JPH0840954A - 2,2’−ビス(ハロメチル)−1,1’−ビナフチルの製造方法 - Google Patents
2,2’−ビス(ハロメチル)−1,1’−ビナフチルの製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/10—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
- C07C17/14—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms in the side-chain of aromatic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 2,2’−ビス(ハロメチル)−1,1’−
ビナフチルの製造方法。 【構成】 2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
を溶剤の存在下に、10 -5〜10-8mの波長の光の作用
下に−10〜120℃で遊離基形成剤の存在下にまたは
不存在下にハロゲン化剤と反応させる。 【効果】 この製法は、2,2’−ビス(クロロメチ
ル)−1,1’−ビナフチルまたは2,2’−ビス(ブ
ロモメチル)−1,1’−ビナフチルに制限されること
がなく、従来技術の欠点を有しておらず、簡単でありそ
して比較的に低温で実施することができ、所望の生成物
を良好な収率で且つ高選択率で製造することができる。
ビナフチルの製造方法。 【構成】 2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
を溶剤の存在下に、10 -5〜10-8mの波長の光の作用
下に−10〜120℃で遊離基形成剤の存在下にまたは
不存在下にハロゲン化剤と反応させる。 【効果】 この製法は、2,2’−ビス(クロロメチ
ル)−1,1’−ビナフチルまたは2,2’−ビス(ブ
ロモメチル)−1,1’−ビナフチルに制限されること
がなく、従来技術の欠点を有しておらず、簡単でありそ
して比較的に低温で実施することができ、所望の生成物
を良好な収率で且つ高選択率で製造することができる。
Description
【0001】
【発明の利用分野】本発明は2,2’−ビス(ハロメチ
ル)−1,1’−ビナフチル、特に2,2’−ビス(ク
ロロメチル)−1,1’−ビナフチルおよび2,2’−
ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチルの改善さ
れた製造方法に関する。
ル)−1,1’−ビナフチル、特に2,2’−ビス(ク
ロロメチル)−1,1’−ビナフチルおよび2,2’−
ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチルの改善さ
れた製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】2,2’−ビス(ハロメチル)−1,1’
−ビナフチルは、二官能性誘導体として、多数の種々の
有機化合物を製造するための価値ある出発原料である。
これらは例えばハロゲン原子の交換を伴う通例の反応に
よって相応するアルコール類、ニトリル類またはアミン
類に転化できる。これらの物質は二官能性化合物として
一方においてはポリエーテル、ポリエステル、エポキシ
樹脂またはポリウレタンの如き合成樹脂を製造するため
の構成成分として、そして他方においては潤滑剤、添加
物、安定剤または酸化防止剤のための成分として適して
いる。
−ビナフチルは、二官能性誘導体として、多数の種々の
有機化合物を製造するための価値ある出発原料である。
これらは例えばハロゲン原子の交換を伴う通例の反応に
よって相応するアルコール類、ニトリル類またはアミン
類に転化できる。これらの物質は二官能性化合物として
一方においてはポリエーテル、ポリエステル、エポキシ
樹脂またはポリウレタンの如き合成樹脂を製造するため
の構成成分として、そして他方においては潤滑剤、添加
物、安定剤または酸化防止剤のための成分として適して
いる。
【0003】2,2’−ビス(ハロメチル)−1,1’
−ビナフチルは有機リン化合物を製造するのに直接的に
使用することもできる。例えば2,2’−ビス(ブロモ
メチル)−1,1’−ビナフチルは2,2’−ビス(ジ
フェニルホスフィニルメチル)−1,1’−ビナフチル
を製造するための原料として使用することができる。純
粋な2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナ
フチルはメチルジフェニルホスフィニットと反応して、
JP(特開昭54−39059号公報またはC.A.9
1,91764vに記載されている通り、2,2’−ビ
ス(ジフェニルホスフィニルメチル)−1,1’−ビナ
フチルをもたらす。この生成物から還元反応によって
2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノメチル)−1,
1’−ビナフチル、即ち二座ホスフィン(ホスファン)
を製造することができる。この二座ホスフィンは、例え
ば金属錯塩によって触媒作用されるハロゲン化芳香族化
合物の結合反応において、触媒の配位子として使用され
る。
−ビナフチルは有機リン化合物を製造するのに直接的に
使用することもできる。例えば2,2’−ビス(ブロモ
メチル)−1,1’−ビナフチルは2,2’−ビス(ジ
フェニルホスフィニルメチル)−1,1’−ビナフチル
を製造するための原料として使用することができる。純
粋な2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナ
フチルはメチルジフェニルホスフィニットと反応して、
JP(特開昭54−39059号公報またはC.A.9
1,91764vに記載されている通り、2,2’−ビ
ス(ジフェニルホスフィニルメチル)−1,1’−ビナ
フチルをもたらす。この生成物から還元反応によって
2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノメチル)−1,
1’−ビナフチル、即ち二座ホスフィン(ホスファン)
を製造することができる。この二座ホスフィンは、例え
ば金属錯塩によって触媒作用されるハロゲン化芳香族化
合物の結合反応において、触媒の配位子として使用され
る。
【0004】2,2’−ビス(クロロメチル)−1,
1’−ビナフチルは、2,2’−ビス(ブロモメチル)
−1,1’−ビナフチルをジメチルホルムアミド中で過
剰の塩化リチウムと塩素−臭素交換反応を行うことによ
って製造される〔Chong等、J.Org.Che
m.58(1993)、1266〕。この方法は煩雑で
あり(溶剤としてのジメチルホルムアミド、水中での後
処理)そして、また、既にジハロゲン化された生成物─
─即ち相応する二臭素化生成物──である材料から出発
する。この原料は容易に入手することができない。更
に、この反応で後処理が困難で且つ廃棄場所に問題のあ
る塩化リチウムおよび臭化リチウムを含有する廃棄物質
が生じる。
1’−ビナフチルは、2,2’−ビス(ブロモメチル)
−1,1’−ビナフチルをジメチルホルムアミド中で過
剰の塩化リチウムと塩素−臭素交換反応を行うことによ
って製造される〔Chong等、J.Org.Che
m.58(1993)、1266〕。この方法は煩雑で
あり(溶剤としてのジメチルホルムアミド、水中での後
処理)そして、また、既にジハロゲン化された生成物─
─即ち相応する二臭素化生成物──である材料から出発
する。この原料は容易に入手することができない。更
に、この反応で後処理が困難で且つ廃棄場所に問題のあ
る塩化リチウムおよび臭化リチウムを含有する廃棄物質
が生じる。
【0005】2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,
1’−ビナフチルを製造するには、原料として2,2’
−ジメチル−1,1’−ビナフチルを使用しそしてメチ
ル基をN−ブロモスクシニミドを用いて臭素化し、2,
2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチルを
得る。文献に多数紹介されているように、遊離基形成剤
の存在下に沸点で、しかし光の作用なしに実施されるこ
の反応では、一般にテトラクロロメタンが溶剤として使
用されている〔M.E.Jung等、Tetrahed
ron Lett.29(1988)6199;H.
J.Bestmann等、Chem.Ber.107
(1974)2926;J.P.Mazaleyra
t、Chem.Commun.1985、317;T.
Hayashi等、J.Am.Chm.Soc.110
(1988)8153〕。
1’−ビナフチルを製造するには、原料として2,2’
−ジメチル−1,1’−ビナフチルを使用しそしてメチ
ル基をN−ブロモスクシニミドを用いて臭素化し、2,
2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチルを
得る。文献に多数紹介されているように、遊離基形成剤
の存在下に沸点で、しかし光の作用なしに実施されるこ
の反応では、一般にテトラクロロメタンが溶剤として使
用されている〔M.E.Jung等、Tetrahed
ron Lett.29(1988)6199;H.
J.Bestmann等、Chem.Ber.107
(1974)2926;J.P.Mazaleyra
t、Chem.Commun.1985、317;T.
Hayashi等、J.Am.Chm.Soc.110
(1988)8153〕。
【0006】テトラクロロメタンの比較的に低い沸点7
6.5℃のために、高温での反応は技術的に更に複雑で
ある加圧下でしか実施することができない。更に2,
2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチルの
収率は約60% であり、さほどに高いものでない。
6.5℃のために、高温での反応は技術的に更に複雑で
ある加圧下でしか実施することができない。更に2,
2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチルの
収率は約60% であり、さほどに高いものでない。
【0007】中でも未公開のドイツ特許出願第P430
8562.8にまで遡る未公開のヨーロッパ特許出願第
93,116,788.6には、2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルをベンゾイルパーオキシドの存在
下に、但し光の作用なしに、沸騰クロロベンゼン(沸
点:132℃)中でN−ブロモスクシニミドと反応させ
ることによる2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,
1’−ビナフチルの製法が開示されている。反応の終了
後に、溶剤を蒸発させ、残留物をエチルアセテートに取
りそして最初に10% 濃度のNa2 SO3 溶液で洗浄
し、次いで飽和Na2CO3 溶液でそして最後に飽和N
aCl溶液で洗浄する。乾燥しそして再結晶処理した後
に、収率は65% である。しかしながらこの方法は煩雑
であり(溶剤を蒸発処理し、残留物を他の溶剤に移しそ
してナトリウム塩水溶液でそれぞれ3回洗浄する)、更
に収率が未だ不十分なものであることが判っている。
8562.8にまで遡る未公開のヨーロッパ特許出願第
93,116,788.6には、2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルをベンゾイルパーオキシドの存在
下に、但し光の作用なしに、沸騰クロロベンゼン(沸
点:132℃)中でN−ブロモスクシニミドと反応させ
ることによる2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,
1’−ビナフチルの製法が開示されている。反応の終了
後に、溶剤を蒸発させ、残留物をエチルアセテートに取
りそして最初に10% 濃度のNa2 SO3 溶液で洗浄
し、次いで飽和Na2CO3 溶液でそして最後に飽和N
aCl溶液で洗浄する。乾燥しそして再結晶処理した後
に、収率は65% である。しかしながらこの方法は煩雑
であり(溶剤を蒸発処理し、残留物を他の溶剤に移しそ
してナトリウム塩水溶液でそれぞれ3回洗浄する)、更
に収率が未だ不十分なものであることが判っている。
【0008】
【発明が解決すべき課題】それ故に、一方の2,2’−
ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチルまたはも
う一方の2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−
ビナフチルの製法にだけ制限されることなく、更に一般
的に使用することもできる2,2’−ビス(ハロメチ
ル)−1,1’−ビナフチルの製造方法を開発する必要
がある。すなわちそのような方法は上述の欠点を有して
おらず、簡単でありそして比較的に低温で実施すること
を可能とするべきであり、所望の生成物を良好な収率で
且つ高選択率で製造することを可能とするべきである。
ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチルまたはも
う一方の2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−
ビナフチルの製法にだけ制限されることなく、更に一般
的に使用することもできる2,2’−ビス(ハロメチ
ル)−1,1’−ビナフチルの製造方法を開発する必要
がある。すなわちそのような方法は上述の欠点を有して
おらず、簡単でありそして比較的に低温で実施すること
を可能とするべきであり、所望の生成物を良好な収率で
且つ高選択率で製造することを可能とするべきである。
【0009】
【課題を解決するための手段】この課題は、2,2’−
ビス(ハロメチル)−1,1’−ビナフチルを下記の方
法によって製造することにより解決される。即ち、この
方法は、2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを
溶剤の存在下に、10-5〜10-8mの波長の光の作用下
に−10〜120℃で遊離基形成剤の存在下にまたは不
存在下にハロゲン化剤と反応させることを特徴とする。
ビス(ハロメチル)−1,1’−ビナフチルを下記の方
法によって製造することにより解決される。即ち、この
方法は、2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを
溶剤の存在下に、10-5〜10-8mの波長の光の作用下
に−10〜120℃で遊離基形成剤の存在下にまたは不
存在下にハロゲン化剤と反応させることを特徴とする。
【0010】有機化合物のハロゲン化の反応過程から、
一般に芳香族化合物の側鎖でのハロゲン化が光(昼光)
の存在下にかなりの高温(沸点)で一般的に実施され、
他方、環のハロゲン化は触媒を用いて低温で実施される
ことが知られている。
一般に芳香族化合物の側鎖でのハロゲン化が光(昼光)
の存在下にかなりの高温(沸点)で一般的に実施され、
他方、環のハロゲン化は触媒を用いて低温で実施される
ことが知られている。
【0011】この背景から見て、光の作用下での本発明
のハロゲン化が、比較的に低温または非常に低温であっ
ても芳香族環を言うに値する程にハロゲン化せず、2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルのメチル基──
即ち側鎖──を高い選択率でハロゲン化することは驚く
べきことである。しかしながらいずれの場合に選択され
た温度は個々のハロゲン化剤の反応性に依存していると
いう事実を考慮しなければならない。比較的に不反応性
のハロゲン化剤、例えばN−クロロスクシニミドは、比
較的に反応性のハロゲン化剤、例えば塩素、臭素または
N−ブロモスクシニミドよりも高い反応温度を必要とす
る。
のハロゲン化が、比較的に低温または非常に低温であっ
ても芳香族環を言うに値する程にハロゲン化せず、2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルのメチル基──
即ち側鎖──を高い選択率でハロゲン化することは驚く
べきことである。しかしながらいずれの場合に選択され
た温度は個々のハロゲン化剤の反応性に依存していると
いう事実を考慮しなければならない。比較的に不反応性
のハロゲン化剤、例えばN−クロロスクシニミドは、比
較的に反応性のハロゲン化剤、例えば塩素、臭素または
N−ブロモスクシニミドよりも高い反応温度を必要とす
る。
【0012】一般に、使用される溶剤の量は重要ではな
い。しかしながら十分な量で使用するべきである。一般
に、2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルと溶剤
とは1:(3〜40)、好ましくは1:(4〜20)、
特に好ましくは1:(5〜15)の重量比で使用すれば
十分である。
い。しかしながら十分な量で使用するべきである。一般
に、2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルと溶剤
とは1:(3〜40)、好ましくは1:(4〜20)、
特に好ましくは1:(5〜15)の重量比で使用すれば
十分である。
【0013】使用される溶剤は一般に、反応条件に対し
て、即ち反応条件下でのハロゲン化剤の反応に対して不
活性であるかまたは殆ど不活性であるものである。使用
する溶剤は、モノクロロ−またはポリクロロベンゼン、
モノクロロ−またはポリクロロ脂肪族炭化水素、炭素原
子数1〜6の脂肪族カルボン酸と炭素原子数1〜4の脂
肪族アルコールとのエステルまたはこれらの混合物があ
る。
て、即ち反応条件下でのハロゲン化剤の反応に対して不
活性であるかまたは殆ど不活性であるものである。使用
する溶剤は、モノクロロ−またはポリクロロベンゼン、
モノクロロ−またはポリクロロ脂肪族炭化水素、炭素原
子数1〜6の脂肪族カルボン酸と炭素原子数1〜4の脂
肪族アルコールとのエステルまたはこれらの混合物があ
る。
【0014】適する溶剤には、例えばクロロホルム、テ
トラクロロメタン、ジクロロメタン、クロロベンゼン、
オルト−、メタ−およびパラ−ジクロロベンゼン、蟻酸
メチル、エチル蟻酸、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン
酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチ
ル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピルおよび酪酸
ブチルがある。これらの溶剤の混合物も使用することが
できる。非常に適する溶剤はクロロベンゼンおよび/ま
たはジクロロベンゼンである。クロロベンゼンが特に適
している。若干の場合には、上記の種類のエステル、特
に炭素原子数1〜3の脂肪族カルボン酸のメチル−およ
びエチルエステルを使用しても良好な結果が得られる。
トラクロロメタン、ジクロロメタン、クロロベンゼン、
オルト−、メタ−およびパラ−ジクロロベンゼン、蟻酸
メチル、エチル蟻酸、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン
酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチ
ル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピルおよび酪酸
ブチルがある。これらの溶剤の混合物も使用することが
できる。非常に適する溶剤はクロロベンゼンおよび/ま
たはジクロロベンゼンである。クロロベンゼンが特に適
している。若干の場合には、上記の種類のエステル、特
に炭素原子数1〜3の脂肪族カルボン酸のメチル−およ
びエチルエステルを使用しても良好な結果が得られる。
【0015】一般に2,2’−ジメチル−1,1’−ビ
ナフチルおよびハロゲン化剤は1:(1.5〜2.5)
のモル比で使用する。多くの場合には、2,2’−ジメ
チル−1,1’−ビナフチルとハロゲン化剤とを1:
(1.8〜2.3)、特に1:(1.9〜2.2)のモ
ル比で使用するのが有利である。
ナフチルおよびハロゲン化剤は1:(1.5〜2.5)
のモル比で使用する。多くの場合には、2,2’−ジメ
チル−1,1’−ビナフチルとハロゲン化剤とを1:
(1.8〜2.3)、特に1:(1.9〜2.2)のモ
ル比で使用するのが有利である。
【0016】使用するハロゲン化剤は塩素化剤または臭
素化剤である。一般的な塩素化剤または臭素化剤を用い
ることができる。かゝるハロゲン化剤の例には、塩素、
N−クロロスクシニミド、臭素、N−ブロモスクシニミ
ド、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン
または臭素化されたメルドリルム酸(Meldrum’
acid)がある。
素化剤である。一般的な塩素化剤または臭素化剤を用い
ることができる。かゝるハロゲン化剤の例には、塩素、
N−クロロスクシニミド、臭素、N−ブロモスクシニミ
ド、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン
または臭素化されたメルドリルム酸(Meldrum’
acid)がある。
【0017】多くの場合、ハロゲン化剤としてN−クロ
ロスクシニミドまたはN−ブロモスクシニミドを用いる
のが有利であることが判っている。N−クロロスクシニ
ミドまたはN−ブロモスクシニミドをハロゲン化剤とし
て使用する場合には、スクシニミドが何れの場合にもハ
ロゲン化の過程でN−クロロスクシニミドおよびN−ブ
ロモスクシニミドから反応生成物として生じる。スクシ
ニミドは、場合によっては反応混合物を含有する溶液を
冷却した後に、ろ過によって除くことができる。水で抽
出することによって生じたスクシニミドを除くことも可
能である。反応混合物を基準として10〜100重量%
の水が一般にこの目的で使用される。
ロスクシニミドまたはN−ブロモスクシニミドを用いる
のが有利であることが判っている。N−クロロスクシニ
ミドまたはN−ブロモスクシニミドをハロゲン化剤とし
て使用する場合には、スクシニミドが何れの場合にもハ
ロゲン化の過程でN−クロロスクシニミドおよびN−ブ
ロモスクシニミドから反応生成物として生じる。スクシ
ニミドは、場合によっては反応混合物を含有する溶液を
冷却した後に、ろ過によって除くことができる。水で抽
出することによって生じたスクシニミドを除くことも可
能である。反応混合物を基準として10〜100重量%
の水が一般にこの目的で使用される。
【0018】特に簡単で且つ同時に効果的なスクシニミ
ドの除去方法は、最初の段階でろ過によてそして第二段
階で水での抽出によって反応混合物から生じたスクシニ
ミドを分離することである。ここでは比較的に僅かな水
を使用し、従って僅かな排水しか生じない。
ドの除去方法は、最初の段階でろ過によてそして第二段
階で水での抽出によって反応混合物から生じたスクシニ
ミドを分離することである。ここでは比較的に僅かな水
を使用し、従って僅かな排水しか生じない。
【0019】本発明の方法は光の作用下に実施する。光
源は通例の紫外線照射器、例えば昼光ランプ、ドープ
(doped)−または非ドープ(undoped)水
銀灯または低圧水銀灯があり得る。
源は通例の紫外線照射器、例えば昼光ランプ、ドープ
(doped)−または非ドープ(undoped)水
銀灯または低圧水銀灯があり得る。
【0020】これらの光源は10-5〜10-8m、特に1
0-6〜2×10-7mのスペクトルを有している。これら
の範囲には反応に必要とされる光成分、特に紫外線成分
が含まれる。
0-6〜2×10-7mのスペクトルを有している。これら
の範囲には反応に必要とされる光成分、特に紫外線成分
が含まれる。
【0021】場合によっては、2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルとハロゲン化剤との反応を遊離基
形成剤の存在下に実施してもよい。実地においては、若
干の場合に遊離基形成剤(遊離基開始剤)を添加して光
の作用を補足するのが有利な結果をもたらし得る。適す
る遊離基形成剤には、遊離基ハロゲン化の為の通例の遊
離基形成剤、例えば有機系過酸化物、有機系過カルボン
酸、有機系ヒドロパーオキシドまたは有機系アゾ化合物
がある。適する遊離基形成剤の例にはベンゾイルパーオ
キシド、ベンゾイルパーヘキサデカノエートおよびアゾ
ビスイソブチロニトリルがある。
1,1’−ビナフチルとハロゲン化剤との反応を遊離基
形成剤の存在下に実施してもよい。実地においては、若
干の場合に遊離基形成剤(遊離基開始剤)を添加して光
の作用を補足するのが有利な結果をもたらし得る。適す
る遊離基形成剤には、遊離基ハロゲン化の為の通例の遊
離基形成剤、例えば有機系過酸化物、有機系過カルボン
酸、有機系ヒドロパーオキシドまたは有機系アゾ化合物
がある。適する遊離基形成剤の例にはベンゾイルパーオ
キシド、ベンゾイルパーヘキサデカノエートおよびアゾ
ビスイソブチロニトリルがある。
【0022】未反応の遊離基形成剤は、例えばNa2 S
O3 水溶液で洗浄することによって除くことができる。
遊離基形成剤は一般的な量で使用する。一般に、反応さ
せるべき2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを
基準として0.1〜5重量% 、特に0.5〜2重量% の
量で使用すること十分である。
O3 水溶液で洗浄することによって除くことができる。
遊離基形成剤は一般的な量で使用する。一般に、反応さ
せるべき2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを
基準として0.1〜5重量% 、特に0.5〜2重量% の
量で使用すること十分である。
【0023】既に冒頭に記載した通り、ハロゲン化は−
10〜120℃で実施する。多くの場合には、−5〜1
00℃、特に0〜80℃でハロゲン化を十分に進めるこ
とができることが判っている。
10〜120℃で実施する。多くの場合には、−5〜1
00℃、特に0〜80℃でハロゲン化を十分に進めるこ
とができることが判っている。
【0024】これに関連して、ハロゲン化を行う反応温
度が使用されるハロゲン化剤に依存して依存して変化す
ることを指摘しておく。比較的に不反応性のハロゲン化
剤は比較的に反応性のハロゲン化剤よりも高い温度でし
か2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルと反応し
ない。
度が使用されるハロゲン化剤に依存して依存して変化す
ることを指摘しておく。比較的に不反応性のハロゲン化
剤は比較的に反応性のハロゲン化剤よりも高い温度でし
か2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルと反応し
ない。
【0025】ハロゲン化剤として塩素化剤を使用する場
合には、25〜120℃、特に50〜100℃で反応を
実施するのが有利である。比較的に不反応性であるN−
クロロスクシニミドを用いる場合には、反応は5〜12
0℃、特に70〜100℃で実施する。
合には、25〜120℃、特に50〜100℃で反応を
実施するのが有利である。比較的に不反応性であるN−
クロロスクシニミドを用いる場合には、反応は5〜12
0℃、特に70〜100℃で実施する。
【0026】ハロゲン化剤として臭素化剤を使用する場
合には、本発明の方法を比較的にかなり低温で実施する
ことができる。一般に−10〜80℃で臭素化を十分に
実施することができる。多くの場合には、−5〜50
℃、特に0〜40℃の反応温度で十分であることが判っ
ている。
合には、本発明の方法を比較的にかなり低温で実施する
ことができる。一般に−10〜80℃で臭素化を十分に
実施することができる。多くの場合には、−5〜50
℃、特に0〜40℃の反応温度で十分であることが判っ
ている。
【0027】ハロゲン化剤として臭素を使用する場合に
は、10〜80℃、特に25〜75℃、特に35〜70
℃で反応を実施するのが有利である。N−ブロモスクシ
ニミドを使用する場合には、ハロゲン化を−10〜50
℃、殊に−5〜40℃、特に0〜30℃で実施して良好
な結果を得ることができる。
は、10〜80℃、特に25〜75℃、特に35〜70
℃で反応を実施するのが有利である。N−ブロモスクシ
ニミドを使用する場合には、ハロゲン化を−10〜50
℃、殊に−5〜40℃、特に0〜30℃で実施して良好
な結果を得ることができる。
【0028】ハロゲン化の後に得られる反応混合物を更
に後処理するには、ハロゲン化段階で最初に使用される
溶剤を他の溶剤に交換するのが有利である。これは、元
の溶剤が後処理の条件のもとで、例えば塩基性物質の作
用下に不活性でない場合に、特に必要とされる。この場
合にはハロゲン化の後の反応混合物に、初めに使用した
溶剤よりも高い温度で沸騰する別の溶剤を添加しそして
最初に使用した溶剤を場合によっては完全にまたは部分
的に留去する。
に後処理するには、ハロゲン化段階で最初に使用される
溶剤を他の溶剤に交換するのが有利である。これは、元
の溶剤が後処理の条件のもとで、例えば塩基性物質の作
用下に不活性でない場合に、特に必要とされる。この場
合にはハロゲン化の後の反応混合物に、初めに使用した
溶剤よりも高い温度で沸騰する別の溶剤を添加しそして
最初に使用した溶剤を場合によっては完全にまたは部分
的に留去する。
【0029】適する別の溶剤には芳香族炭化水素、例え
ばトルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレ
ン、これらキシレンの混合物、エチルベンゼンおよび/
またはメシチレン、および高沸点脂肪族炭化水素、例え
ば>100℃の沸点の石油エーテル、デカリン、リグロ
リンおよび/またはイソオクタンがある。溶剤交換を特
に静かな方法で実施する場合には、最初に使用した溶剤
を共沸下におよび/または減圧下に留去することができ
る。
ばトルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレ
ン、これらキシレンの混合物、エチルベンゼンおよび/
またはメシチレン、および高沸点脂肪族炭化水素、例え
ば>100℃の沸点の石油エーテル、デカリン、リグロ
リンおよび/またはイソオクタンがある。溶剤交換を特
に静かな方法で実施する場合には、最初に使用した溶剤
を共沸下におよび/または減圧下に留去することができ
る。
【0030】2,2’−ビス(ハロメチル)−1,1’
−ビナフチルを純粋生成物として単離しようとする場合
には、生じるスクシニミドを上記の通りろ過および水で
の抽出によって除き、反応混合物を乾燥しそして乾燥剤
をろ別する。最初に使用した溶剤を減圧下に後で除く。
2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチ
ルを純粋な状態で単離する場合には、反応混合物が熱的
に不安定であり50℃以上の温度で分解し始めるので、
最初に使用した溶剤の除去を<50℃の液相温度で実施
するべきである。2,2’−ビス(クロロメチル)−
1,1’−ビナフチルを純粋な状態で単離するために
は、最初に使用した溶剤を高温で、例えば約70℃まで
に殆ど問題なく除くことができる。一般に油状粘性のあ
る残留粗生成物を、溶剤、例えばトルエン、o−キシレ
ン、m−キシレン、p−キシレンまたはこれらの溶剤の
混合物に取りそして再結晶処理によって精製する。
−ビナフチルを純粋生成物として単離しようとする場合
には、生じるスクシニミドを上記の通りろ過および水で
の抽出によって除き、反応混合物を乾燥しそして乾燥剤
をろ別する。最初に使用した溶剤を減圧下に後で除く。
2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチ
ルを純粋な状態で単離する場合には、反応混合物が熱的
に不安定であり50℃以上の温度で分解し始めるので、
最初に使用した溶剤の除去を<50℃の液相温度で実施
するべきである。2,2’−ビス(クロロメチル)−
1,1’−ビナフチルを純粋な状態で単離するために
は、最初に使用した溶剤を高温で、例えば約70℃まで
に殆ど問題なく除くことができる。一般に油状粘性のあ
る残留粗生成物を、溶剤、例えばトルエン、o−キシレ
ン、m−キシレン、p−キシレンまたはこれらの溶剤の
混合物に取りそして再結晶処理によって精製する。
【0031】
【実施例】以下の実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に制限されない。
明するが、本発明はこれら実施例に制限されない。
【0032】実施例1 2,2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチ
ルの製造 湿気の排除下に282.4g (1.0mol)の2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルおよび280.
4g (2.1mol)のN−クロロスクシニミドを4L
のガラス製フラスコ中で1.7Lのクロロベンゼンに懸
濁させ、浸漬紫外線ランプ(UV immersion
lamp)を用いて70℃で16時間照射する。沈澱
したスクシニミドをろ別し、溶液をそれぞれ200ml
の水で2回抽出処理し、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過
しそして減圧下に濃縮する。55%の2,2’−ビス
(クロロメチル)−1,1’−ビナフチル、28% の2
−クロロメチル−2’−メチル−1,1’−ビナフチル
および10% の2−ジクロロメチル−2’−クロロメチ
ル−1,1’−ビナフチルおよび7% の詳細に同定して
ない生成物より成る組成(% はガスクロマトグラフィー
分析でのmol% である)を有する黄色味を帯びた褐色
の油状物350.0g が得られる。
ルの製造 湿気の排除下に282.4g (1.0mol)の2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルおよび280.
4g (2.1mol)のN−クロロスクシニミドを4L
のガラス製フラスコ中で1.7Lのクロロベンゼンに懸
濁させ、浸漬紫外線ランプ(UV immersion
lamp)を用いて70℃で16時間照射する。沈澱
したスクシニミドをろ別し、溶液をそれぞれ200ml
の水で2回抽出処理し、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過
しそして減圧下に濃縮する。55%の2,2’−ビス
(クロロメチル)−1,1’−ビナフチル、28% の2
−クロロメチル−2’−メチル−1,1’−ビナフチル
および10% の2−ジクロロメチル−2’−クロロメチ
ル−1,1’−ビナフチルおよび7% の詳細に同定して
ない生成物より成る組成(% はガスクロマトグラフィー
分析でのmol% である)を有する黄色味を帯びた褐色
の油状物350.0g が得られる。
【0033】転化率は使用した2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルを基準として100% であり、
2,2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチ
ルの収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
を基準として55% である。
1,1’−ビナフチルを基準として100% であり、
2,2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチ
ルの収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
を基準として55% である。
【0034】比較例1a 光の作用なしでの2,2’−ビス(クロロメチル)−
1,1’−ビナフチルの製造:湿気の排除下に282.
4g (1.0mol)の2,2’−ジメチル−1,1’
−ビナフチル、280.4g (2.1mol)のN−ク
ロロスクシニミドおよび500mgのベンゾイルパーオ
キシドを4Lのガラス製フラスコ中で1.7Lのクロロ
ベンゼンに懸濁させ、還流(132℃)下に16時間攪
拌する。沈澱したスクシニミドをろ別し、溶液をそれぞ
れ200mlの水で2回抽出処理しそして100mlの
Na2 SO3 溶液で1度抽出処理し、硫酸ナトリウムを
用いて乾燥し、ろ過しそして減圧下に濃縮する。38%
の2,2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフ
チル、35% の2−クロロメチル−2’−メチル−1,
1’−ビナフチルおよび8% の2−ジクロロメチル−
2’−クロロメチル−1,1’−ビナフチルより成る組
成(% はガスクロマトグラフィー分析でのmol% であ
る)を有する黄色味を帯びた褐色の油状物354.0g
が得られる。
1,1’−ビナフチルの製造:湿気の排除下に282.
4g (1.0mol)の2,2’−ジメチル−1,1’
−ビナフチル、280.4g (2.1mol)のN−ク
ロロスクシニミドおよび500mgのベンゾイルパーオ
キシドを4Lのガラス製フラスコ中で1.7Lのクロロ
ベンゼンに懸濁させ、還流(132℃)下に16時間攪
拌する。沈澱したスクシニミドをろ別し、溶液をそれぞ
れ200mlの水で2回抽出処理しそして100mlの
Na2 SO3 溶液で1度抽出処理し、硫酸ナトリウムを
用いて乾燥し、ろ過しそして減圧下に濃縮する。38%
の2,2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフ
チル、35% の2−クロロメチル−2’−メチル−1,
1’−ビナフチルおよび8% の2−ジクロロメチル−
2’−クロロメチル−1,1’−ビナフチルより成る組
成(% はガスクロマトグラフィー分析でのmol% であ
る)を有する黄色味を帯びた褐色の油状物354.0g
が得られる。
【0035】転化率は使用した2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルを基準として96% であり、2,
2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチルの
収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを基
準として37% である。
1,1’−ビナフチルを基準として96% であり、2,
2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチルの
収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを基
準として37% である。
【0036】比較例1b 光の作用下で、しかし130℃での2,2’−ビス(ク
ロロメチル)−1,1’−ビナフチルの製造:湿気の排
除下に282.4g (1.0mol)の2,2’−ジメ
チル−1,1’−ビナフチルおよび280.4g (2.
1mol)のN−クロロスクシニミドを4Lのガラス製
フラスコ中で1.7Lのクロロベンゼンに懸濁させ、浸
漬紫外線ランプを用いて130℃で16時間照射する。
沈澱したスクシニミドをろ別し、溶液をそれぞれ200
mlの水で2回抽出処理し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
ろ過しそして減圧下に濃縮する。47% の2,2’−ビ
ス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチル、22% の
2−クロロメチル−2’−メチル−1,1’−ビナフチ
ルおよび12% の2−ジクロロメチル−2’−クロロメ
チル−1,1’−ビナフチルおよび19% の詳細に同定
してない生成物より成る組成(% はガスクロマトグラフ
ィー分析でのmol% である)を有する黄色味を帯びた
褐色の油状物354.0g が得られる。
ロロメチル)−1,1’−ビナフチルの製造:湿気の排
除下に282.4g (1.0mol)の2,2’−ジメ
チル−1,1’−ビナフチルおよび280.4g (2.
1mol)のN−クロロスクシニミドを4Lのガラス製
フラスコ中で1.7Lのクロロベンゼンに懸濁させ、浸
漬紫外線ランプを用いて130℃で16時間照射する。
沈澱したスクシニミドをろ別し、溶液をそれぞれ200
mlの水で2回抽出処理し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
ろ過しそして減圧下に濃縮する。47% の2,2’−ビ
ス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチル、22% の
2−クロロメチル−2’−メチル−1,1’−ビナフチ
ルおよび12% の2−ジクロロメチル−2’−クロロメ
チル−1,1’−ビナフチルおよび19% の詳細に同定
してない生成物より成る組成(% はガスクロマトグラフ
ィー分析でのmol% である)を有する黄色味を帯びた
褐色の油状物354.0g が得られる。
【0037】転化率は使用した2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルを基準として100% であり、
2,2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチ
ルの収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
を基準として47% である。
1,1’−ビナフチルを基準として100% であり、
2,2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチ
ルの収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
を基準として47% である。
【0038】比較例1c 光の作用なしでの2,2’−ビス(クロロメチル)−
1,1’−ビナフチルの製造(実施例1と同様、しかし
遊離基形成剤を用いる):湿気の排除下に282.4g
(1.0mol)の2,2’−ジメチル−1,1’−ビ
ナフチル、280.4g (2.1mol)のN−クロロ
スクシニミドおよび500mgのベンゾイルパーオキシ
ドを4Lのガラス製フラスコ中で1.7Lのクロロベン
ゼンに懸濁させ、70℃で16時間攪拌する。次にサン
プルを取り、比較例1aに記載した様に後処理する。生
じる反応混合物のガスクロマトグラフィー分析によると
(mol% )、転化率は使用した2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルを基準として40% であり、2,
2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチルの
収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを基
準として18% である。
1,1’−ビナフチルの製造(実施例1と同様、しかし
遊離基形成剤を用いる):湿気の排除下に282.4g
(1.0mol)の2,2’−ジメチル−1,1’−ビ
ナフチル、280.4g (2.1mol)のN−クロロ
スクシニミドおよび500mgのベンゾイルパーオキシ
ドを4Lのガラス製フラスコ中で1.7Lのクロロベン
ゼンに懸濁させ、70℃で16時間攪拌する。次にサン
プルを取り、比較例1aに記載した様に後処理する。生
じる反応混合物のガスクロマトグラフィー分析によると
(mol% )、転化率は使用した2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルを基準として40% であり、2,
2’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビナフチルの
収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを基
準として18% である。
【0039】実施例2: 2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチ
ルの製造 湿気の排除下に282.4g (1.0mol)の2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルおよび373.
9g (2.1mol)のN−ブロモスクシニミドを4L
のガラス製フラスコ中で1.7Lのクロロベンゼンと混
合し、浸漬紫外線ランプを用いて5〜10℃で8時間、
攪拌下に照射する。沈澱したスクシニミドをろ別し、溶
液をそれぞれ200mlの水で2回抽出処理し、硫酸ナ
トリウムで乾燥しそしてろ過する。次いで20〜30℃
で減圧下に濃縮して、80±2mol% の2,2’−ビ
ス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチルを含有する
黄色味を帯びた褐色油状物440g が得られる。トルエ
ンでの結晶化処理で、146〜149℃の融点を有する
無色の結晶308g が得られる。転化率は使用した2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを基準として1
00% であり、単離される2,2’−ビス(ブロモメチ
ル)−1,1’−ビナフチルの収率は2,2’−ジメチ
ル−1,1’−ビナフチルを基準として70% である。
ルの製造 湿気の排除下に282.4g (1.0mol)の2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルおよび373.
9g (2.1mol)のN−ブロモスクシニミドを4L
のガラス製フラスコ中で1.7Lのクロロベンゼンと混
合し、浸漬紫外線ランプを用いて5〜10℃で8時間、
攪拌下に照射する。沈澱したスクシニミドをろ別し、溶
液をそれぞれ200mlの水で2回抽出処理し、硫酸ナ
トリウムで乾燥しそしてろ過する。次いで20〜30℃
で減圧下に濃縮して、80±2mol% の2,2’−ビ
ス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチルを含有する
黄色味を帯びた褐色油状物440g が得られる。トルエ
ンでの結晶化処理で、146〜149℃の融点を有する
無色の結晶308g が得られる。転化率は使用した2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルを基準として1
00% であり、単離される2,2’−ビス(ブロモメチ
ル)−1,1’−ビナフチルの収率は2,2’−ジメチ
ル−1,1’−ビナフチルを基準として70% である。
【0040】比較例2: ドイツ特許出願第P4308562.8に従って光の作
用なしでの2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’
−ビナフチルの製造:10.7g (60mmol)のN
−ブロモスクシニミドと100mg(30mmol)の
ベンゾイルパーオキサイドとの混合物を、100mlの
クロロベンゼン中の8.5g (30mmol)の2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルに沸点(132
℃)で還流下にすこしづつ添加する。添加終了後に、混
合物を沸点で更に1時間攪拌しそして溶剤を蒸発させ
る。残留物を50mlのエチルアセテートに取り、10
% 濃度のNa2 SO3 溶液、飽和Na2 SO3 溶液およ
び飽和NaCl溶液で各1回づつ洗浄する。MgSO3
を用いて乾燥した後に、溶液を濃縮する。これは13.
2g の黄色の油状物である。トルエンでの結晶化処理で
147〜149℃の融点を有する無色の結晶8.6g が
得られる。
用なしでの2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’
−ビナフチルの製造:10.7g (60mmol)のN
−ブロモスクシニミドと100mg(30mmol)の
ベンゾイルパーオキサイドとの混合物を、100mlの
クロロベンゼン中の8.5g (30mmol)の2,
2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルに沸点(132
℃)で還流下にすこしづつ添加する。添加終了後に、混
合物を沸点で更に1時間攪拌しそして溶剤を蒸発させ
る。残留物を50mlのエチルアセテートに取り、10
% 濃度のNa2 SO3 溶液、飽和Na2 SO3 溶液およ
び飽和NaCl溶液で各1回づつ洗浄する。MgSO3
を用いて乾燥した後に、溶液を濃縮する。これは13.
2g の黄色の油状物である。トルエンでの結晶化処理で
147〜149℃の融点を有する無色の結晶8.6g が
得られる。
【0041】転化率は使用した2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルを基準として100% であり、単
離される2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−
ビナフチルの収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビ
ナフチルを基準として65% である。
1,1’−ビナフチルを基準として100% であり、単
離される2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−
ビナフチルの収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビ
ナフチルを基準として65% である。
【0042】実施例3: 2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチ
ルの製造:湿気の排除下に且つ窒素雰囲気で、282.
4g (1.0mol)の2,2’−ジメチル−1,1’
−ビナフチルを、下流アルカリ排気洗浄器を備えた4L
のガラス製フラスコ中で2.5Lのクロロベンゼンに溶
解する。25℃において、浸漬紫外線ランプを用いての
照射下に、383.5g (2.4mol)の臭素を、反
応溶液が再び直接に脱色される様に滴加する(期間:2
〜3時間)。全部で5時間の照射時間の後に、溶液を次
に各500mlの半飽和NaHCO3 溶液で2回そして
500mlの水で1回抽出処理し、硫酸ナトリウムを用
いて乾燥し、ろ過しそして減圧下に濃縮する。65% の
2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチ
ル、12% の2−ブロモメチル−2’−メチル−1,
1’−ビナフチルおよび10% の2−ジブロモメチル−
2’−クロロメチル−1,1’−ビナフチルより成る組
成(% はガスクロマトグラフィー分析でのmol% であ
る)を有する黄色味を帯びた褐色の油状物440.0g
が得られる。
ルの製造:湿気の排除下に且つ窒素雰囲気で、282.
4g (1.0mol)の2,2’−ジメチル−1,1’
−ビナフチルを、下流アルカリ排気洗浄器を備えた4L
のガラス製フラスコ中で2.5Lのクロロベンゼンに溶
解する。25℃において、浸漬紫外線ランプを用いての
照射下に、383.5g (2.4mol)の臭素を、反
応溶液が再び直接に脱色される様に滴加する(期間:2
〜3時間)。全部で5時間の照射時間の後に、溶液を次
に各500mlの半飽和NaHCO3 溶液で2回そして
500mlの水で1回抽出処理し、硫酸ナトリウムを用
いて乾燥し、ろ過しそして減圧下に濃縮する。65% の
2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチ
ル、12% の2−ブロモメチル−2’−メチル−1,
1’−ビナフチルおよび10% の2−ジブロモメチル−
2’−クロロメチル−1,1’−ビナフチルより成る組
成(% はガスクロマトグラフィー分析でのmol% であ
る)を有する黄色味を帯びた褐色の油状物440.0g
が得られる。
【0043】転化率は使用した2,2’−ジメチル−
1,1’−ビナフチルを基準として100% であり、
2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチ
ルの収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
を基準として65% である。
1,1’−ビナフチルを基準として100% であり、
2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチ
ルの収率は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
を基準として65% である。
フロントページの続き (72)発明者 ホルスト・レーシエルト ドイツ連邦共和国、55437 オーバー− ヒルベルスハイム、アム・プフィングスト ボルン、16
Claims (17)
- 【請求項1】 2,2’−ビス(ハロメチル)−1,
1’−ビナフチルを製造するに当たって、2,2’−ジ
メチル−1,1’−ビナフチルを溶剤の存在下に、10
-5〜10-8mの波長の光の作用下に−10〜120℃で
遊離基形成剤の存在下にまたは不存在下にハロゲン化剤
と反応させることを特徴とする、上記方法。 - 【請求項2】 2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフ
チルと溶剤とを1:(3〜40)、好ましくは1:(4
〜20)、特に好ましくは1:(5〜15)の重量比で
使用する請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフ
チルを、反応条件に対して不活性である溶剤中で反応さ
せる、請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 溶剤がモノクロロ−またはポリクロロベ
ンゼン、モノクロロ−またはポリクロロ脂肪族炭化水
素、炭素原子数1〜6の脂肪族カルボン酸と炭素原子数
1〜4の脂肪族アルコールとのエステルである請求項1
〜3のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項5】 使用する溶剤がジクロロメタン、クロロ
ベンゼンおよび/またはジクロロベンゼンである請求項
1〜4のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項6】 使用する溶剤がクロロベンゼンおよび/
またはジクロロベンゼンである請求項1〜5のいずれか
一つに記載の方法。 - 【請求項7】 使用する溶剤がクロロベンゼンである請
求項1〜6のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項8】 2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフ
チルとハロゲン化剤とを1:(1.5〜2.5)、特に
1:(1.8〜2.3)、特に好ましくは1:(1.9
〜2.2)のモル比で使用する請求項1〜7のいずれか
一つに記載の方法。 - 【請求項9】 使用するハロゲン化剤が塩素化剤または
臭素化剤である請求項1〜8のいずれか一つに記載の方
法。 - 【請求項10】 使用するハロゲン化剤が塩素、N−ク
ロロスクシニミド、臭素、N−ブロモスクシニミド、
1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントインまた
は臭素化メルドルム酸である請求項1〜9のいずれか一
つに記載の方法。 - 【請求項11】 使用するハロゲン化剤がN−クロロス
クシニミド、臭素またはN−ブロモスクシニミドである
請求項1〜10のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項12】 使用する光源が慣用の紫外線照射器で
ある請求項1〜11のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項13】 遊離基形成剤が有機系過酸化物、パー
オキシカルボン酸、有機系ヒドロパーオキシドまたは有
機系アゾ化合物である請求項1〜12のいずれか一つに
記載の方法。 - 【請求項14】 使用する遊離基形成剤がベンゾイルパ
ーオキシド、ベンゾイルパーヘキサデカノエートまたは
アゾビスイソブチロニトリルである請求項1〜13のい
ずれか一つに記載の方法。 - 【請求項15】 2,2’−ジメチル−1,1’−ビナ
フチルをハロゲン化剤と−5〜100℃で、特に0〜8
0℃で反応させる請求項1〜14のいずれか一つに記載
の方法。 - 【請求項16】 2,2’−ジメチル−1,1’−ビナ
フチルを塩素化剤と25〜120℃で、特に70〜10
0℃で反応させる請求項1〜15のいずれか一つに記載
の方法。 - 【請求項17】 2,2’−ジメチル−1,1’−ビナ
フチルを臭素化剤と−10〜80℃で、好ましくは−5
〜50℃、特に好ましくは0〜40℃で反応させる請求
項1〜16のいずれか一つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4409974 | 1994-03-23 | ||
| DE4433296A DE4433296A1 (de) | 1994-03-23 | 1994-09-19 | Verfahren zur Herstellung von 2,2'-Bis(halogenmethyl)-1,1'-binaphthyl |
| DE4433296:3 | 1994-09-19 | ||
| DE4409974:6 | 1994-09-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0840954A true JPH0840954A (ja) | 1996-02-13 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7063090A Pending JPH0840954A (ja) | 1994-03-23 | 1995-03-22 | 2,2’−ビス(ハロメチル)−1,1’−ビナフチルの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5502261A (ja) |
| EP (1) | EP0675095B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0840954A (ja) |
| AT (1) | ATE178040T1 (ja) |
| AU (1) | AU702642B2 (ja) |
| CA (1) | CA2145253A1 (ja) |
| ES (1) | ES2133606T3 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006093269A1 (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-08 | Kyoto University | 光学活性アンモニウム塩化合物、その製造中間体および製造方法 |
| JP2010229130A (ja) * | 1999-06-04 | 2010-10-14 | Nagase & Co Ltd | 軸不斉を有する光学活性な4級アンモニウム塩、その製法およびα−アミノ酸誘導体の不斉合成への応用 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19547249A1 (de) * | 1995-12-18 | 1997-06-19 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von aromatischen (Bromalkyl)-substituierten Kohlenwasserstoffverbindungen |
| TWI222433B (en) | 1998-10-20 | 2004-10-21 | Nippon Catalytic Chem Ind | Method for production of halogen-containing aromatic compound |
| AU5472500A (en) * | 1999-06-11 | 2001-01-02 | Merck & Co., Inc. | Process for the synthesis of 3,5-bis(trifluoromethyl)-bromobenzene |
| US6255545B1 (en) | 1999-06-11 | 2001-07-03 | Merck & Co., Inc. | Process for the synthesis of 3,5-bis(trifluoromethyl)-bromobenzene |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5439059A (en) | 1977-08-26 | 1979-03-24 | Nitto Riken Kogyo Kk | Production and use of novel phosphine compound |
| US4329525A (en) * | 1978-02-21 | 1982-05-11 | The Lummus Company | Production of chlorinated compounds by use of molten salts |
| DE3132692A1 (de) * | 1981-08-19 | 1983-03-17 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur halogenierung von organischen verbindungen |
| US4950817A (en) * | 1988-03-19 | 1990-08-21 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for the preparation of 4,4'-dihalobiphenyls |
| IL86365A (en) * | 1988-05-12 | 1992-07-15 | Stephen Daren | Process for the production of halomethyl phenethyl bromides and halomethylstyrenes |
| DE4308562A1 (de) | 1993-03-18 | 1994-09-22 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von aromatischen Brommethyl-Verbindungen |
| IT1263960B (it) * | 1993-02-24 | 1996-09-05 | Enichem Sintesi | Procedimento per la fotoclorurazione di composti alchilaromatici |
-
1995
- 1995-03-13 AT AT95103583T patent/ATE178040T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-03-13 EP EP95103583A patent/EP0675095B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-13 ES ES95103583T patent/ES2133606T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-17 AU AU14938/95A patent/AU702642B2/en not_active Ceased
- 1995-03-21 US US08/408,057 patent/US5502261A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-03-22 JP JP7063090A patent/JPH0840954A/ja active Pending
- 1995-03-22 CA CA002145253A patent/CA2145253A1/en not_active Abandoned
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010229130A (ja) * | 1999-06-04 | 2010-10-14 | Nagase & Co Ltd | 軸不斉を有する光学活性な4級アンモニウム塩、その製法およびα−アミノ酸誘導体の不斉合成への応用 |
| WO2006093269A1 (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-08 | Kyoto University | 光学活性アンモニウム塩化合物、その製造中間体および製造方法 |
| US8367820B2 (en) | 2005-03-03 | 2013-02-05 | Nippon Soda Co., Ltd. | Optically active ammonium salt compound, production intermediate thereof, and production method thereof |
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| AU1493895A (en) | 1995-10-05 |
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| US5502261A (en) | 1996-03-26 |
| CA2145253A1 (en) | 1995-09-24 |
| EP0675095B1 (de) | 1999-03-24 |
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|---|---|---|---|
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