JPH0841335A - Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide - Google Patents
Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguideInfo
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- JPH0841335A JPH0841335A JP17675894A JP17675894A JPH0841335A JP H0841335 A JPH0841335 A JP H0841335A JP 17675894 A JP17675894 A JP 17675894A JP 17675894 A JP17675894 A JP 17675894A JP H0841335 A JPH0841335 A JP H0841335A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、アクティブ光導波路用
組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及び
アクティブ光導波路に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition for active optical waveguide, a method for producing an active optical waveguide using the same, and an active optical waveguide.
【0002】[0002]
【従来の技術】オプトエレクトロニクスIC(OEI
C)における光導波路には、従来からLiNbO3、L
iTaO3、PLZT、Sr2Nb2O7等の無機材料が用
いられている。しかしながら、これらの材料は潮解性や
低い被破壊しきい値、さらには高誘電率のため応答速度
が遅く、そのため適用できる周波数帯域が限定される問
題点がある。これに対して有機高分子材料は、一般に潮
解性もなく被破壊しきい値が高いなど無機材料に比べて
優れているが、このような高分子材料は一般には配向性
がなく、このままでは電気光学効果を利用した光スイッ
チや変調素子等の材料として用いることができない。一
般に配向性のない高分子材料に対し、加熱しながら直流
電場を印加し配向させる、すなわち、ポーリング処理に
より電気光学効果を発現させる手法が用いられるが、ポ
ーリング後常温に戻し放置すること及び使用することに
よって配向が失われ、電気光学効果が消失する重大な問
題点がある。従来、高分子系光導波路材料としてポリメ
チルメタクリレート(PMMA)などが精力的に研究さ
れているが、ガラス転移温度(Tg)が150℃程度と低
くOEIC製造中にかかる200℃以上の温度において
ポーリングによって発現した配向性が完全に消失する問
題点がある。2. Description of the Related Art Optoelectronic ICs (OEI)
The optical waveguide in C) is conventionally made of LiNbO 3 , L
Inorganic materials such as iTaO 3 , PLZT, Sr 2 Nb 2 O 7 are used. However, these materials have a problem that the response speed is slow due to deliquescent property, low threshold value for destruction, and high dielectric constant, which limits the applicable frequency band. On the other hand, organic polymer materials are generally superior to inorganic materials in that they have no deliquescent property and have a high threshold value for destruction, but such polymer materials generally have no orientation, and as-is It cannot be used as a material for optical switches and modulators that utilize the optical effect. In general, a polymer material having no orientation is applied with a DC electric field while being heated to orient, that is, a method of expressing an electro-optical effect by a poling treatment is used. As a result, the orientation is lost and the electro-optic effect is lost, which is a serious problem. Conventionally, polymethylmethacrylate (PMMA), etc., has been vigorously studied as a polymer-based optical waveguide material, but the glass transition temperature (Tg) is as low as about 150 ° C, and poling is performed at a temperature of 200 ° C or higher required during OEIC manufacturing. However, there is a problem that the orientation generated by the above is completely lost.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、耐熱
性、電気光学効果に優れ、広い周波数帯域に適用できる
アクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ
光導波路の製造法及びアクティブ光導波路を提供するも
のである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of the prior art as described above, and is excellent in heat resistance and electro-optical effect and for an active optical waveguide applicable to a wide frequency band. The present invention provides a composition, a method for producing an active optical waveguide using the composition, and an active optical waveguide.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、フッ素化ポリ
アミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用
組成物であって、電気光学材料が一般式(I)The present invention is a composition for an active optical waveguide containing a fluorinated polyamic acid and an electro-optical material, wherein the electro-optical material has the general formula (I).
【化6】 (式中、R1は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化
水素基、複素環基又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、
R2は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化水素基、
複素環基、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、特性
基(カルバモイル基、カルボキシル基及びそのアルキル
エステル、シアノ基、ヒドロキシ基、オキシ基、ハロゲ
ン基、アシルアミノ基)又は水素原子を示し、R1とR2
とで炭化水素環又は複素環を形成していてもよく、R1
及びR2は各々独立にNHR3基に対して、シス又はトラ
ンスのいずれの位置でもよく、R3は1価の置換若しく
は非置換の芳香族炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水
素基、脂環式炭化水素基、特性基(アシル基、ベンゾイ
ル基、ヒドロキシ基、スルホニル基)又は水素原子を示
し、COR4は置換若しくは非置換のカルバモイル基又
はカルボキシル基若しくはそのアルキルエステルを示
す)で表されるα−アミノアクリル酸誘導体であるアク
ティブ光導波路用組成物に関する。[Chemical 6] (In the formula, R 1 represents a monovalent substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, heterocyclic group or unsaturated aliphatic hydrocarbon group,
R 2 is a monovalent substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group,
Heterocyclic group, aliphatic hydrocarbon group, alicyclic hydrocarbon group, characteristic group (carbamoyl group, carboxyl group and its alkyl ester, cyano group, hydroxy group, oxy group, halogen group, acylamino group) or hydrogen atom , R 1 and R 2
And may form a hydrocarbon ring or a heterocycle, and R 1
And R 2 may each independently be at any position of cis or trans with respect to the NHR 3 group, and R 3 is a monovalent substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, heterocyclic group or aliphatic hydrocarbon group. , An alicyclic hydrocarbon group, a characteristic group (acyl group, benzoyl group, hydroxy group, sulfonyl group) or a hydrogen atom, and COR 4 represents a substituted or unsubstituted carbamoyl group, a carboxyl group or an alkyl ester thereof. The present invention relates to a composition for an active optical waveguide which is an α-aminoacrylic acid derivative represented.
【0005】また、本発明は、上記アクティブ光導波路
用組成物中のフッ素化ポリアミド酸を、イミド閉環して
フッ素化ポリイミドとし、電気光学材料を配向させるこ
とを特徴とするアクティブ光導波路の製造法に関する。Further, according to the present invention, the method for producing an active optical waveguide is characterized in that the fluorinated polyamic acid in the composition for active optical waveguide is imide ring-closed to give a fluorinated polyimide, and the electro-optical material is oriented. Regarding
【0006】また、本発明は、上記アクティブ光導波路
の製造法により製造されたアクティブ光導波路に関す
る。The present invention also relates to an active optical waveguide manufactured by the method for manufacturing an active optical waveguide described above.
【0007】以下本発明を詳細に説明する。本発明に用
いられるフッ素化ポリアミド酸は、フルオロ基、フルオ
ロアルキル基等を有するポリアミド酸であり通常のポリ
アミド酸の製造と同様な条件で製造でき、一般的にはN
−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトア
ミド、N,N−ジメチルホルムアミドなどの極性有機溶
媒中で、少なくとも一方がフルオロ基、フルオロアルキ
ル基で置換されたジアミンとテトラカルボン酸又はその
誘導体とを反応させて製造することができる。フルオロ
基、フルオロアルキル基等で置換されたジアミンとして
は、例えば、3−フルオロ−1、2−フェニレンジアミ
ン、4−フルオロ−1、2−フェニレンジアミン、3、
4−ジフルオロ−1、2−フェニレンジアミン、3−フ
ルオロ−1、3−フェニレンジアミン、4−フルオロ−
1、3−フェニレンジアミン、3、4−ジフルオロ−
1、3−フェニレンジアミン、3−フルオロ−1、4−
フェニレンジアミン、4−フルオロ−1、4−フェニレ
ンジアミン、3、4−ジフルオロ−1、4−フェニレン
ジアミン、3−トリフルオロメチル−1、2−フェニレ
ンジアミン、4−トリフルオロメチル−1、2−フェニ
レンジアミン、3−トリフルオロメチル−1、3−フェ
ニレンジアミン、4−トリフルオロメチル−1、3−フ
ェニレンジアミン、3−トリフルオロメチル−1、4−
フェニレンジアミン、4−トリフルオロメチル−1、4
−フェニレンジアミン、2、2′−(ビストリフルオロ
メチル)−4、4′−ジアミノビフェニル、2、2′−
ジフルオロ−4、4′−ジアミノビフェニル等が挙げら
れる。The present invention will be described in detail below. The fluorinated polyamic acid used in the present invention is a polyamic acid having a fluoro group, a fluoroalkyl group, etc., and can be produced under the same conditions as in the production of ordinary polyamic acid.
In a polar organic solvent such as -methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide and the like, a diamine and tetracarboxylic acid or a derivative thereof, at least one of which is substituted with a fluoro group or a fluoroalkyl group Can be reacted to produce. Examples of the diamine substituted with a fluoro group, a fluoroalkyl group, and the like include, for example, 3-fluoro-1,2-phenylenediamine, 4-fluoro-1,2-phenylenediamine, 3,
4-difluoro-1,2-phenylenediamine, 3-fluoro-1,3-phenylenediamine, 4-fluoro-
1,3-phenylenediamine, 3,4-difluoro-
1,3-phenylenediamine, 3-fluoro-1,4-
Phenylenediamine, 4-fluoro-1,4-phenylenediamine, 3,4-difluoro-1,4-phenylenediamine, 3-trifluoromethyl-1,2-phenylenediamine, 4-trifluoromethyl-1,2- Phenylenediamine, 3-trifluoromethyl-1,3-phenylenediamine, 4-trifluoromethyl-1,3-phenylenediamine, 3-trifluoromethyl-1,4-
Phenylenediamine, 4-trifluoromethyl-1,4
-Phenylenediamine, 2,2 '-(bistrifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-
Difluoro-4,4'-diaminobiphenyl and the like can be mentioned.
【0008】またフルオロ基、フルオロアルキル基等で
置換されたテトラカルボン酸やその誘導体としての酸無
水物、酸塩化物、エステル化物としては、例えば、1−
フルオロピロメリット酸、1、4−ジフルオロピロメリ
ット酸、1−トリフルオロメチルピロメリット酸、2、
2−ビス(2、3−ジカルボキシフェニル)−ヘキサフ
ルオロプロパン、1、4−ビス(3、4−ジカルボキシ
トリフルオロフェノキシ)テトラフルオロベンゼン、
2、2′−ジフルオロ−3、3′、4、4′−ビフェニ
ルテトラカルボン酸、2、2′−ビス(トリフルオロメ
チル)−3、3′、4、4′−ビフェニルテトラカルボ
ン酸やこれらの酸無水物、酸塩化物、エステル化物等が
挙げられる。なお、上記以外のフルオロ基、フルオロア
ルキル基等で置換されていないジアミンやテトラカルボ
ン酸及びその誘導体を本発明の目的を阻害しない範囲で
用いてもよい。The tetracarboxylic acid substituted with a fluoro group, a fluoroalkyl group or the like, or an acid anhydride, an acid chloride or an ester compound as a derivative thereof is, for example, 1-
Fluoropyromellitic acid, 1,4-difluoropyromellitic acid, 1-trifluoromethylpyromellitic acid, 2,
2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -hexafluoropropane, 1,4-bis (3,4-dicarboxytrifluorophenoxy) tetrafluorobenzene,
2,2'-difluoro-3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid and these Acid anhydrides, acid chlorides, ester compounds, and the like. It should be noted that diamines or tetracarboxylic acids and their derivatives which are not substituted with fluoro groups, fluoroalkyl groups and the like other than the above may be used within the range not impairing the object of the present invention.
【0009】本発明におけるフッ素化ポリアミド酸は、
電気光学効果、耐熱性等の点から、イミド閉環してフッ
素化ポリイミドとなった時、屈折率が1.4〜1.9
(589nm)、誘電率が2.6〜3.5(1MHz)及び
ガラス転移温度(Tg)が300℃以上となるものが好ま
しい。The fluorinated polyamic acid in the present invention is
From the viewpoint of electro-optical effect, heat resistance, etc., when the imide ring-closes to give a fluorinated polyimide, the refractive index is 1.4 to 1.9.
(589 nm), a dielectric constant of 2.6 to 3.5 (1 MHz) and a glass transition temperature (Tg) of 300 ° C. or higher are preferable.
【0010】本発明におけるフッ素化ポリアミド酸は、
電気光学効果、耐熱性等の点から、式(II−1)The fluorinated polyamic acid in the present invention is
From the viewpoint of electro-optic effect, heat resistance, etc., formula (II-1)
【化7】 で表される繰り返し単位及び式(II−2)[Chemical 7] A repeating unit represented by the formula (II-2)
【化8】 で表される繰り返し単位の少なくとも1つと式(III−
1)Embedded image Of at least one repeating unit represented by the formula (III-
1)
【化9】 で表される繰り返し単位及び式(III−2)[Chemical 9] A repeating unit represented by the formula (III-2)
【化10】 で表される繰り返し単位の少なくとも1つとを有するフ
ッ素化ポリアミド酸であることが好ましい。[Chemical 10] A fluorinated polyamic acid having at least one repeating unit represented by
【0011】フッ素化ポリアミド酸中に前記式(II−
1)で表される繰り返し単位又は前記式(II−2)で表
される繰り返し単位を与えるには、例えば、ジアミンと
して2,2′−(ビストリフルオロメチル)−4,4′
−ジアミノビフェニルを用い、テトラカルボン酸無水物
としてピロメリット酸無水物を用いればよい。The above formula (II-
To provide the repeating unit represented by 1) or the repeating unit represented by the formula (II-2), for example, 2,2 ′-(bistrifluoromethyl) -4,4 ′ as a diamine
-Diaminobiphenyl may be used, and pyromellitic acid anhydride may be used as the tetracarboxylic acid anhydride.
【0012】フッ素化ポリアミド酸中に前記式(III−
1)で表される繰り返し単位又は前記式(III−2)で
表される繰り返し単位を与えるには、例えば、ジアミン
として2,2′−(ビストリフルオロメチル)−4,
4′−ジアミノビフェニルを用い、テトラカルボン酸無
水物として2,2′−ビス(トリフルオロメチル)−
3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸無水
物を用いればよい。[0012] The above formula (III-
To provide the repeating unit represented by 1) or the repeating unit represented by the above formula (III-2), for example, 2,2 ′-(bistrifluoromethyl) -4, as a diamine,
4,2'-bis (trifluoromethyl)-as a tetracarboxylic acid anhydride using 4'-diaminobiphenyl
3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride may be used.
【0013】本発明におけるフッ素化ポリアミド酸をイ
ミド閉環させることにより得られるフッ素化ポリイミド
の屈折率は、使用するジアミンやテトラカルボン酸及び
その誘導体の種類と使用量を適宜選択することにより容
易に調整することができる。例えば、フッ素化ポリアミ
ド酸において前記式(II−1)で表される繰り返し単位
又は前記式(II−2)で表される繰り返し単位の含有量
を増やすと、得られるフッ素化ポリイミドの屈折率を増
大させることができる。一方、フッ素化ポリアミド酸に
おいて前記式(III−1)で表される繰り返し単位又は
前記式(III−2)で表される繰り返し単位の含有量を
増やすと、得られるフッ素化ポリイミドの屈折率を減少
させることができる。The refractive index of the fluorinated polyimide obtained by subjecting the fluorinated polyamic acid in the present invention to imide ring closure can be easily adjusted by appropriately selecting the type and amount of the diamine or tetracarboxylic acid and its derivative to be used. can do. For example, when the content of the repeating unit represented by the formula (II-1) or the repeating unit represented by the formula (II-2) in the fluorinated polyamic acid is increased, the refractive index of the obtained fluorinated polyimide is increased. Can be increased. On the other hand, when the content of the repeating unit represented by the formula (III-1) or the repeating unit represented by the formula (III-2) in the fluorinated polyamic acid is increased, the refractive index of the obtained fluorinated polyimide is increased. Can be reduced.
【0014】本発明においては、ジアミンやテトラカル
ボン酸又はその誘導体は、単一で用いるばかりでなく、
複数のジアミンやテトラカルボン酸又はその誘導体を組
み合わせて用いることができる。その場合は、複数又は
単一のジアミンのモル数の合計と複数または単一のテト
ラカルボン酸又はその誘導体のモル数の合計が等しいか
ほぼ等しくなるようにすることが好ましい。ジアミンと
テトラカルボン酸又はその誘導体の反応により得られた
フッ素化ポリアミド酸の溶液において、その溶液の固形
分濃度は5〜40重量%、特に10〜25重量%である
ことが好ましい。また、フッ素化ポリアミド酸は、固形
分濃度15重量%のとき、そのN−メチル−2−ピロリ
ドン溶液の回転粘度(20℃)が、2000〜8000
mPa・sであるものが好ましく、4000〜6000mPa・s
であるものがより好ましい。In the present invention, the diamine, tetracarboxylic acid or its derivative is not only used alone but
A plurality of diamines, tetracarboxylic acids or their derivatives can be used in combination. In that case, it is preferable that the total number of moles of a plurality or single diamine and the total number of moles of a plurality or single tetracarboxylic acid or its derivative are equal or almost equal. In the solution of the fluorinated polyamic acid obtained by the reaction of the diamine and the tetracarboxylic acid or its derivative, the solid content concentration of the solution is preferably 5 to 40% by weight, particularly 10 to 25% by weight. Further, when the solid content concentration of the fluorinated polyamic acid is 15% by weight, the N-methyl-2-pyrrolidone solution has a rotational viscosity (20 ° C.) of 2000 to 8000.
It is preferably mPa · s, 4000 to 6000 mPa · s
Is more preferable.
【0015】本発明におけるフッ素化ポリイミドは、電
気光学効果、耐熱性等の点から、下記式(II)The fluorinated polyimide of the present invention has the following formula (II) from the viewpoint of electro-optical effect, heat resistance and the like.
【化11】 で表される繰り返し単位及び下記式(III)[Chemical 11] And a repeating unit represented by the following formula (III)
【化12】 で表される繰り返し単位を有するフッ素化ポリイミドで
あることが好ましい。[Chemical 12] A fluorinated polyimide having a repeating unit represented by
【0016】本発明における電気光学材料は、耐熱性及
び電気光学効果の点から一般式(I)The electro-optic material in the present invention has the general formula (I) in view of heat resistance and electro-optic effect.
【化13】 (式中、R1は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化
水素基、複素環基又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、
R2は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化水素基、
複素環基、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、特性
基(カルバモイル基、カルボキシル基及びそのアルキル
エステル、シアノ基、ヒドロキシ基、オキシ基、ハロゲ
ン基、アシルアミノ基)又は水素原子を示し、R1とR2
とで炭化水素環又は複素環を形成していてもよく、R1
及びR2は各々独立にNHR3基に対して、シス又はトラ
ンスのいずれの位置でもよく、R3は1価の置換若しく
は非置換の芳香族炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水
素基、脂環式炭化水素基、特性基(アシル基、ベンゾイ
ル基、ヒドロキシ基、スルホニル基)又は水素原子を示
し、COR4は置換若しくは非置換のカルバモイル基又
はカルボキシル基若しくはそのアルキルエステルを示
す)で表されるα−アミノアクリル酸誘導体とされる。[Chemical 13] (In the formula, R 1 represents a monovalent substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, heterocyclic group or unsaturated aliphatic hydrocarbon group,
R 2 is a monovalent substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group,
Heterocyclic group, aliphatic hydrocarbon group, alicyclic hydrocarbon group, characteristic group (carbamoyl group, carboxyl group and its alkyl ester, cyano group, hydroxy group, oxy group, halogen group, acylamino group) or hydrogen atom , R 1 and R 2
And may form a hydrocarbon ring or a heterocycle, and R 1
And R 2 may each independently be at any position of cis or trans with respect to the NHR 3 group, and R 3 is a monovalent substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, heterocyclic group or aliphatic hydrocarbon group. , An alicyclic hydrocarbon group, a characteristic group (acyl group, benzoyl group, hydroxy group, sulfonyl group) or a hydrogen atom, and COR 4 represents a substituted or unsubstituted carbamoyl group, a carboxyl group or an alkyl ester thereof. The α-aminoacrylic acid derivative is represented.
【0017】この一般式(I)で表されるα−アミノア
クリル酸誘導体としては、例えば、以下のような化合物
が列挙できる。Examples of the α-aminoacrylic acid derivative represented by the general formula (I) include the following compounds.
【0018】[0018]
【化14】 Embedded image
【0019】[0019]
【化15】 [Chemical 15]
【0020】[0020]
【化16】 Embedded image
【0021】前記一般式(I)で表されるα−アミノア
クリル酸誘導体は、例えば、以下に示す合成法により製
造できる。 (イ)カルボニル化合物とN−アシルグリシン又は飽和
アズラクトンとの縮合により得られる不飽和アズラクト
ンの開環(加水分解、アルコリシス又はアミノリシ
ス)。 (ロ)α−ケト酸又はそのエステルとホスフィンイミン
の縮合物の脱水。 (ハ)α−ケト酸若しくはそのエステルとアミド又はニ
トリルとの縮合。 (ニ)N−ヒドロキシルアミノ酸エステルの脱水。 なお、原料の入手の容易さなどの点から(イ)のアズラ
クトン法が汎用性が高く、一般的な合成法である。The α-aminoacrylic acid derivative represented by the general formula (I) can be produced, for example, by the following synthetic method. (A) Ring-opening (hydrolysis, alcoholysis or aminolysis) of unsaturated azlactone obtained by condensation of a carbonyl compound and N-acylglycine or saturated azlactone. (B) Dehydration of a condensate of α-keto acid or its ester and phosphinimine. (C) Condensation of α-keto acid or its ester with amide or nitrile. (D) Dehydration of N-hydroxyl amino acid ester. The azlactone method (a) is highly versatile and is a general synthetic method from the viewpoint of easy availability of raw materials.
【0022】本発明のアクティブ光導波路用組成物は、
例えば、フッ素化ポリアミド酸の極性有機溶媒溶液に電
気光学材料を加えて撹拌等により混合することにより容
易に製造することができる。この際、電気光学材料の使
用量は、フッ素化ポリアミド酸100重量部に対して
0.1〜10重量部の範囲とすることが好ましく、0.
5〜5重量部とすることがより好ましく、0.5〜3重
量部とすることが特に好ましい。この使用量が少なすぎ
ても多すぎても、電気光学特性、その他の光学特性、機
械特性、安定性、作業性等が劣る傾向がある。本発明の
アクティブ光導波路用組成物には、フッ素化ポリアミド
酸以外のポリマー(例えば、フッ素原子を含んでいない
ポリアミド酸、液晶ポリエステル等の液晶性ポリマ
ー)、ピンホール防止剤、レベリング剤、可塑剤、密着
性向上剤等の添加剤などを含ませることができる。The composition for active optical waveguide of the present invention is
For example, it can be easily produced by adding an electro-optical material to a polar organic solvent solution of fluorinated polyamic acid and mixing them by stirring or the like. At this time, the amount of the electro-optical material used is preferably in the range of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluorinated polyamic acid, and is preferably 0.1.
The amount is more preferably 5 to 5 parts by weight, and particularly preferably 0.5 to 3 parts by weight. If the amount used is too small or too large, electro-optical properties, other optical properties, mechanical properties, stability, workability, etc. tend to be poor. The composition for active optical waveguide of the present invention includes a polymer other than fluorinated polyamic acid (for example, polyamic acid containing no fluorine atom, liquid crystalline polymer such as liquid crystal polyester), pinhole inhibitor, leveling agent, plasticizer. An additive such as an adhesion improver can be included.
【0023】本発明のアクティブ光導波路用組成物を用
いたアクティブ光導波路について説明する。本発明のア
クティブ光導波路は、例えば、光マトリックススイッ
チ、変調器、光偏光器、光アイソレーター等に用いられ
る。光マトリックススイッチ、変調器の基本形態を図1
に示す。光導波路の形成においては、一般的な製膜法、
例えば、スピンコート法、浸漬法、ドクターブレード
法、ワイヤーバー法、ローラー法、スプレー法等を用い
ることができる。光導波路のコア材とクラッド材の選択
は、光の波長、使用用途に適した屈折率の差になるよう
にすればよい。An active optical waveguide using the active optical waveguide composition of the present invention will be described. The active optical waveguide of the present invention is used, for example, in optical matrix switches, modulators, optical polarizers, optical isolators, and the like. Figure 1 shows the basic form of optical matrix switches and modulators.
Shown in In forming the optical waveguide, a general film forming method,
For example, a spin coating method, a dipping method, a doctor blade method, a wire bar method, a roller method, a spray method or the like can be used. The core material and the clad material of the optical waveguide may be selected so that the difference between the wavelength of light and the refractive index suitable for the intended use.
【0024】本発明のアクティブ光導波路は、アクティ
ブ光導波路用組成物を、例えば、シリコン基板上にスピ
ンコートし、窒素雰囲気下で加熱処理しアクティブ光導
波路用組成物中のフッ素化ポリアミド酸をイミド閉環し
てフッ素化ポリイミドとし、電気光学材料を配向させる
ことにより形成することができる。例えば、アクティブ
光導波路の一態様である方向性結合器型光スイッチの製
造について図2を参照しつつ説明する。1は基板、2は
下部電極、3は下部クラッド層、4はコア層、5はアル
ミニウム層、6はレジスト層、7は上部クラッド層、8
は上部電極を意味する。シリコン等の基板の上にアルミ
ニウム等の下部電極2を蒸着法やスパッタ法等により作
製し、次に本発明のアクティブ光導波路用組成物からな
るコア層4よりも屈折率の小さい、本発明のアクティブ
光導波路用組成物における二つの必須構成要素の内の一
つの構成要素であるフッ素化ポリイミドで構成される下
部クラッド層3を形成する。この上に本発明のアクティ
ブ光導波路用組成物(電気光学材料及びフッ素化ポリア
ミド酸を必須構成成分として含む)を所定の厚さに塗布
し、加熱キュアすることによりコア層4を得る。次に蒸
着法等によりアルミニウム層5をつけた後に、レジスト
塗布、プリベーク、露光、現像、アフターベークを行な
い、パターニングされたレジスト層6を得る。レジスト
層6により保護されていないアルミニウムをウェットエ
ッチングにより除去した後、アルミニウム層5で保護さ
れていないコア層4のポリイミド層をドライエッチング
により除去する。残ったアルミニウム層6をウェットエ
ッチングで除去し、この上に前記下部クラッド層3形成
に用いたポリイミドを用いて上部クラッド層7を形成す
る。最後にマスクパターンを通して所定のコア層4の上
に上部電極8を蒸着法やスパッタ法等により形成し方向
性結合器型光スイッチが得られる。In the active optical waveguide of the present invention, the composition for active optical waveguide is spin-coated on, for example, a silicon substrate and heat-treated under a nitrogen atmosphere to imidize the fluorinated polyamic acid in the composition for active optical waveguide. It can be formed by ring closure to give a fluorinated polyimide and orienting the electro-optic material. For example, manufacturing of a directional coupler type optical switch, which is one mode of the active optical waveguide, will be described with reference to FIG. 1 is a substrate, 2 is a lower electrode, 3 is a lower clad layer, 4 is a core layer, 5 is an aluminum layer, 6 is a resist layer, 7 is an upper clad layer, 8
Means the upper electrode. A lower electrode 2 of aluminum or the like is formed on a substrate of silicon or the like by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and then has a smaller refractive index than the core layer 4 made of the active optical waveguide composition of the present invention. A lower clad layer 3 composed of fluorinated polyimide, which is one of the two essential components in the composition for active optical waveguide, is formed. A core layer 4 is obtained by applying the active optical waveguide composition of the present invention (containing an electro-optical material and a fluorinated polyamic acid as essential constituents) to a predetermined thickness and heating and curing the composition. Next, after applying the aluminum layer 5 by a vapor deposition method or the like, resist coating, pre-baking, exposure, development and after-baking are performed to obtain a patterned resist layer 6. After aluminum which is not protected by the resist layer 6 is removed by wet etching, the polyimide layer of the core layer 4 which is not protected by the aluminum layer 5 is removed by dry etching. The remaining aluminum layer 6 is removed by wet etching, and an upper clad layer 7 is formed thereon by using the polyimide used for forming the lower clad layer 3. Finally, an upper electrode 8 is formed on a predetermined core layer 4 through a mask pattern by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like to obtain a directional coupler type optical switch.
【0025】前記アクティブ光導波路中のコア層に含ま
れる電気光学材料を配向させるには、ポーリング処理等
を行なえばよい。例えば、電場を印加しながら加熱して
イミド閉環によるイミド化を行ないながら、同時に電気
光学材料を配向させることができる。電場の印加方法に
は、電極を設けて行なう方法、コロナ放電で表面を帯電
させる方法等が挙げられる。電場の強さは、105V/cm
とすることが好ましく、106V/cm以上とすることがよ
り好ましい。また、イミド閉環によるイミド化を行ない
最終的な構造であるフッ素化ポリイミドとした後に、こ
れに電場を加えてTg以上の温度に加熱して電気光学材料
を配向させることもできる。導波路は、通常、10μm
〜15μm幅で、3μm〜4μmの高さで形成され、パ
ターン間隔は、2μm〜3μm程度である。To orient the electro-optical material contained in the core layer in the active optical waveguide, poling treatment or the like may be performed. For example, it is possible to orient the electro-optical material at the same time while heating while applying an electric field to perform imidization by imide ring closure. Examples of the method of applying the electric field include a method of providing an electrode and a method of charging the surface by corona discharge. The strength of the electric field is 10 5 V / cm
And more preferably 10 6 V / cm or more. It is also possible to orient the electro-optical material by applying an electric field to this and heating it to a temperature of Tg or higher after imidizing by imide ring closure to give a final structure of fluorinated polyimide. Waveguide is usually 10 μm
It is formed with a width of ˜15 μm and a height of 3 μm to 4 μm, and the pattern interval is about 2 μm to 3 μm.
【0026】本発明においては、プラスチック中で最も
高い耐熱性を有するフッ素化ポリイミドが光導波路のコ
ア層、クラッド層のいずれかまたは両者に用いられる。
また、耐熱性に優れる電気光学材料である一般式(I)
で表されるα−アミノアクリル誘導体が前記フッ素化ポ
リイミド中に含有される。In the present invention, the fluorinated polyimide having the highest heat resistance among plastics is used for either or both of the core layer and the clad layer of the optical waveguide.
In addition, the general formula (I), which is an electro-optical material having excellent heat resistance,
The α-aminoacryl derivative represented by is contained in the fluorinated polyimide.
【0027】[0027]
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるもので
はない。なお、以下の製造例においては、上記一般式
(I)で表されるα−アミノアクリル誘導体のR1、
R2、R3及びR4を表1〜表3に示す組合せで導入し、
(化合物1)〜(化合物14)を合成した。合成法は、
前述した(イ)のアズラクトン法を用いた。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to the following examples. In the following production examples, R 1 of the α-aminoacryl derivative represented by the general formula (I),
Introducing R 2 , R 3 and R 4 in the combinations shown in Tables 1 to 3,
(Compound 1) to (Compound 14) were synthesized. The synthetic method is
The azlactone method described in (a) above was used.
【0028】[0028]
【表1】 [Table 1]
【0029】[0029]
【表2】 [Table 2]
【0030】[0030]
【表3】 [Table 3]
【0031】製造例1 アズラクトン化合物(5−オキサゾロン化合物)の合成 N−アシルグリシン33mmol、カルボニル化合物30mm
ol及び無水酢酸カリウム3.0g(30.6mmol)に無
水酢酸10ml(106mmol)を加え、100℃で1時間
加熱撹拌した。放冷後、反応物を水に注ぎ、析出した結
晶を濾取し水で洗浄した。粗結晶を酢酸、トルエン等の
溶媒で再結晶し、目的とするアズラクトン化合物を得
た。その反応式を次に示した。Production Example 1 Synthesis of azlactone compound (5-oxazolone compound) N-acylglycine 33 mmol, carbonyl compound 30 mm
10 ml (106 mmol) of acetic anhydride was added to 3.0 g (30.6 mmol) of potassium acetate and anhydrous potassium acetate, and the mixture was heated with stirring at 100 ° C. for 1 hour. After allowing to cool, the reaction product was poured into water, and the precipitated crystals were collected by filtration and washed with water. The crude crystals were recrystallized with a solvent such as acetic acid and toluene to obtain the desired azlactone compound. The reaction formula is shown below.
【化17】 [Chemical 17]
【0032】製造例2 β−置換−α−(N−アシルアミノ)アクリル酸化合物
の合成((化合物1)、(化合物5)、(化合物6)、(化合
物7)、(化合物8)、(化合物9)、(化合物10)、(化合
物11)、(化合物13)又は(化合物14)の合成) 上記製造例1で合成したアズラクトン化合物10mmolを
1%水酸化ナトリウム水溶液300mlに加熱溶解させ
た。放冷後、希塩酸で反応液を酸性にし、析出した粗結
晶を濾取し水で洗浄した。粗結晶をエタノール、酢酸等
の溶媒で再結晶し、目的とする化合物を得た。その反応
式を次に示した。Production Example 2 Synthesis of β-substituted-α- (N-acylamino) acrylic acid compound ((Compound 1), (Compound 5), (Compound 6), (Compound 7), (Compound 8), (Compound 9), (Compound 10), (Compound 11), (Compound 13) or (Compound 14)) 10 mmol of the azlactone compound synthesized in the above Production Example 1 was dissolved by heating in 300 ml of a 1% sodium hydroxide aqueous solution. After allowing to cool, the reaction solution was acidified with dilute hydrochloric acid, and the precipitated crude crystals were collected by filtration and washed with water. The crude crystals were recrystallized with a solvent such as ethanol or acetic acid to obtain the target compound. The reaction formula is shown below.
【化18】 Embedded image
【0033】製造例3 β−置換−α−(N−アシルアミノ)アクリル酸エステ
ル化合物の合成((化合物4)又は(化合物12)の合成) 上記製造例1で合成したアズラクトン化合物10mmolを
1%水酸化ナトリウムアルコール溶液100mlに加熱溶
解させた。放冷後、水を少しずつ加え、析出した粗結晶
を濾取し水洗いした。粗結晶をエタノール、酢酸等の溶
媒で再結晶し、目的とする化合物を得た。その反応式を
次に示した。Production Example 3 Synthesis of β-Substituted-α- (N-acylamino) acrylic acid ester compound (Synthesis of (Compound 4) or (Compound 12)) 10 mmol of the azlactone compound synthesized in Production Example 1 was added to 1% water. It was dissolved by heating in 100 ml of sodium oxide alcohol solution. After cooling, water was added little by little, and the precipitated crude crystals were collected by filtration and washed with water. The crude crystals were recrystallized with a solvent such as ethanol or acetic acid to obtain the target compound. The reaction formula is shown below.
【化19】 [Chemical 19]
【0034】製造例4 β−置換−α−(N−アシルアミノ)アクリル酸アミド
化合物の合成((化合物2)又は(化合物3)の合成) 上記製造例1で合成したアズラクトン化合物10mmolに
エタノール30ml、アミン100mmolを加え、1時間加
熱還流した。放冷後、析出した粗結晶を濾取し水で洗浄
した。粗結晶をエタノール、酢酸等の溶媒で再結晶し、
目的とする化合物を得た。その反応式を次に示した。Production Example 4 Synthesis of β-Substituted-α- (N-acylamino) acrylic acid amide compound (Synthesis of (Compound 2) or (Compound 3)) 10 mmol of the azlactone compound synthesized in Production Example 1 above, 30 ml of ethanol, 100 mmol of amine was added and the mixture was heated under reflux for 1 hour. After cooling, the precipitated crude crystals were collected by filtration and washed with water. The crude crystals are recrystallized with a solvent such as ethanol or acetic acid,
The target compound was obtained. The reaction formula is shown below.
【化20】 Embedded image
【0035】実施例1 前記製造例2において製造した電気光学材料としてのα
−アミノアクリル酸誘導体(化合物1)1重量部とフッ
素化ポリアミド酸OPI−1005(日立化成工業社製
商品名)15重量部をN−メチルピロリドン(NMP)
200重量部に溶解して得られたアクティブ光導波路用
組成物の溶液を100nm厚の半透明アルミ電極を付けた
石英ガラス上に回転数2000rpmでスピン塗工し、2
μm膜を形成した。NMP溶剤を除去するため真空下1
20℃で6時間ソフトベークし、続いて前記の膜上に1
00nm厚の半透明アルミ電極を形成しサンドウィッチ型
のサンプルを作製した。電極間に400Vの電圧を印加
しながら2℃/分の昇温速度で250℃(ポーリング温
度)にサンプルを加熱し、さらに、400Vの電圧を印
加しながら同温度で1時間保持し、その後、400Vの
電圧を印加しながら室温まで冷却してアクティブ光導波
路試験用サンプル(ここでは、図2におけるコア層4の
部分に対応するコア部のみを含み、クラッド部にあたる
ものはない)を作製した。Example 1 α as the electro-optical material produced in the above Production Example 2
1 part by weight of an aminoacrylic acid derivative (Compound 1) and 15 parts by weight of fluorinated polyamic acid OPI-1005 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) are N-methylpyrrolidone (NMP).
A solution of the active optical waveguide composition obtained by dissolving it in 200 parts by weight was spin-coated at a rotation speed of 2000 rpm on quartz glass having a 100 nm thick semi-transparent aluminum electrode, and 2
A μm film was formed. Under vacuum to remove NMP solvent 1
Soft bake at 20 ° C for 6 hours, followed by 1 on the above membrane.
A semitransparent aluminum electrode having a thickness of 00 nm was formed to prepare a sandwich type sample. The sample was heated to 250 ° C. (poling temperature) at a temperature rising rate of 2 ° C./min while applying a voltage of 400 V between the electrodes, and was further held at the same temperature for 1 hour while applying a voltage of 400 V. While applying a voltage of 400 V, the sample was cooled to room temperature to prepare an active optical waveguide test sample (here, only the core part corresponding to the part of the core layer 4 in FIG. 2 was included, and no clad part was included).
【0036】図3に示す測定装置を用いて前記アクティ
ブ光導波路試験用サンプルについて熱安定性を調べた。
この装置は電気光学定数測定装置で、測定方法はC.C.Te
ng and H.T.Man,Appl.Phys.Lett.56(18)1734(1990)に記
載された方法とほぼ同じである。図3に示す測定装置
は、次のように構成されたものである。He−Neレー
ザ9からの光を偏光子10を通過させ、直線偏光にした
後、サンプル11の法線方向とビーム軸のなす角がθと
なるように傾けられたサンプル11を透過させ、バビネ
・ソレイユ補償子12と検光子13を通して検出器(フ
ォトダイオード)14で検出する。検出された光の強度
は電圧として、直流電圧計16とロックインアンプ15
で計測される。測定する際の検光子の透過軸の角度は、
検光子を回転して直流電圧計16で測定される直流電圧
の最大と最少の値の差の1/2の値となるよう設定す
る。発振器17で周波数1kHz、交流電圧10Vをサン
プル11に印加すると、電気光学効果によって、出力信
号も1kHzで変調される。このときの、交流成分をロッ
クインアンプ15で、直流成分を直流電圧計16で測定
する。ロックインアンプ15、直流電圧計16での測定
電圧をそれぞれVm、Vと定義すると、電気光学定数r
33は下記式(1)から求められる。The thermal stability of the active optical waveguide test sample was examined by using the measuring apparatus shown in FIG.
This device is an electro-optical constant measuring device, and the measuring method is CCTe.
ng and HTMan, Appl. Phys. Lett. 56 (18) 1734 (1990). The measuring device shown in FIG. 3 is configured as follows. The light from the He-Ne laser 9 is passed through the polarizer 10 to be linearly polarized light, and then the sample 11 tilted so that the angle formed by the normal axis of the sample 11 and the beam axis is θ is transmitted, and the Babinet is used. Detecting with a detector (photodiode) 14 through a Soleil compensator 12 and an analyzer 13. The detected light intensity is used as a voltage, and the DC voltmeter 16 and the lock-in amplifier 15 are used.
Is measured at. The angle of the transmission axis of the analyzer when measuring is
The analyzer is set to rotate so that the difference between the maximum value and the minimum value of the DC voltage measured by the DC voltmeter 16 is 1/2. When an oscillator 17 applies a frequency of 1 kHz and an AC voltage of 10 V to the sample 11, the output signal is also modulated at 1 kHz by the electro-optic effect. At this time, the AC component is measured by the lock-in amplifier 15 and the DC component is measured by the DC voltmeter 16. When the measured voltages at the lock-in amplifier 15 and the DC voltmeter 16 are defined as V m and V, respectively, the electro-optical constant r
33 is calculated from the following formula (1).
【数1】 なお、屈折率nはアッベの屈折率計で測定した。熱安定
性はポーリング直後の電気光学定数r33(0)と温度15
0℃の恒温槽に250時間放置した後のサンプルの電気
光学定数r33(T)を測定し、前記r33(0)とr33(T)か
ら下記式(2)を用いて求めた保持率d(T)から評価
し、結果を表4に示した。[Equation 1] The refractive index n was measured with an Abbe refractometer. Thermal stability is determined by electro-optic constant r 33 (0) and temperature of 15 after poling.
The electro-optical constant r 33 (T) of the sample after standing in a constant temperature bath of 0 ° C. for 250 hours was measured, and the retention was calculated from the above r 33 (0) and r 33 (T) by using the following formula (2). Evaluation was made from the rate d (T), and the results are shown in Table 4.
【数2】 [Equation 2]
【0037】実施例2〜14 実施例1において用いたα−アミノアクリル酸誘導体
(化合物1)とポリアミド酸OPI−1005に代え
て、表4及び表5に示す電気光学材料及びフッ素化ポリ
アミド酸(日立化成工業社製)を用いて、実施例1と同
様にしてアクティブ光導波路試験用サンプルを作製し、
電気光学特性の保持率d(T)を評価し、結果を表4及
び表5に示した。Examples 2 to 14 Instead of the α-aminoacrylic acid derivative (Compound 1) and the polyamic acid OPI-1005 used in Example 1, electro-optical materials and fluorinated polyamic acids (Table 4 and Table 5) were used. Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used to prepare an active optical waveguide test sample in the same manner as in Example 1.
The retention rate d (T) of electro-optical characteristics was evaluated, and the results are shown in Tables 4 and 5.
【0038】比較例1 実施例1において用いたα−アミノアクリル酸誘導体
(化合物1)とフッ素化ポリアミド酸OPI−1005
に代えて、表5に示す4−〔N−エチル−N−(2−ヒ
ドロキシエチル)〕−アミノ−4′−ニトロアゾベンゼ
ン(Disperse Red1)とポリメチルメタクリレート(P
MMA)溶液(12重量%)を用い、ポーリング温度を
150℃にした以外は実施例1と同様にしてアクティブ
光導波路試験用サンプルを作製し、電気光学特性の保持
率d(T)を評価し、結果を表5に示した。電気光学特
性は、100℃に加熱するだけで75%消失した。Comparative Example 1 α-aminoacrylic acid derivative (Compound 1) used in Example 1 and fluorinated polyamic acid OPI-1005
Instead of 4- [N-ethyl-N- (2-hydroxyethyl)]-amino-4′-nitroazobenzene (Disperse Red 1) and polymethyl methacrylate (P
MMA) solution (12% by weight) was used to prepare an active optical waveguide test sample in the same manner as in Example 1 except that the poling temperature was 150 ° C., and the retention rate d (T) of electro-optical characteristics was evaluated. The results are shown in Table 5. The electro-optical properties disappeared by 75% only by heating to 100 ° C.
【0039】[0039]
【表4】 [Table 4]
【0040】[0040]
【表5】 [Table 5]
【0041】[0041]
【発明の効果】本発明のアクティブ光導波路用組成物は
光学的に良好な透明膜を与える。本発明のアクティブ光
導波路用組成物を用いて作製したアクティブ光導波路
は、熱的に非常に安定であり、光スイッチ、変調器等の
電気光学素子を作製するのに好適なものである。耐熱性
に優れるフッ素化ポリイミド及び一般式(I)で表され
るα−アミノアクリル誘導体を使用することにより光導
波路作製時に必要とされる熱安定性が向上される。さら
にスピンコート法により、容易に大面積光導波路が作製
できるという利点を持ち、光導波路の低価格化が可能で
ある。The composition for active optical waveguide of the present invention gives an optically excellent transparent film. The active optical waveguide produced by using the composition for active optical waveguide of the present invention is very stable thermally and is suitable for producing electro-optical elements such as optical switches and modulators. By using the fluorinated polyimide having excellent heat resistance and the α-aminoacryl derivative represented by the general formula (I), the thermal stability required when producing the optical waveguide is improved. Furthermore, the spin coating method has an advantage that a large-area optical waveguide can be easily manufactured, and the cost of the optical waveguide can be reduced.
【図1】光マトリックススイッチ、変調器の基本形態。FIG. 1 is a basic form of an optical matrix switch and a modulator.
【図2】アクティブ光導波路作製工程の説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram of an active optical waveguide manufacturing process.
【図3】実施例及び比較例で用いた電気光学定数の測定
装置の説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram of an electro-optical constant measuring device used in Examples and Comparative Examples.
1 基板 2 下部電極 3 下部クラッド層 4 コア層 5 アルミニウム層 6 レジスト層 7 上部クラッド層 8 上部電極 9 He−Neレーザ 10 偏光子 11 サンプル 12 ハビネ・ソレイユ補償板 13 検光子 14 検出器 15 ロックインアンプ 16 直流電圧計 17 発振器 1 Substrate 2 Lower Electrode 3 Lower Cladding Layer 4 Core Layer 5 Aluminum Layer 6 Resist Layer 7 Upper Cladding Layer 8 Upper Electrode 9 He-Ne Laser 10 Polarizer 11 Sample 12 Habine-Soleil Compensator 13 Analyzer 14 Detector 15 Lock-in Amplifier 16 DC voltmeter 17 Oscillator
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G02F 1/03 501 1/313 G02B 6/12 J ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location G02F 1/03 501 1/313 G02B 6/12 J
Claims (5)
を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学
材料が一般式(I) 【化1】 (式中、R1は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化
水素基、複素環基又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、
R2は1価の置換若しくは非置換の芳香族炭化水素基、
複素環基、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、特性
基(カルバモイル基、カルボキシル基及びそのアルキル
エステル、シアノ基、ヒドロキシ基、オキシ基、ハロゲ
ン基、アシルアミノ基)又は水素原子を示し、R1とR2
とで炭化水素環又は複素環を形成していてもよく、R1
及びR2は各々独立にNHR3基に対して、シス又はトラ
ンスのいずれの位置でもよく、R3は1価の置換若しく
は非置換の芳香族炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水
素基、脂環式炭化水素基、特性基(アシル基、ベンゾイ
ル基、ヒドロキシ基、スルホニル基)又は水素原子を示
し、COR4は置換若しくは非置換のカルバモイル基又
はカルボキシル基若しくはそのアルキルエステルを示
す)で表されるα−アミノアクリル酸誘導体であるアク
ティブ光導波路用組成物。1. A composition for an active optical waveguide, comprising a fluorinated polyamic acid and an electro-optical material, wherein the electro-optical material has the general formula (I): (In the formula, R 1 represents a monovalent substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, heterocyclic group or unsaturated aliphatic hydrocarbon group,
R 2 is a monovalent substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group,
Heterocyclic group, aliphatic hydrocarbon group, alicyclic hydrocarbon group, characteristic group (carbamoyl group, carboxyl group and its alkyl ester, cyano group, hydroxy group, oxy group, halogen group, acylamino group) or hydrogen atom , R 1 and R 2
And may form a hydrocarbon ring or a heterocycle, and R 1
And R 2 may each independently be at any position of cis or trans with respect to the NHR 3 group, and R 3 is a monovalent substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, heterocyclic group or aliphatic hydrocarbon group. , An alicyclic hydrocarbon group, a characteristic group (acyl group, benzoyl group, hydroxy group, sulfonyl group) or a hydrogen atom, and COR 4 represents a substituted or unsubstituted carbamoyl group, a carboxyl group or an alkyl ester thereof. A composition for an active optical waveguide, which is an represented α-aminoacrylic acid derivative.
てフッ素化ポリイミドとなった時、屈折率が1.4〜
1.9(589nm)、誘電率が2.6〜3.5(1MH
z)及びガラス転移温度(Tg)が300℃以上となるも
のである請求項1記載のアクティブ光導波路用組成物。2. When the fluorinated polyamic acid is imide-closed to form a fluorinated polyimide, the refractive index is 1.4 to
1.9 (589 nm), dielectric constant 2.6-3.5 (1 MH
The composition for active optical waveguides according to claim 1, wherein z) and the glass transition temperature (Tg) are 300 ° C or higher.
1) 【化4】 で表される繰り返し単位及び式(III−2) 【化5】 で表される繰り返し単位の少なくとも1つとを有するフ
ッ素化ポリアミド酸である請求項1又は2記載のアクテ
ィブ光導波路用組成物。3. The fluorinated polyamic acid has the formula (II-1): The repeating unit represented by the formula and the formula (II-2): Of at least one repeating unit represented by the formula (III-
1) [Chemical 4] A repeating unit represented by the formula and formula (III-2): The composition for active optical waveguides according to claim 1 or 2, which is a fluorinated polyamic acid having at least one repeating unit represented by:
導波路用組成物中のフッ素化ポリアミド酸を、イミド閉
環してフッ素化ポリイミドとし、電気光学材料を配向さ
せることを特徴とするアクティブ光導波路の製造法。4. The active optical waveguide characterized in that the fluorinated polyamic acid in the composition for active optical waveguide according to claim 1, 2 or 3 is imide ring-closed to give a fluorinated polyimide to orient an electro-optical material. Waveguide manufacturing method.
造法により製造されたアクティブ光導波路。5. An active optical waveguide manufactured by the method for manufacturing an active optical waveguide according to claim 4.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17675894A JPH0841335A (en) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP17675894A JPH0841335A (en) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide |
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| JPH0841335A true JPH0841335A (en) | 1996-02-13 |
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| JP17675894A Pending JPH0841335A (en) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide |
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-
1994
- 1994-07-28 JP JP17675894A patent/JPH0841335A/en active Pending
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