JPH0850353A - 感光性樹脂組成物およびそれを用いたプリント配線板 - Google Patents
感光性樹脂組成物およびそれを用いたプリント配線板Info
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- JPH0850353A JPH0850353A JP18456894A JP18456894A JPH0850353A JP H0850353 A JPH0850353 A JP H0850353A JP 18456894 A JP18456894 A JP 18456894A JP 18456894 A JP18456894 A JP 18456894A JP H0850353 A JPH0850353 A JP H0850353A
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- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】安全性および環境等に問題のない水溶液で現像
可能な耐熱性、接着性、難燃性に優れた感光性樹脂組成
物とそれを用いたプリント配線板の提供。 【構成】(a)カルボキシル基含有エポキシアクリレー
ト、(b)エポキシ樹脂、(c)アクリレート化合物の
少なくとも1種がハロゲン置換体であることを特徴とす
る感光性樹脂組成物。 【効果】人体への害が少なく危険物に該当しない現像液
で現像でき、解像度、耐熱性、接着性および難燃性に優
れた塗膜が得られるため、多層プリント配線板のソルダ
ーレジスト,めっきレジスト,層間絶縁層として用いる
ことができる。
可能な耐熱性、接着性、難燃性に優れた感光性樹脂組成
物とそれを用いたプリント配線板の提供。 【構成】(a)カルボキシル基含有エポキシアクリレー
ト、(b)エポキシ樹脂、(c)アクリレート化合物の
少なくとも1種がハロゲン置換体であることを特徴とす
る感光性樹脂組成物。 【効果】人体への害が少なく危険物に該当しない現像液
で現像でき、解像度、耐熱性、接着性および難燃性に優
れた塗膜が得られるため、多層プリント配線板のソルダ
ーレジスト,めっきレジスト,層間絶縁層として用いる
ことができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光硬化性、熱硬化性で
耐熱性、接着性、難燃性に優れ、アルカリ水溶液および
有機溶剤水溶液で現像可能なプリント配線板の層間絶縁
材料等に好適な感光性樹脂組成物とそれを用いたプリン
ト配線板に関する。
耐熱性、接着性、難燃性に優れ、アルカリ水溶液および
有機溶剤水溶液で現像可能なプリント配線板の層間絶縁
材料等に好適な感光性樹脂組成物とそれを用いたプリン
ト配線板に関する。
【0002】
【従来の技術】電子技術の進歩に伴い、各種電子機器に
使用する多層プリント板には、高密度化が求められてお
り、近年、配線をビアホールで接続する方式の多層プリ
ント板の開発が進められている。これの層間絶縁材料に
従来のプリント配線板等に用いられているソルダーレジ
ストやめっきレジスト等を使用すると耐熱性、接着性、
難燃性等に問題がある。また、その現像液にはクロロセ
ン等の有機溶剤を用いるのが一般的であり、こうした有
機溶剤の使用は安全および環境問題等が懸念される。
使用する多層プリント板には、高密度化が求められてお
り、近年、配線をビアホールで接続する方式の多層プリ
ント板の開発が進められている。これの層間絶縁材料に
従来のプリント配線板等に用いられているソルダーレジ
ストやめっきレジスト等を使用すると耐熱性、接着性、
難燃性等に問題がある。また、その現像液にはクロロセ
ン等の有機溶剤を用いるのが一般的であり、こうした有
機溶剤の使用は安全および環境問題等が懸念される。
【0003】これに対して、アルカリ水溶液で現像可能
なレジストインキ(特公平1−54390号公報)が提
案されている。しかしながら、層間絶縁材料としては難
燃性において問題があった。
なレジストインキ(特公平1−54390号公報)が提
案されている。しかしながら、層間絶縁材料としては難
燃性において問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、安全
性および環境等に問題のない水溶液で現像が可能で、耐
熱性、接着性、特に、難燃性に優れた感光性樹脂組成物
およびそれを用いたプリント配線板を提供することにあ
る。
性および環境等に問題のない水溶液で現像が可能で、耐
熱性、接着性、特に、難燃性に優れた感光性樹脂組成物
およびそれを用いたプリント配線板を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の要旨は、(a)カルボキシル基含有エポキシアクリ
レート、(b)エポキシ樹脂、(c)アクリレート化合
物の少なくとも1種がハロゲン置換体である感光性樹脂
組成物およびそれを用いたプリント配線板にある。
明の要旨は、(a)カルボキシル基含有エポキシアクリ
レート、(b)エポキシ樹脂、(c)アクリレート化合
物の少なくとも1種がハロゲン置換体である感光性樹脂
組成物およびそれを用いたプリント配線板にある。
【0006】本発明の感光性樹脂組成物は、エポキシ樹
脂に不飽和カルボン酸を反応させた生成物に、多塩基酸
無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有エポキ
シアクリレートを含有する。
脂に不飽和カルボン酸を反応させた生成物に、多塩基酸
無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有エポキ
シアクリレートを含有する。
【0007】本発明の(a)カルボキシル基含有エポキ
シアクリレートに用いられるエポキシ樹脂は、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ
樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステ
ル系樹脂、グリシジルアミン系樹脂、複素環式エポキシ
樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化
フェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
特に、耐熱性等に優れたノボラック型エポキシ樹脂や難
燃性に優れた臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂が有用である。
シアクリレートに用いられるエポキシ樹脂は、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ
樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステ
ル系樹脂、グリシジルアミン系樹脂、複素環式エポキシ
樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化
フェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
特に、耐熱性等に優れたノボラック型エポキシ樹脂や難
燃性に優れた臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂が有用である。
【0008】本発明に用いる不飽和カルボン酸として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、ケイ皮
酸等がある。
は、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、ケイ皮
酸等がある。
【0009】また、多塩基酸無水物としては、無水マレ
イン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタ
ル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エンドメチレ
ンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテ
トラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキ
サヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロ
メリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ド
デセニル無水コハク酸、メチルシクロヘキセンジカルボ
ン酸無水物、クロレンド酸無水物、ポリアゼライン酸無
水物などがある。これら多塩基酸無水物の添加量は特に
限定されるものではないが、得られるカルボキシル基含
有エポキシアクリレートの酸価が15〜100mgKO
H/gの範囲が好ましい。
イン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタ
ル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エンドメチレ
ンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテ
トラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキ
サヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロ
メリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ド
デセニル無水コハク酸、メチルシクロヘキセンジカルボ
ン酸無水物、クロレンド酸無水物、ポリアゼライン酸無
水物などがある。これら多塩基酸無水物の添加量は特に
限定されるものではないが、得られるカルボキシル基含
有エポキシアクリレートの酸価が15〜100mgKO
H/gの範囲が好ましい。
【0010】エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との反応
は、エポキシ樹脂をメチルエチルケトン、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、シクロ
ヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート等の有機溶剤に溶解し、触媒としてトリエチ
ルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ジエチルシクロヘ
キシルアミン等の三級アミン、塩化ベンジルトリメチル
アンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等
の四級アンモニウム塩など、また、重合禁止剤としてハ
イドロキノン、p−メトキシフェノール等を用い、60
〜150℃で撹拌混合して反応させる。さらに、多塩基
酸無水物を添加して同様に反応させることによりカルボ
キシル基含有エポキシアクリレートが得られる。
は、エポキシ樹脂をメチルエチルケトン、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、シクロ
ヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート等の有機溶剤に溶解し、触媒としてトリエチ
ルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ジエチルシクロヘ
キシルアミン等の三級アミン、塩化ベンジルトリメチル
アンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等
の四級アンモニウム塩など、また、重合禁止剤としてハ
イドロキノン、p−メトキシフェノール等を用い、60
〜150℃で撹拌混合して反応させる。さらに、多塩基
酸無水物を添加して同様に反応させることによりカルボ
キシル基含有エポキシアクリレートが得られる。
【0011】本発明の(b)エポキシ樹脂は、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ
樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステ
ル系樹脂、グリシジルアミン系樹脂、複素環式エポキシ
樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、シリコンやニト
リルゴムなどによる変性エポキシ樹脂、アクリルゴム等
の微粒子分散エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの配
合量は、特に限定されるものではないがエポキシ樹脂の
量が多くなると現像性が悪くなり、少ないと接着、耐熱
性等が低下するため、30〜70重量部が良好な配合量
である。
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ
樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステ
ル系樹脂、グリシジルアミン系樹脂、複素環式エポキシ
樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、シリコンやニト
リルゴムなどによる変性エポキシ樹脂、アクリルゴム等
の微粒子分散エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの配
合量は、特に限定されるものではないがエポキシ樹脂の
量が多くなると現像性が悪くなり、少ないと接着、耐熱
性等が低下するため、30〜70重量部が良好な配合量
である。
【0012】本発明の(b)アクリレート化合物は、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ジエチレングリコールジア
クリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ヘキ
サンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、トリシクロデカン
ジメチロールジアクリレート、ポリカーボネートジオー
ルジアクリレート、フェノキシポリエチレングリコール
アクリレート、ビス〔4−(アクリロキシポリエトキシ)
フェニル〕プロパン、ビスフェノールAのアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシ
エチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエ
チルアクリレート、シクロヘキサンオキシエチルアクリ
レート、トリシクロデカニルオキシアクリレート、グリ
セロールアクリレートおよびこれらのメタクリレート、
その他エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、
ポリエステルアクリレート等と上記のハロゲン化物が挙
げられる。配合量は特に限定されるものではないが、5
〜50重量部が良好である。
リエチレングリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ジエチレングリコールジア
クリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ヘキ
サンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、トリシクロデカン
ジメチロールジアクリレート、ポリカーボネートジオー
ルジアクリレート、フェノキシポリエチレングリコール
アクリレート、ビス〔4−(アクリロキシポリエトキシ)
フェニル〕プロパン、ビスフェノールAのアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシ
エチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエ
チルアクリレート、シクロヘキサンオキシエチルアクリ
レート、トリシクロデカニルオキシアクリレート、グリ
セロールアクリレートおよびこれらのメタクリレート、
その他エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、
ポリエステルアクリレート等と上記のハロゲン化物が挙
げられる。配合量は特に限定されるものではないが、5
〜50重量部が良好である。
【0013】上記樹脂組成物のハロゲン含有量として、
5〜25重量%が好ましく、特に、臭素化物が望まし
い。
5〜25重量%が好ましく、特に、臭素化物が望まし
い。
【0014】本発明の感光性樹脂組成物には、上記の他
に光重合開始剤とエポキシ樹脂硬化剤を含有する。光重
合開始剤としては、ベンゾフェノン、2,2−ジメトキ
シ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2,4−ジエ
チルチオキサントン、P−ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミルエステル、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニ
ル〕−2−モンフォリノプロパノン−1、2−ゲンジル
−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニ
ル)−ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチル
ベンゾイルジフェニルフォスヒンオキサイド、1−〔4
−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、ビス(シ
クロペンタジエニル)−ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(ピル−1−イル)チタニウム〕、ビスアシルフォスフィ
ンオキサイド、(η5−2,2−シクロペンタジエン)
〔(1,2,3,4,5,6−η)−(1−メチルエチル)ベン
ゼン〕−アイアン(1+)−ヘキサフルオロフォスフェイ
ト(1−)等があり、これらの1種以上を用いることがで
きる。また、安息香酸系および第三級アミン系などの公
知の光重合促進剤を併用することもできる。このような
光重合開始剤の配合量は0.2〜10%の範囲で用いら
れる。
に光重合開始剤とエポキシ樹脂硬化剤を含有する。光重
合開始剤としては、ベンゾフェノン、2,2−ジメトキ
シ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2,4−ジエ
チルチオキサントン、P−ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミルエステル、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニ
ル〕−2−モンフォリノプロパノン−1、2−ゲンジル
−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニ
ル)−ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチル
ベンゾイルジフェニルフォスヒンオキサイド、1−〔4
−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、ビス(シ
クロペンタジエニル)−ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(ピル−1−イル)チタニウム〕、ビスアシルフォスフィ
ンオキサイド、(η5−2,2−シクロペンタジエン)
〔(1,2,3,4,5,6−η)−(1−メチルエチル)ベン
ゼン〕−アイアン(1+)−ヘキサフルオロフォスフェイ
ト(1−)等があり、これらの1種以上を用いることがで
きる。また、安息香酸系および第三級アミン系などの公
知の光重合促進剤を併用することもできる。このような
光重合開始剤の配合量は0.2〜10%の範囲で用いら
れる。
【0015】エポキシ樹脂硬化剤としては、ジアミノジ
フェニルスルホン、ジアミノジフェニルメタン、ピペリ
ジン、テトラメチルグアニジンなどのアミン系硬化剤、
無水トリメリット酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、ポリアゼライン酸無水物等の酸
無水物類、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−シアノ
エチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2,4
−ジアミノ−6−〔2−ウンデシルイミダゾリル−
(1)〕−エチル−S−トリアジン、1−ドデシル−2−
メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド等のイ
ミダゾール類、三フッ化ホウ素アミン錯体、ジシアンジ
アミドおよびその誘導体、有機酸ヒドラジッド、メラミ
ン、芳香族ジアゾニウム塩、ジアリルヨードニウム塩、
トリアリルスルホニウム塩、トリアリルセレニウム塩、
フェノール樹脂、アミノ樹脂、ポリビニルフェノール等
が用いられ、これらの1種以上を使用してもよい。
フェニルスルホン、ジアミノジフェニルメタン、ピペリ
ジン、テトラメチルグアニジンなどのアミン系硬化剤、
無水トリメリット酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、ポリアゼライン酸無水物等の酸
無水物類、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−シアノ
エチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2,4
−ジアミノ−6−〔2−ウンデシルイミダゾリル−
(1)〕−エチル−S−トリアジン、1−ドデシル−2−
メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド等のイ
ミダゾール類、三フッ化ホウ素アミン錯体、ジシアンジ
アミドおよびその誘導体、有機酸ヒドラジッド、メラミ
ン、芳香族ジアゾニウム塩、ジアリルヨードニウム塩、
トリアリルスルホニウム塩、トリアリルセレニウム塩、
フェノール樹脂、アミノ樹脂、ポリビニルフェノール等
が用いられ、これらの1種以上を使用してもよい。
【0016】更に、本発明の感光性樹脂組成物には、微
粒子状充填剤としてタルク、シリカ、酸化チタン、クレ
イ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アンモ
ニウム、アルミナ、硫酸バルウム、三酸化アンチモン、
珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム等を配合できる。
また、臭素化エチレン、臭素化イミド、臭素化ポリスチ
レン、臭素化ジフェニルオキサイド、臭素化芳香族フォ
スフェート、酸化アンチモン、モリブデン化合物等を特
性を低下させない範囲で含有してもよく、充填剤の表面
処理としてシランカップリング剤を用いることもでき
る。そのほか、染料、顔料、塗工性向上剤、消泡剤等を
含有してもよい。
粒子状充填剤としてタルク、シリカ、酸化チタン、クレ
イ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アンモ
ニウム、アルミナ、硫酸バルウム、三酸化アンチモン、
珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム等を配合できる。
また、臭素化エチレン、臭素化イミド、臭素化ポリスチ
レン、臭素化ジフェニルオキサイド、臭素化芳香族フォ
スフェート、酸化アンチモン、モリブデン化合物等を特
性を低下させない範囲で含有してもよく、充填剤の表面
処理としてシランカップリング剤を用いることもでき
る。そのほか、染料、顔料、塗工性向上剤、消泡剤等を
含有してもよい。
【0017】本発明の感光性樹脂組成物を用いたプリン
ト配線板の製法は、まず、溶剤に感光性樹脂組成物と光
重合開始剤、エポキシ樹脂硬化剤を配合して均一に溶
解、分散した溶液を作製する。この溶液をスクリーン印
刷法、ディップコート法、フローコート法等の常法によ
り基板上に直接塗工し、溶剤を乾燥して厚さ10〜10
0μmの感光層を形成する。上記溶剤としては、メチル
エチルケトン、メチルセロソルブ、メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート、シクロヘキサ
ノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を用
いる。
ト配線板の製法は、まず、溶剤に感光性樹脂組成物と光
重合開始剤、エポキシ樹脂硬化剤を配合して均一に溶
解、分散した溶液を作製する。この溶液をスクリーン印
刷法、ディップコート法、フローコート法等の常法によ
り基板上に直接塗工し、溶剤を乾燥して厚さ10〜10
0μmの感光層を形成する。上記溶剤としては、メチル
エチルケトン、メチルセロソルブ、メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート、シクロヘキサ
ノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を用
いる。
【0018】また、この溶液をポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリイミドフィルム等のフィルム上にナ
イフコート法、ロールコート法により塗布し、乾燥して
得られる感光性材料を熱ロールを用いて基板上に加熱,
加圧して感光層を形成する。
ートフィルム、ポリイミドフィルム等のフィルム上にナ
イフコート法、ロールコート法により塗布し、乾燥して
得られる感光性材料を熱ロールを用いて基板上に加熱,
加圧して感光層を形成する。
【0019】上記により形成された感光層を低圧水銀ラ
ンプ、中高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ、クリプトンランプ等で
露光し、現像処理する。
ンプ、中高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ、クリプトンランプ等で
露光し、現像処理する。
【0020】現像液は炭酸ナトリウムと水からなるアル
カリ水溶液および水溶性溶剤と水からなる混合系水溶液
を用いる。水溶性溶剤としては、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、乳酸ブチル、ピルビン酸エチル、ジエ
チレングリコール、エタノール、γ−ブチルラクトン、
メチルセロソルブ等が用いられる。これらの有機溶剤
は、水に対して10〜80%の範囲で使用される。更
に、現像性を高めるために珪酸ナトリウム、水酸化ナト
リウム、硼酸ナトリウム、モノエタノールアミン等のア
ルカリ剤を添加することも可能である。
カリ水溶液および水溶性溶剤と水からなる混合系水溶液
を用いる。水溶性溶剤としては、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、乳酸ブチル、ピルビン酸エチル、ジエ
チレングリコール、エタノール、γ−ブチルラクトン、
メチルセロソルブ等が用いられる。これらの有機溶剤
は、水に対して10〜80%の範囲で使用される。更
に、現像性を高めるために珪酸ナトリウム、水酸化ナト
リウム、硼酸ナトリウム、モノエタノールアミン等のア
ルカリ剤を添加することも可能である。
【0021】上記現像後の皮膜は、100〜200℃の
加熱処理等を行い、無電解めっき等で配線および層間導
通回路を形成することにより、耐熱性、難燃性等に優れ
たプリント配線板を得ることができる。
加熱処理等を行い、無電解めっき等で配線および層間導
通回路を形成することにより、耐熱性、難燃性等に優れ
たプリント配線板を得ることができる。
【0022】
【作用】本発明の感光性樹脂組成物は、不飽和カルボン
酸および多塩基酸無水物の付加により優れた現像性を有
し、エポキシ樹脂により耐熱性、接着性が優れ、そし
て、導入されたハロゲン基により難燃性が優れているも
のと考える。
酸および多塩基酸無水物の付加により優れた現像性を有
し、エポキシ樹脂により耐熱性、接着性が優れ、そし
て、導入されたハロゲン基により難燃性が優れているも
のと考える。
【0023】
【実施例】次に、本発明を実施例に基づき具体的に説明
する。
する。
【0024】〔実施例1〕エポキシ当量950のビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸1.05
当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、触媒と
して塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合禁止剤
としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応させて得
られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒドロキシ
ル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価63m
gKOH/gのエポキシアクリレートを得た。
ェノールA型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸1.05
当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、触媒と
して塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合禁止剤
としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応させて得
られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒドロキシ
ル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価63m
gKOH/gのエポキシアクリレートを得た。
【0025】この得られた化合物50重量部と臭素化エ
ポキシ樹脂(BREN−S:日本化薬製)20重量部お
よびアクリルゴム分散エポキシ樹脂(YR−528:東
都化成製)25重量部、ビス〔4−(アクリロキシポリ
エトキシ)フェニル〕プロパンを5重量部、光重合開始
剤2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−
オン5重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプタデシルイ
ミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組成物を得
た。
ポキシ樹脂(BREN−S:日本化薬製)20重量部お
よびアクリルゴム分散エポキシ樹脂(YR−528:東
都化成製)25重量部、ビス〔4−(アクリロキシポリ
エトキシ)フェニル〕プロパンを5重量部、光重合開始
剤2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−
オン5重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプタデシルイ
ミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組成物を得
た。
【0026】〔実施例2〕エポキシ当量280の臭素化
フェノールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル
酸1.05当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解
し、触媒として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、
重合禁止剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反
応させて得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸を
ヒドロキシル基1当量に対して0.5当量反応させて、
酸価75mgKOH/gのエポキシアクリレートを得
た。この得られた化合物40重量部とクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂(ESCN−220:住友化学製)
30重量部およびアクリルゴム分散エポキシ樹脂(YR
−528:東都化成製)20重量部、ビス〔4−(メタ
クリロキシポリエトキシ)フェニル〕プロパンを10重
量部、光重合開始剤1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン3重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプタデ
シルイミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組成物
を得た。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル
酸1.05当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解
し、触媒として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、
重合禁止剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反
応させて得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸を
ヒドロキシル基1当量に対して0.5当量反応させて、
酸価75mgKOH/gのエポキシアクリレートを得
た。この得られた化合物40重量部とクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂(ESCN−220:住友化学製)
30重量部およびアクリルゴム分散エポキシ樹脂(YR
−528:東都化成製)20重量部、ビス〔4−(メタ
クリロキシポリエトキシ)フェニル〕プロパンを10重
量部、光重合開始剤1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン3重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプタデ
シルイミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組成物
を得た。
【0027】〔実施例3〕エポキシ当量190のフェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とメタクリル酸
0.6当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、
触媒として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合
禁止剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応さ
せて得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒド
ロキシル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価
42mgKOH/gのエポキシアクリレートを得た。こ
の得られた化合物40重量部と臭素化エポキシ樹脂(E
BR−700:マナック製)30重量部およびアクリル
ゴム分散エポキシ樹脂(YR−528:東都化成製)2
0重量部、ビス〔4−(メタクリロキシポリエトキシ)フ
ェニル〕プロパンを10重量部、光重合開始剤2,2−
ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン5重
量部、エポキシ樹脂硬化剤2,4−ジアミノ−6−〔2
−ウンデシルイミダゾリン−(1)〕エチル−S−トチア
ジン3重量部を配合した感光性樹脂組成物を得た。
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とメタクリル酸
0.6当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、
触媒として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合
禁止剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応さ
せて得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒド
ロキシル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価
42mgKOH/gのエポキシアクリレートを得た。こ
の得られた化合物40重量部と臭素化エポキシ樹脂(E
BR−700:マナック製)30重量部およびアクリル
ゴム分散エポキシ樹脂(YR−528:東都化成製)2
0重量部、ビス〔4−(メタクリロキシポリエトキシ)フ
ェニル〕プロパンを10重量部、光重合開始剤2,2−
ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン5重
量部、エポキシ樹脂硬化剤2,4−ジアミノ−6−〔2
−ウンデシルイミダゾリン−(1)〕エチル−S−トチア
ジン3重量部を配合した感光性樹脂組成物を得た。
【0028】〔実施例4〕エポキシ当量190のフェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸0.
5当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、触媒
として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合禁止
剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応させて
得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒドロキ
シル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価44
mgKOH/gのエポキシアクリレートを得た。この得
られた化合物50重量部とクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂(ESCN−220:住友化学製)10重量部
およびアクリルゴム分散エポキシ樹脂(YR−528:
東都化成製)20重量部、臭素化ビスフェノールAのメ
タクリレート20重量部、光重合開始剤2,2−ジメト
キシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン5重量部、
エポキシ樹脂硬化剤2−フェニル−4,5−ジヒドロキ
シメチルイミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組
成物を得た。
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸0.
5当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、触媒
として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合禁止
剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応させて
得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒドロキ
シル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価44
mgKOH/gのエポキシアクリレートを得た。この得
られた化合物50重量部とクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂(ESCN−220:住友化学製)10重量部
およびアクリルゴム分散エポキシ樹脂(YR−528:
東都化成製)20重量部、臭素化ビスフェノールAのメ
タクリレート20重量部、光重合開始剤2,2−ジメト
キシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン5重量部、
エポキシ樹脂硬化剤2−フェニル−4,5−ジヒドロキ
シメチルイミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組
成物を得た。
【0029】〔実施例5〕エポキシ当量190のフェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸0.
5当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、触媒
として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合禁止
剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応させて
得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒドロキ
シル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価44
mgKOH/gのエポキシアクリレートを得た。この得
られた化合物40重量部と臭素化エポキシ樹脂(BRE
N−S:日本化薬製)10重量部およびアクリルゴム分
散エポキシ樹脂(YR−528:東都化成製)20重量
部、臭素化ビスフェノールAのメタクリレート30重量
部、光重合開始剤2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン3重量部、エポキシ樹脂硬化
剤2−ヘプタデシルイミダゾール3重量部を配合した感
光性樹脂組成物を得た。
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸0.
5当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、触媒
として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合禁止
剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応させて
得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒドロキ
シル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価44
mgKOH/gのエポキシアクリレートを得た。この得
られた化合物40重量部と臭素化エポキシ樹脂(BRE
N−S:日本化薬製)10重量部およびアクリルゴム分
散エポキシ樹脂(YR−528:東都化成製)20重量
部、臭素化ビスフェノールAのメタクリレート30重量
部、光重合開始剤2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン3重量部、エポキシ樹脂硬化
剤2−ヘプタデシルイミダゾール3重量部を配合した感
光性樹脂組成物を得た。
【0030】〔実施例6〕実施例1で得られたエポキシ
アクリレート40重量部と臭素化エポキシ樹脂(BRE
N−S)15重量部およびエポキシ樹脂(DT−820
8:大都産業製)30重量部、クロレンド酸ジアリル
(TRIAM605:和光純薬製)15重量部、光重合
開始剤2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−
1−オン5重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプタデシ
ルイミダゾール3重量部を配合し、感光性樹脂組成物を
得た。
アクリレート40重量部と臭素化エポキシ樹脂(BRE
N−S)15重量部およびエポキシ樹脂(DT−820
8:大都産業製)30重量部、クロレンド酸ジアリル
(TRIAM605:和光純薬製)15重量部、光重合
開始剤2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−
1−オン5重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプタデシ
ルイミダゾール3重量部を配合し、感光性樹脂組成物を
得た。
【0031】〔比較例1〕エポキシ当量500のビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸1.05
当量とをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テートに溶解し、触媒として塩化ベンジルトリメチルア
ンモニウム、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール
を添加し、90℃で反応させてエポキシアクリレートを
得た。この得られた化合物50重量部とポリエチレング
リコールジアクリレート30重量部、アクリレート変性
NBR(N650:日本合成ゴム社製)20重量部、光
重合開始剤2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタ
ン−1−オン5重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプタ
デシルイミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組成
物を得た。
ェノールA型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸1.05
当量とをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テートに溶解し、触媒として塩化ベンジルトリメチルア
ンモニウム、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール
を添加し、90℃で反応させてエポキシアクリレートを
得た。この得られた化合物50重量部とポリエチレング
リコールジアクリレート30重量部、アクリレート変性
NBR(N650:日本合成ゴム社製)20重量部、光
重合開始剤2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタ
ン−1−オン5重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプタ
デシルイミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組成
物を得た。
【0032】〔比較例2〕エポキシ当量215のクレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸0.
6当量とをプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテートに溶解し、触媒として塩化ベンジルトリメチル
アンモニウム、重合禁止剤としてp−メトキシフェノー
ルを添加し、90℃で反応させてエポキシアクリレート
を得た。この得られた化合物50重量部とビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂(DER661:ダウ社製)30重
量部、アクリレート変性NBR(N650:日本合成ゴ
ム社製)20重量部、光重合開始剤2,2−ジメトキシ
−1,2−ジフェニルエタン−1−オン5重量部、エポ
キシ樹脂硬化剤2−ヘプタデシルイミダゾール3重量部
を配合した感光性樹脂組成物を得た。
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸0.
6当量とをプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテートに溶解し、触媒として塩化ベンジルトリメチル
アンモニウム、重合禁止剤としてp−メトキシフェノー
ルを添加し、90℃で反応させてエポキシアクリレート
を得た。この得られた化合物50重量部とビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂(DER661:ダウ社製)30重
量部、アクリレート変性NBR(N650:日本合成ゴ
ム社製)20重量部、光重合開始剤2,2−ジメトキシ
−1,2−ジフェニルエタン−1−オン5重量部、エポ
キシ樹脂硬化剤2−ヘプタデシルイミダゾール3重量部
を配合した感光性樹脂組成物を得た。
【0033】〔比較例3〕エポキシ当量190のフェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸1.
05当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、触
媒として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合禁
止剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応させ
て得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒドロ
キシル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価7
2mgKOH/gのエポキシアクリレートを得た。この
得られた化合物40重量部とクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂(ESCN−220:住友化学製)30重量
部およびアクリルゴム分散エポキシ樹脂(YR−52
8:東都化成製)20重量部、ビス〔4−(メタクリロ
キシポリエトキシ)フェニル〕プロパンを10重量部、
光重合開始剤2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエ
タン−1−オン5重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプ
タデシルイミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組
成物を得た。
ールノボラック型エポキシ樹脂1当量とアクリル酸1.
05当量とをエチルセロソルブアセテートに溶解し、触
媒として塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、重合禁
止剤としてハイドロキノンを添加し、90℃で反応させ
て得られる反応物にテトラヒドロ無水フタル酸をヒドロ
キシル基1当量に対して0.5当量反応させて、酸価7
2mgKOH/gのエポキシアクリレートを得た。この
得られた化合物40重量部とクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂(ESCN−220:住友化学製)30重量
部およびアクリルゴム分散エポキシ樹脂(YR−52
8:東都化成製)20重量部、ビス〔4−(メタクリロ
キシポリエトキシ)フェニル〕プロパンを10重量部、
光重合開始剤2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエ
タン−1−オン5重量部、エポキシ樹脂硬化剤2−ヘプ
タデシルイミダゾール3重量部を配合した感光性樹脂組
成物を得た。
【0034】これらの感光性樹脂組成物に炭酸カルシウ
ム15重量部配合し、溶剤で粘度調整を行い、ロールミ
ルで混合分散させて、溶液を調整した。
ム15重量部配合し、溶剤で粘度調整を行い、ロールミ
ルで混合分散させて、溶液を調整した。
【0035】この溶液を銅張り積層板上に塗布し、室温
で20分、70℃で20分乾燥して、厚さ40μmの感
光層を形成した。次いで、所定の位置にビアホールを形
成するためにネガマスクを通うして超高圧水銀ランプを
用い600mJ/cm2で露光した後、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル30%溶液で30℃、120
秒間、スプレー現像した。その後130℃で加熱後、過
マンガン酸溶液で表面粗化を行い、無電解銅めっきで表
面導体形成を行った。
で20分、70℃で20分乾燥して、厚さ40μmの感
光層を形成した。次いで、所定の位置にビアホールを形
成するためにネガマスクを通うして超高圧水銀ランプを
用い600mJ/cm2で露光した後、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル30%溶液で30℃、120
秒間、スプレー現像した。その後130℃で加熱後、過
マンガン酸溶液で表面粗化を行い、無電解銅めっきで表
面導体形成を行った。
【0036】表1に前記各実施例並びに比較例により得
られた感光性樹脂組成物の特性を示す。
られた感光性樹脂組成物の特性を示す。
【0037】解像性は孔径30〜250μmのマスクを
介して露光、現像後の最小径を観察した。接着性は銅め
っき形成後150℃で後硬化後の接着強度を測定した。
はんだ耐熱性は260℃、1分間のフロートでふくれや
剥離の有無を観察し、異常ないものを○印で、ふくれ等
のあるものを×印で示した。難燃性はUL規格で測定し
た結果で燃焼時間が最大10秒以内,平均5秒以内をV
−0、最大30秒以内,平均25秒以内をV−1,燃え
尽きてしまうものをHBとして評価した。
介して露光、現像後の最小径を観察した。接着性は銅め
っき形成後150℃で後硬化後の接着強度を測定した。
はんだ耐熱性は260℃、1分間のフロートでふくれや
剥離の有無を観察し、異常ないものを○印で、ふくれ等
のあるものを×印で示した。難燃性はUL規格で測定し
た結果で燃焼時間が最大10秒以内,平均5秒以内をV
−0、最大30秒以内,平均25秒以内をV−1,燃え
尽きてしまうものをHBとして評価した。
【0038】
【表1】
【0039】
【発明の効果】本発明によれば、人体への害が少なく、
危険物に該当しない現像液で現像することができ、解像
度、耐熱性、接着性および難燃性に優れた塗膜が形成で
きるため、多層プリント配線板のソルダーレジスト、め
っきレジスト、層間絶縁層に用いることができる。
危険物に該当しない現像液で現像することができ、解像
度、耐熱性、接着性および難燃性に優れた塗膜が形成で
きるため、多層プリント配線板のソルダーレジスト、め
っきレジスト、層間絶縁層に用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/06 H 3/18 D 7511−4E 3/28 D 3/46 T 6921−4E (72)発明者 川井 良憲 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 根本 政典 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 赤星 晴夫 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内
Claims (7)
- 【請求項1】 (a)カルボキシル基含有エポキシアク
リレート、(b)エポキシ樹脂、(c)アクリレート化
合物の少なくとも1種がハロゲン置換体であることを特
徴とする感光性樹脂組成物。 - 【請求項2】 カルボキシル基含有エポキシアクリレー
トがエポキシ残基を有する請求項1に記載の感光性樹脂
組成物。 - 【請求項3】 ハロゲン含有量が5〜25重量%である
請求項1または2に記載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項4】 前記ハロゲンがBrである請求項1,2
または3に記載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項5】 絶縁層が、(a)カルボキシル基含有エ
ポキシアクリレート、(b)エポキシ樹脂、(c)アク
リレート化合物の少なくとも1種がハロゲン置換体であ
る感光性樹脂組成物の硬化物からなるプリント配線板。 - 【請求項6】 ハロゲン含有量が5〜25重量%である
請求項5に記載のプリント配線板。 - 【請求項7】 前記ハロゲンがBrである請求項5また
は6に記載のプリント配線板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18456894A JPH0850353A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | 感光性樹脂組成物およびそれを用いたプリント配線板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18456894A JPH0850353A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | 感光性樹脂組成物およびそれを用いたプリント配線板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0850353A true JPH0850353A (ja) | 1996-02-20 |
Family
ID=16155490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18456894A Pending JPH0850353A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | 感光性樹脂組成物およびそれを用いたプリント配線板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0850353A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998011605A1 (en) * | 1995-06-19 | 1998-03-19 | Ibiden Co., Ltd. | Circuit board for mounting electronic parts |
| US6156414A (en) * | 1997-08-26 | 2000-12-05 | Nec Corporation | Carrier film and process for producing the same |
-
1994
- 1994-08-05 JP JP18456894A patent/JPH0850353A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998011605A1 (en) * | 1995-06-19 | 1998-03-19 | Ibiden Co., Ltd. | Circuit board for mounting electronic parts |
| US6156414A (en) * | 1997-08-26 | 2000-12-05 | Nec Corporation | Carrier film and process for producing the same |
| US6333136B1 (en) | 1997-08-26 | 2001-12-25 | Nec Corporation | Carrier film and process for producing the same |
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