JPH084602Y2 - Ｘ線回折装置のゴニオメータ - Google Patents
Ｘ線回折装置のゴニオメータInfo
- Publication number
- JPH084602Y2 JPH084602Y2 JP1874590U JP1874590U JPH084602Y2 JP H084602 Y2 JPH084602 Y2 JP H084602Y2 JP 1874590 U JP1874590 U JP 1874590U JP 1874590 U JP1874590 U JP 1874590U JP H084602 Y2 JPH084602 Y2 JP H084602Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- scattering
- width
- slit width
- light receiving
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この考案は、散乱スリットのスリット幅に特徴のある
Ｘ線回折装置のゴニオメータに関する。
Ｘ線回折装置のゴニオメータに関する。
［従来の技術］ 従来のＸ線回折装置のゴニオメータの平面図を第２図
に示す。このＸ線回折装置のゴニオメータは、次のよう
な構成になっている。つまり、基台１の中央部に、基台
１に対して垂直に試料台２の回転軸（以下、試料軸とい
う）を設ける。板状試料SPをこの試料軸に取り付ける。
このとき、板状試料SPの表面上を試料軸の中心線が通る
ようにする。また、基台１に、Ｘ線の発散スリットDS
と、試料軸を中心として回転する検出器アーム台３とを
取り付ける。そして、この検出器アーム台３のアーム3a
に、Ｘ線検出器４と、このＸ線検出器４の前面に着脱自
由の受光スリットRSと散乱スリットSSとを設ける。な
お、これらのスリットを入れるスリットボックスは図示
を省略してある。基台１の内部には試料軸と検出器アー
ム台３とを１対２の角速度比で回転させる運動機構とそ
の駆動機構等を設けている。第２図において、点ＦはＸ
線の焦点、αは発散スリットDSの発散角である。発散ス
リットDS、受光スリットRS、散乱スリットSSに関しては
断面を表示している。
に示す。このＸ線回折装置のゴニオメータは、次のよう
な構成になっている。つまり、基台１の中央部に、基台
１に対して垂直に試料台２の回転軸（以下、試料軸とい
う）を設ける。板状試料SPをこの試料軸に取り付ける。
このとき、板状試料SPの表面上を試料軸の中心線が通る
ようにする。また、基台１に、Ｘ線の発散スリットDS
と、試料軸を中心として回転する検出器アーム台３とを
取り付ける。そして、この検出器アーム台３のアーム3a
に、Ｘ線検出器４と、このＸ線検出器４の前面に着脱自
由の受光スリットRSと散乱スリットSSとを設ける。な
お、これらのスリットを入れるスリットボックスは図示
を省略してある。基台１の内部には試料軸と検出器アー
ム台３とを１対２の角速度比で回転させる運動機構とそ
の駆動機構等を設けている。第２図において、点ＦはＸ
線の焦点、αは発散スリットDSの発散角である。発散ス
リットDS、受光スリットRS、散乱スリットSSに関しては
断面を表示している。
第３図は受光スリットRSと散乱スリットSSとの位置関
係を示す拡大平面断面図である。WRは受光スリットRSの
スリット幅を、WSは散乱スリットSSのスリット幅を、Ｌ
は受光スリットRSと散乱スリットSSとの距離を示してい
る。散乱スリットSSのスリット幅WSは、通常、発散角に
よって呼ばれている。というのは、距離Ｌが一定であれ
ば、発散角αを決めることによって散乱スリットのスリ
ット幅WSが決まるからである。WSは次式のようになる。
係を示す拡大平面断面図である。WRは受光スリットRSの
スリット幅を、WSは散乱スリットSSのスリット幅を、Ｌ
は受光スリットRSと散乱スリットSSとの距離を示してい
る。散乱スリットSSのスリット幅WSは、通常、発散角に
よって呼ばれている。というのは、距離Ｌが一定であれ
ば、発散角αを決めることによって散乱スリットのスリ
ット幅WSが決まるからである。WSは次式のようになる。
WS＝2Ltan（α/2） …（１） 以下、この明細書では、このようにして定められたスリ
ット幅WSを標準散乱スリット幅と呼ぶ。例えば、α＝0.
5°、Ｌ＝40mmの場合、WS＝0.35mmである。
ット幅WSを標準散乱スリット幅と呼ぶ。例えば、α＝0.
5°、Ｌ＝40mmの場合、WS＝0.35mmである。
なお、散乱スリットの発散角は発散スリットの発散角
と同じである。したがって、発散スリットの散乱角を何
種類か用意してある場合は、散乱スリットについても発
散スリットと同種類だけ用意されている。
と同じである。したがって、発散スリットの散乱角を何
種類か用意してある場合は、散乱スリットについても発
散スリットと同種類だけ用意されている。
［考案が解決しようとする課題］ 従来のゴニオメータでは、散乱スリットSSのスリット
幅WSは上述の（１）式で決められており、発散角αが決
まれば一義的にスリット幅WSが決まる。すなわち、散乱
スリットのスリット幅WSは受光スリットRSのスリット幅
WRとは無関係である。換言すれば、受光スリットRSのス
リット幅WRを零と仮定したときのＸ線の発散を考慮し
て、散乱スリットSSのスリット幅WSを決めているにすぎ
ない。実際は、受光スリットRSのスリット幅WRは有限の
値であり、しかもスリット幅の異なる何種類かの受光ス
リットが用意されているのが普通である。
幅WSは上述の（１）式で決められており、発散角αが決
まれば一義的にスリット幅WSが決まる。すなわち、散乱
スリットのスリット幅WSは受光スリットRSのスリット幅
WRとは無関係である。換言すれば、受光スリットRSのス
リット幅WRを零と仮定したときのＸ線の発散を考慮し
て、散乱スリットSSのスリット幅WSを決めているにすぎ
ない。実際は、受光スリットRSのスリット幅WRは有限の
値であり、しかもスリット幅の異なる何種類かの受光ス
リットが用意されているのが普通である。
散乱スリットSSのスリット幅WSを標準散乱スリット幅
とした場合には、受光スリットRSを通ったＸ線の一部
（例えば第３図の斜線領域５を通ってくるＸ線）が、散
乱スリットSSで遮断される。この遮断されたＸ線はＸ線
検出器に到達しないので、Ｘ線検出強度のロスとなる。
例えば、α＝0.5°、Ｌ＝40mm、WS＝0.3mmの場合、約30
％の検出強度ロスが生じることが判明した。
とした場合には、受光スリットRSを通ったＸ線の一部
（例えば第３図の斜線領域５を通ってくるＸ線）が、散
乱スリットSSで遮断される。この遮断されたＸ線はＸ線
検出器に到達しないので、Ｘ線検出強度のロスとなる。
例えば、α＝0.5°、Ｌ＝40mm、WS＝0.3mmの場合、約30
％の検出強度ロスが生じることが判明した。
この考案の目的は、受光スリットを通過するＸ線が散
乱スリットによって遮断されるのを防ぐことのできるＸ
線回折装置のゴニオメータを提供することである。
乱スリットによって遮断されるのを防ぐことのできるＸ
線回折装置のゴニオメータを提供することである。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するために、この考案に係るＸ線回
折装置のゴニオメータは以下の特徴を有している。すな
わち、このゴニオメータは、受光スリットのスリット幅
を零と仮定したときに受光スリットから散乱スリットま
での距離と発散スリットの発散角とによって定まる散乱
スリットのスリット幅を、標準散乱スリット幅と定義す
ると、 散乱スリットのスリット幅を前記標準散乱スリット幅
よりも大きくし、散乱スリットのスリット幅と前記標準
散乱スリット幅との差が受光スリットのスリット幅を越
えないようにしたことを特徴としている。
折装置のゴニオメータは以下の特徴を有している。すな
わち、このゴニオメータは、受光スリットのスリット幅
を零と仮定したときに受光スリットから散乱スリットま
での距離と発散スリットの発散角とによって定まる散乱
スリットのスリット幅を、標準散乱スリット幅と定義す
ると、 散乱スリットのスリット幅を前記標準散乱スリット幅
よりも大きくし、散乱スリットのスリット幅と前記標準
散乱スリット幅との差が受光スリットのスリット幅を越
えないようにしたことを特徴としている。
好ましくは、散乱スリットのスリット幅と前記標準散
乱スリット幅との差を受光スリットのスリット幅に等し
くする。
乱スリット幅との差を受光スリットのスリット幅に等し
くする。
［作用］ 受光スリットを通過したＸ線が散乱スリットによって
遮断されないようにするには、散乱スリットのスリット
幅を、標準散乱スリット幅よりも、受光スリットのスリ
ット幅の値だけ広くすればよい。こうすると、受光スリ
ットを通過したＸ線はすべて散乱スリットを通過でき、
Ｘ線検出強度のロスを防ぐことができる。
遮断されないようにするには、散乱スリットのスリット
幅を、標準散乱スリット幅よりも、受光スリットのスリ
ット幅の値だけ広くすればよい。こうすると、受光スリ
ットを通過したＸ線はすべて散乱スリットを通過でき、
Ｘ線検出強度のロスを防ぐことができる。
散乱スリットのスリット幅と標準散乱スリット幅との
差（以下、増加分と呼ぶ。）を受光スリットのスリット
幅よりも大きくすると、受光スリットを通過してくるＸ
線の検出強度はそれ以上増えずに、むしろ、散乱Ｘ線が
散乱スリットを通過する度合が増えてくる。したがっ
て、散乱スリットのスリット幅の増加分を受光スリット
のスリット幅よりも大きくするのは得策ではない。
差（以下、増加分と呼ぶ。）を受光スリットのスリット
幅よりも大きくすると、受光スリットを通過してくるＸ
線の検出強度はそれ以上増えずに、むしろ、散乱Ｘ線が
散乱スリットを通過する度合が増えてくる。したがっ
て、散乱スリットのスリット幅の増加分を受光スリット
のスリット幅よりも大きくするのは得策ではない。
また、上述の増加分は、受光スリットのスリット幅よ
りも小さくしてもよい。特に、散乱角が比較的大きい場
合には、上述の増加分を受光スリットのスリット幅より
小さくしても実用的に充分な場合がある。というのは、
散乱角が比較的大きい場合には、標準散乱スリット幅が
比較的大きくなっているので、標準散乱スリット幅に対
する受光スリットのスリット幅の割合が相対的に小さく
なり、Ｘ線検出強度のロスの割合が比較的小さいからで
ある。
りも小さくしてもよい。特に、散乱角が比較的大きい場
合には、上述の増加分を受光スリットのスリット幅より
小さくしても実用的に充分な場合がある。というのは、
散乱角が比較的大きい場合には、標準散乱スリット幅が
比較的大きくなっているので、標準散乱スリット幅に対
する受光スリットのスリット幅の割合が相対的に小さく
なり、Ｘ線検出強度のロスの割合が比較的小さいからで
ある。
［実施例］ 次に、図面を参照してこの考案の実施例を説明する。
この考案のＸ線回折装置のゴニオメータの構成は第２
図に示すものと基本的に同じであり、散乱スリットのス
リット幅が標準散乱スリット幅よりも広くなっているこ
とだけが異なっている。
図に示すものと基本的に同じであり、散乱スリットのス
リット幅が標準散乱スリット幅よりも広くなっているこ
とだけが異なっている。
第１図は、この考案の一実施例における受光スリット
RSと散乱スリットSSとを示す平面断面図である。この図
において、受光スリットRSの左側には回折測定すべき試
料があり、散乱スリットSSの右側にはＸ線検出器があ
る。WRは受光スリットRSのスリット幅を、WS1は散乱ス
リットSSのスリット幅を、WSは標準散乱スリット幅を、
Ｌは受光スリットRSと散乱スリットSSとの距離を示して
いる。αは発散スリットの発散角を示す。
RSと散乱スリットSSとを示す平面断面図である。この図
において、受光スリットRSの左側には回折測定すべき試
料があり、散乱スリットSSの右側にはＸ線検出器があ
る。WRは受光スリットRSのスリット幅を、WS1は散乱ス
リットSSのスリット幅を、WSは標準散乱スリット幅を、
Ｌは受光スリットRSと散乱スリットSSとの距離を示して
いる。αは発散スリットの発散角を示す。
スリット幅WS1は、受光スリットRSのスリット幅WR
と、発散スリットDSの発散角αと、距離Ｌとによって次
式で決定される。
と、発散スリットDSの発散角αと、距離Ｌとによって次
式で決定される。
WS1＝2Ltan（α/2）＋Ｗ …（２） ここで、０＜Ｗ≦WR すなわち、散乱スリットSSのスリット幅WS1は、標準散
乱スリット幅WSよりも増加分Ｗだけ広くなっている。
乱スリット幅WSよりも増加分Ｗだけ広くなっている。
Ｗ＝WRの場合を例にとると、α＝0.5°、WR＝0.3mm、
Ｌ＝40mmの場合に、WS1＝0.65mmとなる（従来は、標準
散乱スリット幅WS＝0.35mmだけである）。こうすること
により、受光スリットRSを通過するＸ線はすべて散乱ス
リットSSを通過することになり、Ｘ線検出器におけるＸ
線検出強度が、従来よりも増加する。
Ｌ＝40mmの場合に、WS1＝0.65mmとなる（従来は、標準
散乱スリット幅WS＝0.35mmだけである）。こうすること
により、受光スリットRSを通過するＸ線はすべて散乱ス
リットSSを通過することになり、Ｘ線検出器におけるＸ
線検出強度が、従来よりも増加する。
通常のゴニオメータでは、発散スリットの発散角を何
種類か用意しており、また受光スリットのスリット幅も
何種類か用意している。例えば、発散スリットの発散角
を0.5°、１°、２°の３種類用意し、受光スリットの
スリット幅を0.15mm、0.3mm、0.6mmの３種類用意してい
る。この場合、散乱スリットのスリット幅の増加分Ｗを
受光スリットのスリット幅WRに等しくすれば、上述の
（２）式に従い、散乱スリットのスリット幅は合計９種
類用意する必要がある。ただし、これだけ用意するのが
大変であれば（従来は発散スリットの発散角の種類だ
け、すなわち３種類だけ用意していた）、発散角が比較
的大きい場合（１°と２°）は、受光スリットの３種類
のスリット幅に対して１種類の散乱スリットを用いるよ
うにしてもよい（すなわち、受光スリットのスリット幅
WR＝0.15mmのときの散乱スリットをWR＝0.3mmと0.6mmの
ときにも兼用する）。
種類か用意しており、また受光スリットのスリット幅も
何種類か用意している。例えば、発散スリットの発散角
を0.5°、１°、２°の３種類用意し、受光スリットの
スリット幅を0.15mm、0.3mm、0.6mmの３種類用意してい
る。この場合、散乱スリットのスリット幅の増加分Ｗを
受光スリットのスリット幅WRに等しくすれば、上述の
（２）式に従い、散乱スリットのスリット幅は合計９種
類用意する必要がある。ただし、これだけ用意するのが
大変であれば（従来は発散スリットの発散角の種類だ
け、すなわち３種類だけ用意していた）、発散角が比較
的大きい場合（１°と２°）は、受光スリットの３種類
のスリット幅に対して１種類の散乱スリットを用いるよ
うにしてもよい（すなわち、受光スリットのスリット幅
WR＝0.15mmのときの散乱スリットをWR＝0.3mmと0.6mmの
ときにも兼用する）。
次の表１は、発散角α＝0.5°、１°、２°の３種類
と、受光スリットのスリット幅WR＝0.15mm、0.3mm、0.6
mmの３種類による合計９種類の組み合わせに対して、散
乱スリットのスリット幅の増加分Ｗを実用的に選択した
一例を示し、併せて、そのときに実測したＸ線検出強度
の増加割合（標準発散スリット幅の散乱スリットを使用
したときの検出強度と比較した場合の増加割合）を示
す。各欄の上段が増加分Ｗ（mm）であり、下段が増加割
合（％）である。
と、受光スリットのスリット幅WR＝0.15mm、0.3mm、0.6
mmの３種類による合計９種類の組み合わせに対して、散
乱スリットのスリット幅の増加分Ｗを実用的に選択した
一例を示し、併せて、そのときに実測したＸ線検出強度
の増加割合（標準発散スリット幅の散乱スリットを使用
したときの検出強度と比較した場合の増加割合）を示
す。各欄の上段が増加分Ｗ（mm）であり、下段が増加割
合（％）である。
α＝１°と２°の場合は、各WRの値に対して、増加分
DWはすべて0.15mmに統一してあり、共通の散乱スリット
で済むようにしてある。この場合、検出強度の増加率は
いずれも10％以下であり、各WRの値に対してあえて別個
の散乱スリットを準備するほどの必要性は少ない。
DWはすべて0.15mmに統一してあり、共通の散乱スリット
で済むようにしてある。この場合、検出強度の増加率は
いずれも10％以下であり、各WRの値に対してあえて別個
の散乱スリットを準備するほどの必要性は少ない。
表１に示したＷの値以外にも、０＜Ｗ≦WRの条件を満
足する範囲で適当な値を選択することは可能である。Ｗ
＝０でない限り、従来の標準散乱スリット幅よりも散乱
スリットのスリット幅が大きくなり、Ｘ線検出強度が増
加することは間違いない。
足する範囲で適当な値を選択することは可能である。Ｗ
＝０でない限り、従来の標準散乱スリット幅よりも散乱
スリットのスリット幅が大きくなり、Ｘ線検出強度が増
加することは間違いない。
上記の実施例においては、散乱スリットを受光スリッ
トよりもＸ線検出器側に設置しているが、受光スリット
の試料側に散乱スリットを設置してもよい。この場合も
上記の実施例と同様の効果がある。
トよりもＸ線検出器側に設置しているが、受光スリット
の試料側に散乱スリットを設置してもよい。この場合も
上記の実施例と同様の効果がある。
［考案の効果］ 以上説明したようにこの考案は、散乱スリットのスリ
ット幅を標準散乱スリット幅よりも大きくし、散乱スリ
ットのスリット幅と標準散乱スリット幅との差が受光ス
リットのスリット幅を越えないようにしたので、従来よ
りもＸ線検出器での検出強度が増加する効果がある。
ット幅を標準散乱スリット幅よりも大きくし、散乱スリ
ットのスリット幅と標準散乱スリット幅との差が受光ス
リットのスリット幅を越えないようにしたので、従来よ
りもＸ線検出器での検出強度が増加する効果がある。
散乱スリットのスリット幅と標準散乱スリット幅との
差を受光スリットのスリット幅に等しくすれば、受光ス
リットを通過するＸ線のすべてが散乱スリットを通過で
きるようになり、Ｘ線検出強度のロスを最小にできる。
差を受光スリットのスリット幅に等しくすれば、受光ス
リットを通過するＸ線のすべてが散乱スリットを通過で
きるようになり、Ｘ線検出強度のロスを最小にできる。
第１図はこの考案の一実施例の受光スリットと散乱スリ
ットとを示す平面断面図、 第２図は従来のＸ線回折装置の平面図、 第３図は従来の受光スリットと散乱スリットとを示す平
面断面図である。 α……発散スリットの発散角 Ｌ……受光スリットと散乱スリットの間の距離 RS……受光スリット SS……散乱スリット WR……受光スリットのスリット幅 WS……標準散乱スリット幅 WS1……散乱スリットのスリット幅
ットとを示す平面断面図、 第２図は従来のＸ線回折装置の平面図、 第３図は従来の受光スリットと散乱スリットとを示す平
面断面図である。 α……発散スリットの発散角 Ｌ……受光スリットと散乱スリットの間の距離 RS……受光スリット SS……散乱スリット WR……受光スリットのスリット幅 WS……標準散乱スリット幅 WS1……散乱スリットのスリット幅
Claims (2)
- 【請求項１】発散スリットと受光スリットと散乱スリッ
トとを有するＸ線回折装置のゴニオメータにおいて、 受光スリットのスリット幅を零と仮定したときに受光ス
リットから散乱スリットまでの距離と発散スリットの発
散角とによって定まる散乱スリットのスリット幅を、標
準散乱スリット幅と定義すると、 散乱スリットのスリット幅を前記標準散乱スリット幅よ
りも大きくし、散乱スリットのスリット幅と前記標準散
乱スリット幅との差が受光スリットのスリット幅を越え
ないようにしたことを特徴とする、Ｘ線回折装置のゴニ
オメータ。 - 【請求項２】散乱スリットのスリット幅と前記標準散乱
スリット幅との差が受光スリットのスリット幅に等しい
ことを特徴とする、請求項１記載のＸ線回折装置のゴニ
オメータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1874590U JPH084602Y2 (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | Ｘ線回折装置のゴニオメータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1874590U JPH084602Y2 (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | Ｘ線回折装置のゴニオメータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03110359U JPH03110359U (ja) | 1991-11-12 |
| JPH084602Y2 true JPH084602Y2 (ja) | 1996-02-07 |
Family
ID=31521891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1874590U Expired - Lifetime JPH084602Y2 (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | Ｘ線回折装置のゴニオメータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH084602Y2 (ja) |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP1874590U patent/JPH084602Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03110359U (ja) | 1991-11-12 |
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