JPH08505180A - マイクロパウダー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本質的な成分としてポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンを含有しかつ該成分の溶融物のプリリング又は該成分の溶液の噴霧乾燥によって得られる、本質的に平滑な表面構造の球状粒子のマイクロパウダー。

Description

【発明の詳細な説明】 マイクロパウダー 本発明は、本質的な成分としてポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケ トンを含有しかつ該成分の溶融物のプリリング（prilling）又は該成分の溶液の 噴霧乾燥によって得ることができる、本質的に平滑な表面構造の球状粒子のマイ クロパウダーに関する。さらに本発明は、該マイクロパウダーの製法及び使用に 関する。さらに本発明は、マイクロパウダーを含有する水性分散液及び該水性分 散液から得られた被覆に関する。 ポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンを基礎とするマイクロパウ ダーは、自体公知であり、かつ例えば金属表面とポリテトラフルオロエチレンと の間の付着助剤として、例えば非付着作用及び良好な滑走挙動を有する被覆を得 るために使用される（例えば英国特許第１４２６３４２号明細書参照）。この種 の公知のマイクロパウダーは、基質を冷却することによって脆化しかつ引き続き 粉砕することによって得られる（例えば欧州特許出願公開（EP-A2）第３７７１ ７０号明細書参照）。国際公開番号ＷＯ ９１／００８７６から、ポリアリーレ ンエーテルスルホンからなるマイクロパウダーが、ポリアリーレンエーテルスル ホ ンを液体を用いてペーストに加工し、該ペーストを強力な撹拌下で水中で乳化し 、かつ該エマルジョンを乾燥することによっても得ることができることが明らか である。粉砕によって得られるマイクロパウダーは、不規則な稜のある表面を常 に有している。このことは、例えば粉末の流動性及び嵩密度ならびに流動床中の 粉末の挙動に不利に作用する。さらに表面は、多くの使用目的に必要とされてい るように著しく均一に被覆されえない。剪断速度の作用下でエマルジョンから得 られたマイクロパウダーは、卵形ないし細長い粒子を有しており、このような粒 子は、粉砕された粒子と同様に、被覆すべき表面に不満足に施与される。英国特 許第２１５１２０２号明細書から、ポリスルホンからなる膜で包まれた油状物質 からなるマイクロカプセルは、公知であり、このマイクロカプセルは、相応する 溶液を加圧ノズルで噴霧することによって得ることができる。特定の使用には著 しく平滑な表面構造を有する粒子が要求されるため、上記のエマルジョンから得 られた粒子ならびにマイクロカプセルは、この要求を満たすものではない。また 欧州特許出願公開第２４４１０４７号明細書には、非晶質熱可塑性プラスチック の溶液が噴霧乾燥される場合には、多孔質表面を有する小さな粒子が得られるこ とが記載されている。 従って本発明の課題は、均一な表面を有する球状粒子からなる、ポリアリーレ ンエーテルスルホンもしく は−ケトンを基礎とするマイクロパウダーを提供することであった。 上記課題は、本発明によるマイクロパウダーによって解決される。 本発明によるマイクロパウダーは、本質的な成分としてポリアリーレンエーテ ルスルホンもしくは−ケトンを含有している。自明のことながら該粉末は、ポリ アリーレンエーテルスルホンとポリアリーレンエーテルケトンの混合物を含有し ていてもよい。本発明によるマイクロパウダーは、意外にも、ポリアリーレンエ ーテルスルホンもしくは−ケトンを溶融もしくは溶解するか又はその粘度を適当 な液体で減少させ、かつ引き続きプリリングもしくは噴霧乾燥することによって 得ることができる。 本発明によればこのようにして得られた粒子は、均一でありかつ丸みをもち、 かつほぼ無孔質の表面を有している。平均粒径（体積平均値）は、通常１μｍも しくはそれ以上である。該平均粒径は、この値を下回っていてもよいが、しかし ながら殆どの場合には該平均粒径は、０．５μｍを下回らない。通常、平均粒径 は、８０μｍまで可能である。平均粒径が僅かにより大きい、例えば１００μｍ であることも可能である。より大きな平均粒径は、通常、殆どの場合の使用にと って、特に水性分散液の製造にとって利点はない。有利に平均粒径は、２〜７０ μｍ、特に２〜５０μｍ、 例えば５〜５０μｍである。殊に有利に平均粒径は、１〜２０μｍ、特に１〜１ ０μｍである。粒子は本質的に充実であり、即ち、該粒子は中空ではなくかつ通 常該粒子の基礎となっているポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトン の密度を有している。しかし粒子の密度は、例えば少量のガスが包含されている 場合にはこれを僅かに下回っていてもよい。 本発明によるマイクロパウダーは、狭い粒度分布を示す。粒度分布の幅の尺度 として、相対スパン係数（relative Spanfaktor）Δが記載される（A．H．Lefeb vre：”Atomization and Sprays”，Hemisphere Publising Corporation，1989 ，100頁，方程式3.40参照）。本発明によるマイクロパウダーの相対スパン係数 Δは、通常１〜２である。しかし該相対スパン係数Δは、この値を上回っていて もよいが、しかしながら殆どの場合には２．５を超えない。有利にスパン係数は 、約１．５までである。殊に有利にスパン係数は、１未満である。 本質的な成分Ａとして本発明によるマイクロパウダーは、ポリアリーレンエー テルスルホンもしくは−ケトンを含有する。該化合物は、繰返し単位Ｉ： を含有する。 この場合、ｔ及びｑは、相互に無関係に同じであるか又は異なっておりかつ値 ０又は整数１〜３である。Ｎは、−Ｏ−基又は−Ｓ−基を表わし、有利に−Ｏ− 基である。相互に無関係にＴ及びＱは、同じであるか又は異なっている。このＴ 及びＱは、化学結合を表わしてもよいし、−Ｏ−基、−Ｓ−基、Ｃ＝Ｏ基、Ｓ＝ Ｏ基、−ＳＯ₂−基、−Ｎ＝Ｎ−基、−Ｒ^aＣ＝ＣＲ^b−基及び−ＣＲ^cＲ^d−基か ら選択された基を表わしてもよい。これら基の中では、−Ｏ−基、Ｃ＝Ｏ基、− ＳＯ₂−基及び−ＣＲ^cＲ^d−基は、特に有利である。有利にＴ及びＱは、化学結 合でもある。Ｒ^a−Ｒ^dは、相互に無関係に同じであるか又は異なっておりかつそ れぞれ水素原子又はＣ₁〜Ｃ₁₀−アルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロ ピル基もしくはｔ−ブチル基、特に水素原子又はメチル基を表わす。さらにＲ^c 及びＲ^dは、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルアリール基又はＣ₆ 〜Ｃ₁₈−アリール基を表わしてもよい。有利な基には、メトキシ基、エトキシ基 、プロピル基ｔ−ブトキシ基、ベンジル基及びフェニル基が挙げられる。上記の 基は、それぞれフッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよい。例とし てトリフルオロメチル基もしくはｐ−クロロフェニル基が挙げられる。本発明に よればＺは、Ｃ＝Ｏ基、Ｓ＝Ｏ基及び−ＳＯ₂−基から選択された基であり、こ の場合、Ｃ＝Ｏ基及び−ＳＯ₂−基は、特に有利で ある。Ａｒ〜Ａｒ³は、相互に無関係に同じ意味を表わしてもよいし、相互に異 なっていてもよい。本発明によればＡｒ〜Ａｒ³は、Ｃ₆〜Ｃ₁₈−アリール基を表 わす。この基には、フェニル基、ビフェニル基及びナフチル基が挙げられる。有 利にはアリール基は、置換されていないが、しかしＣ₁〜Ｃ₁₀−アルキル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₀−アルキルアリール基、Ｃ₆〜Ｃ₁₈−アリール基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ 基及びハロゲン原子から選択された置換基を有していてもよい。適当な置換基の 例は、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ− ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ シ基、ベンジル基、エチルフェニル基、フェニル基、フッ素原子又は塩素原子で ある。 次に有利な繰返し単位Ｉの幾つかを記載する： 本質的な成分Ａとして、構造単位（Ｉ₁）、（Ｉ₂）、（Ｉ₂₅）又は（Ｉ₂₆）を 有するポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンを含有するマイクロパ ウダーは、殊に有利である。このようなマイクロパウダーには、例えば、本質的 な成分Ａとして、構造単位（Ｉ₁）０〜１００モル％、特に５〜９５モル％及び 構造単位（Ｉ₂）０〜１００モル％、特に５〜９５モル％を有するポリアリーレ ンエーテルスルホンを含有するマイクロパウダーが挙げられる。 ポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンは、ポリアリーレンエーテ ルセグメントと他の熱可塑性ポリマー、例えばポリアミド、ポリエステル、芳香 族ポリカーボネート、ポリエステルカーボネート、ポリシロキサン、ポリイミド 又はポリエーテルイミドのセグメントが存在する共重合体もしくはブロック共重 合体であってもよい。共重合体中のブロック−もしくはグラフト側鎖の分子量は 、通常１０００〜３００００ｇ／モルの範囲内である。異なる構造のブロックは 、交互に配置されていてもよいし、統計的に配置されていてもよい。共重合体も しくはブロック共重合体中のポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトン の重量による含量は、通常少なくとも３重量％、有利に少なくとも１０重量％で ある。ポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンの重量による含量は、 ９７重量％までであってもよい。ポリアリーレンエーテ ルスルホンもしくは−ケトン９０重量％まで含有する共重合体もしくはブロック 共重合体は、有利である。ポリアリーレンエーテル２０〜８０重量％を含有する 共重合体もしくはブロック共重合体は、特に有利である。 ポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンは、任意の末端基、例えば ハロゲン原子、メトキシ基ベンジルオキシ基、フェノキシ基又はアミノ基を有す ることができる。有利な末端基は、ハロゲン原子又はメトキシ基である。 通常ポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンは、１５０００〜６０ ０００ｇ／モルの範囲内の平均分子量Ｍ_n（数平均）及び相対粘度０．２５〜０ ．９５ｄｌ／ｇを有している。相対粘度は、ポリアリーレンエーテルスルホンも しくは−ケトンの可溶性に応じて、１重量％のＮ−メチルピロリドン溶液中で、 フェノール及びジクロロメタンからの混合物中で、又は９６％の硫酸中でそれぞ れの場合に２０℃ないしは２５℃で測定される。 成分Ａとして考慮されるポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンは 、自体公知でありかつ自体公知の方法で製造することができる。ポリアリーレン エーテルスルホンもしくは−ケトンは、例えば、芳香族ビスハロゲン化化合物と 芳香族ビスフェノールのアルカリ金属複塩との縮合によって得られる。ポリアリ ーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンは、例えば、触媒の存在下での芳香族 ハロゲン化フェノールのアルカリ塩の自己縮合によって製造することもできる。 ドイツ国特許出願公開第３８４３４３８号明細書には、例えば適当なモノマーの 詳細な一覧が示されている。適当な方法は、とりわけ米国特許第３４４１５３８ 号明細書、同第４１０８８３７号明細書、ドイツ国特許出願公開（DE-A1）第２ ７３８９６２号明細書及び欧州特許出願公開（EP-A1）第３６１号明細書に記載 されている。ポリアリーレンエーテルケトンは、とりわけ国際公開番号ＷＯ ８ ４／０３８９２に記載されているとおり、求電子（フリーデル−クラフツ）重縮 合によって得ることもできる。求電子重縮合の場合にはカルボニル橋の形成のた めに、ジカルボン酸クロリドもしくはホスゲンが、水素原子（求電子置換基によ って交換可能である）２個を有する芳香族化合物と反応するか或いは、酸クロリ ド基及び置換可能である水素原子を有する芳香族カルボン酸クロリドがそれ自体 と重縮合する。 ポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンの合成のための有利な処理 条件は、例えば、欧州特許出願公開第１１３１１２号明細書及び同第１３５１３ ０号明細書に記載されている。無水アルカリ金属炭酸塩、特に炭酸カリウムの存 在下での非プロトン性溶剤、特にＮ−メチルピロリドン中でのモノマーの反応は 、 特に適当である。モノマーを溶融物の形で反応させることは、多くの場合に同様 に有利であると判明している。 本発明によればマイクロパウダーは、本質的な成分Ｂとして、ポリアリーレン エーテルスルホンもしくは−ケトンＡを反応性化合物と反応させることによって 得られるポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンを含有していてもよ い。反応性化合物は、Ｃ−Ｃ二重−もしくは三重結合とともに１個もしくはそれ 以上のカルボニル基、カルボン酸基、カルボキシレート基、酸無水物基、酸イミ ド基、カルボン酸エステル基、アミノ基、ヒドロキシル基、エポキシ基、オキサ ゾリン基、ウレタン基、尿素原子、ラクタム基もしくはハロゲン化ベンジル基を 含有している。 典型的な適当な化合物は、例えばマレイン酸、メチルマレイン酸、イタコン酸 、テトラヒドロフタル酸、その無水物及びイミド、フマル酸、該酸のモノ−もし くはジエステル、例えばＣ₁〜Ｃ₁₈−アルカノール、該酸のモノ−もしくはジア ミド、例えばＮ−フェニルマレインイミド、マレイン酸ヒドラジドである。 有利にα，β−不飽和ジカルボン酸ないしはその無水物、下記の一般構造式： 〔式中、 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は相互に無関係に水素原子及びＣ₁〜Ｃ₁₈−アルキル基を 表わす〕で示されるジエステル及びモノエステルは、使用される。 特に適当な化合物は、マレイン酸無水物、フマル酸、及びイタコン酸である。 ポリマーと反応性化合物は、例えば芳香族溶剤中で相互に反応することができ る。クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン及びＮ−メチルピロリドンは、特に 適当な溶剤であると判明している。この場合には通常常用のラジカル重合開始剤 が使用される。反応は、通常７５〜１５０℃で実施される。反応生成物は、常用 の沈殿剤、例えば低分子量アルコール及びケトンを用いた沈殿又は溶剤の除去（ 例えばベント式押出機、薄膜式蒸発機での）によって得られる。 しかし反応成分は、例えば温度２７０〜３５０℃で溶融物の形で連続的もしく は回分的に処理する混合装置（例えば一軸−もしくは二軸スクリュー型押出機、 混練機）中で反応させることもできる。 この場合には反応性化合物は、有利に液体の形で、特に混合装置の混練帯域内 でポリマーの溶融物に添加される。 有利に、本発明によるマイクロパウダーの場合にはポリアリーレンエーテルス ルホンもしくは−ケトンＢとして、改質されたポリアリーレンエーテルスルホン もしくは−ケトンＡは使用され、この化合物は、未改質のポリアリーレンエーテ ルスルホンもしくは−ケトンＡ８０〜９９．９重量％、特に９０〜９９重量％を 反応性化合物０．１〜２０重量％、特に１〜１０重量％と反応させることによっ て得られたものである。 成分Ｂとして、無水マレイン酸０．１〜１．５重量％とグラフトしたポリアリ ーレンエーテルスルホンは、特に有利である。この場合には、単位Ｉ₁ ５〜９ ５モル％及び単位Ｉ₂ ５〜９５モル％を含有するポリアリーレンエーテルスル ホンは、有利である。 この場合には、式Ｉ₂及びＩ₁の単位８０〜９５モル％、特に８５〜９５モル％ 及び相応して式Ｉ₁ないしはＩ₂の単位５〜２０モル％、特に５〜１５モル％を含 有するポリアリーレンエーテルスルホンは、特に記載される。 ラジカル重合開始剤として通常、専門書（例えばJ．K．Kochi，”Free Radica ls”，J．Wiley，NewYork，1973）に記載されている化合物は、使用することが で きる。 通常、ラジカル重合開始剤は、使用されるポリアリーレンエーテルスルホンも しくは−ケトンＡに対して約０．０１〜約１重量％の量で使用される。自明のこ とながら種々のラジカル重合開始剤の混合物を使用することもできる。 本発明によればマイクロパウダーは、成分Ａ及びＢからなる混合物を含有して いてもよい。本質的な成分とともに、マイクロパウダーは、さらに例えば別の添 加剤、例えば防炎剤、染料又は安定化剤４０重量％までを含有することができる 。 ポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンの噴霧乾燥は、処理条件下 で不活性であるガス、例えば空気もしくは窒素中での溶融物又は溶液の微粒化に よって行なわれる。有利にポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンは 、噴霧前に溶剤中に溶解される。 溶剤として、双極子非プロトン性液体は適当である。この適当な溶剤には、Ｎ −置換酸アミド、スルホキシド及びスルホンが挙げられる。例えば、Ｎ，Ｎ−ジ メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、 ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホン（スルホラン）又はジフェニルスル ホンである。この中ではＮ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びジメ チルホルムアミドは、特に有 利である。特に難溶性であるポリアリーレンエーテルケトンについては、とりわ けジフェニルスルホン、ジトリルスルホン又はトリフルオロ酢酸は、溶剤として 適当である。 微粒化温度を、溶融物もしくは溶液が微粒化に適当である粘度を有する程度に 選択することもできるし、溶液の固体含量を、溶液が特定の微粒化温度の場合に 適当な粘度を有する程度に選択することもでき、この場合、後者が有利である。 溶液の減少された粘度は、微粒化温度の場合には８０００ｍＰａｓまでである。 該粘度は、この値を上回っていてもよく、例えば１００００ｍＰａｓであっても よい。通常、より高い粘度を有する溶液は、微粒化することがより困難である。 １０００ｍＰａｓ及びそれ以下の減少された粘度は、有利である。５〜５００ｍ Ｐａｓ、特に１０〜１００ｍＰａｓは、特に有利である。 通常、室温を有する溶液が微粒化される。該溶液の粘度を減少させるために、 溶剤を高い温度、例えば５０〜１００℃で噴霧することが要求される場合がある 。しかしながら、微粒化温度は、通常それぞれの溶剤の沸点を下回る。 微粒化のために空気圧微粒化装置、例えば多材料用ノズル、特に二材料用ノズ ルは、使用することができる。この例として、ダブル・フローもしくはトリプル ・フロー二材料用ノズル（zweiflutige oder dreiflutig e Zweistoffduesen）が挙げられる。ねじれモーメント又は流れの方向の変更を 生じさせるために、二材料用ノズルは、組込部材を有していてもよい。このよう な組込部材は、ガス側に取り付けらていてもよいし、液体側に取り付けらていて もよい。超音波式微粒化装置を使用することも可能である。 液体の質量処理量に対する微粒化ガスの質量処理量の比は、通常２より大きい 。微粒化ガス−／液体処理量の比３〜１０は、特に有利であると判明している。 通常、５バールもしくはそれ以上のガス圧が必要とされる。１００バール以上の ガス圧は、稀にしか必要とされない。通常ガス圧は、１０〜７０バールである。 微粒化後に液滴は、乾燥室、例えば公知の構造様式の噴霧塔中で乾燥すること ができる（例えばK．Masters：Spray Drying Handbook，Leonhard Hill Books， London 1972参照）。溶剤の蒸発は、常圧で行なうこともできるし、真空中で行 なうこともできる。この場合には、溶剤の蒸発に必要とされる熱は、有利に塔頂 部で不活性乾燥用ガスによって供給される。乾燥用ガスとして、とりわけ窒素は 適当である。しかし他のガス、例えば二酸化炭素又は空気は、使用することがで きる。乾燥塔の頭頂部のガス温度は、有利に溶剤の蒸発温度より大きく、かつ室 温ないし５００℃であることができる。通常、該温度は、１００℃もしくはそれ 以上である。有利に該温度は、２００℃〜３００℃の 範囲内である。 有利に乾燥用ガスは、液滴と一緒に乾燥塔中を流れ、かつ塔の出口で乾燥物質 と一緒に吸引される。塔の出口のガス温度は、粉末の所望の溶剤残量に依存する 。該温度は、室温ないし乾燥塔の頭頂部のガス温度より僅かに低い温度であるこ とができる。通常、該温度は、５０℃もしくはそれ以上、例えば１２０℃〜１７ ０℃である。通常、２００℃を超える温度は、必要とされない。 粉末は、通常、常法でフィルタ又はサイクロンによってガス流から分離するこ とができる。本発明によるマイクロパウダーの製造には、有利にフィルタが固体 分離に使用される。 本発明によるマイクロパウダーの溶剤残量は、後乾燥装置なしで通常５％以下 、特に２％未満である。残留溶剤の含量をさらに減少させるために、噴霧乾燥装 置に、後冷却装置と結合していてもよい後乾燥装置が後接続されていてもよい。 後乾燥は、例えば流動床中で行なわれる。 噴霧乾燥の場合には、噴霧助剤を共用することもできる。噴霧助剤として、例 えば微粒状無機材料、例えば二酸化珪素、疎水性珪酸又は酸化アルミニウム、特 にポリテトラフルオロエチレンが挙げられる。噴霧助剤は、ポリアリーレンエー テルスルホンもしくは−ケ トンに対して通常０．１〜２０重量％、特に１〜５重量％の量で使用される。 本発明によるマイクロパウダーは、とりわけ表面の被覆に適当である。有利に 本発明によるマイクロパウダーは、金属表面の被覆に使用することができる。該 マイクロパウダーは、あらゆる種類の対象物、例えば滑り軸受、家庭電化製品又 は電子部材のための滑走性を有する表面又は付着防止性被覆の製造に殊に適当で ある。これは、例えば流動層被覆法によってか、又はマイクロパウダーの分散液 の塗布によって行なうことができる。その上、マイクロパウダーを例えば静電場 を用いて表面に吹き付けることによって、表面を被覆することは、可能である。 本発明によるマイクロパウダーは、非溶剤中で、有利に水中で分散することが できる。通常、この水性分散液は、マイクロパウダー５〜５０重量％、特に１０ 〜３０重量％を含有している。マイクロパウダーとともに、該水性分散液は、他 の分散したプラスチックを含有していてもよい。有利なプラスチックは、フッ素 含有オレフィン重合体、特にポリテトラフルオロエチレンである。さらに、該分 散液に分散助剤、例えばポリビニルアルコールもしくはグリセリンを添加するこ とは、可能である。さらに該分散液は、流動助剤及び顔料を含有していてもよい 。該分散液は、例えば表面に吹き付けることもできるし、塗布することもできる 。 実施例 粒度の測定 粒度を粒度分析装置（Helos型、Sympatec社）を用いて測定した。この測定に それぞれの場合にマイクロパウダー１ｇをＨ₂Ｏ１００ｍｌ中に、界面活性剤を 添加しながら超音波を用いて分散し、かつこのようにして得られた分散液から１ ｍｌを取り出し、かつ再度水１００ｍｌ中に分散した。粒度の測定をレーザー回 析測定装置（レーザー回析粒度測定装置 Cilas 715）によって行なった。 例１ 粘度５２ｍｌ／ｇ（フェノールと１，２−ジクロロベンゼンからなる１：１の 比の１重量％の溶液中で２５℃で測定した）及びボリュームフローインデックス １４０ｍｌ／１０分（３６０℃で測定した）を有する、本質的に、繰返し単位Ｉ₁ ： を有するポリアリーレンエーテルスルホンを使用した。Ｎ−メチルピロリドン中 の該ポリアリーレンエーテルスルホンの１０重量％の溶液を製造した。減少され た粘度５０ｍＰａｓを有するこの溶液を２５℃で超音波式微粒化装置（US 1、7/ 0.017.16.60型、Lechler社） 中で噴霧した。乾燥室として、直径２０ｃｍ及び長さ２ｍの乾燥塔を使用した。 乾燥用ガスとして使用した窒素は、塔の頭頂部で２０５℃の温度を有していた。 塔の出口での温度は、１５０℃であった。乾燥用ガスの処理量は、２０ｋｇ／時 であり、かつ溶液の処理量は３００ｇ／時であった。 平滑な表面構造及び平均直径（数平均値）２０ｐｍを有する球状粒子が得られ た。この粉末の溶剤残量は、５％であった。該粒子は、図１〜３に示されている 。 例２ Ｎ−メチルピロリドン中の例１に記載されたポリアリーレンエーテルスルホン １６重量％からなる混合物を製造した。室温で減少された粘度２００ｍＰａｓを 有するこの溶液を、液体インサート（Fluessigkeitseinsatz）０．５ｍｍ（９７ ０型、Schlick社）を有する空気圧二材料用ノズルで圧力２バールで噴霧した。 液体処理量は、３００ｇ／時であった。温度が２２０℃である窒素をノズル用ガ スとして使用した。乾燥室として例１に記載された乾燥塔を使用した。乾燥用ガ スとして、乾燥塔の頭頂部での温度が１８０℃である窒素を使用した。該塔の出 口での窒素の温度は、１５５℃であった。 平滑な表面及び平均直径（数平均値）６．５μｍを有する球状粒子が得られた 。この場合にはこのマイクロパウダーの９６重量％は、２４μｍ未満の直径を有 する粒子であった。相対スパン係数は、２．５であった。粒子密度は、１．３７ ｇ／ｍｌであり、該粉末の嵩重量は、２００ｇ／ｌであった。 図４及び５は、Ｎ−メチルピロリドン中に溶解された、例１に記載されたポリ アリーレンエーテルスルホンの、典型的に本発明による噴霧乾燥によって別の試 験の場合に得られた粒度分布を示している。 図６及び７は、Ｎ−メチルピロリドン溶液から噴霧乾燥された、例１に記載さ れたポリアリーレンエーテルスルホンからの、別の試験の際に典型的に得られた 本発明によるマイクロパウダーの走査形電子顕微鏡写真を示している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 71/10 ＬＱＫ 9272−4Ｊ 81/06 ＬＲＦ 9167−4Ｊ // Ｃ０８Ｌ 71:10 81:06 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＮ，ＣＺ，ＦＩ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，Ｌ Ｋ，ＬＶ，ＭＧ，ＭＮ，ＭＷ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＫ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 ブーヘルト，ヘルマン ドイツ連邦共和国 Ｄ―67098 バート デュルクハイム アン デア ノルツェル ーエ ８ツェー

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．本質的に平滑な表面構造の球状粒子のマイクロパウダーにおいて、本質的 な成分としてポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンを含有しかつポ リアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンの溶融物のプリリング又はポリ アリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンの溶液の噴霧乾燥によって得られ ることを特徴とするマイクロパウダー。 ２．本質的な成分として Ａ）繰返し単位Ｉ： 〔式中、ｔ及びｑは値０又は整数１〜３を表わし；Ｎは−Ｏ−基又は−Ｓ−基を 表わし；Ｔ及びＱは化学結合又は、−Ｏ−基、−Ｓ−基、Ｃ＝Ｏ基、Ｓ＝Ｏ基、 −ＳＯ₂−基、−Ｎ＝Ｎ−基、−Ｒ^aＣ＝ＣＲ^b−基及び−ＣＲ^cＲ^d−基から選択 された基を表わし；Ｒ^a及びＲ^bはそれぞれ水素原子又はＣ₁〜Ｃ₁₀−アルキル基 を表わし；Ｒ^c及びＲ^dはそれぞれ水素原子又はＣ₁〜Ｃ₁₀−アルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀ −アルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルアリール基又はＣ₆〜Ｃ₁₈−アリール基 を表わし、この場合、これら基はそれぞれフッ素原子及び／又は塩素原子で置換 されていてもよく；Ｚは Ｃ＝Ｏ基、Ｓ＝Ｏ基及び−ＳＯ₂−基から選択された基を表わし；Ａｒ、Ａｒ¹、 Ａｒ²及びＡｒ³はＣ₆〜Ｃ₁₈−アリール基を表わし、この場合、この基は、Ｃ₁〜 Ｃ₁₀−アルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルアリール基、Ｃ₆〜Ｃ₁₈−アリール基、 Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ基及びハロゲン原子から選択された置換基を有していて もよい〕 を有するポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトン又はランダム共重合 体もしくはブロック共重合体及び／又は Ｂ）Ａを、Ｃ−Ｃ二重−もしくは三重結合とともに１個もしくはそれ以上のカル ボニル基、カルボン酸基、カルボキシレート基、酸無水物基、酸アミド基、酸イ ミド基、カルボン酸エステル基、アミノ基、ヒドロキシル基、エポキシ基、オキ サゾリン基、ウレタン基、尿素原子、ラクタム基もしくはハロゲン化ベンジル基 を有している反応性化合物と反応させることによって得られたポリアリーレンエ ーテルスルホンもしくは−ケトン又はランダム共重合体もしくはブロック共重合 体を含有している、請求項１記載のマイクロパウダー。 ３．本質的な成分として 繰返し単位ＩＩ： ５〜９５モル％及び 繰返し単位ＩＩＩ： ５〜９５モル％ を有するポリアリーレンエーテルスルホンを含有している、請求項１又は２記載 のマイクロパウダー。 ４．平均粒径１〜１００μｍである、請求項１から３までのいずれか１項に記 載のマイクロパウダー。 ５．ポリアリーレンエーテルスルホン溶液の噴霧乾燥によって得られ、この場 合、溶剤はＮ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド又はジメチルホルムア ミドである、請求項１から４までのいずれか１項に記載のマイクロパウダー。 ６．本質的な成分としてポリアリーレンエーテルスルホンもしくは−ケトンを 含有しているマイクロパウダーを製造する方法において、ポリアリーレンエーテ ルスルホンもしくは−ケトン溶液を噴霧乾燥することを特徴とする、マイクロパ ウダーの製法。 ７．水性分散液を製造するための、請求項１から６までのいずれか１項に記載 のマイクロパウダーの使用。 ８．水性分散液において、請求項１から７までのいずれか１項に記載のマイク ロパウダーを含有していることを特徴とする水性分散液。 ９．被覆において、請求項８記載の水性分散液を使用することによって得られ ていることを特徴とする被覆。