JPH084605Y2 - 蛍光ｘ線分析装置のフィルタ交換装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置のフィルタ交換装置Info
- Publication number
- JPH084605Y2 JPH084605Y2 JP931691U JP931691U JPH084605Y2 JP H084605 Y2 JPH084605 Y2 JP H084605Y2 JP 931691 U JP931691 U JP 931691U JP 931691 U JP931691 U JP 931691U JP H084605 Y2 JPH084605 Y2 JP H084605Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter substrate
- filter
- ray
- sample
- ray tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、蛍光Ｘ線分析装置に
おいて、Ｘ線管からの不純線を除去する複数種類のフィ
ルタを交換するフィルタ交換装置に関するものである。
おいて、Ｘ線管からの不純線を除去する複数種類のフィ
ルタを交換するフィルタ交換装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、蛍光Ｘ線分析装置において
は、Ｘ線管の前方にフィルタを設ける場合がある。フィ
ルタを設けることで、微量分析におけるＸ線管からの不
純線の除去や、Ｘ線管の特性Ｘ線の除去、あるいは、P
b, Asの分析におけるバックグラウンドの減少などによ
って、S/N 比を向上させる効果が得られる。
は、Ｘ線管の前方にフィルタを設ける場合がある。フィ
ルタを設けることで、微量分析におけるＸ線管からの不
純線の除去や、Ｘ線管の特性Ｘ線の除去、あるいは、P
b, Asの分析におけるバックグラウンドの減少などによ
って、S/N 比を向上させる効果が得られる。
【０００３】フィルタは、その種類によって、除去でき
る特性Ｘ線が異なる。そのため、従来より、１つのフィ
ルタ基板に複数種類のフィルタを設け、フィルタ基板を
スライド移動させることにより、フィルタを交換できる
フィルタ交換装置がある。この一例を図３および図４に
示す。
る特性Ｘ線が異なる。そのため、従来より、１つのフィ
ルタ基板に複数種類のフィルタを設け、フィルタ基板を
スライド移動させることにより、フィルタを交換できる
フィルタ交換装置がある。この一例を図３および図４に
示す。
【０００４】図３において、Ｘ線管50は、その先端部が
照射室51に挿入されており、試料52に向かって一次Ｘ線
B1を出射する。一次Ｘ線B1は、Ｘ線管50と試料52との間
に設けられたフィルタ61を通過することで、所定の特性
Ｘ線が除去されて、試料52に入射する。入射した一次Ｘ
線B1は、試料52の原子を励起して、その元素固有の蛍光
Ｘ線B2を発生させる。試料52からの蛍光Ｘ線B2は、分析
室54内のソーラスリット55を通った後、分光器56によっ
て分光され、Ｘ線検出器57に入射して検出される。この
検出値に基づいて試料52の元素分析がなされる。
照射室51に挿入されており、試料52に向かって一次Ｘ線
B1を出射する。一次Ｘ線B1は、Ｘ線管50と試料52との間
に設けられたフィルタ61を通過することで、所定の特性
Ｘ線が除去されて、試料52に入射する。入射した一次Ｘ
線B1は、試料52の原子を励起して、その元素固有の蛍光
Ｘ線B2を発生させる。試料52からの蛍光Ｘ線B2は、分析
室54内のソーラスリット55を通った後、分光器56によっ
て分光され、Ｘ線検出器57に入射して検出される。この
検出値に基づいて試料52の元素分析がなされる。
【０００５】上記Ｘ線管50は、所定の入射角を得るため
に、その軸線Ｃが試料表面53に対して、斜めに設定され
ている。また、試料表面53における単位面積当たりの一
次Ｘ線B1の強度 (Ｘ線輝度) を大きくするために、Ｘ線
管50の先端面58が試料52に対して近接して配置されてい
る。
に、その軸線Ｃが試料表面53に対して、斜めに設定され
ている。また、試料表面53における単位面積当たりの一
次Ｘ線B1の強度 (Ｘ線輝度) を大きくするために、Ｘ線
管50の先端面58が試料52に対して近接して配置されてい
る。
【０００６】上記フィルタ61は図４に示すように、他の
フィルタ62, 63とともに、フィルタ基板60に設けられて
いる。上記フィルタ基板60は、図３のＸ線管50の先端面
58に近接した状態で上記フィルタ61〜63が並ぶ方向 (紙
面に垂直な方向) に移動自在に配置されている。上記フ
ィルタ基板60は、図示しない駆動機によって移動され、
各フィルタ61〜63が選択的に、Ｘ線管50の先端面58に対
向する位置で停止される。
フィルタ62, 63とともに、フィルタ基板60に設けられて
いる。上記フィルタ基板60は、図３のＸ線管50の先端面
58に近接した状態で上記フィルタ61〜63が並ぶ方向 (紙
面に垂直な方向) に移動自在に配置されている。上記フ
ィルタ基板60は、図示しない駆動機によって移動され、
各フィルタ61〜63が選択的に、Ｘ線管50の先端面58に対
向する位置で停止される。
【０００７】
【考案が解決しようとする課題】上記従来技術では、図
４のフィルタ基板60が、二点鎖線で示すように、直線的
に移動するので、フィルタ基板60の移動スペースが大き
くなり、そのため、蛍光Ｘ線分析装置全体が大型化す
る。
４のフィルタ基板60が、二点鎖線で示すように、直線的
に移動するので、フィルタ基板60の移動スペースが大き
くなり、そのため、蛍光Ｘ線分析装置全体が大型化す
る。
【０００８】そこで、フィルタ基板60を円形にして、回
転させることが考えられる。しかし、前述のように、図
３のＸ線管50の先端面58と試料52とが近接しており、か
つ、Ｘ線管50の軸線Ｃが試料表面53に対して斜めに設定
されているので、円形のフィルタ基板をＸ線管50の先端
面58に沿って配置しようとしても、試料53に干渉する。
したがって、円形のフィルタ基板では、Ｘ線管50と試料
53との間に配置することができない。
転させることが考えられる。しかし、前述のように、図
３のＸ線管50の先端面58と試料52とが近接しており、か
つ、Ｘ線管50の軸線Ｃが試料表面53に対して斜めに設定
されているので、円形のフィルタ基板をＸ線管50の先端
面58に沿って配置しようとしても、試料53に干渉する。
したがって、円形のフィルタ基板では、Ｘ線管50と試料
53との間に配置することができない。
【０００９】この考案は上記従来の欠点に鑑みてなされ
たもので、フィルタ基板の移動スペースを不要にして、
蛍光Ｘ線分析装置全体を小型化することができるフィル
タ交換装置を提供することを目的とする。
たもので、フィルタ基板の移動スペースを不要にして、
蛍光Ｘ線分析装置全体を小型化することができるフィル
タ交換装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この考案は、Ｘ線管と試料との間に配置するフィル
タ基板を円環状の平板で形成し、上記フィルタ基板の内
周縁または外周縁に摺接する３つ以上の支持ローラを設
けて、上記フィルタ基板を回転自在に支持している。
に、この考案は、Ｘ線管と試料との間に配置するフィル
タ基板を円環状の平板で形成し、上記フィルタ基板の内
周縁または外周縁に摺接する３つ以上の支持ローラを設
けて、上記フィルタ基板を回転自在に支持している。
【００１１】
【作用】この考案によれば、フィルタ基板を円環状の平
板で構成したから、フィルタ基板の中央の孔の部分に試
料を入り込ませて、フィルタ基板と試料との干渉を防止
することができる。
板で構成したから、フィルタ基板の中央の孔の部分に試
料を入り込ませて、フィルタ基板と試料との干渉を防止
することができる。
【００１２】
【実施例】以下、この考案の一実施例を図面にしたがっ
て説明する。図１において、Ｘ線管50と試料52との間に
は、円環状の平板で構成されたフィルタ基板10が配設さ
れている。このフィルタ基板10の中央の大きな孔17に
は、試料52の一部が入り込んでいる
て説明する。図１において、Ｘ線管50と試料52との間に
は、円環状の平板で構成されたフィルタ基板10が配設さ
れている。このフィルタ基板10の中央の大きな孔17に
は、試料52の一部が入り込んでいる
【００１３】図２は図１の２−２線矢視図である。この
図に示すように、上記フィルタ基板10には、４枚の種類
の異なる第１ないし第４のフィルタ11〜14と、Ｘ線通過
孔15と遮へい部16とが、等角度ピッチで設けられてい
る。各フィルタ11〜14は、Ni,Al, TiまたはZrなどの箔
からなり、フィルタ基板10を円形に切欠した小さなＸ線
絞り窓18の部分を閉塞するように、図示しない押え板で
フィルタ基板10に固定されている。なお、遮へい部16
は、フィルタ基板10そのもので構成されている。
図に示すように、上記フィルタ基板10には、４枚の種類
の異なる第１ないし第４のフィルタ11〜14と、Ｘ線通過
孔15と遮へい部16とが、等角度ピッチで設けられてい
る。各フィルタ11〜14は、Ni,Al, TiまたはZrなどの箔
からなり、フィルタ基板10を円形に切欠した小さなＸ線
絞り窓18の部分を閉塞するように、図示しない押え板で
フィルタ基板10に固定されている。なお、遮へい部16
は、フィルタ基板10そのもので構成されている。
【００１４】上記フィルタ基板10の内周縁19には、３つ
の支持ローラ20が摺接されており、フィルタ基板10が回
転自在に支持されている。この支持ローラ20は、図１の
照射室51のケース59に回転自在に軸支されている。この
支持ローラ20は、外周にＶ型の溝21を有しており、この
Ｖ型の溝21に、フィルタ基板10の内周線19が嵌まり込ん
で、フィルタ基板10が軸方向 (上下方向) Ｓに支持され
ている。
の支持ローラ20が摺接されており、フィルタ基板10が回
転自在に支持されている。この支持ローラ20は、図１の
照射室51のケース59に回転自在に軸支されている。この
支持ローラ20は、外周にＶ型の溝21を有しており、この
Ｖ型の溝21に、フィルタ基板10の内周線19が嵌まり込ん
で、フィルタ基板10が軸方向 (上下方向) Ｓに支持され
ている。
【００１５】上記フィルタ基板10の外周には、従動ギヤ
10a が一体に形成されている。この従動ギヤ10a は駆動
ギヤ22にかみ合っており、フィルタ基板10が回転駆動さ
れることで、各フィルタ11〜14が選択的にＸ線管50の先
端面58に対向する。なお、駆動ギヤ22は、照射室51の外
方に設けたモータ (図示せず) のような駆動機によって
回転駆動される。
10a が一体に形成されている。この従動ギヤ10a は駆動
ギヤ22にかみ合っており、フィルタ基板10が回転駆動さ
れることで、各フィルタ11〜14が選択的にＸ線管50の先
端面58に対向する。なお、駆動ギヤ22は、照射室51の外
方に設けたモータ (図示せず) のような駆動機によって
回転駆動される。
【００１６】上記Ｘ線管50の外周囲における分析室側54
には、遮へい板23が設けられている。この遮へい板23
は、フィルタ14およびフィルタ基板10自体から発生する
蛍光Ｘ線が分析室54内のソーラスリット55に進入するの
を防止するためのもので、図２のように、フィルタ基板
10の外周に沿った円弧状の板で形成されている。
には、遮へい板23が設けられている。この遮へい板23
は、フィルタ14およびフィルタ基板10自体から発生する
蛍光Ｘ線が分析室54内のソーラスリット55に進入するの
を防止するためのもので、図２のように、フィルタ基板
10の外周に沿った円弧状の板で形成されている。
【００１７】その他の構成は図３の従来例と同様であ
り、同一部分または相当部分に同一符号を付して、その
詳しい説明および図示を省略する。
り、同一部分または相当部分に同一符号を付して、その
詳しい説明および図示を省略する。
【００１８】つぎに、上記構成の動作について説明す
る。まず、Cd-Kα線の測定をする場合には、図１のZrか
らなる第４のフィルタ14をＸ線管50の先端面58に対向さ
せることにより、Rh-Kα線を除去することができる。一
方、Pb-Lα線の測定をする場合には、図示しないモータ
を所定回転数駆動させて、フィルタ基板10を 180°回転
させ、Niからなる第１のフィルタ11をＸ線管50の先端面
58に対向させる。これにより、バッググラウンドを減少
させることができる。
る。まず、Cd-Kα線の測定をする場合には、図１のZrか
らなる第４のフィルタ14をＸ線管50の先端面58に対向さ
せることにより、Rh-Kα線を除去することができる。一
方、Pb-Lα線の測定をする場合には、図示しないモータ
を所定回転数駆動させて、フィルタ基板10を 180°回転
させ、Niからなる第１のフィルタ11をＸ線管50の先端面
58に対向させる。これにより、バッググラウンドを減少
させることができる。
【００１９】上記構成において、この考案は、フィルタ
基板10を円環状の平板で形成したから、フィルタ基板10
の中央の大きな孔17に試料52の一部を入り込ませること
ができる。そのため、フィルタ基板10が試料52と干渉し
ないから、フィルタ基板10を回転させて、各フィルタ11
〜14を交換することができるので、フィルタ基板10の移
動スペースが不要になる。したがって、装置全体が小型
になる。
基板10を円環状の平板で形成したから、フィルタ基板10
の中央の大きな孔17に試料52の一部を入り込ませること
ができる。そのため、フィルタ基板10が試料52と干渉し
ないから、フィルタ基板10を回転させて、各フィルタ11
〜14を交換することができるので、フィルタ基板10の移
動スペースが不要になる。したがって、装置全体が小型
になる。
【００２０】ところで、一次Ｘ線B1は、フィルタ11〜14
やフィルタ基板10に入射するので、フィルタ11〜14など
からも蛍光Ｘ線が発生するから、これを遮へいする必要
がある。これに対し、この実施例は、Ｘ線管50における
分析室54側の外周に遮へい板23を設けているので、上記
蛍光Ｘ線を遮へいすることができる。
やフィルタ基板10に入射するので、フィルタ11〜14など
からも蛍光Ｘ線が発生するから、これを遮へいする必要
がある。これに対し、この実施例は、Ｘ線管50における
分析室54側の外周に遮へい板23を設けているので、上記
蛍光Ｘ線を遮へいすることができる。
【００２１】なお、フィルタ11〜14は、Ｘ線管50および
試料52のマスクを兼ねており、一次Ｘ線B1の試料52に入
射する有効照射範囲を決定するという効果もある。
試料52のマスクを兼ねており、一次Ｘ線B1の試料52に入
射する有効照射範囲を決定するという効果もある。
【００２２】ところで、上記実施例では、フィルタ基板
10の内周縁19を支持ローラ20で支持し、外周縁に従動ギ
ヤ10a を形成したが、逆にしてもよい。つまり、フィル
タ基板10の外周縁を支持ローラ20で支持し、内周縁に従
動ギヤ10a を形成してもよい。
10の内周縁19を支持ローラ20で支持し、外周縁に従動ギ
ヤ10a を形成したが、逆にしてもよい。つまり、フィル
タ基板10の外周縁を支持ローラ20で支持し、内周縁に従
動ギヤ10a を形成してもよい。
【００２３】また、上記実施例では、フィルタ基板10に
従動ギヤ10a を一体形成して、フィルタ基板10を回転さ
せたが、必ずしも、そうする必要はない。たとえば、フ
ィルタ基板10をタイミングベルトによって駆動してもよ
い。また、上記実施例では３つの支持ローラ20によって
フィルタ基板10を支持したが、支持ローラ20は４つ以上
設けてもよい。
従動ギヤ10a を一体形成して、フィルタ基板10を回転さ
せたが、必ずしも、そうする必要はない。たとえば、フ
ィルタ基板10をタイミングベルトによって駆動してもよ
い。また、上記実施例では３つの支持ローラ20によって
フィルタ基板10を支持したが、支持ローラ20は４つ以上
設けてもよい。
【００２４】
【考案の効果】以上説明したように、この考案によれ
ば、フィルタを取り付けるフィルタ基板が、円環状の平
板で形成されているから、フィルタ基板の中央の孔の部
分に試料の一部が入り込むので、フィルタ基板と試料と
の干渉を防止することができる。したがって、フィルタ
基板を回転させて、フィルタを交換できるから、フィル
タ基板の移動スペースが不要になるので、蛍光Ｘ線分析
装置が小型になる。
ば、フィルタを取り付けるフィルタ基板が、円環状の平
板で形成されているから、フィルタ基板の中央の孔の部
分に試料の一部が入り込むので、フィルタ基板と試料と
の干渉を防止することができる。したがって、フィルタ
基板を回転させて、フィルタを交換できるから、フィル
タ基板の移動スペースが不要になるので、蛍光Ｘ線分析
装置が小型になる。
【図１】この考案の一実施例を示すフィルタ交換装置の
縦断面図である。
縦断面図である。
【図２】図１の２−２線矢視図である。
【図３】従来の蛍光Ｘ線分析装置を示す概略構成図であ
る。
る。
【図４】従来のフィルタ基板を示す平面図である。
10…フィルタ基板、11〜14…フィルタ、19…内周縁、20
…支持ローラ、50…Ｘ線管、51…照射室、52…試料、53
…試料表面、58…先端面、B1…一次Ｘ線、Ｃ…軸線。
…支持ローラ、50…Ｘ線管、51…照射室、52…試料、53
…試料表面、58…先端面、B1…一次Ｘ線、Ｃ…軸線。
Claims (1)
- 【請求項１】 試料に一次Ｘ線を照射するＸ線管の先端
部を照射室に挿入するとともに、上記Ｘ線管の軸線を試
料表面に対して斜めに設定し、フィルタ基板上に設けた
複数種類のフィルタを選択的に上記Ｘ線管の先端面に対
向させる駆動機を備えた蛍光Ｘ線分析装置のフィルタ交
換装置において、上記フィルタ基板を円環状の平板で形
成し、上記フィルタ基板の内周縁または外周縁に摺接す
る３つ以上の支持ローラを設けて、上記フィルタ基板を
回転自在に支持したことを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置
のフィルタ交換装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP931691U JPH084605Y2 (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 蛍光ｘ線分析装置のフィルタ交換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP931691U JPH084605Y2 (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 蛍光ｘ線分析装置のフィルタ交換装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0499062U JPH0499062U (ja) | 1992-08-27 |
| JPH084605Y2 true JPH084605Y2 (ja) | 1996-02-07 |
Family
ID=31741921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP931691U Expired - Lifetime JPH084605Y2 (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 蛍光ｘ線分析装置のフィルタ交換装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH084605Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030010004A (ko) * | 2001-07-25 | 2003-02-05 | 현대자동차주식회사 | 차콜캐니스터용 에어필터장치 |
| US8915234B2 (en) | 2010-10-25 | 2014-12-23 | Briggs & Stratton Corporation | Fuel cap |
-
1991
- 1991-01-30 JP JP931691U patent/JPH084605Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030010004A (ko) * | 2001-07-25 | 2003-02-05 | 현대자동차주식회사 | 차콜캐니스터용 에어필터장치 |
| US8915234B2 (en) | 2010-10-25 | 2014-12-23 | Briggs & Stratton Corporation | Fuel cap |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0499062U (ja) | 1992-08-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5198680A (en) | High precision single focus collimator and method for manufacturing high precision single focus collimator | |
| JP3706110B2 (ja) | Ｘ線分析装置及びｘ線分析方法 | |
| DE60031926T2 (de) | Gasanalysator | |
| US9322792B2 (en) | X-ray diffraction apparatus and method of measuring X-ray diffraction | |
| JPH084605Y2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置のフィルタ交換装置 | |
| US3903414A (en) | Triple-mode spectrodiffractomer for measuring diffraction, fluorescence, and absorbtion on a single instrument | |
| JP2000504422A (ja) | ２つのコリメータマスクを有するｘ線分析装置 | |
| JP3703125B2 (ja) | Ｘ線装置及びｘ線測定方法 | |
| JPH1144662A (ja) | 微小部ｘ線分析装置 | |
| JP3869988B2 (ja) | 表面分析機器におけるスペクトル表示装置 | |
| JPS6311640Y2 (ja) | ||
| JP2697154B2 (ja) | 原子吸光分光光度計 | |
| JP2584946Y2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP3677766B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPH0120680Y2 (ja) | ||
| EP0282029B1 (de) | Einrichtung zur Messung der aus dem Halbraum oder Raum kommenden elektromagnetischen Strahlung | |
| JP3569038B2 (ja) | Ｘ線ｃｔ装置のスキャナー構造 | |
| JP3222720B2 (ja) | 波長分散型ｘ線検出装置 | |
| JPH0738843Y2 (ja) | エネルギー分散型蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP3553362B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP2658127B2 (ja) | 薄層のｘ線分光分析方法 | |
| JPH06235706A (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP2009253174A (ja) | 半導体基板の不純物分析方法と不純物分析装置 | |
| JPH0448560Y2 (ja) | ||
| JPH0432603Y2 (ja) |