JPH0839014A

JPH0839014A - 洗浄装置

Info

Publication number: JPH0839014A
Application number: JP6177346A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiro Gyoda; 和博行田; Hidehiko Nakaune; 英彦中畝; Mutsumi Hara; 睦美原
Original assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi High Tech Corp
Priority date: 1994-07-29
Filing date: 1994-07-29
Publication date: 1996-02-13

Abstract

(57)【要約】【目的】ブラシスクラブ洗浄を行う洗浄装置の洗浄用
のブラシそれ自体を確実に洗浄する。【構成】洗浄液ノズル７ｂから絶えず洗浄液が供給さ
れ、オーバーフロー状態となっている洗浄槽９の下部に
固定されいる、石英ガラス、ライムソーダガラスや低膨
張ガラスなどの摩擦係数の小さい、表面が平坦な洗浄体
１０にブラシ８を圧接させ、その状態で回転用モータ６
ｂによりブラシ８を所定の時間だけ回転させ、ブラシ１
２に付着している異物の除去を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フォトマスクや半導体
ウエハなどを洗浄する洗浄装置に関し、特に、ブラシス
クラブ洗浄により洗浄を行う洗浄装置のブラシ洗浄に適
用して有効な技術に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、ブ
ラシスクラブ洗浄を用いた洗浄装置において、ブラシそ
れ自体の洗浄は、洗浄液を満たした洗浄槽内でブラシを
回転させる方法、洗浄液を満たした洗浄槽内で清浄な空
気または炭酸ガスなどによりバブリングさせる方法や洗
浄液を満たした洗浄槽内で超音波を発生させ超音波洗浄
する方法などがある。

【０００３】なお、これらのブラシそれ自体の洗浄方法
について詳しく説明してある例としては、それぞれ特開
昭５９−１９５６５０号公報、特開昭５９−１９５６５
１号公報および特公平１−９６２１号公報がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
なブラシそれ自体の洗浄技術では、次のような問題点が
あることが本発明者により見い出された。

【０００５】すなわち、これらのブラシそれ自体の洗浄
方法では、ブラシの汚れを完全に落とすことが困難であ
り、たとえば、フォトマスクの洗浄時にブラシの汚れが
フォトマスクに付着してしまい、パターン欠陥などを発
生させてしまう恐れがある。

【０００６】また、バブリングによる洗浄では、バブリ
ング装置などが必要となり、超音波洗浄による洗浄で
は、超音波発生器などが必要となってしまい、洗浄装置
自体が高価となってしまう。

【０００７】本発明の目的は、ブラシスクラブ洗浄を行
う洗浄装置において、ブラシそれ自体を確実に洗浄する
洗浄装置を提供することにある。

【０００８】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。

【００１０】すなわち、本発明の洗浄装置は、被洗浄物
を洗浄するブラシを洗浄する洗浄槽と、洗浄槽の下部に
設けられ、ブラシを洗浄する洗浄体と、ブラシを洗浄体
に圧接する移動手段と、ブラシを回転させる回転手段
と、洗浄槽内に洗浄液を注入する洗浄液供給手段とを設
け、洗浄液供給手段により洗浄液が絶えず満たされた洗
浄槽内の洗浄体に移動手段によってブラシを圧接させ、
回転手段によってブラシを回転させて洗浄するものであ
る。

【００１１】また、本発明の洗浄装置は、洗浄槽それ自
体が、ブラシを洗浄する洗浄体となるものである。

【００１２】さらに、本発明の洗浄装置は、洗浄体が、
ブラシを痛めない低摩擦係数の材質よりなるものであ
る。

【００１３】

【作用】上記した本発明の洗浄装置によれば、洗浄液が
満たされている洗浄槽中において、ブラシを洗浄体に圧
接させながら回転させて洗浄することにより、効率よく
短時間でブラシに付着している異物を除去することがで
きる。

【００１４】また、上記した本発明の洗浄装置によれ
ば、洗浄体をブラシを痛めない低摩擦係数の材質にする
ことによって、ブラシを痛めることなく確実にブラシに
付着している異物を除去することができる。

【００１５】それによって、ブラシの清浄度が保たれ、
ブラシそれ自体の汚れによる被洗浄物への異物の再付着
がなくなり、製品の品質を向上することができる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。

【００１７】（実施例１）図１は、本発明の実施例１に
よるフォトマスクを洗浄する洗浄装置における要部構成
図、図２（ａ）は、本発明の実施例１による洗浄装置に
おけるフォトマスク支持部の側面図、（ｂ）は、その平
面図、図３（ａ）は、本発明の実施例１による洗浄装置
におけるブラシ部の側面図、（ｂ）は、その底面図であ
る。

【００１８】本実施例１において、半導体装置の回路パ
ターン像が形成されているフォトマスク１を洗浄する洗
浄装置２には、フォトマスク１を搭載する搭載台３が設
けられている。

【００１９】この搭載台３のそれぞれのコーナ部には、
図２（ａ),（ｂ）に示すように、支持用ピン４が設けら
れ、この支持用ピン４によりフォトマスク１が固定され
る。

【００２０】また、搭載台３の下面は円柱状からなる支
持体５に固定されており、この支持体５の下端は回転用
モータ６と連結されており、回転用モータ６を駆動する
ことによって搭載台３を回転させる。

【００２１】さらに、搭載台３の斜め上側および斜め下
側には、フォトマスク１の洗浄中にフォトマスク１に対
して、たとえば、アルカリ性または中性の界面活性材や
超純水などの洗浄液を噴射する洗浄液ノズル７，７ａが
設けられている。

【００２２】また、搭載台３の側部には、フォトマスク
１を洗浄する、たとえば、ナイロン製のブラシ８を洗浄
するための洗浄槽９が設けられている。そして、洗浄槽
９の下部には、ブラシ８を洗浄する洗浄体１０が固定さ
れている。

【００２３】この洗浄体１０は、たとえば、石英ガラ
ス、ライムソーダガラスや低膨張ガラスなどのガラス、
アルミニウム、ステンレスまたはセラミックスなどのブ
ラシ８を痛めることのない低摩擦係数の材質から構成さ
れている。

【００２４】また、洗浄体１０は、所定の基板表面にク
ロム膜やモリブデンシリサイド膜などの低摩擦係数の金
属膜をスパッタリングまたは蒸着などにより形成した構
成でもよい。

【００２５】さらに、洗浄槽９の上方には、洗浄槽９に
洗浄液を供給するための洗浄液ノズル（洗浄液供給手
段）７ｂが設けられている。また、洗浄槽９に供給され
る洗浄液は、フォトマスク１を洗浄する洗浄液と同じも
のである。

【００２６】さらに、搭載台３と洗浄槽９との中間部の
位置には、上下移動モータ（移動手段）１１が設けられ
ており、この上下移動モータ１１は、支持体５ａの一方
の端部と連結しており、上下移動モータ１１を動作させ
ることにより支持体５ａを上下移動させることができ
る。

【００２７】また、支持体５ａの他方の端部は、回転用
モータ６ａと連結されており、この回転用モータ６ａは
支持体５ｂの一方の端部と固定されており、回転用モー
タ６ａにより回転させることができる。

【００２８】さらに、支持体５ｂの他方の端部は、回転
用モータ（回転手段）６ｂに固定されており、回転用モ
ータ６ｂと支持体５ｃの一方の端部とが連結されてお
り、回転用モータ６ｂを駆動することによって支持体５
ｃを所定の方向に回転させることができる。

【００２９】また、支持体５ｃの他方の端部には、ブラ
シ支持台１２が固定されている。このブラシ支持台１２
には、図３（ａ),（ｂ）に示すように、フォトマスクの
洗浄を行うブラシ８が十字状に固定されている。

【００３０】次に、本実施例の作用について説明する。

【００３１】まず、洗浄液ノズル７ｂから絶えず洗浄液
が供給され、オーバーフロー状態となっている洗浄槽９
内にブラシ８を浸すために、回転用モータ６ａを動作さ
せ、ブラシ支持台１２を洗浄槽９上に移動させる。

【００３２】そして、上下移動モータ１１により支持体
５ａを下方向に移動させ、ブラシ８を洗浄槽９内に潜入
させ、ブラシ８と洗浄体１０とを圧接させる。

【００３３】次に、ブラシ８と洗浄体１０とが圧接した
状態で回転用モータ６ｂを駆動し、ブラシ支持台１２を
所定の時間だけ回転させ、ブラシ８の洗浄を行う。この
ブラシ８と洗浄体１０とを直接圧接させて、ブラシ８を
回転させることによりブラシ８に付着している異物の除
去を行う。

【００３４】そして、ブラシ８の洗浄が終了すると、回
転用モータ６ｂの作動を停止させ、上下移動モータ１１
により支持体５ａを上方向に移動させる。その後、回転
用モータ６ａを駆動することによって、支持体５ｂを回
転させ、フォトマスク１の洗浄を行う位置に移動させ
る。

【００３５】搭載台３上に搭載されたフォトマスク１
は、搭載台３のそれぞれのコーナ部に搭載台３の搭載面
と垂直に設けられた支持用ピン４により固定されてい
る。

【００３６】そして、回転用モータ６を動作させ、フォ
トマスク１を搭載した搭載台３を所定の方向に回転させ
る。また、この時、洗浄液ノズル７，７ａからは洗浄液
が絶えず噴射されている。

【００３７】次に、上下移動モータ１１によりブラシ８
を下方向に移動させ、フォトマスク１とブラシ８を圧接
させる。そして、その状態で回転用モータ６ｂも作動さ
せ、ブラシ８を回転させフォトマスク１の洗浄を行う。

【００３８】また、この時の搭載台３を回転させる回転
用モータ６とブラシ８を回転させる回転用モータ６ｂと
の回転は、それぞれ反対方向とする。

【００３９】そして、フォトマスク１の洗浄が終了する
と、回転用モータ６，６ｂを停止させ、上下移動モータ
１１によって上方向にブラシ支持台１２を移動させる。

【００４０】よって、各々のフォトマスク１の洗浄前に
ブラシ８の洗浄を行うことになり、これらの操作を繰り
返すことによってブラシ８の洗浄度を保持することがで
きる。

【００４１】それにより、本実施例１によれば、ブラシ
８を痛めることなく、フォトマスク１の洗浄を行う前
に、ブラシ８を洗浄体１０に圧接させながら回転させて
洗浄するので、ブラシ８の清浄度を確実に保持すること
ができる。

【００４２】（実施例２）図４は、本発明の実施例２に
よるフォトマスクを洗浄する洗浄装置における要部構成
図である。

【００４３】本実施例２においては、ブラシ８を洗浄す
る洗浄槽９ａそれ自体が、洗浄体１０（前記実施例１に
示す）と同一の材質により形成されるものである。

【００４４】この場合も、前記実施例１と同様に、たと
えば、石英ガラス、ライムソーダガラスや低膨張ガラス
などのガラス、アルミニウム、ステンレスまたはセラミ
ックスなどのブラシ８を痛めることのない低摩擦係数の
材質から構成されている。

【００４５】また、洗浄槽９ａの底部表面にクロム膜や
モリブデンシリサイド膜などの低摩擦係数の金属膜をス
パッタリングまたは蒸着などにより形成してもよい。

【００４６】ブラシ８の洗浄は、前記実施例１と同様
に、回転用モータ６ａおよび上下移動モータ１１によ
り、洗浄液ノズル７ｂから絶えず洗浄液が供給され、オ
ーバーフロー状態となっている洗浄槽９ａ内にブラシ８
を潜入させ、ブラシ８と洗浄槽９ａの底部とを圧接させ
る。

【００４７】そして、ブラシ８と洗浄槽９ａとが圧接し
た状態で回転用モータ６ｂを所定の時間だけ回転させ、
ブラシ８の洗浄を行う。このブラシ８と洗浄槽９ａとを
直接圧接させて、ブラシ８を回転させることによりブラ
シ８に付着している異物を除去する。

【００４８】そして、ブラシ８の洗浄が終了すると、回
転用モータ６ｂの動作を停止させ、上下移動モータ１
１、回転用モータ６ａによりブラシ８をフォトマスク１
の洗浄位置まで移動させ、フォトマスク１の洗浄を行
う。よって、これらの操作を繰り返し行いブラシ８の清
浄度を保持する。

【００４９】それにより、本実施例２においても、ブラ
シ８を痛めることなく、フォトマスク１の洗浄を行う前
に、ブラシ８を洗浄槽９ａに圧接させながら回転させて
洗浄するので、ブラシ８の清浄度を確実に保持すること
ができる。

【００５０】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。

【００５１】たとえば、本実施例１，２では、フォトマ
スク１を洗浄する洗浄装置２について記載したが、ブラ
シスクラブ洗浄により洗浄が行われる半導体ウエハ、半
導体素子が形成された半導体基板、磁気ディスク用ヘッ
ド、プリント基板および液晶ディスプレイなどの洗浄装
置におけるブラシまたは洗浄用スポンジの洗浄について
も効果は同様である。

【００５２】

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。

【００５３】（１）本発明によれば、洗浄液中におい
て、被洗浄物を洗浄するブラシを洗浄体に圧接させなが
ら回転させることによって、効率よく短時間でブラシに
付着している異物を除去することができる。

【００５４】（２）また、本発明では、洗浄体が、ブラ
シを痛めることのない低摩擦係数の材質またはブラシを
痛めることのない低摩擦係数の金属膜を形成した表面と
することによって確実にブラシに付着している異物をブ
ラシを痛めることなく除去することができる。

【００５５】（３）さらに、本発明においては、上記
（１),（２）により、ブラシの清浄度が保たれ、ブラシ
それ自体の汚れによる被洗浄物への異物の再付着がなく
なり、製品の品質を向上することができる。

【００５６】（４）また、本発明によれば、バブリング
装置や超音波発生器などが不要となり、洗浄装置のコス
トを低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１によるフォトマスクを洗浄す
る洗浄装置における要部構成図である。

【図２】（ａ）は、本発明の実施例１による洗浄装置に
おけるフォトマスク支持部の側面図、（ｂ）は、その平
面図である。

【図３】（ａ）は、本発明の実施例１による洗浄装置に
おけるブラシ部の側面図、（ｂ）は、その底面図であ
る。

【図４】本発明の実施例２によるフォトマスクを洗浄す
る洗浄装置における要部構成図である。

【符号の説明】

１フォトマスク２洗浄装置３搭載台４支持用ピン５支持体５ａ支持体５ｂ支持体５ｃ支持体６回転用モータ６ａ回転用モータ６ｂ回転用モータ（回転手段）７洗浄液ノズル７ａ洗浄液ノズル７ｂ洗浄液ノズル（洗浄液供給手段）８ブラシ９洗浄槽９ａ洗浄槽１０洗浄体１１上下移動モータ（移動手段）１２ブラシ支持台

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者原睦美東京都千代田区大手町二丁目６番２号日立電子エンジニアリング株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ブラシスクラブ洗浄によって被洗浄物を
洗浄する洗浄装置であって、前記被洗浄物を洗浄するブ
ラシを洗浄する洗浄槽と、前記洗浄槽の下部に設けら
れ、前記ブラシを洗浄する洗浄体と、前記ブラシを前記
洗浄体に圧接する移動手段と、前記ブラシを回転させる
回転手段と、前記洗浄槽内に洗浄液を注入する洗浄液供
給手段とを設け、前記移動手段により洗浄液が満たされ
た前記洗浄槽内の前記洗浄体と前記ブラシとを圧接さ
せ、前記回転手段によって前記ブラシを回転させて洗浄
することを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】前記洗浄槽それ自体が、前記洗浄体であ
ることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】前記洗浄体が、前記ブラシを痛めない低
摩擦係数の材質よりなることを特徴とする請求項１また
は２記載の洗浄装置。