JPH0848791A - Polystyrene film and capacitor made thereof - Google Patents

Polystyrene film and capacitor made thereof

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JPH0848791A
JPH0848791A JP6183427A JP18342794A JPH0848791A JP H0848791 A JPH0848791 A JP H0848791A JP 6183427 A JP6183427 A JP 6183427A JP 18342794 A JP18342794 A JP 18342794A JP H0848791 A JPH0848791 A JP H0848791A
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JP
Japan
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film
polystyrene
syndiotactic
polystyrene film
tgc
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Application number
JP6183427A
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Japanese (ja)
Inventor
Naonobu Oda
尚伸 小田
Tomonori Yoshinaga
智則 吉永
Tadashi Okudaira
正 奥平
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Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a polystyrene film desirable as a dielectric film for a capacitor by using a specified polystyrene film having a specified ratio of the number of the ultrasuperficial carbon atoms to that of the ultrasuperficial oxygen atoms. CONSTITUTION:This film is one which is made of a syndiotactic styrene polymer and either of which surfaces has a ratio of the number of the ultrasuperficial carbon atoms to that of the ultrasuperficial oxygen atoms of 10% or above when determined by the X-ray photoelectron spectroscopy. A polystyrene film prepared by forming a surface layer comprising a resin composition (e.g. polyethylene or polypropylene) on at least either surface of a film of a syndiotactic styrene polymer is desirable. A polystyrene film prepared by surface-treating at least either surface of a film of a syndiotactic styrene polymer by the oxidation method is also desirable.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はポリスチレン系フィルム
およびそれを用いたコンデンサに関するものであり、さ
らに詳しく言えばコンデンサ用誘電体フィルムとして好
適な、フィルムの製造時やコンデンサ製造時のフィルム
の走行性、耐削れ性に優れ、且つ電圧負荷時の耐湿性、
セルフヒーリング性が改良されたシンジオタクチックポ
リスチレン系フィルムおよびコンデンサに関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polystyrene film and a capacitor using the same. More specifically, it is suitable as a dielectric film for a capacitor, and is suitable for running the film during the manufacturing of the capacitor or during the manufacturing of the capacitor. , Excellent in abrasion resistance, and moisture resistance under voltage load,
The present invention relates to a syndiotactic polystyrene film and a capacitor having improved self-healing property.

【0002】[0002]

【従来の技術】シンジオタクチックポリスチレン系重合
体を主成分とする樹脂組成物を二軸延伸、熱固定した二
軸延伸フィルムは耐熱性、電気特性が良好であるためコ
ンデンサの誘電体に展開されている(特開平2-143851、
特開平3-124750、特開平5-200858)。また、コンデンサ
ーの製造時の走行性向上や収率向上のために滑り性を改
良したものが知られている(特開平6-29146 、特開平6-
80793 )。
2. Description of the Related Art A biaxially stretched film obtained by biaxially stretching and heat-fixing a resin composition containing a syndiotactic polystyrene-based polymer as a main component has excellent heat resistance and electric characteristics and is therefore developed as a dielectric for capacitors. (Japanese Patent Laid-Open No. 2-143851,
JP-A-3-124750 and JP-A-5-200858). Further, a capacitor having improved slipperiness in order to improve running performance and yield during manufacturing is known (JP-A-6-29146 and JP-A-6-29146).
80793).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
シンジオタクチックポリスチレン系フィルムにおいて、
フィルムの製造時及びコンデンサ製造時の耐削れ性、走
行性の改良は見られるが、得られたコンデンサの電圧負
荷時の耐湿性およびセルフヒーリング性に関しては必ず
しも満足できるものではなかった。
However, in these conventional syndiotactic polystyrene films,
Although abrasion resistance and running property were improved during the production of the film and during the production of the capacitor, the moisture resistance and self-healing property of the obtained capacitor under voltage load were not always satisfactory.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、シンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体からなるフィルム
の少なくとも一方の表面のX線光電子分光法により評価
した極表面の炭素原子に対する酸素原子の比率が10%以
上であることを特徴とするポリスチレン系フィルムであ
る。更にシンジオタクチック構造を有するスチレン系重
合体からなるフィルムの少なくとも一方の表面に樹脂組
成物からなる表面層が形成されたこと、シンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体からなるフィルムの
少なくとも一方の表面を酸化法により表面処理したこ
と、シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
からなるフィルムの少なくとも一方の表面に樹脂組成物
からなる表面層を形成し、該表面層を酸化法により表面
処理したこと、シンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体からなるフィルムの少なくとも一方の表面の
三次元表面粗さSRa が0.01(μm )以上、且つ Sλa
(μm )とガラス転移温度が下記の関係を満足すること
を特徴とすること、3+4 ×(Tgc−Tgs)/Tgc ≦Sλa ≦2
0+10 ×(Tgc−Tgs)/Tgc ここで、Tgc はシンジオタクチックポリスチレン系フィ
ルム層のガラス転移温度 Tgs は表面層のガラス転移温度 シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体から
なるフィルムの少なくとも一方の表面に樹脂組成物から
なる表面層を形成し、該表面層の厚みがフィルム全体の
厚みの30%以下であること、フィルムの誘電正接(25
℃、1kHz)が0.001 以下であることにより、コンデンサ
用誘電体フィルムとして好適な、フィルムの製造時やコ
ンデンサ製造時の滑剤の脱落を抑制し、走行性に優れ、
且つ電圧負荷時の耐湿性、セルフヒーリング性が改良さ
れたシンジオタクチックポリスチレン系フィルムを得る
ことが出来る。また、このようなシンジオタクチックポ
リスチレン系フィルムの少なくとも片面に金属薄膜層を
形成した金属化シンジオタクチックポリスチレン系フィ
ルムを用いたことを特徴とするコンデンサは電気特性に
優れ、且つ電圧負荷時の耐湿性およびセルフヒーリング
性に優れたものである。
The present invention provides a ratio of oxygen atoms to carbon atoms on the very surface of at least one surface of a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure, which is evaluated by X-ray photoelectron spectroscopy. Is 10% or more, which is a polystyrene film. Furthermore, a surface layer made of a resin composition is formed on at least one surface of a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure, and at least one of a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure is formed. The surface was surface-treated by an oxidation method, a surface layer made of a resin composition was formed on at least one surface of a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure, and the surface layer was surface-treated by an oxidation method. That is, the three-dimensional surface roughness SRa of at least one surface of the film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure is 0.01 (μm) or more, and Sλa
(Μm) and the glass transition temperature satisfy the following relationship: 3 + 4 × (Tgc-Tgs) / Tgc ≤ Sλa ≤ 2
0 + 10 × (Tgc-Tgs) / Tgc where Tgc is the glass transition temperature of the syndiotactic polystyrene film layer Tgs is the glass transition temperature of the surface layer At least a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure A surface layer made of a resin composition is formed on one surface, and the thickness of the surface layer is 30% or less of the total thickness of the film, and the dielectric loss tangent (25
(° C, 1kHz) is 0.001 or less, which is suitable as a dielectric film for capacitors, which suppresses slipping off of lubricant during film production and during capacitor production, and has excellent runnability.
In addition, it is possible to obtain a syndiotactic polystyrene-based film having improved humidity resistance under voltage application and self-healing property. Further, a capacitor characterized by using a metallized syndiotactic polystyrene-based film in which a metal thin film layer is formed on at least one surface of such a syndiotactic polystyrene-based film has excellent electrical characteristics and moisture resistance under voltage load. And excellent self-healing property.

【0005】本発明に用いられる立体規則性がシンジオ
タクチック構造であるポリスチレン系重合体は、側鎖で
あるフェニル基又は置換フェニル基が核磁気共鳴法によ
り定量されるタクティシティがダイアッド(構成単位が
二個)で85%以上、ペンタッド(構成単位が5個)で50
%以上のシンジオタクチック構造であることが望まし
い。
The polystyrene-based polymer having stereoregular syndiotactic structure used in the present invention has a tacticity in which the side chain phenyl group or substituted phenyl group is quantified by a nuclear magnetic resonance method, which is a diad (constituent unit). 85% or more for 2) and 50 for pentad (5 units)
It is desirable that the structure has a syndiotactic structure of not less than%.

【0006】該ポリスチレン系重合体としては、ポリス
チレン、ポリ(p-、m-又はo-メチルスチレン)、ポリ
(2,4-、2,5-、3,4-又は3,5-ジメチルスチレン)、ポリ
(p-ターシャリーブチルスチレン)などのポリ(アルキ
ルスチレン)、ポリ(p-、m-又はo-クロロスチレン)、
ポリ(p-、m-又はo-ブロモスチレン)、ポリ(p-、m-又
はo-フルオロスチレン)、ポリ(o-メチル-p- フルオロ
スチレン)などのポリ(ハロゲン化スチレン)、ポリ
(p-、m-又はo-クロロメチルスチレン)などのポリ(ハ
ロゲン置換アルキルスチレン)、ポリ(p-、m-又はo-メ
トキシスチレン)、ポリ(p-、m-又はo-エトキシスチレ
ン)などのポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(p-、m-
又はo-カルボキシメチルスチレン)などのポリ(カルボ
キシアルキルスチレン)ポリ(p-ビニルベンジルプロピ
ルエーテル)などのポリ(アルキルエーテルスチレ
ン)、ポリ(p-トリメチルシリルスチレン)などのポリ
(アルキルシリルスチレン)、さらにはポリ(ビニルベ
ンジルジメトキシホスファイド)などが挙げられる。
The polystyrene-based polymer includes polystyrene, poly (p-, m- or o-methylstyrene), poly (2,4-, 2,5-, 3,4- or 3,5-dimethylstyrene). ), Poly (alkylstyrene) such as poly (p-tert-butylstyrene), poly (p-, m- or o-chlorostyrene),
Poly (halogenated styrene) such as poly (p-, m- or o-bromostyrene), poly (p-, m- or o-fluorostyrene), poly (o-methyl-p-fluorostyrene), poly ( p-, m- or o-chloromethylstyrene) and other poly (halogen-substituted alkylstyrenes), poly (p-, m- or o-methoxystyrene), poly (p-, m- or o-ethoxystyrene), etc. Poly (alkoxystyrene), poly (p-, m-
Or poly (carboxyalkylstyrene) such as o-carboxymethylstyrene), poly (alkyletherstyrene) such as poly (p-vinylbenzylpropylether), poly (alkylsilylstyrene) such as poly (p-trimethylsilylstyrene), Examples include poly (vinylbenzyldimethoxyphosphide) and the like.

【0007】本発明においては、前記ポリスチレン系重
合体のなかで、特にポリスチレンが好適である。また、
本発明で用いるシンジオタクチック構造を有するポリス
チレン系重合体は、必ずしも単一化合物である必要はな
く、シンジオタクティシティが前記範囲内であればアタ
クチック構造やアイソタクチック構造のポリスチレン系
重合体との混合物や、共重合体及びそれらの混合物でも
よい。
In the present invention, among the polystyrene polymers, polystyrene is particularly preferred. Also,
The polystyrene polymer having a syndiotactic structure used in the present invention is not necessarily a single compound, and if the syndiotacticity is within the above range, a polystyrene polymer having an atactic structure or an isotactic structure is used. It may be a mixture of, a copolymer and a mixture thereof.

【0008】また本発明に用いるポリスチレン系重合体
は、重量平均分子量が10,000以上、更に好ましくは50,0
00以上である。重量平均分子量が10,000未満のもので
は、強伸度特性や耐熱性に優れたフィルムを得ることが
できない。重量平均分子量の上限については、特に限定
されるものではないが、1500,000以上では延伸張力の増
加に伴う破断の発生などが生じるため余り好ましくな
い。
The polystyrene-based polymer used in the present invention has a weight average molecular weight of 10,000 or more, more preferably 50,000 or more.
00 or more. If the weight average molecular weight is less than 10,000, it is not possible to obtain a film having excellent strength and elongation characteristics and heat resistance. The upper limit of the weight average molecular weight is not particularly limited, but if it is 1500,000 or more, breakage occurs due to an increase in stretching tension, which is not preferable.

【0009】更に、本発明のシンジオタクチックポリス
チレン系フィルムは、公知の方法、例えば、縦延伸及び
横延伸を順に行なう逐次二軸延伸方法のほか、横・縦・
縦延伸法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法などの
延伸方法を採用することができ、要求される強度や寸法
安定性などの諸特性に応じて選択される。また、熱固定
処理、縦弛緩処理、横弛緩処理などを施すことができ
る。
Further, the syndiotactic polystyrene film of the present invention can be produced by a known method, for example, a sequential biaxial stretching method in which longitudinal stretching and transverse stretching are carried out in order, as well as lateral / longitudinal stretching.
A stretching method such as a longitudinal stretching method, a longitudinal / transverse / longitudinal stretching method, or a longitudinal / longitudinal / transverse stretching method can be adopted, and the stretching method is selected according to various characteristics such as required strength and dimensional stability. Further, heat setting treatment, vertical relaxation treatment, lateral relaxation treatment, etc. can be performed.

【0010】本発明に用いられるシンジオタクチックポ
リスチレン系重合体には必要に応じて、公知の酸化防止
剤、帯電防止剤等を適量配合したものを用いることがで
きる。配合量はシンジオタクチックポリスチレン系重合
体100 重量%に対して10重量%以下が望ましい。10重量
%を越えると延伸時に破断を起こしやすくなり、生産安
定性不良となるので好ましくない。
The syndiotactic polystyrene polymer used in the present invention may contain, if necessary, an appropriate amount of a known antioxidant, antistatic agent or the like. The blending amount is preferably 10% by weight or less with respect to 100% by weight of the syndiotactic polystyrene polymer. If it exceeds 10% by weight, breakage easily occurs during stretching, resulting in poor production stability.

【0011】本発明のシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体からなるフィルムの少なくとも一方の
表面のX線光電子分光法により評価した極表面の炭素原
子に対する酸素原子の比率が10%以上であることが好ま
しい。更に好ましくは、15%以上である。極表面の炭素
原子に対する酸素原子の比率が10%より小さくなると、
電圧負荷時の耐湿性およびセルフヒーリング性が不良な
ものとなるため好ましくない。
The ratio of oxygen atoms to carbon atoms on the very surface of at least one surface of the film made of the styrene polymer having a syndiotactic structure of the present invention evaluated by X-ray photoelectron spectroscopy is 10% or more. Is preferred. More preferably, it is 15% or more. When the ratio of oxygen atoms to carbon atoms on the pole surface becomes smaller than 10%,
Moisture resistance and self-healing property under voltage load become poor, which is not preferable.

【0012】本発明のシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体からなるフィルムの少なくとも一方の
表面のX線光電子分光法により評価した極表面の炭素原
子に対する酸素原子の比率を10%以上にする方法として
は、炭素原子に対する酸素原子の比率が10%以上である
樹脂組成物により評面層を形成する方法、表面を酸化法
により表面処理する方法、及び樹脂組成物により形成し
た表面層を酸化法により表面処理する方法等が挙げられ
る。
A method in which the ratio of oxygen atoms to carbon atoms on the very surface of at least one surface of the film made of the styrene polymer having a syndiotactic structure of the present invention is 10% or more evaluated by X-ray photoelectron spectroscopy. As the method, a method for forming a surface evaluation layer with a resin composition having a ratio of oxygen atoms to carbon atoms of 10% or more, a method for surface-treating the surface with an oxidation method, and an oxidation method for a surface layer formed with the resin composition And the like.

【0013】樹脂組成物により表面層の形成方法として
はシンジオタクチックポリスチレン系重合体と表面形成
用樹脂組成物を溶融した状態でダイ内部又はダイの開口
部等で接合させ積層しダイから押出し急冷し無定形シー
トを作成した後延伸する方法、シンジオタクチックポリ
スチレン系重合体をダイから押出し急冷し得られた無定
形シート上もしくは一軸延伸したフィルム上に表面形成
用樹脂組成物をコーティングした後更に延伸する方法、
それぞれ別々に延伸したフィルムを接着し重ね合せるす
る方法等が挙げられる。
As a method of forming the surface layer with the resin composition, the syndiotactic polystyrene polymer and the resin composition for forming the surface are melted and bonded at the inside of the die or at the opening of the die, laminated, extruded from the die and rapidly cooled. A method of stretching after forming an amorphous sheet, extruding a syndiotactic polystyrene-based polymer from a die and quenching, and then coating the surface forming resin composition on the obtained amorphous sheet or uniaxially stretched film Method of stretching,
Examples include a method in which individually stretched films are adhered and laminated.

【0014】本発明のシンジオタクチックポリスチレン
系に積層される樹脂としてはポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブテン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポ
リエチレン−2,6 −テレナフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート等のポリエステル系重合体、ナイロン6、
ナイロン66、ナイロン12、ナイロン4 、ポリヘキサメチ
レンアジパミド等のポリアミド系重合体、ポリフェニレ
ンオキサイド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポ
リエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド等が
挙げられる。上記樹脂は混合物や共重合体及びそれらの
混合物でもよい。ここで、形成された表面層のX線光電
子分光法により評価した極表面の炭素原子に対する酸素
原子の比率が10%に満たない場合には、酸化処理等によ
って酸素原子の比率を高める必要がある。
The resin laminated on the syndiotactic polystyrene of the present invention includes polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polybutene, polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene-2,6-terenaphthalate and polybutylene terephthalate. Polyester polymer, nylon 6,
Examples thereof include polyamide polymers such as nylon 66, nylon 12, nylon 4, polyhexamethylene adipamide, polyphenylene oxide, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, and polyphenylene sulfide. The resin may be a mixture, a copolymer or a mixture thereof. Here, when the ratio of oxygen atoms to carbon atoms on the pole surface evaluated by X-ray photoelectron spectroscopy of the formed surface layer is less than 10%, it is necessary to increase the ratio of oxygen atoms by oxidation treatment or the like. .

【0015】本発明に於いてシンジオタクチック構造を
有するスチレン系重合体からなるフィルムは少なくとも
一方の表面を酸化法により表面処理した物であることが
好ましい。酸化法による表面処理の方法としては、コロ
ナ放電処理、クロム酸化処理、火炎処理、火炎プラズマ
処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられ
る。これらの処理のなかでは特に火炎プラズマ処理によ
る物が電圧負荷時の耐湿性およびセルフヒーリング性が
良好となるため最も好ましい。
In the present invention, it is preferable that at least one surface of the film made of the styrene polymer having a syndiotactic structure is surface-treated by an oxidation method. Examples of the surface treatment method by the oxidation method include corona discharge treatment, chromium oxidation treatment, flame treatment, flame plasma treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment and the like. Among these treatments, the one subjected to flame plasma treatment is most preferable because it has good moisture resistance and self-healing property under voltage load.

【0016】また、前記の三次元表面粗さ Sλa 及びSR
a は、フィルムの製膜条件、突起形成剤及び積層化等に
よって調整される。突起形成剤の種類及び添加量は三次
元表面粗さ Sλa 、SRa が所定の範囲に入るならば特に
限定されるものではないが、、例えばシリカ、二酸化チ
タン、タルク、カオリナイト、ゼオライト等の金属酸化
物、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム
などの金属の塩またはシリコーン樹脂、架橋ポリスチレ
ン等の有機重合体からなる粒子等の添加が例示される。
そして、これら微粒子は、いずれか一種を単独で用いて
もよく、また2種以上を併用してもよいが、使用する微
粒子の平均粒子系は0.01μm以上2.0 μm以下、特に0.
05μm以上1.5 μm以下が好ましく、粒子径のばらつき
度(標準偏差と平均粒子径との比率)が25%以下が好ま
しい。添加量はシンジオタクチックポリスチレン系重合
体100 重量%に対し0.005 重量%以上2.0 重量%以下含
有することが好ましく、特に0.1 重量%以上1.0 重量%
以下が好ましい。
The three-dimensional surface roughness Sλa and SR
a is adjusted by the film forming conditions, the protrusion forming agent, the lamination, and the like. The type and amount of the protrusion-forming agent are not particularly limited as long as the three-dimensional surface roughness Sλa, SRa falls within a predetermined range, and examples thereof include metals such as silica, titanium dioxide, talc, kaolinite, and zeolite. Examples include addition of oxides, salts of metals such as calcium carbonate, calcium phosphate and barium sulfate, particles of an organic polymer such as silicone resin and crosslinked polystyrene, and the like.
These fine particles may be used alone or in combination of two or more, but the average particle size of the fine particles used is 0.01 μm or more and 2.0 μm or less, and particularly, 0.
The thickness is preferably 05 μm or more and 1.5 μm or less, and the degree of variation in particle size (ratio between standard deviation and average particle size) is preferably 25% or less. The addition amount is preferably 0.005% by weight or more and 2.0% by weight or less, particularly 0.1% by weight or more and 1.0% by weight, based on 100% by weight of the syndiotactic polystyrene polymer.
The following are preferred.

【0017】本発明のシンジオタクチックポリスチレン
系フィルムに形成された表面層の三次元表面粗さSRa お
よび Sλa は、表面層のフィルムのガラス転移温度によ
って、フィルムの走行時やコンデンサ製造時の滑剤の脱
落を抑制し、走行性に優れた物にするための最適な範囲
が異なり、下記範囲内にする必要があることが分かっ
た。 SRa ≧0.01 3+4 ×(Tgc−Tgs)/Tgc ≦ Sλa ≦20+10 ×(Tgc−Tgs)
/Tgc ここで、Tgc はシンジオタクチックポリスチレン系フィ
ルム層のガラス転移温度 Tgs は表面層のガラス転移温度 SRa がこの範囲を外れた場合には走行性不良となりフィ
ルムの製造時及びコンデンサ製造時にロールとの接触に
よりしわ及び傷等の欠点が発生するため好ましくない。
また、 Sλa が3+4 ×(Tgc−Tgs)/Tgc 未満になった場
合には走行性が不良となる。更に、 Sλa が20+10 ×(T
gc−Tgs)/Tgc より大きくなった場合には、突起の削れ
に伴う白粉が生じ、耐磨耗性不良となるため好ましくな
い。
The three-dimensional surface roughness SRa and Sλa of the surface layer formed on the syndiotactic polystyrene-based film of the present invention depends on the glass transition temperature of the film of the surface layer, and thus the three-dimensional surface roughness SRa and Sλa It was found that the optimum range for suppressing falling and making the product excellent in running property is different, and it is necessary to be within the following range. SRa ≥0.01 3 + 4 x (Tgc-Tgs) / Tgc ≤ Sλa ≤20 + 10 x (Tgc-Tgs)
/ Tgc where Tgc is the glass transition temperature of the syndiotactic polystyrene film layer Tgs is the glass transition temperature SRa of the surface layer outside of this range, which results in poor running properties and rolls during film production and capacitor production. This is not preferable because it causes defects such as wrinkles and scratches.
When Sλa is less than 3 + 4 × (Tgc-Tgs) / Tgc, the running property becomes poor. Furthermore, Sλa is 20 + 10 × (T
When it is larger than gc-Tgs) / Tgc, it is not preferable because white powder is generated due to the scraping of the protrusions, resulting in poor wear resistance.

【0018】本発明に於いて表面層の厚みはフィルム全
体の厚みの30%以下であることが好ましい。30%より厚
い場合には静電容量や誘電正接の温度、周波数特性等の
電気特性および耐熱性が不良になるため好ましくない。
厚みの下限については特に限定されないが、0.005 μm
より薄くなるとセルフヒーリング性の改良効果が得られ
にくくなるため好ましくない。
In the present invention, the thickness of the surface layer is preferably 30% or less of the thickness of the entire film. If the thickness is more than 30%, the electrical properties such as capacitance and temperature of dielectric loss tangent, frequency characteristics, and heat resistance become poor, which is not preferable.
The lower limit of the thickness is not particularly limited, but 0.005 μm
If the thickness is thinner, it is difficult to obtain the effect of improving the self-healing property, which is not preferable.

【0019】また、本発明に於いてシンジオタクチック
構造を有するスチレン系重合体からなるフィルムの誘電
正接(25℃、1kHz)は0.001 以下であることが好まし
い。誘電正接(25℃、1kHz)が0.001 より大きくなった
場合、シンジオタクチックポリスチレン系重合体からな
るフィルムの持つ良好な電気特性が、積層された表面層
の樹脂の特性の影響等を受けたことにより、損なわれた
物となるため好ましくない。
The dielectric loss tangent (25 ° C., 1 kHz) of the styrene polymer film having a syndiotactic structure in the present invention is preferably 0.001 or less. When the dielectric loss tangent (25 ° C, 1kHz) was greater than 0.001, the good electrical properties of the film made of syndiotactic polystyrene polymer were affected by the properties of the resin of the laminated surface layers. Therefore, it is not preferable because it will be damaged.

【0020】更に、本発明に於いてこれらのポリスチレ
ン系フィルムの少なくとも片面に金属薄膜層を形成した
金属化シンジオタクチックポリスチレン系フィルムを用
いたコンデンサは、コンデンサ製造工程における滑剤の
脱落が抑制され、且つ走行性に優れているため得られた
コンデンサの特性のバラツキが減少し、収率が向上す
る。また、得られたコンデンサは電圧負荷時の耐湿性お
よびセルフヒーリング性が改良された物となる。
Further, in the present invention, the capacitor using the metallized syndiotactic polystyrene film in which a metal thin film layer is formed on at least one surface of these polystyrene film is suppressed from slipping off of lubricant in the capacitor manufacturing process, In addition, since the running property is excellent, variations in the characteristics of the obtained capacitor are reduced and the yield is improved. Moreover, the obtained capacitor has improved moisture resistance and self-healing property under voltage load.

【0021】[0021]

【実施例】以下に実施例にて本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではな
い。なお、フィルムの評価方法を以下に示す。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The evaluation method of the film is shown below.

【0022】(1)三次元表面粗さ Sλa 、SRa フィルム表面を触針式3次元表面粗さ計(SE-3AK, 株式
会社小坂研究所社製)を用いて、針の半径2μm、荷重
30mgの条件化に、フィルムの長手方向にカットオフ値0.
25mmで、測定長1mm にわたって測定し、2μm ピッチで
500 点に分割し、各点の高さを3次元粗さ解析装置(SP
A-11) に取り込ませた。これと同様の操作をフィルムの
幅方向について2μm 間隔で連続的に150 回、即ちフィ
ルムの幅方向0.3mm にわたって行ない、解析装置にデー
タを取り込ませた。次に、解析装置を用いて、 Sλa お
よびSRa を求めた。
(1) Three-dimensional surface roughness Sλa, SRa The surface of the film was measured using a stylus-type three-dimensional surface roughness meter (SE-3AK, Kosaka Laboratory Ltd.) with a needle radius of 2 μm and a load.
Cutoff value of 0 in the longitudinal direction of the film under the condition of 30 mg.
25 mm, measuring length 1 mm, 2 μm pitch
It is divided into 500 points and the height of each point is calculated by 3D roughness analyzer (SP
A-11). The same operation as above was continuously performed 150 times in the width direction of the film at intervals of 2 μm, that is, over 0.3 mm in the width direction of the film, and the data was taken into the analyzer. Next, Sλa and SRa were obtained using an analyzer.

【0023】(2)ガラス転移温度 理学電気株式会社製 THERMOFLEX DSC-8230を用いて、
昇温速度は20℃/ 分、サンプル重量は5mgの条件で測定
した。
(2) Glass transition temperature Using THERMOFLEX DSC-8230 manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.
The temperature rising rate was 20 ° C./min, and the sample weight was 5 mg.

【0024】(3)X線光電子分光法による極表面の炭
素原子に対する酸素原子の比率(O/C比) 炭素原子に対する酸素原子の比率は、株式会社島津製作
所製 ESCA-850により、光源にMg-Kα線(1254ev )を
用い、極表面に存在する炭素原子と酸素原子との比率を
評価した。表面層の極表面の炭素原子に対する酸素原子
の比率(%)=(酸素原子/炭素原子)×100。
(3) Oxygen atom-to-carbon atom ratio (O / C ratio) on the pole surface measured by X-ray photoelectron spectroscopy The oxygen atom-to-carbon atom ratio was calculated by using Shimadzu ESCA-850 The ratio of carbon atoms and oxygen atoms existing on the pole surface was evaluated by using -Kα ray (1254ev). Ratio (%) of oxygen atoms to carbon atoms on the extreme surface of the surface layer = (oxygen atom / carbon atom) × 100.

【0025】(4)誘電正接 横河・ヒューレットパッカード株式会社製 4192A LF
IMPEDANCE ANALYZERを用いて、25℃、1kHzにおける誘
電正接を評価した。
(4) Dielectric loss tangent Yokogawa / Hewlett Packard Co. 4192A LF
Using IMPEDANCE ANALYZER, the dielectric loss tangent at 25 ° C and 1kHz was evaluated.

【0026】(5)フィルムの走行性および耐削れ性 フィルムを細幅にスリットしたテープ状とし、これを金
属製ガイドロールにこすり付けて高速でかつ長時間走行
させ、このガイドロール擦過後のテープ張力の大小およ
びガイドロールの表面に発生する白紛量の多少を、それ
ぞれ以下に示すように5段階評価し、ランク付けした。 (イ)走行性 1級;張力大(擦り傷非常に多い) 2級;張力やや大(擦り傷多い) 3級;張力中(擦り傷ややあり) 4級;張力やや小(擦り傷ほとんどなし) 5級;張力小(擦り傷発生なし) (ロ)耐削れ性 1級;白紛の発生非常に多い 2級;白紛に発生多い 3級;白紛の発生ややあり 4級;白紛の発生ほぼなし 5級;白紛の発生なし
(5) Running property and abrasion resistance of film The film is formed into a tape slit into a narrow width, rubbed on a metal guide roll, and run at high speed for a long time. The magnitude of the tension and the amount of white powder generated on the surface of the guide roll were evaluated and ranked on a scale of 5 as shown below. (A) Runnability 1st class; high tension (very many scratches) 2nd class; slightly high tension (many scratches) 3rd class; medium tension (slightly scratches) 4th class; tension slightly small (almost no scratches) 5th class; Low tension (no scratches) (b) Scratch resistance 1st class: White powder is very much generated 2nd class: White powder is often generated 3rd class: White powder is slightly generated 4th class: White powder is almost not generated 5 Grade: No white powder

【0027】(6)電圧負荷時の耐湿性 コンデンサを60℃、95%RHの雰囲気下で、100V(DC)の
電圧を印加し1000時間エージングして静電容量変化率を
横河・ヒューレットパッカード株式会社製 4192A LF
IMPEDANCE ANALYZERを用いて測定した。これをΔC /
C (%)で示し、この静電容量変化率が小さいいほど耐
湿性が良好である。ここで、C はエージング前の静電容
量、ΔC はエージング前の静電容量からエージング後の
静電容量を引いた値である。判定は以下に示すように5
段階評価し、ランク付けした。 1級;−20>ΔC /C 2級;−10>ΔC /C ≧−20 3級; −5 >ΔC /C ≧−10 4級; 0>ΔC /C ≧−5 5級; ΔC /C ≧0
(6) Moisture resistance under voltage load A capacitor of 100 V (DC) voltage is applied in an atmosphere of 60 ° C. and 95% RH and aged for 1000 hours to determine the rate of change in capacitance by Yokogawa / Hewlett-Packard. Co., Ltd. 4192A LF
It measured using IMPEDANCE ANALYZER. This is ΔC /
It is shown in C (%), and the smaller the rate of change in capacitance, the better the moisture resistance. Here, C is the capacitance before aging, and ΔC is the value obtained by subtracting the capacitance after aging from the capacitance before aging. The judgment is 5 as shown below.
Graded and ranked. 1st grade; -20> ΔC / C 2nd grade; -10> ΔC / C ≧ −20 3rd grade; −5> ΔC / C ≧ −10 4th grade; 0> ΔC / C ≧ −5 5th grade; ΔC / C ≧ 0

【0028】(7)セルフヒーリング性(SH性) 片側に厚さ600 Åのアルミニウムを蒸着したポリスチレ
ン系フィルムを、一辺1cmの正方形に切り、2枚重ね合
せ、更に一辺2cmのゴム板に挟み、2kgの荷重をかけ
た。この状態で、蒸着フィルムに電圧を印加し絶縁破壊
を発生させセルフヒーリング性の有無をサンプル数20個
で評価した。 1級;セルフヒーリング性なし 2級;セルフヒーリング性ほとんどない 3級;セルフヒーリング性ない場合あり 4級;セルフヒーリング性ほとんどあり 5級;セルフヒーリング性すべてあり
(7) Self-healing property (SH property) A polystyrene film having a thickness of 600 Å vapor-deposited on one side is cut into a square with a side of 1 cm, two pieces are stacked, and further sandwiched between rubber plates with a side of 2 cm. A load of 2 kg was applied. In this state, a voltage was applied to the vapor-deposited film to cause dielectric breakdown, and the presence or absence of self-healing property was evaluated with 20 samples. 1st grade: No self-healing ability 2nd grade: Almost no self-healing ability 3rd grade: May not have self-healing ability 4th grade: Almost self-healing ability 5th grade: All self-healing ability

【0029】(8)温度特性 横河・ヒューレットパッカード株式会社製 4192A LF
IMPEDANCE ANALYZERを用いて、150 ℃、1kHzにおける
誘電正接で評価した。誘電正接を以下に示すように5段
階評価し、ランク付けした。 1級;0.05以上 2級;0.01〜0.05 3級;0.005 〜0.01 4級;0.001 〜0.005 5級;0.001 未満
(8) Temperature characteristics Yokogawa / Hewlett-Packard Co. 4192A LF
The IMPEDANCE ANALYZER was used to evaluate the dielectric loss tangent at 150 ° C and 1 kHz. The dielectric loss tangent was evaluated and ranked in 5 stages as shown below. 1st grade; 0.05 or more; 2nd grade; 0.01 to 0.05 3rd grade; 0.005 to 0.01 4th grade; 0.001 to 0.005 5th grade; less than 0.001

【0030】実施例1 比較例1 シンジオタクチックポリスチレン(重量平均分子量2500
00)100 重量部に対して、突起形成剤として炭酸カルシ
ウム微粒子(平均粒子径=1.1μm 、ばらつき度=20%)
を30重量%含有するポリエチレンテレフタレート(IV=0.
62) 樹脂を4.0重量部添加したポリマーチップと、突起
形成剤の添加されていないポリマーチップを0.5 対9.5
の割合で混合した後、乾燥し、300 ℃で溶融し、200 μ
mのリップギャップのT ダイから押し出し、40℃の冷却
ロールに静電印荷法により密着・冷却固化し、44μmの
無定形シートを得た。該無定形シートをまずロールによ
り100 ℃に予熱し、表面温度700 ℃の赤外線加熱ヒータ
ーを4本使用により更に加熱し、フィルム温度139 ℃で
縦方向に2.0 倍延伸し、更に125 ℃で縦方向に1.8倍延
伸した。ついでテンターで、フィルムを120 ℃に予熱
し、横方向に延伸温度120 ℃で2.0 倍延伸し、更に150
℃で1.6 倍横方向に延伸した後、260 ℃で熱固定した。
得られたポリスチレン系フィルムの厚みは4 μmであっ
た。更に、両方の表面を100m/ 分(実施例1)、200m/
分(比較例1)の処理速度で火炎プラズマ処理した。得
られたフィルムの塗布面上にアルミニウムを500 Å蒸着
し巻回型フィルムコンデンサを試作した。フィルムおよ
びコンデンサ特性を表1に示す。
Example 1 Comparative Example 1 Syndiotactic polystyrene (weight average molecular weight 2500
00) 100 parts by weight of calcium carbonate fine particles as a protrusion-forming agent (average particle size = 1.1 μm, variation = 20%)
Polyethylene terephthalate containing 30% by weight (IV = 0.
62) 0.5 to 9.5% of polymer chips added with 4.0 parts by weight of resin and polymer chips not added with the protrusion-forming agent.
After mixing at a ratio of 100 μm, dry, melt at 300 ° C, and
It was extruded from a T-die with a lip gap of m, adhered to a 40 ° C. cooling roll by an electrostatic loading method, and then cooled and solidified to obtain a 44 μm amorphous sheet. The amorphous sheet is first preheated to 100 ° C. by a roll, further heated by using four infrared heaters with a surface temperature of 700 ° C., stretched 2.0 times in the machine direction at a film temperature of 139 ° C., and further stretched at 125 ° C. in the machine direction. Was stretched 1.8 times. Then, the film was preheated to 120 ° C with a tenter and stretched in the transverse direction at a stretching temperature of 120 ° C by 2.0 times, and further stretched to 150 ° C.
After stretching 1.6 times in the transverse direction at ℃, it was heat set at 260 ℃.
The thickness of the obtained polystyrene film was 4 μm. Furthermore, both surfaces are 100 m / min (Example 1), 200 m / min.
Flame plasma treatment was performed at a treatment rate of minutes (Comparative Example 1). Aluminum was vapor-deposited on the coated surface of the obtained film by 500 Å to fabricate a roll-type film capacitor. The film and capacitor characteristics are shown in Table 1.

【0031】実施例2、3 比較例2 (a) ポリエステル水溶液の調整 バイロナール MD1200( 東洋紡績株式会社製) 20重量部(固形分25%) 水 36重量部 イソプロピルアルコール 36重量部 ベンジルアルコール 8 重量部Examples 2 and 3 Comparative Example 2 (a) Preparation of aqueous polyester solution Bayronal MD1200 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 20 parts by weight (solid content 25%) Water 36 parts by weight Isopropyl alcohol 36 parts by weight Benzyl alcohol 8 parts by weight

【0032】(b) 積層フィルムの製造 シンジオタクチックポリスチレン(重量平均分子量2500
00)100 重量部に対して、突起形成剤として炭酸カルシ
ウム微粒子(平均粒子径=1.1μm 、ばらつき度=20 %)
を30重量%含有するポリエチレンテレフタレート(IV=0.
62) 樹脂を4.0重量部添加したポリマーチップと、突起
形成剤の添加されていないポリマーチップを0.2 対9.8
(比較例1)、0.5 対9.5 (実施例1)、1対9(実施
例2)の割合で混合した後、乾燥し、300 ℃で溶融し、
200 μmのリップギャップのT ダイから押し出し、40℃
の冷却ロールに静電印荷法により密着・ 冷却固化し、44
μmの無定形シートを得た。該無定形シートをまずロー
ルにより100 ℃に予熱し、表面温度700 ℃の赤外線加熱
ヒーターを4本使用により更に加熱し、フィルム温度13
9 ℃で縦方向に2.0 倍延伸し、更に125 ℃で縦方向に1.
8 倍延伸した。該一軸延伸フィルムに上記(a) で得た塗
工液をバーコート法により両面に塗布した。ついでテン
ターで、フィルムを120 ℃に予熱し、横方向に延伸温度
120 ℃で2.0倍延伸し、更に150 ℃で1.6 倍横方向に延
伸した後、260 ℃で熱固定した。得られた積層フィルム
全体の厚みは4μm、表面層の厚みの合計は0.1 μm
で、均一な塗布膜であった。得られたフィルムの塗布面
上にアルミニウムを500 Å蒸着し巻回型フィルムコンデ
ンサを試作した。フィルムおよびコンデンサ特性を表1
に示す。
(B) Production of Laminated Film Syndiotactic polystyrene (weight average molecular weight 2500
00) 100 parts by weight of calcium carbonate fine particles as a protrusion-forming agent (average particle size = 1.1 μm, variation = 20%)
Polyethylene terephthalate containing 30% by weight (IV = 0.
62) A polymer chip containing 4.0 parts by weight of resin and a polymer chip containing no protrusion-forming agent in a ratio of 0.2 to 9.8
(Comparative Example 1), 0.5 to 9.5 (Example 1), 1 to 9 (Example 2), mixed, dried and melted at 300 ° C.
Extruded from T-die with 200 μm lip gap, 40 ℃
It adheres to the cooling roll of the
An amorphous sheet of μm was obtained. The amorphous sheet is first preheated to 100 ° C. by a roll and further heated by using four infrared heaters with a surface temperature of 700 ° C.
Stretched 2.0 times in the machine direction at 9 ° C and then 1.25 in the machine direction at 125 ° C.
It was stretched 8 times. The coating solution obtained in (a) above was applied to both surfaces of the uniaxially stretched film by a bar coating method. The film is then preheated to 120 ° C with a tenter and stretched in the transverse direction.
The film was stretched 2.0 times at 120 ° C, then 1.6 times transversely at 150 ° C, and then heat set at 260 ° C. The total thickness of the obtained laminated film is 4 μm, and the total thickness of the surface layers is 0.1 μm.
The coating film was uniform. Aluminum was vapor-deposited on the coated surface of the obtained film by 500 Å to fabricate a roll-type film capacitor. Film and capacitor characteristics are shown in Table 1.
Shown in

【0033】比較例3 シンジオタクチックポリスチレン(重量平均分子量2500
00)100 重量部に対して、突起形成剤として炭酸カルシ
ウム微粒子(平均粒子径=1.1μm 、ばらつき度=20 %)
を3.0 重量部添加したポリマーチップと、突起形成剤の
添加されていないポリマーチップを重量比で0.5 対9.5
の割合で混合し、使用した以外は実施例1と同様に実施
した。得られたフィルムの塗布面上にアルミニウムを50
0 Å蒸着し巻回型フィルムコンデンサを試作した。フィ
ルムおよびコンデンサ特性を表1に示す。
Comparative Example 3 Syndiotactic polystyrene (weight average molecular weight 2500
00) 100 parts by weight of calcium carbonate fine particles as a protrusion-forming agent (average particle size = 1.1 μm, variation = 20%)
0.5 to 9.5 by weight ratio of polymer chip added with 3.0 parts by weight of polymer chip and polymer chip without addition of protrusion-forming agent.
Example 1 was repeated except that the mixture was mixed and used. 50 aluminum on the coated surface of the obtained film
A roll-type film capacitor was prototyped by vapor deposition. The film and capacitor characteristics are shown in Table 1.

【0034】実施例4、5 比較例4 シンジオタクチックポリスチレン(重量平均分子量2500
00)100 重量部に対して、突起形成剤として炭酸カルシ
ウム微粒子(平均粒子径=1.1μm 、ばらつき度=20 %)
を3.0 重量部添加したポリマーチップと、突起形成剤の
添加されていないポリマーチップを重量比で1対9の割
合で混合したものと、表面層として突起形成剤を含まな
いポリエチレンテレフタレート(IV=0.62 )をそれぞれ
別々の押し出し機に供給、溶融し、T ダイ中でポリエチ
レンテレフタレートが両方の表面層を形成するように接
合し、200 μmのリップギャップのT ダイから押し出
し、40℃の冷却ロールに静電印荷法により密着・ 冷却固
化し、44μmの無定形積層シートを得た。ここで、表面
層の厚みの合計は5μm (実施例3)、11μm (実施例
4)、14μm (比較例3)となるようにした。該無定形
シートをまずロールにより100 ℃に予熱し、表面温度70
0 ℃の赤外線加熱ヒーターを4本使用により更に加熱
し、フィルム温度139 ℃で縦方向に2.0 倍延伸し、更に
125 ℃で縦方向に1.8 倍延伸した。該一軸延伸フィルム
に上記(a) で得た塗工液をバーコート法により両面に塗
布した。ついでテンターで、フィルムを120 ℃に予熱
し、横方向に延伸温度120 ℃で2.0 倍延伸し、更に150
℃で1.6 倍横方向に延伸した後、260℃で熱固定した。
得られた積層フィルム全体の厚みは4 μmであった。得
られたフィルムの塗布面上にアルミニウムを500 Å蒸着
し巻回型フィルムコンデンサを試作した。フィルムおよ
びコンデンサ特性を表1に示す。
Examples 4 and 5 Comparative Example 4 Syndiotactic polystyrene (weight average molecular weight 2500
00) 100 parts by weight of calcium carbonate fine particles as a protrusion-forming agent (average particle size = 1.1 μm, variation = 20%)
Was mixed with 3.0 parts by weight of a polymer chip and a polymer chip to which a protrusion-forming agent was not added at a weight ratio of 1: 9, and polyethylene terephthalate (IV = 0.62) containing no protrusion-forming agent as a surface layer. ) Are fed to separate extruders, melted, joined in a T-die so that polyethylene terephthalate forms both surface layers, extruded from the T-die with a 200 μm lip gap, and chilled to a 40 ° C chill roll. Adhesion, cooling and solidification by the electrophotographic loading method gave an amorphous laminated sheet of 44 μm. Here, the total thickness of the surface layers was set to 5 μm (Example 3), 11 μm (Example 4), and 14 μm (Comparative Example 3). The amorphous sheet was first preheated to 100 ° C by a roll and the surface temperature 70
It is further heated by using four infrared heaters at 0 ℃ and stretched 2.0 times in the machine direction at a film temperature of 139 ℃.
It was stretched 1.8 times in the machine direction at 125 ° C. The coating solution obtained in (a) above was applied to both surfaces of the uniaxially stretched film by a bar coating method. Then, the film was preheated to 120 ° C with a tenter and stretched in the transverse direction at a stretching temperature of 120 ° C by 2.0 times, and further stretched to 150 ° C.
After stretching 1.6 times in the transverse direction at ℃, it was heat set at 260 ℃.
The total thickness of the obtained laminated film was 4 μm. Aluminum was vapor-deposited on the coated surface of the obtained film by 500 Å to fabricate a roll-type film capacitor. The film and capacitor characteristics are shown in Table 1.

【0035】実施例6 比較例5 シンジオタクチックポリスチレン(重量平均分子量2500
00)100 重量部に対して、突起形成剤として炭酸カルシ
ウム微粒子(平均粒子径=1.1μm 、ばらつき度=20 %)
を3.0 重量部添加したポリマーチップと、突起形成剤の
添加されていないポリマーチップを重量比で1 対9 の割
合で混合したものと、表面層として突起形成剤を含まな
いポリエチレン−2,6 −テレナフタレート(実施例
5)、ポリフェニレンサルファイド(比較例4)をそれ
ぞれ別々の押し出し機に供給、溶融し、T ダイ中でポリ
エチレン−2,6 −テレナフタレートまたはポリフェニレ
ンサルファイドが両方の表面層を形成するように接合
し、200 μmのリップギャップのT ダイから押し出し、
40℃の冷却ロールに静電印荷法により密着・ 冷却固化
し、44μmの無定形積層シートを得た。ここで、表面層
の厚みの合計は1.0 μm となるようにした。該無定形シ
ートをまずロールにより100 ℃に予熱し、表面温度700
℃の赤外線加熱ヒーターを4本使用により更に加熱し、
フィルム温度139 ℃で縦方向に2.0 倍延伸し、更に125
℃で縦方向に1.8 倍延伸した。ついでテンターで、フィ
ルムを120 ℃に予熱し、横方向に延伸温度120 ℃で2.0
倍延伸し、更に150 ℃で1.6 倍横方向に延伸した後、26
0 ℃で熱固定した。得られた積層フィルム全体の厚みは
4μmであった。得られたフィルムの塗布面上にアルミ
ニウムを500 Å蒸着し巻回型フィルムコンデンサを試作
した。フィルムおよびコンデンサ特性を表1 に示す。
Example 6 Comparative Example 5 Syndiotactic polystyrene (weight average molecular weight 2500
00) 100 parts by weight of calcium carbonate fine particles as a protrusion-forming agent (average particle size = 1.1 μm, variation = 20%)
Was added to the polymer chips to which 3.0 parts by weight of the polymer was added, and the polymer chips to which the protrusion-forming agent was not added were mixed at a weight ratio of 1: 9, and polyethylene-2,6- Telenaphthalate (Example 5) and polyphenylene sulfide (Comparative Example 4) were fed to separate extruders and melted, and polyethylene-2,6-terenaphthalate or polyphenylene sulfide formed both surface layers in a T-die. And extruded from a T-die with a 200 μm lip gap,
It was brought into close contact with a 40 ° C cooling roll by the electrostatic loading method and solidified by cooling to obtain an amorphous laminated sheet of 44 μm. Here, the total thickness of the surface layers was set to 1.0 μm. The amorphous sheet is first preheated to 100 ℃ with a roll and the surface temperature is 700
Further heating by using 4 infrared heaters at ℃,
The film was stretched 2.0 times in the machine direction at a film temperature of 139 ℃ and then 125
It was stretched 1.8 times in the machine direction at ℃. The film is then preheated to 120 ° C in a tenter and stretched in the transverse direction at a temperature of 120 ° C to 2.0 ° C.
After stretching twice and then stretching 1.6 times in the transverse direction at 150 ℃, 26
It was heat-set at 0 ° C. The total thickness of the obtained laminated film was 4 μm. Aluminum was vapor-deposited on the coated surface of the obtained film by 500 Å to fabricate a roll-type film capacitor. Table 1 shows the film and capacitor characteristics.

【0036】実施例7 シンジオタクチックポリスチレン(重量平均分子量2500
00)100 重量部に対して、突起形成剤として炭酸カルシ
ウム微粒子(平均粒子径=1.1μm 、ばらつき度=20 %)
を3.0 重量部添加したポリマーチップと、突起形成剤の
添加されていないポリマーチップを重量比で1対9の割
合で混合したものと、表面層として突起形成剤を含まな
いポリプロピレンをそれぞれ別々の押し出し機に供給、
溶融し、T ダイ中でポリプロピレンが両方の表面層を形
成するように接合し、200 μmのリップギャップのT ダ
イから押し出し、40℃の冷却ロールに静電印荷法により
密着・ 冷却固化し、44μmの無定形積層シートを得た。
ここで、表面層の厚みの合計は1.0 μm となるようにし
た。該無定形シートをまずロールにより100 ℃に予熱
し、表面温度700 ℃の赤外線加熱ヒーターを4本使用に
より更に加熱し、フィルム温度139 ℃で縦方向に2.0 倍
延伸し、更に125 ℃で縦方向に1.8 倍延伸した。ついで
テンターで、フィルムを120 ℃に予熱し、横方向に延伸
温度120 ℃で2.0 倍延伸し、更に150 ℃で1.6 倍横方向
に延伸した後、260 ℃で熱固定した。得られた積層フィ
ルム全体の厚みは4μmであった。更に、ポリプロピレ
ンで形成された表面を100m/ 分の処理速度で火炎プラズ
マ処理した。得られたフィルムの塗布面上にアルミニウ
ムを500 Å蒸着し巻回型フィルムコンデンサを試作し
た。フィルムおよびコンデンサ特性を表1 に示す。
Example 7 Syndiotactic polystyrene (weight average molecular weight 2500
00) 100 parts by weight of calcium carbonate fine particles as a protrusion-forming agent (average particle size = 1.1 μm, variation = 20%)
Polymer chip added with 3.0 parts by weight of the polymer, a polymer chip not added with the protrusion-forming agent in a weight ratio of 1: 9, and polypropylene without the protrusion-forming agent as the surface layer are separately extruded. Supply to the machine,
Melted and joined in a T-die so that polypropylene forms both surface layers, extruded from a T-die with a 200 μm lip gap, adhered to a 40 ° C chill roll by an electrostatic loading method, cooled and solidified, An amorphous laminated sheet of 44 μm was obtained.
Here, the total thickness of the surface layers was set to 1.0 μm. The amorphous sheet is first preheated to 100 ° C. by a roll, further heated by using four infrared heaters with a surface temperature of 700 ° C., stretched 2.0 times in the machine direction at a film temperature of 139 ° C., and further stretched in the machine direction at 125 ° C. Was stretched 1.8 times. The film was then preheated to 120 ° C. with a tenter, stretched 2.0 times in the transverse direction at a stretching temperature of 120 ° C., further stretched 1.6 times in the transverse direction at 150 ° C., and then heat set at 260 ° C. The total thickness of the obtained laminated film was 4 μm. Further, the surface formed of polypropylene was subjected to flame plasma treatment at a treatment speed of 100 m / min. Aluminum was vapor-deposited on the coated surface of the obtained film by 500 Å to fabricate a roll-type film capacitor. Table 1 shows the film and capacitor characteristics.

【0037】[0037]

【表1】 表1より、実施例1〜6で得られたフィルムは、フィル
ムの製造時やコンデンサ製造時のフィルムの走行性、耐
削れ性に優れ、且つ電圧負荷時の耐湿性、セルフヒーリ
ング性が改良されたシンジオタクチックポリスチレン系
フィルムおよびコンデンサであった。
[Table 1] From Table 1, the films obtained in Examples 1 to 6 are excellent in the running property and the abrasion resistance of the film during the production of the film and during the production of the capacitor, and the moisture resistance under the voltage load and the self-healing property are improved. They were syndiotactic polystyrene films and capacitors.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上、記載のとおり、本発明は前記特許
請求の範囲に記載のとおりの構成を採用することによ
り、フィルムの製造時やコンデンサ製造時のフィルムの
走行性、耐削れ性に優れ、且つ電圧負荷時の耐湿性、セ
ルフヒーリング性が改良されたシンジオタクチックポリ
スチレン系フィルムおよびコンデンサが提供され、従っ
て、本発明の工業的価値は大である。
As described above, according to the present invention, by adopting the constitution as set forth in the claims, the film has excellent running property and abrasion resistance at the time of manufacturing a film or a capacitor. Further, a syndiotactic polystyrene film and a capacitor having improved moisture resistance under voltage application and self-healing property are provided. Therefore, the industrial value of the present invention is great.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08J 7/00 CET A 7/04 K H01G 4/18 // C08L 25:00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C08J 7/00 CET A 7/04 K H01G 4/18 // C08L 25:00

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体からなるフィルムの少なくとも一方の表面の
X線光電子分光法により評価した極表面の炭素原子に対
する酸素原子の比率が10%以上であることを特徴とする
ポリスチレン系フィルム。
1. A ratio of oxygen atoms to carbon atoms on the very surface of at least one surface of a film made of a styrene-based polymer having a syndiotactic structure, which is evaluated by X-ray photoelectron spectroscopy, is 10% or more. Characteristic polystyrene film.
【請求項2】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体からなるフィルムの少なくとも一方の表面に
樹脂組成物からなる表面層が形成されたことを特徴とす
る請求項1記載のポリスチレン系フィルム。
2. The polystyrene film according to claim 1, wherein a surface layer made of a resin composition is formed on at least one surface of a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure.
【請求項3】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体からなるフィルムの少なくとも一方の表面を
酸化法により表面処理したことを特徴とする請求項1記
載のポリスチレン系フィルム。
3. The polystyrene film according to claim 1, wherein at least one surface of the film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure is surface-treated by an oxidation method.
【請求項4】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体からなるフィルムの少なくとも一方の表面に
樹脂組成物からなる表面層を形成し、該表面層を酸化法
により表面処理したことを特徴とする請求項1記載のポ
リスチレン系フィルム。
4. A surface layer made of a resin composition is formed on at least one surface of a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure, and the surface layer is surface-treated by an oxidation method. The polystyrene film according to claim 1.
【請求項5】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体からなるフィルムの少なくとも一方の表面の
三次元表面粗さSRa が0.01(μm )以上、且つSλa
(μm )とガラス転移温度が下記の関係を満足すること
を特徴とする請求項1記載のポリスチレン系フィルム。 3+4 ×(Tgc−Tgs)/Tgc ≦ Sλa ≦20+10 ×(Tgc−Tgs)
/Tgc ここで、Tgc はシンジオタクチックポリスチレン系フィ
ルム層のガラス転移温度 Tgs は表面層のガラス転移温度
5. A three-dimensional surface roughness SRa of at least one surface of a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure is 0.01 (μm) or more, and Sλa
The polystyrene film according to claim 1, wherein (μm) and the glass transition temperature satisfy the following relationship. 3 + 4 x (Tgc-Tgs) / Tgc ≤ Sλa ≤ 20 + 10 x (Tgc-Tgs)
/ Tgc where Tgc is the glass transition temperature of the syndiotactic polystyrene film layer Tgs is the glass transition temperature of the surface layer
【請求項6】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体からなるフィルムの少なくとも一方の表面に
樹脂組成物からなる表面層を形成し、該表面層の厚みが
フィルム全体の厚みの30%以下であることを特徴とする
請求項2または4記載のポリスチレン系フィルム。
6. A surface layer made of a resin composition is formed on at least one surface of a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure, and the thickness of the surface layer is 30% or less of the total thickness of the film. The polystyrene film according to claim 2, wherein the polystyrene film is present.
【請求項7】 フィルムの誘電正接(25℃、1kHz)が0.
001 以下であることを特徴とする請求項1記載のポリス
チレン系フィルム。
7. The dielectric loss tangent (25 ° C., 1 kHz) of the film is 0.
The polystyrene-based film according to claim 1, which is 001 or less.
【請求項8】 請求項1記載のシンジオタクチックポリ
スチレン系フィルムの少なくとも片面に金属薄膜層を形
成した金属化シンジオタクチックポリスチレン系フィル
ムを用いたことを特徴とするコンデンサ。
8. A capacitor using a metallized syndiotactic polystyrene film having a metal thin film layer formed on at least one surface of the syndiotactic polystyrene film according to claim 1.
JP6183427A 1994-08-04 1994-08-04 Polystyrene film and capacitor made thereof Pending JPH0848791A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2013179605A1 (en) * 2012-05-29 2016-01-18 パナソニックIpマネジメント株式会社 Film capacitor

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