されフィルタープレスで脱水される。得
られた粉末は１２０℃で２０時間乾燥される。
の材料は、洗浄されフィルタープレスで脱水される。得
られた粉末は１２０℃で２０時間乾燥される。
【００３７】このようにして得られた粉末は３％の黒鉛
と混合され、５ｍｍの径を有するペレットに加圧成形さ
れる。
と混合され、５ｍｍの径を有するペレットに加圧成形さ
れる。
【００３８】得られたペレットは、５２．６重量％のＣ
ｕＯおよび４７．４重量％のＺｒＯ2 の化学組成を有す
る。
ｕＯおよび４７．４重量％のＺｒＯ2 の化学組成を有す
る。
【００３９】実施例１ ｎ−メチルアミノプロピオニト
リルのメチルアルキル化 連続高圧反応器に５００ｃｍ3 の触媒が充填され、４０
ｃｍ3 ／ｈのＮ−メチルアミノプロピオニトリルおよび
４００ｃｍ3 ／ｈの液状のモノメチルアミンが供給され
た。触媒の温度は１３０℃に調整され、反応器中の圧力
は同時に水素で加圧することにより２００バールに調整
した。過剰のモノメチルアミンは、減圧される廃水から
蒸留によって除去される。ＧＣ−分析は定量的な転換を
与え、次の割合の生成物が得られた： ８．３％のＮ−メチルプロピレンジアミン ７４．３％のＮ，Ｎ’−ジメチルプロピレンジアミン １７．３％の他の副生成物。
リルのメチルアルキル化 連続高圧反応器に５００ｃｍ3 の触媒が充填され、４０
ｃｍ3 ／ｈのＮ−メチルアミノプロピオニトリルおよび
４００ｃｍ3 ／ｈの液状のモノメチルアミンが供給され
た。触媒の温度は１３０℃に調整され、反応器中の圧力
は同時に水素で加圧することにより２００バールに調整
した。過剰のモノメチルアミンは、減圧される廃水から
蒸留によって除去される。ＧＣ−分析は定量的な転換を
与え、次の割合の生成物が得られた： ８．３％のＮ−メチルプロピレンジアミン ７４．３％のＮ，Ｎ’−ジメチルプロピレンジアミン １７．３％の他の副生成物。
【００４０】実施例２ 連続高圧反応器に５００ｃｍ3 の触媒が充填され、１０
０ｃｍ3 ／ｈのＮ−メチルアミノプロピオニトリルおよ
び４００ｃｍ3 ／ｈの液状のモノメチルアミンが供給さ
れた。触媒の温度は１３０℃に調整され、反応器中の圧
力は同時に水素で加圧することにより２００バールに調
整した。過剰のモノメチルアミンは、減圧される廃水か
ら蒸留によって除去される。ＧＣ−分析は＞９８重量％
濃度の転換を与え、次の割合の生成物が得られた： ３．９％のＮ−メチルプロピレンジアミン ６８．６％のＮ，Ｎ’−ジメチルプロピレンジアミン ２５．２％の他の副生成物。
０ｃｍ3 ／ｈのＮ−メチルアミノプロピオニトリルおよ
び４００ｃｍ3 ／ｈの液状のモノメチルアミンが供給さ
れた。触媒の温度は１３０℃に調整され、反応器中の圧
力は同時に水素で加圧することにより２００バールに調
整した。過剰のモノメチルアミンは、減圧される廃水か
ら蒸留によって除去される。ＧＣ−分析は＞９８重量％
濃度の転換を与え、次の割合の生成物が得られた： ３．９％のＮ−メチルプロピレンジアミン ６８．６％のＮ，Ｎ’−ジメチルプロピレンジアミン ２５．２％の他の副生成物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミヒャエル、ヘッセ ドイツ、67105、シファーシュタット、ヴ ァーグナーシュトラーセ、１ベー (72)発明者 ホルスト、ツィマーマン ドイツ、68199、マンハイム、マイスター ズィンガーシュトラーセ、９−11 (72)発明者 ハインツ、リンク ドイツ、67240、ボベンハイム−ロクスハ イム、ケーニヒスベルガー、シュトラー セ、８
Claims (7)
- 【請求項１】８５から１００重量％の酸化銅および酸化
ジルコニウム、および周期律表のＩｂからＶＩＩｂ亜族
およびＶＩＩＩ族の１５から０重量％の金属酸化物から
成る触媒。 - 【請求項２】９０から１００重量％の酸化銅および酸化
ジルコニウム、および周期律表のＩｂからＶＩＩｂ亜族
およびＶＩＩＩ族の１０から０重量％の金属酸化物から
成る請求項１による触媒。 - 【請求項３】９５から１００重量％の酸化銅および酸化
ジルコニウム、および周期律表のＩｂからＶＩＩｂ亜族
およびＶＩＩＩ族の５から０重量％の金属酸化物から成
る請求項１による触媒。 - 【請求項４】９８から１００重量％の酸化銅および酸化
ジルコニウム、および周期律表のＩｂからＶＩＩｂ亜族
およびＶＩＩＩ族の２から０重量％の金属酸化物から成
る請求項１による触媒。 - 【請求項５】９９．５から１００重量％の酸化銅および
酸化ジルコニウム、および周期律表のＩｂからＶＩＩｂ
亜族およびＶＩＩＩ族の０．５から０重量％の金属酸化
物から成る請求項１による触媒。 - 【請求項６】ニトリルおよび、アンモニアおよび第一お
よび第二アミンを含む群から選択される窒素化合物か
ら、８０から２５０℃の温度および触媒の存在下、水素
を用いて１から４００バールの圧力でアミンを製造する
方法であって、請求項１による触媒が用いられることを
特徴とする方法。 - 【請求項７】一般式Ｉ 【化１】 で表わされる、（式中Ｒ1 およびＲ2 が水素、Ｃ1 −Ｃ
20アルキル、Ｃ3 −Ｃ12シクロアルキル、アリール、Ｃ
7 −Ｃ20アルアルキルおよびＣ7 −Ｃ20アルキルアリー
ルを意味し、Ｒ3 はＣ1 −Ｃ200 アルキル、Ｃ3 −Ｃ12
シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ20ヒドロキシアルキル、アミ
ノおよび／またはメチルアミノおよび／またはジメチル
アミノおよび／またはヒドロキシで置換されたＣ1 −Ｃ
20アルキル、Ｃ2 −Ｃ30アルコキシアルキル、Ｒ4 −
（ＯＣＨＲ5 ＣＨ2 ）n 、アリール、Ｃ7 −Ｃ20アルア
ルキルおよびＣ7 −Ｃ20アルキルアリールを意味し、Ｒ
4 は水素、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルを意味し、Ｒ5 は水素ま
たはメチルを意味し、Ｘは酸素またはＮ−Ｒ5 を意味
し、ｎは２から３０の整数であり、ｌは２から４の整数
であり、ｍは１から４の整数である）アミンを一般式Ｉ
Ｉ 【化２】 で表わされるニトリル、および一般式ＩＩＩ 【化３】 で表わされ、式中Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 およびＲ4 が上
記の意味を有し、８０から２５０℃の温度および触媒の
存在下水素を用いて１から４００バールの圧力で窒素化
合物から製造する方法であって、請求項１による触媒が
用いられることを特徴とする方法。
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| JP (1) | JPH0838901A (ja) |
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1995
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- 1995-06-24 DE DE59506673T patent/DE59506673D1/de not_active Expired - Fee Related
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- 1995-07-05 US US08/494,955 patent/US5648545A/en not_active Expired - Fee Related
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020903 |