JPH0848010A - 積層フィルム - Google Patents
積層フィルムInfo
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- JPH0848010A JPH0848010A JP18375594A JP18375594A JPH0848010A JP H0848010 A JPH0848010 A JP H0848010A JP 18375594 A JP18375594 A JP 18375594A JP 18375594 A JP18375594 A JP 18375594A JP H0848010 A JPH0848010 A JP H0848010A
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- laminated film
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Abstract
(57)【要約】
【構成】基材フィルム(I)の上に、放射線硬化性層
(II)を積層してなる積層フィルムにおいて、基材フィ
ルム(I)がポリアルキレンナフタレートフィルムであ
ることを特徴とする積層フィルム。 【効果】表面硬度、耐摩耗性、耐スクラッチ性、可撓
性、表面均一性に優れ、熱収縮率が小さく、高速硬化性
に優れ、透明なものから白色性、隠蔽性、着色性のもの
まで光学的にも優れ、滑り性がよく加工適性、取り扱い
性に優れ、カールのきわめて少ない積層フィルムが得ら
れる。
(II)を積層してなる積層フィルムにおいて、基材フィ
ルム(I)がポリアルキレンナフタレートフィルムであ
ることを特徴とする積層フィルム。 【効果】表面硬度、耐摩耗性、耐スクラッチ性、可撓
性、表面均一性に優れ、熱収縮率が小さく、高速硬化性
に優れ、透明なものから白色性、隠蔽性、着色性のもの
まで光学的にも優れ、滑り性がよく加工適性、取り扱い
性に優れ、カールのきわめて少ない積層フィルムが得ら
れる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリアルキレンナフタ
レートフィルムを基材としてその上に放射線硬化樹脂を
積層した積層フィルムに関する。さらに詳しくは、表面
硬度、耐摩耗性、耐スクラッチ性、可撓性に優れ、さら
に、表面均一性、熱収縮率が小さく、高速硬化性に優
れ、カールのきわめて少ない積層フィルムに関する。
レートフィルムを基材としてその上に放射線硬化樹脂を
積層した積層フィルムに関する。さらに詳しくは、表面
硬度、耐摩耗性、耐スクラッチ性、可撓性に優れ、さら
に、表面均一性、熱収縮率が小さく、高速硬化性に優
れ、カールのきわめて少ない積層フィルムに関する。
【0002】
【従来技術】従来、プラスチックフィルムの表面を硬度
化する方法として放射線硬化性層を施す方法が知られて
いるが、とりわけポリエチレンテレフタレートフィルム
にこれらの層を施したものでは、一般に放射性硬化反応
性単量体の硬化時の収縮率が大きいためにカールが生じ
る問題があった。放射線硬化性層の表面硬度は厚みと密
接な関係があり、一定の表面硬度を得るためには一定以
上の厚みが必要であり、一方放射線硬化性層が薄い場合
にはカールは目立ち難いが、これでは十分な表面硬度が
得られず、十分な表面硬度を得ようとすると一定以上の
厚みが必要となり、カールが大きくなるという問題があ
った。
化する方法として放射線硬化性層を施す方法が知られて
いるが、とりわけポリエチレンテレフタレートフィルム
にこれらの層を施したものでは、一般に放射性硬化反応
性単量体の硬化時の収縮率が大きいためにカールが生じ
る問題があった。放射線硬化性層の表面硬度は厚みと密
接な関係があり、一定の表面硬度を得るためには一定以
上の厚みが必要であり、一方放射線硬化性層が薄い場合
にはカールは目立ち難いが、これでは十分な表面硬度が
得られず、十分な表面硬度を得ようとすると一定以上の
厚みが必要となり、カールが大きくなるという問題があ
った。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る問題点を改善し、表面硬度、耐摩耗性、耐スクラッチ
性、可撓性に優れ、さらに、表面均一性、熱収縮率が小
さく、高速硬化性に優れ、カールのきわめて少なく、さ
らに耐熱性、機械強度に優れ、透明なものから白色性、
隠蔽性のものまで光学的にも優れた積層フィルムを提供
せんとするものである。
る問題点を改善し、表面硬度、耐摩耗性、耐スクラッチ
性、可撓性に優れ、さらに、表面均一性、熱収縮率が小
さく、高速硬化性に優れ、カールのきわめて少なく、さ
らに耐熱性、機械強度に優れ、透明なものから白色性、
隠蔽性のものまで光学的にも優れた積層フィルムを提供
せんとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため次の構成、すなわち、基材フィルム(I)の上
に、放射線硬化性層(II)を積層してなる積層フィルム
において、基材フィルム(I)がポリアルキレンナフタ
レートフィルムであることを特徴とする積層フィルム。
するため次の構成、すなわち、基材フィルム(I)の上
に、放射線硬化性層(II)を積層してなる積層フィルム
において、基材フィルム(I)がポリアルキレンナフタ
レートフィルムであることを特徴とする積層フィルム。
【0005】本発明の基材フィルムの材質は、ポリアル
キレンナフタレートであり、ポリエステルフィルムはエ
ステル結合を主鎖の主要な結合鎖とする高分子フィルム
の総称であるが、特に好ましいポリエステルとしては、
ポリエチレン2,6−ナフタレート、ポリエチレンα,
β−ビス(2−クロルフェノキシ)エタン4,4’−ジ
カルボキシレート、ポリブチレン2,6−ナフタレート
などであり、これらの中でも品質等を総合的に勘案する
と、ポリエチレン2,6−ナフタレート(以下、PEN
と略称することもある。)が最も好ましい。また、この
ポリアルキレンナフタレートの中に公知の添加剤、例え
ば、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、耐候安定剤、紫外線吸
収剤、有機の易滑剤、顔料、有機または無機の微粒子、
離型剤、帯電防止剤、核剤などを配合しても良い。
キレンナフタレートであり、ポリエステルフィルムはエ
ステル結合を主鎖の主要な結合鎖とする高分子フィルム
の総称であるが、特に好ましいポリエステルとしては、
ポリエチレン2,6−ナフタレート、ポリエチレンα,
β−ビス(2−クロルフェノキシ)エタン4,4’−ジ
カルボキシレート、ポリブチレン2,6−ナフタレート
などであり、これらの中でも品質等を総合的に勘案する
と、ポリエチレン2,6−ナフタレート(以下、PEN
と略称することもある。)が最も好ましい。また、この
ポリアルキレンナフタレートの中に公知の添加剤、例え
ば、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、耐候安定剤、紫外線吸
収剤、有機の易滑剤、顔料、有機または無機の微粒子、
離型剤、帯電防止剤、核剤などを配合しても良い。
【0006】上記ポリアルキレンナフタレートフィルム
は未配向、一軸配向、二軸配向のいずれでも用い得るが
機械的強度が優れていることから二軸配向フィルムが好
ましい。二軸配向フィルムは無延伸状態のシートまたは
フィルムを長手方向および幅方向のいわゆる二軸方向に
各々2.5〜5倍程度延伸されて作られるものであり、
広角X線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。
は未配向、一軸配向、二軸配向のいずれでも用い得るが
機械的強度が優れていることから二軸配向フィルムが好
ましい。二軸配向フィルムは無延伸状態のシートまたは
フィルムを長手方向および幅方向のいわゆる二軸方向に
各々2.5〜5倍程度延伸されて作られるものであり、
広角X線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。
【0007】基材フィルムの厚さは、特に限定されず、
例えば積層フィルムに要求される腰の強さ等から、25
〜500μm程度の範囲から適当な厚みを設定すること
ができる。
例えば積層フィルムに要求される腰の強さ等から、25
〜500μm程度の範囲から適当な厚みを設定すること
ができる。
【0008】この基材フィルムは、その150℃の熱収
縮率が0.5%以下であることが好ましい。このように
基材フィルムの熱収縮率を低く抑えることにより、硬化
性層が硬化収縮した後でも、積層フィルムとしてシワや
カールを抑制することができる。
縮率が0.5%以下であることが好ましい。このように
基材フィルムの熱収縮率を低く抑えることにより、硬化
性層が硬化収縮した後でも、積層フィルムとしてシワや
カールを抑制することができる。
【0009】また、本発明においては、基材フィルムは
目的に応じて光学的に透明なものや、必要に応じて、白
色、隠蔽性のあるものなどの中から適宜選択して使用す
ることができる。いわゆるノングレアや白色、隠蔽性、
着色性の積層フィルムを所望のときには、例えば、透明
なフィルム支持体の上にノングレア、白色や隠蔽性、着
色性の硬度化層を積層したり、ノングレア、白色や隠蔽
性、着色性のフィルム支持体の上に、透明、ノングレ
ア、白色や隠蔽性、着色性の硬度化層を積層して製造す
ることができる。
目的に応じて光学的に透明なものや、必要に応じて、白
色、隠蔽性のあるものなどの中から適宜選択して使用す
ることができる。いわゆるノングレアや白色、隠蔽性、
着色性の積層フィルムを所望のときには、例えば、透明
なフィルム支持体の上にノングレア、白色や隠蔽性、着
色性の硬度化層を積層したり、ノングレア、白色や隠蔽
性、着色性のフィルム支持体の上に、透明、ノングレ
ア、白色や隠蔽性、着色性の硬度化層を積層して製造す
ることができる。
【0010】本発明に用いる基材フィルムは、ポリエス
テル中に白色無機粒子を含有させることにより白色化さ
せているものを用いることもできる。白色無機粒子と
は、公知の無着色に近い無機粒子をいい、炭酸カルシウ
ム、非晶質ゼオライト粒子、酸化チタン、リン酸カルシ
ウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、シリカ、アルミ
ナ、カオリン、タルク、クレーなどがあげられる。この
ような無機粒子以外にもポリエステル重合反応系で触媒
残査とリン化合物との反応により析出した微粒子を用い
ることもできる。
テル中に白色無機粒子を含有させることにより白色化さ
せているものを用いることもできる。白色無機粒子と
は、公知の無着色に近い無機粒子をいい、炭酸カルシウ
ム、非晶質ゼオライト粒子、酸化チタン、リン酸カルシ
ウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、シリカ、アルミ
ナ、カオリン、タルク、クレーなどがあげられる。この
ような無機粒子以外にもポリエステル重合反応系で触媒
残査とリン化合物との反応により析出した微粒子を用い
ることもできる。
【0011】本発明においては、基材フィルムの比重
は、特に限定されないが、低比重で白色性に優れた積層
フィルムが望まれる場合には、比重が1.3以下、好ま
しくは1.2以下であるものが好ましく使用される。基
材フィルムがPENフィルムの場合、その比重を1.3
以下に抑えるには、例えば、以下に述べるような特別な
工夫が必要となる。
は、特に限定されないが、低比重で白色性に優れた積層
フィルムが望まれる場合には、比重が1.3以下、好ま
しくは1.2以下であるものが好ましく使用される。基
材フィルムがPENフィルムの場合、その比重を1.3
以下に抑えるには、例えば、以下に述べるような特別な
工夫が必要となる。
【0012】まず、PENフィルム中に非相溶ポリマー
を分散混合させると、とくに該PENをフィルムに延伸
する際に、非相溶ポリマー周りにボイドが形成され、そ
の分比重が低く抑えられると同時に、フィルムが多数の
ボイドにより白色化される。このようにして得られた基
材フィルムとしてのPENフィルムは、通常のPENフ
ィルムに比べて低比重であるとともに、優れた白色度お
よびクッション性を有する。上記分散混合される非相溶
ポリマーのフィルム中での形状係数は、1〜4であるこ
とが好ましい。また、非相溶ポリマーにより形成された
フィルム中でのボイドの平均球相当径は、1μm〜10
μmであることが好ましい。
を分散混合させると、とくに該PENをフィルムに延伸
する際に、非相溶ポリマー周りにボイドが形成され、そ
の分比重が低く抑えられると同時に、フィルムが多数の
ボイドにより白色化される。このようにして得られた基
材フィルムとしてのPENフィルムは、通常のPENフ
ィルムに比べて低比重であるとともに、優れた白色度お
よびクッション性を有する。上記分散混合される非相溶
ポリマーのフィルム中での形状係数は、1〜4であるこ
とが好ましい。また、非相溶ポリマーにより形成された
フィルム中でのボイドの平均球相当径は、1μm〜10
μmであることが好ましい。
【0013】上記非相溶ポリマーとしては、PENと非
相溶なポリマーであればとくに限定しないが、好ましく
は、メチルブテンポリマー、メチルペンテンポリマー、
スチレン系ポリマー、フッ素系ポリマー、セルロースア
セテート、セルロースプロピオネートポリマーから選ば
れた融点200℃以上のポリマーである。
相溶なポリマーであればとくに限定しないが、好ましく
は、メチルブテンポリマー、メチルペンテンポリマー、
スチレン系ポリマー、フッ素系ポリマー、セルロースア
セテート、セルロースプロピオネートポリマーから選ば
れた融点200℃以上のポリマーである。
【0014】また、基材フィルムの比重を低く抑えるに
は、上記非相溶ポリマーの分散混合とともに、あるいは
非相溶ポリマーの分散混合とは別個に低比重化のみを目
的として、PENフィルム中に低比重化剤を含有させる
ことも有効である。低比重化剤とは、PEN中に添加し
て比重を小さくする効果を持つ化合物のことであり、特
定の化合物のみにその効果が認められる。例えば、低比
重化剤として、ポリアルキレングリコール、エチレンオ
キサイド/プロピレンオキサイド共重合体、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩及びそれら
の変性体およびそれらとポリエステルの共重合体から選
ぶことができる。
は、上記非相溶ポリマーの分散混合とともに、あるいは
非相溶ポリマーの分散混合とは別個に低比重化のみを目
的として、PENフィルム中に低比重化剤を含有させる
ことも有効である。低比重化剤とは、PEN中に添加し
て比重を小さくする効果を持つ化合物のことであり、特
定の化合物のみにその効果が認められる。例えば、低比
重化剤として、ポリアルキレングリコール、エチレンオ
キサイド/プロピレンオキサイド共重合体、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩及びそれら
の変性体およびそれらとポリエステルの共重合体から選
ぶことができる。
【0015】本発明のポリアルキレンナフタレートフィ
ルムは、さらに少なくとも片面の最表層が、不活性粒
子を含有させて表面に均一な凹凸を形成させたポリエス
テルの層(IV)であったり、粒子に頼ることなくポリ
エステルの結晶化を利用して表面に所望の微細突起を形
成させたポリエステルの層(V)であると、走行性、滑
り性に優れ、加工適性、取り扱い性等が一段と向上し好
ましい。
ルムは、さらに少なくとも片面の最表層が、不活性粒
子を含有させて表面に均一な凹凸を形成させたポリエス
テルの層(IV)であったり、粒子に頼ることなくポリ
エステルの結晶化を利用して表面に所望の微細突起を形
成させたポリエステルの層(V)であると、走行性、滑
り性に優れ、加工適性、取り扱い性等が一段と向上し好
ましい。
【0016】においては、該最表層の厚み(tμm)
と該粒子の平均粒径(dμm)の関係が、 0.1≦t/d≦10 の範囲にあり、粒子含有量が0.1〜50重量%で、該
最表層の厚さが0.005〜3μmであり、かつPEN
を主要構成成分とするポリエステルの層を積層するのが
好ましい。t/dが上記範囲より大きくても小さくて
も、走行性、滑り性が悪化し易く、好ましくない。該粒
子含有量が0.1重量%未満では、走行性、滑り性が悪
化し易く、一方50重量%を超えると膜強度が低下し易
く、それぞれ好ましくない。該最表層の厚みが0.01
μm未満では、走行性、滑り性が悪化し易く、一方3μ
mを越えると膜強度が低下し易く、それぞれ好ましくな
い。該最表層はエチレンナフタレートを主要構成成分と
し、80重量%以上のPENからなることが好ましい
が、PENと他のポリエステルとをブレンドしたもの、
またはPENと他のポリエステルとの共重合体からなる
ものであってもよい。また本発明の目的を損なわない範
囲で、異種ポリマーをブレンドしてもよいし、また酸化
防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加
剤が通常添加される程度に添加されていてもよい。該不
活性粒子としては特に限定されないが、コロイダルシリ
カ、炭酸カルシウム、二酸化チタン、アルミナ、架橋高
分子(例えば架橋ポリスチレンなど)で、平均粒径は最
表層の厚みの0.1〜10倍、好ましくは、0.5〜5
倍、さらに好ましくは、1.1〜3倍の範囲であること
が望ましい。上記範囲より小さくても、大きくても走行
性が悪化し易く好ましくない。該不活性粒子の大きさ
は、最表層中での平均粒径(直径)が0.007〜0.
5μmが好ましく、さらに好ましくは0.02〜0.4
5μmの範囲の場合に、走行性等がよりー層良好となる
のでも望ましい。
と該粒子の平均粒径(dμm)の関係が、 0.1≦t/d≦10 の範囲にあり、粒子含有量が0.1〜50重量%で、該
最表層の厚さが0.005〜3μmであり、かつPEN
を主要構成成分とするポリエステルの層を積層するのが
好ましい。t/dが上記範囲より大きくても小さくて
も、走行性、滑り性が悪化し易く、好ましくない。該粒
子含有量が0.1重量%未満では、走行性、滑り性が悪
化し易く、一方50重量%を超えると膜強度が低下し易
く、それぞれ好ましくない。該最表層の厚みが0.01
μm未満では、走行性、滑り性が悪化し易く、一方3μ
mを越えると膜強度が低下し易く、それぞれ好ましくな
い。該最表層はエチレンナフタレートを主要構成成分と
し、80重量%以上のPENからなることが好ましい
が、PENと他のポリエステルとをブレンドしたもの、
またはPENと他のポリエステルとの共重合体からなる
ものであってもよい。また本発明の目的を損なわない範
囲で、異種ポリマーをブレンドしてもよいし、また酸化
防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加
剤が通常添加される程度に添加されていてもよい。該不
活性粒子としては特に限定されないが、コロイダルシリ
カ、炭酸カルシウム、二酸化チタン、アルミナ、架橋高
分子(例えば架橋ポリスチレンなど)で、平均粒径は最
表層の厚みの0.1〜10倍、好ましくは、0.5〜5
倍、さらに好ましくは、1.1〜3倍の範囲であること
が望ましい。上記範囲より小さくても、大きくても走行
性が悪化し易く好ましくない。該不活性粒子の大きさ
は、最表層中での平均粒径(直径)が0.007〜0.
5μmが好ましく、さらに好ましくは0.02〜0.4
5μmの範囲の場合に、走行性等がよりー層良好となる
のでも望ましい。
【0017】においては、大部分または全部の表面突
起は、ポリエステルの結晶化を利用して形成され、突起
の個数が、5×103 個/mm2 以上で、該突起個数と
該表面を形成する表層に含有される粒子の個数との比で
ある、突起個数/粒子個数(NR )が5以上、であるこ
とが好ましい。NR が5未満であると、含有粒子によっ
て形成される突起の割合が多くなり、粒子添加に伴うボ
イド生成による破壊され易い突起の割合が増大するの
で、望ましい耐スクラッチ性が得られにくくなり、好ま
しくない。上記のようなポリエステルの結晶化を利用し
た表面突起の形成は、次のように行なわれる。ポリエス
テルを主成分とする二軸延伸フィルムを作製するに際
し、未延伸フィルムの少なくとも片面に熱処理を施し、
その後に該未延伸フィルムを二軸延伸することによっ
て、所望の表面突起が形成される。未延伸フィルムにま
ず熱処理を施すことにより、未延伸フィルムの特に表面
の結晶化が進められ、多数の微細な結晶が生成する。こ
の未延伸フィルムが二軸に延伸されて、フィルムが二軸
に配向されて目標とするフィルム自身の強度が達成され
るとともに、結晶とそうでない部分の硬さの差によっ
て、上記微細結晶に起因する均一な微細表面突起が形成
される。ここで、表面突起がポリエステルの微細結晶か
らなるものか否かについては、対象となる突起の下を、
フィルム厚さ方向に適切な溶媒でエッチングしていき、
その突起を形成する起因物が不溶物として残存する場合
は、外部から添加された粒子、あるいは、内部析出した
粒子とする(X)。不溶物として残存するものが実質的
になかった場合は、その突起を形成する起因物は微細結
晶であると推定できる(Y)。上記の溶媒としては、例
えば、フェノール/四塩化炭素(重量比:6/4)の混
合溶媒などが好ましく用いられる。この方法で視野を約
1mm2 とした時のXの頻度、Yの頻度を求め、 X/(X+Y) の値が、70%以上である場合が好ましいことになる。
本発明において、ポリエステルAの種類は特に限定され
ないが、結晶化パラメーターΔTcgが70℃以下が好
ましく、さらに好ましくは65℃以下、より好ましくは
55℃以下であることが望ましい。結晶化パラメーター
ΔTcgが70℃よりも大きいと、本発明で目標として
いる表面突起が得られにくく好ましくない。ポリエステ
ルは、上記のような条件を満たす限り特に限定されない
が、エチレンレフタレート、エチレン2,6−ナフタレ
ート単位から選ばれた少なくとも1種の構造単位を主要
構成成分とする場合に特に好ましい。目標とする表面突
起を形成するために、ポリエステルを主成分とするフィ
ルムは、上述のように二軸延伸前に熱処理により結晶化
が進められるが、この二軸延伸前の未延伸フィルム中に
存在する球晶の直径rは、0.03〜0.45μmの範
囲にあることが好ましい。より好ましくは、0.10〜
0.30μmの範囲である。このような範囲にコントロ
ールすることにより、二軸延伸後のフィルム表面の耐ス
クラッチ性が優れたものとなる。本発明のポリエステル
フィルムは、ポリエステルを主成分とする二軸配向フィ
ルム単体で用いられてもよいし、PENを主体とするフ
ィルムの少なくとも片面に積層された積層フィルムとし
て用いられても良い。
起は、ポリエステルの結晶化を利用して形成され、突起
の個数が、5×103 個/mm2 以上で、該突起個数と
該表面を形成する表層に含有される粒子の個数との比で
ある、突起個数/粒子個数(NR )が5以上、であるこ
とが好ましい。NR が5未満であると、含有粒子によっ
て形成される突起の割合が多くなり、粒子添加に伴うボ
イド生成による破壊され易い突起の割合が増大するの
で、望ましい耐スクラッチ性が得られにくくなり、好ま
しくない。上記のようなポリエステルの結晶化を利用し
た表面突起の形成は、次のように行なわれる。ポリエス
テルを主成分とする二軸延伸フィルムを作製するに際
し、未延伸フィルムの少なくとも片面に熱処理を施し、
その後に該未延伸フィルムを二軸延伸することによっ
て、所望の表面突起が形成される。未延伸フィルムにま
ず熱処理を施すことにより、未延伸フィルムの特に表面
の結晶化が進められ、多数の微細な結晶が生成する。こ
の未延伸フィルムが二軸に延伸されて、フィルムが二軸
に配向されて目標とするフィルム自身の強度が達成され
るとともに、結晶とそうでない部分の硬さの差によっ
て、上記微細結晶に起因する均一な微細表面突起が形成
される。ここで、表面突起がポリエステルの微細結晶か
らなるものか否かについては、対象となる突起の下を、
フィルム厚さ方向に適切な溶媒でエッチングしていき、
その突起を形成する起因物が不溶物として残存する場合
は、外部から添加された粒子、あるいは、内部析出した
粒子とする(X)。不溶物として残存するものが実質的
になかった場合は、その突起を形成する起因物は微細結
晶であると推定できる(Y)。上記の溶媒としては、例
えば、フェノール/四塩化炭素(重量比:6/4)の混
合溶媒などが好ましく用いられる。この方法で視野を約
1mm2 とした時のXの頻度、Yの頻度を求め、 X/(X+Y) の値が、70%以上である場合が好ましいことになる。
本発明において、ポリエステルAの種類は特に限定され
ないが、結晶化パラメーターΔTcgが70℃以下が好
ましく、さらに好ましくは65℃以下、より好ましくは
55℃以下であることが望ましい。結晶化パラメーター
ΔTcgが70℃よりも大きいと、本発明で目標として
いる表面突起が得られにくく好ましくない。ポリエステ
ルは、上記のような条件を満たす限り特に限定されない
が、エチレンレフタレート、エチレン2,6−ナフタレ
ート単位から選ばれた少なくとも1種の構造単位を主要
構成成分とする場合に特に好ましい。目標とする表面突
起を形成するために、ポリエステルを主成分とするフィ
ルムは、上述のように二軸延伸前に熱処理により結晶化
が進められるが、この二軸延伸前の未延伸フィルム中に
存在する球晶の直径rは、0.03〜0.45μmの範
囲にあることが好ましい。より好ましくは、0.10〜
0.30μmの範囲である。このような範囲にコントロ
ールすることにより、二軸延伸後のフィルム表面の耐ス
クラッチ性が優れたものとなる。本発明のポリエステル
フィルムは、ポリエステルを主成分とする二軸配向フィ
ルム単体で用いられてもよいし、PENを主体とするフ
ィルムの少なくとも片面に積層された積層フィルムとし
て用いられても良い。
【0018】PENフィルムには公知の方法で表面処
理、すなわちコロナ放電処理(空気中、窒素中、炭酸ガ
ス中など)や易接着処理が施されたフィルムである場
合、被覆層との密着性、耐水性、耐薬品性などが改良さ
れるのでより好ましく使用できる。易接着処理は公知の
各種の方法を用いることができ、フィルム製造工程中
で、あるいは一軸又は二軸延伸後のフィルムに公知の各
種易接着剤を塗布したものなどが好適に用い得る。
理、すなわちコロナ放電処理(空気中、窒素中、炭酸ガ
ス中など)や易接着処理が施されたフィルムである場
合、被覆層との密着性、耐水性、耐薬品性などが改良さ
れるのでより好ましく使用できる。易接着処理は公知の
各種の方法を用いることができ、フィルム製造工程中
で、あるいは一軸又は二軸延伸後のフィルムに公知の各
種易接着剤を塗布したものなどが好適に用い得る。
【0019】本発明に用いるポリアルキレンナフタレー
トからなるフィルムには、硬度化層とポリアルキレンナ
フタレートとの接着性を改善するために、水および/又
は有機溶剤に溶解、もしくは乳化、懸濁させたアクリル
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂などを下塗
りしたものを好ましく使用することができる。特に水酸
基とリン酸の部分エステル基を含有するビニル系共重合
体とポリイソシアネート化合物との反応生成物を下塗り
したもの(特公昭58−35145号公報記載)、また
は親水基含有ポリエステル樹脂にアクリル系化合物をグ
ラフト化させた共重合体と架橋結合剤からなる組成物を
下塗りしたもの、これらとポリウレタン樹脂を混合した
組成物を下塗りしたものなどが、硬度化層とポリアルキ
レンナフタレートからなるフィルムとの接着性が向上
し、耐湿熱性、耐沸水性などの耐久性に優れたフィルム
として好ましい。これらの中でも、分子配向されている
架橋改質層(III )が最も好ましく使用される。ここで
分子配向しているとは、後述する方法によって求めた分
子配向度が0.01以上の場合をいう。架橋改質層が分
子配向することにより、耐溶剤性や耐水性、耐温水性、
耐アルカリ性が改良されるものである。特に分子配向度
が0.02〜0.40が好ましく、さらに好ましくは
0.05〜0.20の場合、易接着性改良効果が大きく
架橋改質層(III)内部での劈開が起こりにくいなどの
点で特に好ましい。また架橋改質層(III)の表層から
100オングストローム以内においてESCA法で測定
した親水基含有ポリエステル樹脂の存在が検出限界以下
の場合、すなわち上記表層を構成する樹脂層がアクリル
化合物および架橋剤からなる場合には本発明の効果がさ
らに顕著に発現するため特に好ましい。このような分子
配向されている架橋改質層(III )の架橋改質層として
は、例えば、親水基含有ポリエステル樹脂に少なくとも
一種以上のアクリル系化合物をグラフト化させた共重合
体、および架橋結合剤を主成分とした組成物から成るも
のが特に好ましく使用される。ここで、主成分とはその
ものが80重量%以上を占めることをいう。このような
架橋改質層(III )の例としては、特願平1−8633
3号に記載のものを好ましく使用することができる。ま
た、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で公
知NO添加剤、例えば消泡剤、塗布改良剤、増粘剤、帯
電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料など
を含有させてもよいし、滑剤として無機又は有機化合物
からなる微細粒子を含有させてもよい。架橋改質層(II
I )の積層厚さは特に限定しないが、通常0.02〜
1.0μmが好ましく、さらに好ましくは0.05〜
0.5μmの範囲であることが望ましい。
トからなるフィルムには、硬度化層とポリアルキレンナ
フタレートとの接着性を改善するために、水および/又
は有機溶剤に溶解、もしくは乳化、懸濁させたアクリル
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂などを下塗
りしたものを好ましく使用することができる。特に水酸
基とリン酸の部分エステル基を含有するビニル系共重合
体とポリイソシアネート化合物との反応生成物を下塗り
したもの(特公昭58−35145号公報記載)、また
は親水基含有ポリエステル樹脂にアクリル系化合物をグ
ラフト化させた共重合体と架橋結合剤からなる組成物を
下塗りしたもの、これらとポリウレタン樹脂を混合した
組成物を下塗りしたものなどが、硬度化層とポリアルキ
レンナフタレートからなるフィルムとの接着性が向上
し、耐湿熱性、耐沸水性などの耐久性に優れたフィルム
として好ましい。これらの中でも、分子配向されている
架橋改質層(III )が最も好ましく使用される。ここで
分子配向しているとは、後述する方法によって求めた分
子配向度が0.01以上の場合をいう。架橋改質層が分
子配向することにより、耐溶剤性や耐水性、耐温水性、
耐アルカリ性が改良されるものである。特に分子配向度
が0.02〜0.40が好ましく、さらに好ましくは
0.05〜0.20の場合、易接着性改良効果が大きく
架橋改質層(III)内部での劈開が起こりにくいなどの
点で特に好ましい。また架橋改質層(III)の表層から
100オングストローム以内においてESCA法で測定
した親水基含有ポリエステル樹脂の存在が検出限界以下
の場合、すなわち上記表層を構成する樹脂層がアクリル
化合物および架橋剤からなる場合には本発明の効果がさ
らに顕著に発現するため特に好ましい。このような分子
配向されている架橋改質層(III )の架橋改質層として
は、例えば、親水基含有ポリエステル樹脂に少なくとも
一種以上のアクリル系化合物をグラフト化させた共重合
体、および架橋結合剤を主成分とした組成物から成るも
のが特に好ましく使用される。ここで、主成分とはその
ものが80重量%以上を占めることをいう。このような
架橋改質層(III )の例としては、特願平1−8633
3号に記載のものを好ましく使用することができる。ま
た、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で公
知NO添加剤、例えば消泡剤、塗布改良剤、増粘剤、帯
電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料など
を含有させてもよいし、滑剤として無機又は有機化合物
からなる微細粒子を含有させてもよい。架橋改質層(II
I )の積層厚さは特に限定しないが、通常0.02〜
1.0μmが好ましく、さらに好ましくは0.05〜
0.5μmの範囲であることが望ましい。
【0020】本発明における1分子中に3個以上の(メ
タ)アクリロイルオキシ基(ここで(メタ)アクリロイ
ルオキシ基とはアクリロイルオキシ基とメタアクリロイ
ルオキシ基とを略して表示したもので、特許請求の範囲
および以下の説明で△△△(メタ)□□□とあるのは、
同様にすべて△△△□□□と△△△メタ□□□とを略記
したものである。)を有する単量体(A)としては、1
分子中に3個以上のアルコール性水酸基を有する多価ア
ルコールの該水酸基が3個以上(メタ)アクリル酸のエ
ステル化物となっている化合物があげられ、「UV、E
B硬化ハンドブック(原料編)」(加藤清視編、高分子
刊行会、1985)や「UV、EB硬化技術の応用と市
場」(田畑米穂監修、ラドテック研究会編集、シーエム
シー、1989)などに記載の公知のものの中から選ん
で使用することができる。
タ)アクリロイルオキシ基(ここで(メタ)アクリロイ
ルオキシ基とはアクリロイルオキシ基とメタアクリロイ
ルオキシ基とを略して表示したもので、特許請求の範囲
および以下の説明で△△△(メタ)□□□とあるのは、
同様にすべて△△△□□□と△△△メタ□□□とを略記
したものである。)を有する単量体(A)としては、1
分子中に3個以上のアルコール性水酸基を有する多価ア
ルコールの該水酸基が3個以上(メタ)アクリル酸のエ
ステル化物となっている化合物があげられ、「UV、E
B硬化ハンドブック(原料編)」(加藤清視編、高分子
刊行会、1985)や「UV、EB硬化技術の応用と市
場」(田畑米穂監修、ラドテック研究会編集、シーエム
シー、1989)などに記載の公知のものの中から選ん
で使用することができる。
【0021】具体的な例としては、ペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレートなどがあげられる。
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレートなどがあげられる。
【0022】これらの単量体(A)は1種または2種以
上混合して使用してもよい。
上混合して使用してもよい。
【0023】これらの単量体(A)の使用割合は、重合
性単量体総量に対して20〜90重量%であることが好
ましく、さらに好ましくは30〜80重量%である。単
量体(A)の量が20重量未満の場合には十分な耐摩耗
性を有する硬化被膜が得られず、また、その量が90重
量%を超える場合には、重合による収縮により、硬化膜
に歪が残ったり、膜自体の可撓性が極端に低下したりす
るので好ましくない。
性単量体総量に対して20〜90重量%であることが好
ましく、さらに好ましくは30〜80重量%である。単
量体(A)の量が20重量未満の場合には十分な耐摩耗
性を有する硬化被膜が得られず、また、その量が90重
量%を超える場合には、重合による収縮により、硬化膜
に歪が残ったり、膜自体の可撓性が極端に低下したりす
るので好ましくない。
【0024】本発明における1分子中に1〜2個のエチ
レン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカ
ル重合活性のある通常の単量体ならばどれでも用いるこ
とができ、前記書などに記載の公知のものの中から選ん
で適宜使用することができる。
レン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカ
ル重合活性のある通常の単量体ならばどれでも用いるこ
とができ、前記書などに記載の公知のものの中から選ん
で適宜使用することができる。
【0025】分子内に2個のエチレン性不飽和二重結合
を有する化合物としては、下記(a)〜(g)の(メ
タ)アクリレートをあげることができる。
を有する化合物としては、下記(a)〜(g)の(メ
タ)アクリレートをあげることができる。
【0026】(a)炭素数2〜12のアルキレングリコ
ールの(メタ)アクリル酸ジエステル類:エチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレートなど、 (b)ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アク
リル酸ジエステル類:ジエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートな
ど、 (c)多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル
類:ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートな
ど、 (d)ビスフェノールA、ビスフェノールSあるいはビ
スフェノールA、ビスフェノールSの水素化物のエチレ
ンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物の(メタ)
アクリル酸ジエステル類:2,2’−ビス[4−(メ
タ)アクリロキシエトキシフェニル]プロパン、2,
2’−ビス[4−(メタ)アクリロキシプロポキシフェ
ニル]プロパン、など、 (e)ジイソシアネート化合物と2個以上のアルコール
性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソ
シアネート基含有化合物にさらにアルコール性水酸基含
有(メタ)アクリレートを反応させて得られる分子内に
2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するウレ
タン(メタ)アクリレート類: (f)分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物に
アクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子
内に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する
エポキシ(メタ)アクリレート類: (g)トリシクロ環構造を有する1分子中に2個の(メ
タ)アクリロイルオキシ基を有するトリシクロ環構造を
有する(メタ)アクリレート類:トリシクロデカンジメ
タノールジアクリレートなど、などがあげられる。
ールの(メタ)アクリル酸ジエステル類:エチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレートなど、 (b)ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アク
リル酸ジエステル類:ジエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートな
ど、 (c)多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル
類:ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートな
ど、 (d)ビスフェノールA、ビスフェノールSあるいはビ
スフェノールA、ビスフェノールSの水素化物のエチレ
ンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物の(メタ)
アクリル酸ジエステル類:2,2’−ビス[4−(メ
タ)アクリロキシエトキシフェニル]プロパン、2,
2’−ビス[4−(メタ)アクリロキシプロポキシフェ
ニル]プロパン、など、 (e)ジイソシアネート化合物と2個以上のアルコール
性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソ
シアネート基含有化合物にさらにアルコール性水酸基含
有(メタ)アクリレートを反応させて得られる分子内に
2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するウレ
タン(メタ)アクリレート類: (f)分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物に
アクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子
内に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する
エポキシ(メタ)アクリレート類: (g)トリシクロ環構造を有する1分子中に2個の(メ
タ)アクリロイルオキシ基を有するトリシクロ環構造を
有する(メタ)アクリレート類:トリシクロデカンジメ
タノールジアクリレートなど、などがあげられる。
【0027】分子内に1個のエチレン性不飽和二重結合
を有する化合物としては、メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、n−およびi−ブチ
ル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステア
リル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)ア
クリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)ア
クリレート、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルア
ミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニル−3−メチル
ピロリドン、N−ビニル−5−メチルピロリドンなどが
あげられる。
を有する化合物としては、メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、n−およびi−ブチ
ル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステア
リル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)ア
クリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)ア
クリレート、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルア
ミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニル−3−メチル
ピロリドン、N−ビニル−5−メチルピロリドンなどが
あげられる。
【0028】これらの単量体(B)は、1種又は2種以
上混合して使用してもよい。
上混合して使用してもよい。
【0029】これらの単量体(B)の使用割合は、単量
体総量に対して10〜80重量%であることが望まし
く、さらに好ましくは20〜70重量%である。単量体
(B)の凌駕80重量%を越える場合には、充分な耐摩
耗性を有する架橋硬化被膜が得られにくいため好ましく
ない。また、その量が10重量%未満の場合には、膜の
可撓性が低下したり、基材との密着性が低下したりする
ので好ましくない。
体総量に対して10〜80重量%であることが望まし
く、さらに好ましくは20〜70重量%である。単量体
(B)の凌駕80重量%を越える場合には、充分な耐摩
耗性を有する架橋硬化被膜が得られにくいため好ましく
ない。また、その量が10重量%未満の場合には、膜の
可撓性が低下したり、基材との密着性が低下したりする
ので好ましくない。
【0030】本発明における放射線硬化性組成物を硬化
させる1方法として紫外線を照射する方法があげられる
が、この場合には前記組成物に光重合開始剤加えること
が好ましい。光重合開始剤の具体的な例としては、アセ
トフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−
ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオ
フェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノ
ン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビ
スジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベ
ンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、メチルベンゾイルフォメート、p−イソプロピル−
α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイ
ソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニル
アセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラ
ムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィ
ド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−
メチルチオキサントンなどの硫黄化合物、ベンゾイルパ
ーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイドなどのパ
ーオキサイド化合物などがあげられる。これらの光重合
開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合わせ
て用いてもよい。光重合開始剤の使用量は重合性単量体
組成物100重量部に対して0.01〜10重量部が適
当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合
には、必ずしも重合開始剤を使用する必要がない。
させる1方法として紫外線を照射する方法があげられる
が、この場合には前記組成物に光重合開始剤加えること
が好ましい。光重合開始剤の具体的な例としては、アセ
トフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−
ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオ
フェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノ
ン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビ
スジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベ
ンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、メチルベンゾイルフォメート、p−イソプロピル−
α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイ
ソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニル
アセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラ
ムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィ
ド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−
メチルチオキサントンなどの硫黄化合物、ベンゾイルパ
ーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイドなどのパ
ーオキサイド化合物などがあげられる。これらの光重合
開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合わせ
て用いてもよい。光重合開始剤の使用量は重合性単量体
組成物100重量部に対して0.01〜10重量部が適
当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合
には、必ずしも重合開始剤を使用する必要がない。
【0031】本発明に用いる放射線硬化性組成物には製
造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイ
ドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,
5−t−ブチルハイドロキノン、などの公知の熱重合防
止剤を加えるのが好ましい。添加量は重合性化合物総重
量に対し0.005〜0.05重量%が好ましい。
造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイ
ドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,
5−t−ブチルハイドロキノン、などの公知の熱重合防
止剤を加えるのが好ましい。添加量は重合性化合物総重
量に対し0.005〜0.05重量%が好ましい。
【0032】本発明に用いる放射線硬化性組成物には、
ノングレア性、白色性、着色性等が必要な場合には、公
知の無機および有機の微粒子、染料や顔料を適宜選択し
て添加することができる。微粒子の場合、例えば、シリ
カ、酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、
硫酸バリウム、アルミナ、カオリン、タルク、クレイ、
マイカなどの無機微粒子や、架橋ポリスチレン、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、フッ素樹脂などの有機微粒子
があげられる。
ノングレア性、白色性、着色性等が必要な場合には、公
知の無機および有機の微粒子、染料や顔料を適宜選択し
て添加することができる。微粒子の場合、例えば、シリ
カ、酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、
硫酸バリウム、アルミナ、カオリン、タルク、クレイ、
マイカなどの無機微粒子や、架橋ポリスチレン、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、フッ素樹脂などの有機微粒子
があげられる。
【0033】本発明に用いる放射線硬化性組成物には、
塗工時の作業性の向上、塗工膜厚のコントロールを目的
として本発明の目的を損なわない範囲において、有機溶
剤を配合することができる。
塗工時の作業性の向上、塗工膜厚のコントロールを目的
として本発明の目的を損なわない範囲において、有機溶
剤を配合することができる。
【0034】有機溶剤としては、沸点がおよそ50℃〜
150℃のものがよいが、塗工時の作業性、硬化前後の
乾燥性の点から用いやすい。具体的な例としては、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのア
ルコール系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチルなどの酢酸エ
ステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケ
トン系溶剤、トルエンなどの芳香族系溶剤、ジオキサン
などの環状エーテル系溶剤、などをあけ゛られる。これ
らの溶剤は単独でも用いられるし、2種以上混合して配
合することもできる。
150℃のものがよいが、塗工時の作業性、硬化前後の
乾燥性の点から用いやすい。具体的な例としては、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのア
ルコール系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチルなどの酢酸エ
ステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケ
トン系溶剤、トルエンなどの芳香族系溶剤、ジオキサン
などの環状エーテル系溶剤、などをあけ゛られる。これ
らの溶剤は単独でも用いられるし、2種以上混合して配
合することもできる。
【0035】本発明に用いる放射線硬化性組成物には、
本発明の目的を損なわない範囲で、各種の添加剤を必要
に応じて加えることができる。たとえば、防眩性(ノン
グレア性、艶消し性)や滑り性を付与するための有機お
よび/または無機粒子、酸化防止剤、光安定剤、紫外線
吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤、帯電
防止剤などである。
本発明の目的を損なわない範囲で、各種の添加剤を必要
に応じて加えることができる。たとえば、防眩性(ノン
グレア性、艶消し性)や滑り性を付与するための有機お
よび/または無機粒子、酸化防止剤、光安定剤、紫外線
吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤、帯電
防止剤などである。
【0036】本発明の積層フィルムは、ポリアルキレン
ナフタレートフィルムの上に放射線硬化性層(II)を塗
布硬化させることにより製造される。
ナフタレートフィルムの上に放射線硬化性層(II)を塗
布硬化させることにより製造される。
【0037】本発明の放射線硬化組成物の塗布手段とし
ては、刷毛塗り、浸漬塗り、ロール塗り、スプレー塗
り、流し塗り、回転塗り(スピンナー、ホエラーな
ど)、押出塗り等の通常行なわれている塗布方法が容易
に適用可能である。それぞれの方式には特徴があり、積
層体の要求性能、あるいは使用用途によって、塗布方法
を適宜選択する。
ては、刷毛塗り、浸漬塗り、ロール塗り、スプレー塗
り、流し塗り、回転塗り(スピンナー、ホエラーな
ど)、押出塗り等の通常行なわれている塗布方法が容易
に適用可能である。それぞれの方式には特徴があり、積
層体の要求性能、あるいは使用用途によって、塗布方法
を適宜選択する。
【0038】本発明の放射線硬化性組成物を硬化させる
方法としては、紫外線、電子線あるいはガンマ線などの
活性エネルギー線を照射する方法があげられる。実用的
には、紫外線照射による方法が簡便であり、好ましい。
紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などが
ある。
方法としては、紫外線、電子線あるいはガンマ線などの
活性エネルギー線を照射する方法があげられる。実用的
には、紫外線照射による方法が簡便であり、好ましい。
紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などが
ある。
【0039】本発明に用いる放射線硬化性層の厚さは2
μm以上あることが必要である。これより薄いと表面硬
度が充分に得られなかったり、また塗膜の表面に塗工時
の干渉縞が目立ちやすくなり、好ましくない。
μm以上あることが必要である。これより薄いと表面硬
度が充分に得られなかったり、また塗膜の表面に塗工時
の干渉縞が目立ちやすくなり、好ましくない。
【0040】
【物性の測定ならびに効果の評価方法】本発明の特性値
は、次の測定方法、評価基準による。
は、次の測定方法、評価基準による。
【0041】(1)表面粗さ JIS−B0601−1976に従い、カットオフ0.
25mm、測定長4mmで中心線平均粗さRa(μm)
及び最大粗さRt(μm)を求めた。
25mm、測定長4mmで中心線平均粗さRa(μm)
及び最大粗さRt(μm)を求めた。
【0042】(2)非相溶ポリマーにより形成されたフ
ィルム中でのボイドの平均球相当径 フィルムの製膜工程の機械方向あるいは垂直方向に切っ
た断面を走査型電子顕微鏡で1000倍〜5000倍に
拡大した写真を撮り、指定した厚みの範囲の少なくとも
100個以上のボイドをイメージアナライザーにかけ、
ボイドの面積に相当する円の直径の分布を求めた。この
分布の体積平均径をボイドの平均球相当径とした。
ィルム中でのボイドの平均球相当径 フィルムの製膜工程の機械方向あるいは垂直方向に切っ
た断面を走査型電子顕微鏡で1000倍〜5000倍に
拡大した写真を撮り、指定した厚みの範囲の少なくとも
100個以上のボイドをイメージアナライザーにかけ、
ボイドの面積に相当する円の直径の分布を求めた。この
分布の体積平均径をボイドの平均球相当径とした。
【0043】(3)比重 四塩化炭素−n−ヘプタン系の密度勾配管によって25
℃での値を用いた。
℃での値を用いた。
【0044】(4)熱収縮率 フィルムを長手方向又は幅方向に幅10mm長さ300
mmに切り、200mm間隔にマーキングし支持板に一
定張力(5g)下で固定した後、マーキング間隔の原長
a(mm)を測定する。次に、3gのクリップを用いて
荷重をかけ150℃の熱風オーブン中を回転させながら
30分間処理し、原長測定と同様にして、マーキング間
隔b(mm)を測定した。下記の式により熱収縮率を求
め、5本の平均値を用いた。
mmに切り、200mm間隔にマーキングし支持板に一
定張力(5g)下で固定した後、マーキング間隔の原長
a(mm)を測定する。次に、3gのクリップを用いて
荷重をかけ150℃の熱風オーブン中を回転させながら
30分間処理し、原長測定と同様にして、マーキング間
隔b(mm)を測定した。下記の式により熱収縮率を求
め、5本の平均値を用いた。
【0045】熱収縮率(%)=(a−b)/a
【0046】(5)光学濃度 光学濃度計(TR927、マクベス社製)を用いて透過
濃度を測定した。フィルムの厚みと光学濃度とをプロッ
トし、各厚みに相当する光学濃度を求めた。
濃度を測定した。フィルムの厚みと光学濃度とをプロッ
トし、各厚みに相当する光学濃度を求めた。
【0047】(6)白色度 JIS−L−1015に準じて、島津製作所(株)製U
V−260を用いて波長450nm及び550nmにお
ける反射率をそれぞれB%、G%とした時、 白色度=4B−3G で表わした。
V−260を用いて波長450nm及び550nmにお
ける反射率をそれぞれB%、G%とした時、 白色度=4B−3G で表わした。
【0048】(7)延伸性 24時間連続して製膜した時、フィルム破れが皆無のも
のを「良好」、2回以上のものを「破れあり」とした。
のを「良好」、2回以上のものを「破れあり」とした。
【0049】(8)クッション率(%) 三豊製作所(株)ダイヤルゲージNO.2109−10
に標準測定子900030を用い、さらにダイヤルゲー
ジスタンドNO.7001DGS−Mを用いてダイヤル
ゲージ押え部分に荷重50gと500gとをかけた時の
それぞれのフィルムの厚みd50、d500 から次式により
求める。
に標準測定子900030を用い、さらにダイヤルゲー
ジスタンドNO.7001DGS−Mを用いてダイヤル
ゲージ押え部分に荷重50gと500gとをかけた時の
それぞれのフィルムの厚みd50、d500 から次式により
求める。
【0050】 クッション率=[(d50−d500 )/d50]×100
【0051】(9)形状係数 ボイドの平均球相当径を求めるときと同様に、フィルム
面での非相溶ポリマーの形状をイメージアナライザーに
かけ100個の平均の長径/短径の比率を表わした。
面での非相溶ポリマーの形状をイメージアナライザーに
かけ100個の平均の長径/短径の比率を表わした。
【0052】(10)ヤング率 JIS−Z−1702に準じて、“インストロン”タイ
プの引張試験機を用いて、25℃、65%RHで測定し
た。
プの引張試験機を用いて、25℃、65%RHで測定し
た。
【0053】(11)結晶化パラメーターΔTcg パーキンエルマー社製のDSC−II(示差走査熱量計)
を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りであ
る。すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、
300℃の温度で5分間溶融した後、液体窒素中に急冷
する。この急冷試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移
点Tgを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態から
の結晶化発熱ピークをもって冷結晶化温度Tccとし
た。さらに昇温を続け、融解ピークから融解熱を求め
た。ここでTccとTgの差(Tcc−Tg)を結晶化
パラメーターΔTcgと定義した。
を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りであ
る。すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、
300℃の温度で5分間溶融した後、液体窒素中に急冷
する。この急冷試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移
点Tgを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態から
の結晶化発熱ピークをもって冷結晶化温度Tccとし
た。さらに昇温を続け、融解ピークから融解熱を求め
た。ここでTccとTgの差(Tcc−Tg)を結晶化
パラメーターΔTcgと定義した。
【0054】(12)フィルム表面の突起個数 2検出器方式の走査型電子顕微鏡[ESM−3200、
エリオニクス(株)製]と断面測定装置[PMS−1、
エリオニクス(株)製]において、フィルム表面の平坦
面の高さを0として走査した時の突起の高さ測定値を画
像処理装置[IBAS2000、カールツアイス(株)
製]に送り、画像処理装置上にフィルム表面突起画像を
再構築する。次に、この表面突起画像で突起部分を2値
化して得られた個々の突起部分の中で最も高い値をその
突起の高さとし、これを個々の突起について求める。こ
の測定を場所を変えて500回繰り返し、20nm以上
の高さのものを突起とし、突起個数を求めた。また走査
型電子顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間を選
択する。なお、場合によっては、高精度光干渉式3次元
表面解析装置(WYKO社製TOPO−3D、対物レン
ズ:40〜200倍、高解像度カメラ使用が有効)によ
って得られるピークカウントなどの個数情報を上記SE
Mの値に読み替えて用いても良い。また、時突起を立体
的に捉えるため、フィルムを82.5゜傾けて、倍率1
万〜50万倍で電子顕微鏡(SEM)による写真を撮影
し、100視野測定を行なった平均値から突起数を1m
m2 あたりに換算しても良い。
エリオニクス(株)製]と断面測定装置[PMS−1、
エリオニクス(株)製]において、フィルム表面の平坦
面の高さを0として走査した時の突起の高さ測定値を画
像処理装置[IBAS2000、カールツアイス(株)
製]に送り、画像処理装置上にフィルム表面突起画像を
再構築する。次に、この表面突起画像で突起部分を2値
化して得られた個々の突起部分の中で最も高い値をその
突起の高さとし、これを個々の突起について求める。こ
の測定を場所を変えて500回繰り返し、20nm以上
の高さのものを突起とし、突起個数を求めた。また走査
型電子顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間を選
択する。なお、場合によっては、高精度光干渉式3次元
表面解析装置(WYKO社製TOPO−3D、対物レン
ズ:40〜200倍、高解像度カメラ使用が有効)によ
って得られるピークカウントなどの個数情報を上記SE
Mの値に読み替えて用いても良い。また、時突起を立体
的に捉えるため、フィルムを82.5゜傾けて、倍率1
万〜50万倍で電子顕微鏡(SEM)による写真を撮影
し、100視野測定を行なった平均値から突起数を1m
m2 あたりに換算しても良い。
【0055】(13)表層に含有される粒子個数 本発明で表層とは、フィルム表面より、深さ3Dまでの
部分をいう。ここで、3Dとは、フィルム中に含有され
る粒子の平均粒径D×3を意味する。フィルム断面を透
過型電子顕微鏡(TEM)により観察し、表面より3D
までの部分に存在する粒子個数を倍率3000〜100
000倍で500視野について観察し、1mm2 あたり
に換算した平均粒子個数を求めた。
部分をいう。ここで、3Dとは、フィルム中に含有され
る粒子の平均粒径D×3を意味する。フィルム断面を透
過型電子顕微鏡(TEM)により観察し、表面より3D
までの部分に存在する粒子個数を倍率3000〜100
000倍で500視野について観察し、1mm2 あたり
に換算した平均粒子個数を求めた。
【0056】(14)フィルム中の粒子の平均粒径 フィルムからポリマをプラズマ低温灰化処理法で除去
し、粒子を露出させる。処理条件はポリマは灰化される
が粒氏は極力ダメージを受けない条件を選択する。その
粒子を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、粒子画像
をイメージアナライザーで処理する。SEMの倍率はお
よそ2000〜10000倍、また、一回の測定での視
野は一辺がおよそ10〜50μmから適宜選択する。観
察箇所をかえて粒子数500個以上で、粒径とその体積
分率から、次式で体積平均径fを得る。
し、粒子を露出させる。処理条件はポリマは灰化される
が粒氏は極力ダメージを受けない条件を選択する。その
粒子を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、粒子画像
をイメージアナライザーで処理する。SEMの倍率はお
よそ2000〜10000倍、また、一回の測定での視
野は一辺がおよそ10〜50μmから適宜選択する。観
察箇所をかえて粒子数500個以上で、粒径とその体積
分率から、次式で体積平均径fを得る。
【0057】f=Σfi ・Nvi ここで、fi は粒径、Nvi は体積分率である。粒氏が
有機粒子等で、プラズマ低温灰化処理法で大幅なダメー
ジを受ける場合は、以下の方法を用いても良い。
有機粒子等で、プラズマ低温灰化処理法で大幅なダメー
ジを受ける場合は、以下の方法を用いても良い。
【0058】フィルム断面を透過型電子顕微鏡(TE
M)を用い、3000〜100000倍で間観察する。
TEMの切片厚さは約1000オングストロームとし、
場所を変えて500視野以上観察し、上記の式から体積
平均径fを求めた。
M)を用い、3000〜100000倍で間観察する。
TEMの切片厚さは約1000オングストロームとし、
場所を変えて500視野以上観察し、上記の式から体積
平均径fを求めた。
【0059】(15)球晶の平均直径 フィルムの断面を光学または電子顕微鏡で観察し、いず
れも合計100個の球晶が観察できるまで測定を繰り返
し、得られた値を平均して球晶の平均直径とした。
れも合計100個の球晶が観察できるまで測定を繰り返
し、得られた値を平均して球晶の平均直径とした。
【0060】(16)分子配向度 赤外偏光ATR法で行なう。装置には、Bruker社
製FT−IR(IFS−113V)に偏光ATR測定用
付属装置(Bio−Rad Digilab製)を取付
けたものを使用する。このATR装置に、対称形のエッ
ジを持つ厚さ3mm、一辺25mmの正方形のInte
rnal Reflection Elementを取
り付け、延伸方向に対して平行と垂直の二方向の吸収測
定を行なった。
製FT−IR(IFS−113V)に偏光ATR測定用
付属装置(Bio−Rad Digilab製)を取付
けたものを使用する。このATR装置に、対称形のエッ
ジを持つ厚さ3mm、一辺25mmの正方形のInte
rnal Reflection Elementを取
り付け、延伸方向に対して平行と垂直の二方向の吸収測
定を行なった。
【0061】光の入射方向をフィルム長さ方向にとり、
入斜面に垂直な偏光を用いてコート面、非コート面のス
ペクトルを測定し、各々SMC、SMPとする。また光の入
射方向をフィルム幅方向にとり、入射面に垂直な偏光を
用いてコート面、非コート面のスペクトルを測定し、各
々STC、STPとする。ただし、非コート面が存在しない
場合は、コート面を各種溶剤、水等で拭き取った後、基
材面を即適する。
入斜面に垂直な偏光を用いてコート面、非コート面のス
ペクトルを測定し、各々SMC、SMPとする。また光の入
射方向をフィルム幅方向にとり、入射面に垂直な偏光を
用いてコート面、非コート面のスペクトルを測定し、各
々STC、STPとする。ただし、非コート面が存在しない
場合は、コート面を各種溶剤、水等で拭き取った後、基
材面を即適する。
【0062】コート面と非コート面の差スペクトルを次
の手順で求める。差スペクトルを計算する際の内部基準
バンドとして、解析に必要なコート層の吸収帯に近い波
数領域に観測されるベースフィルムの吸収帯を選ぶ。
の手順で求める。差スペクトルを計算する際の内部基準
バンドとして、解析に必要なコート層の吸収帯に近い波
数領域に観測されるベースフィルムの吸収帯を選ぶ。
【0063】内部基準吸収帯の吸光度が0になるように
係数を定めて、コート面のスペクトルから未コート面の
スペクトルを引いた差スペクトルを各偏光成分について
求め、
係数を定めて、コート面のスペクトルから未コート面の
スペクトルを引いた差スペクトルを各偏光成分について
求め、
【数1】 とする。
【0064】このようにして求めた差スペクトル上予め
定めた2つの波数における点を結びベースラインとし、
ベースラインから吸収帯のピークまでの高さをコート層
吸収帯の
定めた2つの波数における点を結びベースラインとし、
ベースラインから吸収帯のピークまでの高さをコート層
吸収帯の
【数2】 とする。
【0065】このようにして得られたコート層の吸光度
から配向度(P)を次式により計算する。
から配向度(P)を次式により計算する。
【0066】
【数3】 (17)ESCA法による親水基含有ポリエステルの同
定 ESCA法(X線光電子分光法)による測定は以下の条
件で行なった。
定 ESCA法(X線光電子分光法)による測定は以下の条
件で行なった。
【0067】装置:島津製作所ESCA750 励起X線:Mg、Kα1.2線(1253.6eV) エネルギー補正:C1Sメインピークの結合エネルギー値
を284.6eVに合わせた。
を284.6eVに合わせた。
【0068】光電子脱出角度(θ):90度 上記の方法で架橋改質層表面より100A以内の深さに
おける同定を行ない、親水基に帰属されるS2P/C1Sピ
ーク面積比より原子数比を求めその値が0.001以下
の場合を検出限界以下とした。
おける同定を行ない、親水基に帰属されるS2P/C1Sピ
ーク面積比より原子数比を求めその値が0.001以下
の場合を検出限界以下とした。
【0069】また検出元素の化学状態よりC1SおよびO
1Sピーク成分の割合およびピーク形、特にポリエステル
に起因するベンゼン環の存在に基づくπ−π* サテライ
トの有無によりポリエステルの存在の有無を同定した。
これによりS2P/C1S原子数比およびポリエステルが検
出されない場合を「○」、両方あるいはいずれかが検出
された場合を「×」とした。
1Sピーク成分の割合およびピーク形、特にポリエステル
に起因するベンゼン環の存在に基づくπ−π* サテライ
トの有無によりポリエステルの存在の有無を同定した。
これによりS2P/C1S原子数比およびポリエステルが検
出されない場合を「○」、両方あるいはいずれかが検出
された場合を「×」とした。
【0070】(18)耐摩耗性 スチールウール#0000で基材フィルムまたは表面硬
度化層を摩擦し、傷のつき具合を次の基準で評価した。
度化層を摩擦し、傷のつき具合を次の基準で評価した。
【0071】S3:強く摩擦してもほとんど傷がつかな
い S2:かなり強く摩擦すると少し傷がつく S1:弱い摩擦でも傷がつく
い S2:かなり強く摩擦すると少し傷がつく S1:弱い摩擦でも傷がつく
【0072】(19)鉛筆硬度 JIS K5400に準じて、各種硬度の鉛筆を90゜
の角度で基材フィルムまたは表面硬度化層面にあて、荷
重1kgの下で引掻きを与えた時、傷が発生した時の鉛
筆の硬さで表示した。
の角度で基材フィルムまたは表面硬度化層面にあて、荷
重1kgの下で引掻きを与えた時、傷が発生した時の鉛
筆の硬さで表示した。
【0073】(20)接着性 表面硬度化層にクロスカット(1mm2 のマス目100
個)を入れ、その上にセロハン粘着テープ(ニチバン
(株)製“セロテープ”CT−24)を貼りつけ、“セ
ロテープ”を手で引きはがした後の剥離度合を観察して
次の基準で評価した。
個)を入れ、その上にセロハン粘着テープ(ニチバン
(株)製“セロテープ”CT−24)を貼りつけ、“セ
ロテープ”を手で引きはがした後の剥離度合を観察して
次の基準で評価した。
【0074】A3:良好(剥離面積5%未満) A2:やや劣る(剥離面積5%以上20%未満) A1:不良(剥離面積20%以上)
【0075】(21)カール性 積層フィルムから15cm角の試験片を切り出し、20
℃、60%RHで、水平な板の上に表面硬度化層面を上
にして静置し、4隅の板からの浮き上がった距離を測定
し、その最大値(mm)をカール値とした。
℃、60%RHで、水平な板の上に表面硬度化層面を上
にして静置し、4隅の板からの浮き上がった距離を測定
し、その最大値(mm)をカール値とした。
【0076】K3:良好(5mm未満) K2:やや劣る(5mm以上、15mm未満) K1:不良(15mm以上)
【0077】(22)可撓性 積層フィルムから幅1cm、長さ5cmの短冊状の試験
片を切り出し、硬度化層を外側にしてステンレス棒に巻
きつけ、クラックの発生しない最少の直径を調べた。
片を切り出し、硬度化層を外側にしてステンレス棒に巻
きつけ、クラックの発生しない最少の直径を調べた。
【0078】(23)耐沸水性 積層フィルムを沸水中に1時間浸漬した後、クラックの
発生など外観の異常の有無を観察し、さらに(28)と
同様の接着性試験を行なった。
発生など外観の異常の有無を観察し、さらに(28)と
同様の接着性試験を行なった。
【0079】(24)耐湿熱性 恒温恒湿槽(タバイエスペック(株)製プラチナスヒュ
ーミダーPH−1G型)を用いて、60℃、90%RH
下で湿熱試験を行なった後、クラック発生などの外観変
化を観察し、さらに、上記(18)の耐摩耗性、(1
8)の鉛筆硬度、(20)の接着性試験を行なった。
ーミダーPH−1G型)を用いて、60℃、90%RH
下で湿熱試験を行なった後、クラック発生などの外観変
化を観察し、さらに、上記(18)の耐摩耗性、(1
8)の鉛筆硬度、(20)の接着性試験を行なった。
【0080】(25)吸湿カール性 (24)で測定した積層フィルムの硬化膜面を霧吹きで
一定量の水を吹き付け(24)と同様のカール性試験を
行なった。
一定量の水を吹き付け(24)と同様のカール性試験を
行なった。
【0081】(26)ヘイズ 積分球式光線透過装置(日本精密光学(株)H.T.R
メータSEP−H−2)を用いて、JIS K−671
4に従って測定した。
メータSEP−H−2)を用いて、JIS K−671
4に従って測定した。
【0082】(27)表面光沢度 光沢度測定装置(スガ試験機(株)デジタル変角光沢計
UGV−4−D)を用いて、JIS Z−8741に従
って測定した。
UGV−4−D)を用いて、JIS Z−8741に従
って測定した。
【0083】
実施例1 〈ポリエチレン2,6−ナフタレート層(I)の作製〉
常法によって製造されたポリエチレン2,6−ナフタレ
ートのホモポリマーチップ(極限粘度[η]=0.7)
を充分に真空乾燥後、押出機に供給して295℃で溶融
押出し、10μmカットの金属焼結フィルターで瀘過し
た後、T字型口金からシート状に押出し、これを表面温
度50℃の冷却ドラムに巻き付け冷却固化した。この間
のシートと冷却ドラム表面との密着性を向上させるた
め、シート側にワイヤー電極を配置して、6000Vの
直流電圧を印加した。かくして得られた未延伸ポリエチ
レン2,6−ナフタレートフィルムを120℃に加熱し
たロール群で長手方向に3.5倍延伸して一軸延伸フィ
ルムを得た。次いで、このフィルムの片面に炭酸ガス雰
囲気中でコロナ放電処理を施しポリエチレン2,6−ナ
フタレート層(I)を得た。
常法によって製造されたポリエチレン2,6−ナフタレ
ートのホモポリマーチップ(極限粘度[η]=0.7)
を充分に真空乾燥後、押出機に供給して295℃で溶融
押出し、10μmカットの金属焼結フィルターで瀘過し
た後、T字型口金からシート状に押出し、これを表面温
度50℃の冷却ドラムに巻き付け冷却固化した。この間
のシートと冷却ドラム表面との密着性を向上させるた
め、シート側にワイヤー電極を配置して、6000Vの
直流電圧を印加した。かくして得られた未延伸ポリエチ
レン2,6−ナフタレートフィルムを120℃に加熱し
たロール群で長手方向に3.5倍延伸して一軸延伸フィ
ルムを得た。次いで、このフィルムの片面に炭酸ガス雰
囲気中でコロナ放電処理を施しポリエチレン2,6−ナ
フタレート層(I)を得た。
【0084】〈架橋改質層の形成〉常法により下記組成
の架橋改質層を合成した。テレフタル酸ジメチル100
重量部、イソフタル酸ジメチル75重量部、5−ナトリ
ウムスルホイソフタル酸ジメチル10重量部、エチレン
グリコール95部、ネオペンチルグリコール85重量
部、酢酸マンガン4水塩0.106重量部、酢酸カルシ
ウム2水塩0.07重量部を混合し、窒素気流下、14
0〜220℃でメタノールを流出せしめ、エステル交換
反応を行なった後、リン酸トリメチル0.09重量部、
三酸化アンチモン0.06重量部を加え240℃から2
80℃までい時間30分かけて昇温するとともに圧力を
常圧から徐々に0.5mmHgまで下げ、過剰のジオー
ル成分を形外に除去し、さらに40分間この状態を保
ち、重縮合反応を行ない、ガラス転移温度62℃、極限
粘度[η]=0.6の親水基含有ポリエステル共重合体
を得た。次にこの共重合体250重量部とブチルセロソ
ルブ110重量部の混合体を150℃で4時間撹拌し均
一溶解液を得た。得られた溶解液に高速撹拌下で水48
0重量部を徐々に滴下し、均一で乳白色不透明な固形分
濃度25重量%の分散体を得た。こうして得られた分散
体70重量部に水100重量部を加え、さらに水30重
量部、過酸化ベンゾイル1.5重量部、メタクリル酸メ
チル12重量部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
リン酸エステル2.5重量部からなる重合開始剤を含む
分散体を加え、混合体を窒素ガス流通下で1時間撹拌し
た後、75℃まで加温した。次にグラフト化させるアク
リク系化合物としてメタクリル酸メチル40重量部、ア
クリル酸エチル30重量部、グリシジルメタクリレート
15重量部の混合体を撹拌下の85℃に保った前記調合
液中に60分かけて滴下し、窒素流通下85℃で120
分間撹拌を続け、固形分濃度27重量%の水分散グラフ
ト共重合体を得た。なおグラフト共重合体のグラフト化
率は44%であった。
の架橋改質層を合成した。テレフタル酸ジメチル100
重量部、イソフタル酸ジメチル75重量部、5−ナトリ
ウムスルホイソフタル酸ジメチル10重量部、エチレン
グリコール95部、ネオペンチルグリコール85重量
部、酢酸マンガン4水塩0.106重量部、酢酸カルシ
ウム2水塩0.07重量部を混合し、窒素気流下、14
0〜220℃でメタノールを流出せしめ、エステル交換
反応を行なった後、リン酸トリメチル0.09重量部、
三酸化アンチモン0.06重量部を加え240℃から2
80℃までい時間30分かけて昇温するとともに圧力を
常圧から徐々に0.5mmHgまで下げ、過剰のジオー
ル成分を形外に除去し、さらに40分間この状態を保
ち、重縮合反応を行ない、ガラス転移温度62℃、極限
粘度[η]=0.6の親水基含有ポリエステル共重合体
を得た。次にこの共重合体250重量部とブチルセロソ
ルブ110重量部の混合体を150℃で4時間撹拌し均
一溶解液を得た。得られた溶解液に高速撹拌下で水48
0重量部を徐々に滴下し、均一で乳白色不透明な固形分
濃度25重量%の分散体を得た。こうして得られた分散
体70重量部に水100重量部を加え、さらに水30重
量部、過酸化ベンゾイル1.5重量部、メタクリル酸メ
チル12重量部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
リン酸エステル2.5重量部からなる重合開始剤を含む
分散体を加え、混合体を窒素ガス流通下で1時間撹拌し
た後、75℃まで加温した。次にグラフト化させるアク
リク系化合物としてメタクリル酸メチル40重量部、ア
クリル酸エチル30重量部、グリシジルメタクリレート
15重量部の混合体を撹拌下の85℃に保った前記調合
液中に60分かけて滴下し、窒素流通下85℃で120
分間撹拌を続け、固形分濃度27重量%の水分散グラフ
ト共重合体を得た。なおグラフト共重合体のグラフト化
率は44%であった。
【0085】前記で製造したグラフト共重合体の水分散
液と架橋結合剤としてメラミン系架橋剤“ニカラック”
MW12LF((株)三和ケミカル製)を固形分重量比
でグラフト重合体100重量部に対して架橋剤5重量部
を混合し、さらに水で希釈して固形分濃度を5.0重量
%とし、塗剤中には滑剤として平均粒子径0.10μm
のコロイルシリカを樹脂固形分100重量部に対しO.
5重量部添加した。次いで、この塗剤を前記ポリエチレ
ン2,6−ナフタレートフィルム層の放電処理面に二軸
延伸後の厚さが0.08μmになるようにロッドコータ
ーを用いて塗布し、厚さ100μmの積層フィルムを得
た。この架橋改質層は分子配向されており架橋改質層表
層より100オングストロームまでの深さにおける親水
基含有ポリエステルの存在はESCA法での検出限界以
下であった。
液と架橋結合剤としてメラミン系架橋剤“ニカラック”
MW12LF((株)三和ケミカル製)を固形分重量比
でグラフト重合体100重量部に対して架橋剤5重量部
を混合し、さらに水で希釈して固形分濃度を5.0重量
%とし、塗剤中には滑剤として平均粒子径0.10μm
のコロイルシリカを樹脂固形分100重量部に対しO.
5重量部添加した。次いで、この塗剤を前記ポリエチレ
ン2,6−ナフタレートフィルム層の放電処理面に二軸
延伸後の厚さが0.08μmになるようにロッドコータ
ーを用いて塗布し、厚さ100μmの積層フィルムを得
た。この架橋改質層は分子配向されており架橋改質層表
層より100オングストロームまでの深さにおける親水
基含有ポリエステルの存在はESCA法での検出限界以
下であった。
【0086】こうして得たPENフィルムの架橋改質層
(下引き層)の上に、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート60重量部、ポリエステルアクリレート(東
亜合成(株)製“アロニックス”M−7100)30重
量部、ヒドロキシプロピルアクリレート10重量部、1
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン1重量部、
2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾト
リアゾール7重量部を撹拌混合して得られた硬化性層組
成物を、バーコータを用いて硬化後の厚さが、10μm
になるように塗布した。これをN2 雰囲気下で塗膜面か
ら10cmの高さにセットした120mW/cmの強度
を有する高圧水銀灯4灯の下を20m/分の速度で通過
させた。塗膜は完全に硬化した。
(下引き層)の上に、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート60重量部、ポリエステルアクリレート(東
亜合成(株)製“アロニックス”M−7100)30重
量部、ヒドロキシプロピルアクリレート10重量部、1
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン1重量部、
2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾト
リアゾール7重量部を撹拌混合して得られた硬化性層組
成物を、バーコータを用いて硬化後の厚さが、10μm
になるように塗布した。これをN2 雰囲気下で塗膜面か
ら10cmの高さにセットした120mW/cmの強度
を有する高圧水銀灯4灯の下を20m/分の速度で通過
させた。塗膜は完全に硬化した。
【0087】得られた積層体の表面は平滑で曇りがな
く、耐摩耗性、鉛筆硬度、接着性はそれぞれS−4、
4、A3であり、可撓性は8mm、カール性・吸湿カー
ル性はともにK3であった。
く、耐摩耗性、鉛筆硬度、接着性はそれぞれS−4、
4、A3であり、可撓性は8mm、カール性・吸湿カー
ル性はともにK3であった。
【0088】この積層体の耐沸水性を調べたところ、ク
ラックの発生は全く認められず、硬化層の接着性低下は
なくA3であった。
ラックの発生は全く認められず、硬化層の接着性低下は
なくA3であった。
【0089】耐湿熱試験を10日間行なった後、特性を
調べたところ、外観の異常は全く認められず、また耐摩
耗性、硬化膜の接着性のいずれも低下はなく、優れたも
のであった。
調べたところ、外観の異常は全く認められず、また耐摩
耗性、硬化膜の接着性のいずれも低下はなく、優れたも
のであった。
【0090】実施例2 実施例1において、硬化性層の厚さを3μmにした以外
は同様にして積層フィルムを得た。こうして得た積層フ
ィルムの特性は鉛筆硬度が3H、可撓性は6mmであっ
た他は実施例1と同様で優れた積層フィルムであった。
は同様にして積層フィルムを得た。こうして得た積層フ
ィルムの特性は鉛筆硬度が3H、可撓性は6mmであっ
た他は実施例1と同様で優れた積層フィルムであった。
【0091】比較例1 常法によって製造されたポリエチレンテレフタレートの
ホモポリマーチップ(固有粘度=0.6)を充分に真空
乾燥した後、押出機に供給して280℃で溶融押出し、
10μmカットの金属焼結フィルターで瀘過した後、T
字型口金からシート状に押出し、これを表面温度50℃
の冷却ドラム上に静電荷法で密着冷却固化させた。次い
で該キャストシートを常法に従い長手方向に95℃に加
熱したロール群を用いて3.5倍に延伸して、一軸延伸
フィルムを得た後、実施例1と同様にして、片側にコロ
ナ放電処理した後、架橋改質層塗剤を塗布後、幅方向に
延伸し、得られた二軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムの架橋改質層の上に実施例1と同様に硬度化層
(厚さ10μm)を設けて比較例1の積層フィルムを得
た。耐摩耗性はS−4、鉛筆硬度は3H、接着性はA3
であったが、可撓性は10mmφ以上、カール性・吸湿
カール性はK−1、耐沸水性は小さなクラックの発生・
硬化層の接着性低下が見られA1であった。PENフィ
ルムを支持体フィルムとする本発明の積層フィルムはポ
リエチレンテレフタレートフィルムを支持体フィルムと
する積層フィルムに比較して多くの特性で優れており、
劣るものはなかった。
ホモポリマーチップ(固有粘度=0.6)を充分に真空
乾燥した後、押出機に供給して280℃で溶融押出し、
10μmカットの金属焼結フィルターで瀘過した後、T
字型口金からシート状に押出し、これを表面温度50℃
の冷却ドラム上に静電荷法で密着冷却固化させた。次い
で該キャストシートを常法に従い長手方向に95℃に加
熱したロール群を用いて3.5倍に延伸して、一軸延伸
フィルムを得た後、実施例1と同様にして、片側にコロ
ナ放電処理した後、架橋改質層塗剤を塗布後、幅方向に
延伸し、得られた二軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムの架橋改質層の上に実施例1と同様に硬度化層
(厚さ10μm)を設けて比較例1の積層フィルムを得
た。耐摩耗性はS−4、鉛筆硬度は3H、接着性はA3
であったが、可撓性は10mmφ以上、カール性・吸湿
カール性はK−1、耐沸水性は小さなクラックの発生・
硬化層の接着性低下が見られA1であった。PENフィ
ルムを支持体フィルムとする本発明の積層フィルムはポ
リエチレンテレフタレートフィルムを支持体フィルムと
する積層フィルムに比較して多くの特性で優れており、
劣るものはなかった。
【0092】実施例3 ポリエチレン2,6−ナフタレート(極限粘度[η]=
0.7)を押出機Aに供給し、常法により295℃で溶
融してTダイ3層口金の中央部に導入した。
0.7)を押出機Aに供給し、常法により295℃で溶
融してTダイ3層口金の中央部に導入した。
【0093】一方、上記ポリエチレン2,6−ナフタレ
ート85量%に平均粒径がO.3μmのコロイダルシリ
カを15重量%添加した原料を押出機Bに供給し、常法
により295℃で溶融しTダイ3層口金の両表層にラミ
ネートして、該溶融体シートを表面温度25℃に保たれ
た冷却ドラム上に静電荷法で密着冷却固化させた。続い
て該キャストシートを常法に従い長手方向に120℃に
加熱されたロール群を用いて3.5倍に延伸し、25℃
に冷却した後、実施例1の架橋改質層塗剤を塗布後、さ
らに、該延伸フィルムをテンターに導き125℃に加熱
された雰囲気中で幅方向に延伸し、225℃で熱固定を
行ない、厚さ100μmのフィルムを得た。各フィルム
層の厚みは表層0.5μmずつ、中央層99μmの構成
であった。こうして得た不活性粒子を含有させて表面に
均一な凹凸を形成させたPENフィルムの架橋改質層の
上に実施例1の硬化性層を形成して積層フィルムを得
た。得られた積層フィルムの表面は平滑で曇りがなく、
耐摩耗性、鉛筆硬度、接着性はそれぞれS−4、3H、
A3であり、可撓性は6mmφ、カール性・吸湿カール
性はともにK3であった。
ート85量%に平均粒径がO.3μmのコロイダルシリ
カを15重量%添加した原料を押出機Bに供給し、常法
により295℃で溶融しTダイ3層口金の両表層にラミ
ネートして、該溶融体シートを表面温度25℃に保たれ
た冷却ドラム上に静電荷法で密着冷却固化させた。続い
て該キャストシートを常法に従い長手方向に120℃に
加熱されたロール群を用いて3.5倍に延伸し、25℃
に冷却した後、実施例1の架橋改質層塗剤を塗布後、さ
らに、該延伸フィルムをテンターに導き125℃に加熱
された雰囲気中で幅方向に延伸し、225℃で熱固定を
行ない、厚さ100μmのフィルムを得た。各フィルム
層の厚みは表層0.5μmずつ、中央層99μmの構成
であった。こうして得た不活性粒子を含有させて表面に
均一な凹凸を形成させたPENフィルムの架橋改質層の
上に実施例1の硬化性層を形成して積層フィルムを得
た。得られた積層フィルムの表面は平滑で曇りがなく、
耐摩耗性、鉛筆硬度、接着性はそれぞれS−4、3H、
A3であり、可撓性は6mmφ、カール性・吸湿カール
性はともにK3であった。
【0094】この積層体の耐沸水性を調べたところ、ク
ラックの発生は全く認められず、硬化層の接着性低下は
なくA3であった。
ラックの発生は全く認められず、硬化層の接着性低下は
なくA3であった。
【0095】耐湿熱試験を10日間行なった後、特性を
調べたところ、外観の異常は全く認められず、また耐摩
耗性、硬化膜の接着性のいずれも低下はなく優れたもの
であった。さらに裏面が均一な凹凸を有するので滑り性
が優れ、後加工、例えば、スリット、断裁、ラミネー
ト、コーテイング等における加工適性、取り扱い性に特
に優れていた。
調べたところ、外観の異常は全く認められず、また耐摩
耗性、硬化膜の接着性のいずれも低下はなく優れたもの
であった。さらに裏面が均一な凹凸を有するので滑り性
が優れ、後加工、例えば、スリット、断裁、ラミネー
ト、コーテイング等における加工適性、取り扱い性に特
に優れていた。
【0096】実施例4 実施例1で用いたPENを中心層とし、ΔTcgが30
℃であるPENを両最表層とするポリエステルフィルム
をそれぞれ180℃で3時間減圧乾燥(400Pa)
し、それぞれ2台の押出機に供給し295℃で溶融し、
これらのポリマーを3層用の矩形の合流ブロック(フィ
ードブロック)で合流積層し、静電印加キャスト法を用
いて、冷媒温度30℃のキャステイング・ドラムに巻き
付けて冷却固化し3層構造の未延伸フィルムを得た。こ
の時、各押出機の吐出量を調節し、最表層の厚みを調節
した。この未延伸フィルムのドラムと接しない方の面に
ついて、公知のラシ゛エーションヒーターを用いて、フ
ィルム表面を190℃で5秒間熱処理を行なった。熱処
理後、フィルムを温度90℃で長手方向に3.4倍延伸
し、実施例1と同様にして架橋改質層塗剤を塗布後、さ
らにステンタを用いて延伸速度2000%/分で100
℃で幅方向に3.5倍延伸しさらに、定長下で、210
℃にて5秒間熱処理し、総厚み100μm(最表層はそ
れぞれ0.2μm)の二軸配向PENフィルムを得た。
本フィルムの表面突起数は20万個/mm2 、NR は4
5であった。本フィルムを支持体フィルムとして実施例
1と同様に硬化性層を形成して積層フィルムを得た。得
られた積層フィルムの耐摩耗性、鉛筆硬度、接着性はそ
れぞれS−4、3H、A3であり、可撓性は6mmφ、
カール性・吸湿カール性はともにK3であった。
℃であるPENを両最表層とするポリエステルフィルム
をそれぞれ180℃で3時間減圧乾燥(400Pa)
し、それぞれ2台の押出機に供給し295℃で溶融し、
これらのポリマーを3層用の矩形の合流ブロック(フィ
ードブロック)で合流積層し、静電印加キャスト法を用
いて、冷媒温度30℃のキャステイング・ドラムに巻き
付けて冷却固化し3層構造の未延伸フィルムを得た。こ
の時、各押出機の吐出量を調節し、最表層の厚みを調節
した。この未延伸フィルムのドラムと接しない方の面に
ついて、公知のラシ゛エーションヒーターを用いて、フ
ィルム表面を190℃で5秒間熱処理を行なった。熱処
理後、フィルムを温度90℃で長手方向に3.4倍延伸
し、実施例1と同様にして架橋改質層塗剤を塗布後、さ
らにステンタを用いて延伸速度2000%/分で100
℃で幅方向に3.5倍延伸しさらに、定長下で、210
℃にて5秒間熱処理し、総厚み100μm(最表層はそ
れぞれ0.2μm)の二軸配向PENフィルムを得た。
本フィルムの表面突起数は20万個/mm2 、NR は4
5であった。本フィルムを支持体フィルムとして実施例
1と同様に硬化性層を形成して積層フィルムを得た。得
られた積層フィルムの耐摩耗性、鉛筆硬度、接着性はそ
れぞれS−4、3H、A3であり、可撓性は6mmφ、
カール性・吸湿カール性はともにK3であった。
【0097】この積層体の耐沸水性を調べたところ、ク
ラックの発生は全く認められず、硬化層の接着性低下は
なくA3であった。
ラックの発生は全く認められず、硬化層の接着性低下は
なくA3であった。
【0098】耐湿熱試験を10日間行なった後、特性を
調べたところ、外観の異常は全く認められず、また耐摩
耗性、硬化膜の接着性のいずれも低下はなく優れたもの
であった。さらに裏面が均一な凹凸を有するので滑り性
が優れ、後加工、例えば、スリット、断裁、ラミネー
ト、コーテイング等における加工適性、取り扱い性に特
に優れていた。
調べたところ、外観の異常は全く認められず、また耐摩
耗性、硬化膜の接着性のいずれも低下はなく優れたもの
であった。さらに裏面が均一な凹凸を有するので滑り性
が優れ、後加工、例えば、スリット、断裁、ラミネー
ト、コーテイング等における加工適性、取り扱い性に特
に優れていた。
【0099】実施例5 実施例1において、硬化性層組成物として、平均粒子径
が1.8μmのシリカ粒子を2重量部含有した分散液を
用いる他は同様にして、硬化性層の厚さが3μmの積層
フィルムを得た。この積層フィルムのヘイズは3.5
%、光沢度は100で、ノングレア性に優れていた。
が1.8μmのシリカ粒子を2重量部含有した分散液を
用いる他は同様にして、硬化性層の厚さが3μmの積層
フィルムを得た。この積層フィルムのヘイズは3.5
%、光沢度は100で、ノングレア性に優れていた。
【0100】実施例6 実施例1において、硬化性層組成物として、平均粒子径
が3.0μmのシリカ粒子を4重量部含有した分散液を
用いる他は同様にして、硬化性層の厚さが3μmの積層
フィルムを得た。この積層フィルムのヘイズは30%、
光沢度は36で、ノングレア性に優れていた。
が3.0μmのシリカ粒子を4重量部含有した分散液を
用いる他は同様にして、硬化性層の厚さが3μmの積層
フィルムを得た。この積層フィルムのヘイズは30%、
光沢度は36で、ノングレア性に優れていた。
【0101】
【発明の効果】本発明は、上述のごとく構成したので、
表面硬度、耐摩耗性、耐スクラッチ性、可撓性、表面均
一性に優れ、熱収縮率が小さく、高速硬化性に優れ、透
明なものから白色性、隠蔽性、着色性のものまで光学的
にも優れ、滑り性がよく加工適性、取り扱い性に優れ、
カールのきわめて少ない積層フィルムが得られたもので
ある。
表面硬度、耐摩耗性、耐スクラッチ性、可撓性、表面均
一性に優れ、熱収縮率が小さく、高速硬化性に優れ、透
明なものから白色性、隠蔽性、着色性のものまで光学的
にも優れ、滑り性がよく加工適性、取り扱い性に優れ、
カールのきわめて少ない積層フィルムが得られたもので
ある。
【0102】本発明の積層フィルムは、表面硬度、耐摩
耗性、耐スクラッチ性、可撓性に優れ、さらに、表面均
一性、熱収縮率が小さく、カールがきわめて少ないの
で、広範な用途に適用できる。たとえば、タッチパネ
ル、金属板やガラスに貼る装飾やデイスプレイ用、窓ガ
ラスに貼る飛散防止用、電子白板やホワイトボードなど
の表示用、紙の代用品、すなわち、カード、ラベル、シ
ール、宅配便伝票、ビデオプリンター用受像紙、バーコ
ードプリンター用受像紙、地図など、さらに種々の表面
保護材、例えば電卓、CRTや計器のカバーなどに用い
ることもできる。また、被覆金属板用として家電機器、
事務用機器、建材、車両、鋼製家具などに用いることも
できる。特に意匠性、鮮映性などに優れているので家電
機器などの外装部材に用いることができる。また、ポリ
アルキレンナフタレートフィルムはポリエチレンテレフ
タレートフィルムよりヤング率が高く、剛性が高いので
硬化性層をより厚くして硬度をあげてもカールを抑制す
ることができ、またより高強度の活性エネルギー線を用
いた高速加工性にも優れている。
耗性、耐スクラッチ性、可撓性に優れ、さらに、表面均
一性、熱収縮率が小さく、カールがきわめて少ないの
で、広範な用途に適用できる。たとえば、タッチパネ
ル、金属板やガラスに貼る装飾やデイスプレイ用、窓ガ
ラスに貼る飛散防止用、電子白板やホワイトボードなど
の表示用、紙の代用品、すなわち、カード、ラベル、シ
ール、宅配便伝票、ビデオプリンター用受像紙、バーコ
ードプリンター用受像紙、地図など、さらに種々の表面
保護材、例えば電卓、CRTや計器のカバーなどに用い
ることもできる。また、被覆金属板用として家電機器、
事務用機器、建材、車両、鋼製家具などに用いることも
できる。特に意匠性、鮮映性などに優れているので家電
機器などの外装部材に用いることができる。また、ポリ
アルキレンナフタレートフィルムはポリエチレンテレフ
タレートフィルムよりヤング率が高く、剛性が高いので
硬化性層をより厚くして硬度をあげてもカールを抑制す
ることができ、またより高強度の活性エネルギー線を用
いた高速加工性にも優れている。
Claims (8)
- 【請求項1】 基材フィルム(I)の上に、放射線硬化
性層(II)を積層してなる積層フィルムにおいて、基材
フィルム(I)がポリアルキレンナフタレートフィルム
であることを特徴とする積層フィルム。 - 【請求項2】 基材フィルム(I)と放射線硬化性層
(II)の間に分子配向されている架橋改質層(III )を
積層してなることを特徴とする請求項1に記載の積層フ
ィルム。 - 【請求項3】 ポリアルキレンナフタレートフィルム
が、ポリエチレン2,6−ナフタレートフィルム、ポリ
エチレン2,6−ナフタレート/ポリエチレンテレフタ
レート複合フィルムまたはポリエチレン2,6−ナフタ
レート/ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレン
2,6−ナフタレート複合フィルムであることを特徴と
する請求項1に記載の積層フィルム。 - 【請求項4】 放射線硬化性層(II)が厚さ2μm以
上、JIS−K5400(塗料一般試験方法)の中の鉛
筆引っかき値−試験機法による鉛筆硬度2H以上である
ことを特徴とする請求項1に記載の積層フィルム。 - 【請求項5】 放射線硬化性層(II)が1分子中に3個
以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体
(A)の少なくとも1種と、1分子中に1〜2個のエチ
レン性不飽和二重結合を有する単量体(B)の少なくと
も1種からなる放射性硬化性単量体混合物からなる放射
性硬化反応生成物の層であることを特徴とする請求項1
に記載の積層フィルム。 - 【請求項6】 基材フィルム(I)の少なくとも片面が
熱可塑性樹脂(a)と不活性粒子とを主成分としたフィ
ルム層(IV)であって、該フィルム層(IV)中に含有さ
れる不活性粒子の平均粒径が該フィルム層(IV)の厚さ
の0.1〜10倍、該不活性粒子の含有量が0.1〜5
0重量%で、かつ該フィルム層(IV)の厚さが0.00
5〜3μmであることを特徴とする請求項1に記載の積
層フィルム。 - 【請求項7】 基材フィルム(I)の少なくとも片面が
本質的に粒子含有ではなく、ポリエステル自身の結晶化
を利用して形成された突起を有するポリエステル層
(V)であることを特徴とする請求項1に記載の積層フ
ィルム。 - 【請求項8】 基材フィルム(I)が150゜Cの熱収
縮率が0.5%以下で、かつ比重が1.3以下のポリエ
ステルフィルムであることを特徴とする請求項1に記載
の積層フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18375594A JPH0848010A (ja) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | 積層フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18375594A JPH0848010A (ja) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | 積層フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0848010A true JPH0848010A (ja) | 1996-02-20 |
Family
ID=16141415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18375594A Pending JPH0848010A (ja) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | 積層フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0848010A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1029285A (ja) * | 1996-07-15 | 1998-02-03 | Diafoil Co Ltd | 陰極線管用ポリエステルフィルム |
| JP2002275438A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Lintec Corp | 耐熱性ラベル |
| WO2006134893A1 (ja) * | 2005-06-15 | 2006-12-21 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 光学フィルム及び光学フィルム用支持体 |
| JP2007205551A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Mitsubishi Kagaku Sanshi Corp | 温冷水配管 |
-
1994
- 1994-08-04 JP JP18375594A patent/JPH0848010A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1029285A (ja) * | 1996-07-15 | 1998-02-03 | Diafoil Co Ltd | 陰極線管用ポリエステルフィルム |
| JP2002275438A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Lintec Corp | 耐熱性ラベル |
| WO2006134893A1 (ja) * | 2005-06-15 | 2006-12-21 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 光学フィルム及び光学フィルム用支持体 |
| JP2007205551A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Mitsubishi Kagaku Sanshi Corp | 温冷水配管 |
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