JPH0850740A - 光ディスク原盤の現像方法及び装置 - Google Patents
光ディスク原盤の現像方法及び装置Info
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- JPH0850740A JPH0850740A JP18368394A JP18368394A JPH0850740A JP H0850740 A JPH0850740 A JP H0850740A JP 18368394 A JP18368394 A JP 18368394A JP 18368394 A JP18368394 A JP 18368394A JP H0850740 A JPH0850740 A JP H0850740A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザー光の光路中に浮遊するミスト状の現
像液や現像液面のゆらぎを除去して正確に現像停止位置
を検出することのできる現像方法及び装置を提供する。 【構成】 原盤の回転中心軸を重力方向に対して所定角
度傾斜させて前記原盤を回転させつつ、所定量の現像液
を収容した容器に前記原盤の一部を浸漬させて現像さ
せ、かつ前記原盤の現像液に浸漬していない部分にレー
ザー光を入射させ、現像の進行に応じて生じる該レーザ
ー光の回折光を検出し、前記検出された回折光の強度比
が所定の値に達したとき前記フォトレジスト膜と前記現
像液との接触を停止することを特徴とする現像方法及び
装置。
像液や現像液面のゆらぎを除去して正確に現像停止位置
を検出することのできる現像方法及び装置を提供する。 【構成】 原盤の回転中心軸を重力方向に対して所定角
度傾斜させて前記原盤を回転させつつ、所定量の現像液
を収容した容器に前記原盤の一部を浸漬させて現像さ
せ、かつ前記原盤の現像液に浸漬していない部分にレー
ザー光を入射させ、現像の進行に応じて生じる該レーザ
ー光の回折光を検出し、前記検出された回折光の強度比
が所定の値に達したとき前記フォトレジスト膜と前記現
像液との接触を停止することを特徴とする現像方法及び
装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスク原盤の現像方
法および装置に関するものである。
法および装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ＣＤ（コンパクトディスク）や
光磁気ディスク等の製造においては、まずガラス等より
なる基盤上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト
膜を形成し、このフォトレジスト膜に所定の記録情報等
に対応したピットやトラック位置間のグルーブを形成す
るためにカッティングマシン等の光学的記録装置により
光ビームを照射して潜像を形成した後、これを現像処理
してフォトレジスト膜に記録情報またはアドレス情報に
対応したパターンのピットやトラック位置制御用のグル
ーブを形成することによって光ディスク原盤を作成す
る。
光磁気ディスク等の製造においては、まずガラス等より
なる基盤上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト
膜を形成し、このフォトレジスト膜に所定の記録情報等
に対応したピットやトラック位置間のグルーブを形成す
るためにカッティングマシン等の光学的記録装置により
光ビームを照射して潜像を形成した後、これを現像処理
してフォトレジスト膜に記録情報またはアドレス情報に
対応したパターンのピットやトラック位置制御用のグル
ーブを形成することによって光ディスク原盤を作成す
る。
【０００３】そしてこの後、スパッタ法、蒸着法、無電
解メッキ法等の方法により光ディスク原盤上にニッケル
等の金属を被着させて導電化処理をし、更にスルファミ
ン酸ニッケル浴等で所定の厚さに金属層を被着させてス
タンパーを形成する。
解メッキ法等の方法により光ディスク原盤上にニッケル
等の金属を被着させて導電化処理をし、更にスルファミ
ン酸ニッケル浴等で所定の厚さに金属層を被着させてス
タンパーを形成する。
【０００４】次にこのスタンパーを基盤およびフォトレ
ジストから剥離して、そのスタンパーを使用して射出成
形法、２Ｐ法等により複製基板を形成する。この後、複
製基板に記録層、反射層、保護層等を被着させて光ディ
スクが形成される。
ジストから剥離して、そのスタンパーを使用して射出成
形法、２Ｐ法等により複製基板を形成する。この後、複
製基板に記録層、反射層、保護層等を被着させて光ディ
スクが形成される。
【０００５】このような光ディスク等の製造にあたっ
て、記録情報に対応するピットやトラック位置間のグル
ーブの形状を精度よく形成することが要求されている。
て、記録情報に対応するピットやトラック位置間のグル
ーブの形状を精度よく形成することが要求されている。
【０００６】そのために、従来は前記現像プロセスにお
いて、現像の進行をモニターして、現像処理時間を制御
することによって上述したようなピットまたはグルーブ
の形状を精度よく形成するようにしている。図２はこの
方式の現像方式を示すもので、まず、基盤１の裏面側は
ターンテーブル２上に、このターンテーブル２中に形成
したバキューム孔３からのバキューム吸引により吸着保
持されている。ここで、基盤１上にはフォトレジスト膜
４が均一に塗布されており、このフォトレジスト膜４に
は露光装置により情報ピットまたはグルーブが潜像とし
て記録されている。基盤１とフォトレジスト膜４から構
成された光ディスク原盤５の回転中心部の上方には、現
像液７をフォトレジスト膜４の表面に供給するノズル６
が設けられており、これにより、現像液７が光ディスク
原盤５に送出され、中間部に設けた電磁バルブ８によっ
てその流量が制御されるようになっている。
いて、現像の進行をモニターして、現像処理時間を制御
することによって上述したようなピットまたはグルーブ
の形状を精度よく形成するようにしている。図２はこの
方式の現像方式を示すもので、まず、基盤１の裏面側は
ターンテーブル２上に、このターンテーブル２中に形成
したバキューム孔３からのバキューム吸引により吸着保
持されている。ここで、基盤１上にはフォトレジスト膜
４が均一に塗布されており、このフォトレジスト膜４に
は露光装置により情報ピットまたはグルーブが潜像とし
て記録されている。基盤１とフォトレジスト膜４から構
成された光ディスク原盤５の回転中心部の上方には、現
像液７をフォトレジスト膜４の表面に供給するノズル６
が設けられており、これにより、現像液７が光ディスク
原盤５に送出され、中間部に設けた電磁バルブ８によっ
てその流量が制御されるようになっている。
【０００７】このような構成において、矢印Ａで示すよ
うに光ディスク原盤５の裏面側から、Ｈｅ−Ｎｅレーザ
ー等の光を照射すると、フォトレジスト膜４の表面に形
成されるピット列またはグルーブの規則性に対応する回
折光が生じる。この場合光ディスク原盤５の上方に、矢
印Ａ0 、Ａ1 、Ａ2 でそれぞれ示すように０次回折光、
１次回折光、２次回折光が出射される。１０、１１、１
２はそれぞれ０次光検出器、１次光検出器、２次光検出
器である。
うに光ディスク原盤５の裏面側から、Ｈｅ−Ｎｅレーザ
ー等の光を照射すると、フォトレジスト膜４の表面に形
成されるピット列またはグルーブの規則性に対応する回
折光が生じる。この場合光ディスク原盤５の上方に、矢
印Ａ0 、Ａ1 、Ａ2 でそれぞれ示すように０次回折光、
１次回折光、２次回折光が出射される。１０、１１、１
２はそれぞれ０次光検出器、１次光検出器、２次光検出
器である。
【０００８】この０次光光量Ｐ0 、１次光光量Ｐ1 、２
次光光量Ｐ2 より得られる比率Ｐ1／Ｐ0 およびＰ2 ／
Ｐ1 はピットまたはグルーブの幅および深さに依存して
変化するため、制御手段２０によってこれらの光量比を
計算して、幅または深さが規定値に達したときに電磁バ
ルブ８を制御して現像を終了させることによって、ピッ
トまたはグルーブの形状を制御することができる。
次光光量Ｐ2 より得られる比率Ｐ1／Ｐ0 およびＰ2 ／
Ｐ1 はピットまたはグルーブの幅および深さに依存して
変化するため、制御手段２０によってこれらの光量比を
計算して、幅または深さが規定値に達したときに電磁バ
ルブ８を制御して現像を終了させることによって、ピッ
トまたはグルーブの形状を制御することができる。
【０００９】ところが、図２に示したような従来方式の
場合、光ディスク原盤５が回転し、現像液７がフォトレ
ジスト膜４に吐出されている状態において、現像液の跳
ねによるミスト状の現像液がレーザー光路中に浮遊した
り、あるいはフォトレジスト膜４の表面の現像液面の波
立ちによるゆらぎ等によって、０次光、１次光および２
次光の出力に乱れ（脈動）が生じ、このために、現像停
止位置を検出する際に、誤差が生じ、ピットまたはグル
ーブの形状制御の精度に悪影響を及ぼすという問題があ
った。
場合、光ディスク原盤５が回転し、現像液７がフォトレ
ジスト膜４に吐出されている状態において、現像液の跳
ねによるミスト状の現像液がレーザー光路中に浮遊した
り、あるいはフォトレジスト膜４の表面の現像液面の波
立ちによるゆらぎ等によって、０次光、１次光および２
次光の出力に乱れ（脈動）が生じ、このために、現像停
止位置を検出する際に、誤差が生じ、ピットまたはグル
ーブの形状制御の精度に悪影響を及ぼすという問題があ
った。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の従来の
問題点を解決し、レーザー光の光路中に浮遊するミスト
状の現像液や現像液面のゆらぎを除去して正確に現像停
止位置を検出することのできる現像方法および装置を提
供することを目的としてなされたものである。
問題点を解決し、レーザー光の光路中に浮遊するミスト
状の現像液や現像液面のゆらぎを除去して正確に現像停
止位置を検出することのできる現像方法および装置を提
供することを目的としてなされたものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この目的のために、本発
明の現像方法は、露光処理された光ディスク原盤の回転
中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜させて、これを
回転させつつ、所定量の現像液を収容した容器にこの原
盤の一部を浸漬させて現像を進行させ、かつ現像液に浸
漬していない部分に所定の波長のレーザー光を照射し、
フォトレジスト膜のピットあるいはグルーブの形成によ
り回折されたレーザー光成分を検出し、この回折光の強
度の比が所定値に達したとき現像液の容器から引き上げ
てフォトレジスト膜と現像液との接触を中断して現像処
理を停止する構成としたものである。
明の現像方法は、露光処理された光ディスク原盤の回転
中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜させて、これを
回転させつつ、所定量の現像液を収容した容器にこの原
盤の一部を浸漬させて現像を進行させ、かつ現像液に浸
漬していない部分に所定の波長のレーザー光を照射し、
フォトレジスト膜のピットあるいはグルーブの形成によ
り回折されたレーザー光成分を検出し、この回折光の強
度の比が所定値に達したとき現像液の容器から引き上げ
てフォトレジスト膜と現像液との接触を中断して現像処
理を停止する構成としたものである。
【００１２】この方法を実施するための本発明装置は、
露光処理された光ディスク原盤を保持する保持手段と、
この原盤の回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜
させてこれを回転させるための回転駆動手段と、この原
盤を現像液に浸漬するための昇降手段と、所定量の現像
液を収容する容器と、その容器内の現像液の液温を所定
温度に設定する液温調整手段と、光ディスク原盤の現像
液に浸漬していない部分に所定の波長のレーザー光を照
射するレーザー光源と、フォトレジスト膜のピットまた
はグルーブにより回折されたレーザー光成分を検出して
これを電気信号に変換する光電変換器とを含んでおり、
この電気信号を検出して所定の値に達したときフォトレ
ジスト膜と現像液との接触を停止させるようになってい
る。
露光処理された光ディスク原盤を保持する保持手段と、
この原盤の回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜
させてこれを回転させるための回転駆動手段と、この原
盤を現像液に浸漬するための昇降手段と、所定量の現像
液を収容する容器と、その容器内の現像液の液温を所定
温度に設定する液温調整手段と、光ディスク原盤の現像
液に浸漬していない部分に所定の波長のレーザー光を照
射するレーザー光源と、フォトレジスト膜のピットまた
はグルーブにより回折されたレーザー光成分を検出して
これを電気信号に変換する光電変換器とを含んでおり、
この電気信号を検出して所定の値に達したときフォトレ
ジスト膜と現像液との接触を停止させるようになってい
る。
【００１３】
【作用】上記の本発明によれば、原盤を現像液に浸漬し
て現像しているために、従来のようにノズルから現像液
を吐出して原盤に供給することによって発生していた跳
ねによるミストが防止できる。しかも、原盤を回転させ
ながら現像液に浸漬させることによって原盤の現像液に
浸漬していない部分は現像液に一様に覆われる（濡れて
いる）ために、従来のように波立ちによる現像液面のゆ
らぎが防止でき、レーザー光の出力が安定して得られる
ので、ピットまたはグルーブの形状制御の精度を向上さ
せることができる。
て現像しているために、従来のようにノズルから現像液
を吐出して原盤に供給することによって発生していた跳
ねによるミストが防止できる。しかも、原盤を回転させ
ながら現像液に浸漬させることによって原盤の現像液に
浸漬していない部分は現像液に一様に覆われる（濡れて
いる）ために、従来のように波立ちによる現像液面のゆ
らぎが防止でき、レーザー光の出力が安定して得られる
ので、ピットまたはグルーブの形状制御の精度を向上さ
せることができる。
【００１４】
【実施例】本発明の一実施例を図１に基づいて説明す
る。まず、所定量の現像液７を収容した上方開口の容器
が設けられている。また、既にフォトレジスト塗布、露
光処理して潜像形成した光ディスク原盤５を保持手段２
により保持し、この回転中心軸を重力方向に対して所定
角度傾斜させて、これを回転駆動装置（図示せず）によ
り回転させる。この原盤５を回転させつつ、昇降手段
（図示せず）により前記の容器中に収容されている現像
液７に浸漬させることによって現像を行う。この現像の
進行中に、例えばヘリウム−ネオンチューブ等からなる
レーザー光源（図示せず）から発生されたレーザー光Ａ
を原盤の現像液に浸漬していない部分に照射する。フォ
トレジスト膜４の表面は現像が進行するにつれて、感光
された部分が現像液により溶解除去され、凹状のピット
またはグルーブが形成されてゆき、これによって前記レ
ーザー光Ａは回折され、矢印Ａ0 、Ａ1 、Ａ2 でそれぞ
れ示すように０次回折光、１次回折光、２次回折光が出
射される。これらの回折されたレーザー光の強度を検出
するため、所定の位置に、例えばフォトダイオード等か
らなる光電変換器１０、１１、１２が設けられている。
制御手段２０はこれらの光電変換器からの出力を検出計
算し、回折光の強度（または強度比）が所定の値に達し
たときフォトレジスト膜と現像液との接触を停止させる
ようになっている。
る。まず、所定量の現像液７を収容した上方開口の容器
が設けられている。また、既にフォトレジスト塗布、露
光処理して潜像形成した光ディスク原盤５を保持手段２
により保持し、この回転中心軸を重力方向に対して所定
角度傾斜させて、これを回転駆動装置（図示せず）によ
り回転させる。この原盤５を回転させつつ、昇降手段
（図示せず）により前記の容器中に収容されている現像
液７に浸漬させることによって現像を行う。この現像の
進行中に、例えばヘリウム−ネオンチューブ等からなる
レーザー光源（図示せず）から発生されたレーザー光Ａ
を原盤の現像液に浸漬していない部分に照射する。フォ
トレジスト膜４の表面は現像が進行するにつれて、感光
された部分が現像液により溶解除去され、凹状のピット
またはグルーブが形成されてゆき、これによって前記レ
ーザー光Ａは回折され、矢印Ａ0 、Ａ1 、Ａ2 でそれぞ
れ示すように０次回折光、１次回折光、２次回折光が出
射される。これらの回折されたレーザー光の強度を検出
するため、所定の位置に、例えばフォトダイオード等か
らなる光電変換器１０、１１、１２が設けられている。
制御手段２０はこれらの光電変換器からの出力を検出計
算し、回折光の強度（または強度比）が所定の値に達し
たときフォトレジスト膜と現像液との接触を停止させる
ようになっている。
【００１５】より具体的に説明する。まず、ガラス基盤
１に密着剤としてＨＭＤＳを塗布し、その上にポジ型フ
ォトレジストＡＺ１３５０（ヘキスト製）を１６００Å
の膜厚になるように塗布してフォトレジスト膜４を形成
し、熱処理した後、Ａｒ+ レーザー光を用いたレーザー
カッティングにより１．６μｍピッチのプリグルーブ部
を潜像として形成した光ディスク原盤５を用意した。現
像液７は上記ポジ型フォトレジスト用の現像液を現像
液：純水＝１：２の割合で希釈したものを、液温２３℃
に制御して用いた。
１に密着剤としてＨＭＤＳを塗布し、その上にポジ型フ
ォトレジストＡＺ１３５０（ヘキスト製）を１６００Å
の膜厚になるように塗布してフォトレジスト膜４を形成
し、熱処理した後、Ａｒ+ レーザー光を用いたレーザー
カッティングにより１．６μｍピッチのプリグルーブ部
を潜像として形成した光ディスク原盤５を用意した。現
像液７は上記ポジ型フォトレジスト用の現像液を現像
液：純水＝１：２の割合で希釈したものを、液温２３℃
に制御して用いた。
【００１６】実施例１ 前記のように潜像が形成された光ディスク原盤５を保持
手段２により保持し、原盤の回転中心軸を重力方向に対
して２０°傾斜させて、これを１００〜３００ｒｐｍで
回転させつつ、現像液に一部が浸漬していない状態にし
て現像を行った。現像の進行はヘリウム−ネオンレーザ
ーをＡとして用い、０次回折光および１次回折光の光量
を検出し、その強度比によりモニターした。それが所定
の値に達したときに光ディスク原盤５を現像液７から引
き上げ、直ちに純水によるリンスを２００秒間行った。
手段２により保持し、原盤の回転中心軸を重力方向に対
して２０°傾斜させて、これを１００〜３００ｒｐｍで
回転させつつ、現像液に一部が浸漬していない状態にし
て現像を行った。現像の進行はヘリウム−ネオンレーザ
ーをＡとして用い、０次回折光および１次回折光の光量
を検出し、その強度比によりモニターした。それが所定
の値に達したときに光ディスク原盤５を現像液７から引
き上げ、直ちに純水によるリンスを２００秒間行った。
【００１７】上記の工程を光ディスク原盤１０枚につい
て行い、この現像されたそれぞれの原盤について０次回
折光光量と１次回折光光量との強度比を測定し、その値
が上記の所定値に対して測定誤差範囲内にあるか否かで
判断したところ、すべて測定誤差範囲内であることがわ
かった。
て行い、この現像されたそれぞれの原盤について０次回
折光光量と１次回折光光量との強度比を測定し、その値
が上記の所定値に対して測定誤差範囲内にあるか否かで
判断したところ、すべて測定誤差範囲内であることがわ
かった。
【００１８】なお、設定条件は上記に限定されるもので
はなく、原盤の大きさ、フォトレジスト膜と現像液との
ぬれ性等に応じて適宜適正な値をとり得るものである。
はなく、原盤の大きさ、フォトレジスト膜と現像液との
ぬれ性等に応じて適宜適正な値をとり得るものである。
【００１９】実施例２ 実施例１において、まず現像液に原盤の全面を浸漬した
後に引き上げて、その一部が浸漬していない状態にして
現像を行った。それ以外は実施例１と同様に行った。
後に引き上げて、その一部が浸漬していない状態にして
現像を行った。それ以外は実施例１と同様に行った。
【００２０】上記の工程を光ディスク原盤１０枚につい
て行い、実施例１と同様に評価したところ、すべて測定
誤差範囲内であり、実施例１と同様の効果があるが、詳
細に比較すると、原盤内の形状のばらつきが実施例１よ
りも小さいことがわかった。
て行い、実施例１と同様に評価したところ、すべて測定
誤差範囲内であり、実施例１と同様の効果があるが、詳
細に比較すると、原盤内の形状のばらつきが実施例１よ
りも小さいことがわかった。
【００２１】まず現像液に原盤の全面を浸漬すること
で、現像液とのぬれ性が全面一様に確保されてから現像
が進行するためと推定される。
で、現像液とのぬれ性が全面一様に確保されてから現像
が進行するためと推定される。
【００２２】実施例３ 実施例１において、所定量の現像液を収容した容器に浸
漬する代わりに、スリット状に開口したノズルを原盤の
直径方向に配置し、そこから現像液を毎分１．０リット
ル供給しながら現像を行った。その他の条件は実施例１
と同じで、回折光の強度比が所定の値に達したときに、
現像液から純水供給に切り替えるように設定した。
漬する代わりに、スリット状に開口したノズルを原盤の
直径方向に配置し、そこから現像液を毎分１．０リット
ル供給しながら現像を行った。その他の条件は実施例１
と同じで、回折光の強度比が所定の値に達したときに、
現像液から純水供給に切り替えるように設定した。
【００２３】上記の工程を光ディスク原盤１０枚につい
て行い、実施例１と同様に評価したところ、すべて測定
誤差範囲内であり、実施例１と同様の効果があることが
わかった。
て行い、実施例１と同様に評価したところ、すべて測定
誤差範囲内であり、実施例１と同様の効果があることが
わかった。
【００２４】（比較例）同様に、前記のように潜像が形
成された光ディスク原盤５を従来の現像装置により現像
処理した。現像のモニターは前記実施例と同一条件で行
い、その評価も同様に行った。
成された光ディスク原盤５を従来の現像装置により現像
処理した。現像のモニターは前記実施例と同一条件で行
い、その評価も同様に行った。
【００２５】光ディスク原盤１０枚について行った結
果、そのうち４枚は上記の所定値に対して測定誤差以上
に偏差のある値になっていた。
果、そのうち４枚は上記の所定値に対して測定誤差以上
に偏差のある値になっていた。
【００２６】この原因は前述したように、従来方式の現
像の場合、光ディスク原盤が回転し、現像液がフォトレ
ジスト膜に吐出されている状態において、現像液の跳ね
によるミスト状の現像液がレーザー光路中に浮遊した
り、あるいはフォトレジスト膜の表面の現像液の波立ち
によるゆらぎ等によって、０次光、１次光、２次光の出
力に乱れ（脈動）が生じ、このために、現像停止位置を
検出する際に、誤差が生じ、グルーブの形状制御の精度
に悪影響を及ぼしたと考えられる。
像の場合、光ディスク原盤が回転し、現像液がフォトレ
ジスト膜に吐出されている状態において、現像液の跳ね
によるミスト状の現像液がレーザー光路中に浮遊した
り、あるいはフォトレジスト膜の表面の現像液の波立ち
によるゆらぎ等によって、０次光、１次光、２次光の出
力に乱れ（脈動）が生じ、このために、現像停止位置を
検出する際に、誤差が生じ、グルーブの形状制御の精度
に悪影響を及ぼしたと考えられる。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、光
ディスク原盤の製造にあたってピットまたはグルーブの
現像の制御性を従来に比べ格段に高めることができ、安
定したピット形状またはグルーブ形状の光ディスク原盤
を形成することができる。
ディスク原盤の製造にあたってピットまたはグルーブの
現像の制御性を従来に比べ格段に高めることができ、安
定したピット形状またはグルーブ形状の光ディスク原盤
を形成することができる。
【００２８】すなわち、光ディスク原盤の回転中心軸を
重力方向に対して所定角度傾斜させて、これを回転させ
つつ、所定量の現像液を収容した容器にこの原盤の一部
を浸漬させて現像を進行させ、かつ現像液に浸漬してい
ない部分に所定の波長のレーザー光を照射し、フォトレ
ジスト膜のピットまたはグルーブの形成により回折され
たレーザー光成分を検出し、この回折光の強度の比が所
定値に達したとき現像液の容器から引き上げてフォトレ
ジスト膜と現像液との接触を中断して現像処理を停止す
る構成とすることにより、現像液の跳ねによるミスト状
の現像液がレーザー光路中に浮遊することを防止し、ま
た現像液面の波立ちによるゆらぎを除去することで、正
確に現像停止位置を検出することができる。
重力方向に対して所定角度傾斜させて、これを回転させ
つつ、所定量の現像液を収容した容器にこの原盤の一部
を浸漬させて現像を進行させ、かつ現像液に浸漬してい
ない部分に所定の波長のレーザー光を照射し、フォトレ
ジスト膜のピットまたはグルーブの形成により回折され
たレーザー光成分を検出し、この回折光の強度の比が所
定値に達したとき現像液の容器から引き上げてフォトレ
ジスト膜と現像液との接触を中断して現像処理を停止す
る構成とすることにより、現像液の跳ねによるミスト状
の現像液がレーザー光路中に浮遊することを防止し、ま
た現像液面の波立ちによるゆらぎを除去することで、正
確に現像停止位置を検出することができる。
【図１】本発明の現像装置の一実施例を示す縦断正面
図。
図。
【図２】従来の現像装置を示す縦断正面図。
１ 基盤 ２ ターンテーブル（原盤保持手段） ３ バキューム孔 ４ フォトレジスト膜 ５ 光ディスク原盤 ６ ノズル ７ 現像液 ８ 電磁バルブ １０ ０次光検出器 １１ １次光検出器 １２ ２次光検出器 ２０ 制御手段
Claims (4)
- 【請求項１】 ガラス原盤上にフォトレジストを塗布し
てフォトレジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜に
光ビームを照射してピットまたはグルーブ形状に露光し
た後に、これを現像して光ディスク原盤を作成するよう
にした光ディスク原盤の製造装置において、前記原盤の
回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜させて前記
原盤を回転させつつ、所定量の現像液を収容した容器に
前記原盤の一部を浸漬させて現像させ、かつ前記原盤の
現像液に浸漬していない部分にレーザー光を入射させ、
現像の進行に応じて生じる該レーザー光の回折光を検出
し、前記検出された回折光の強度比が所定の値に達した
とき前記フォトレジスト膜と前記現像液との接触を停止
することを特徴とする現像方法。 - 【請求項２】 前記原盤の回転中心軸を重力方向に対し
て所定角度傾斜させて前記原盤を回転させつつ、所定量
の現像液を収容した容器に前記原盤の全部を一旦浸漬さ
せた後、引き上げて一部が浸漬していない状態で現像さ
せ、かつ前記原盤の現像液に浸漬していない部分にレー
ザー光を入射させ、現像の進行に応じて生じる該レーザ
ー光の回折光を検出し、前記検出された回折光の強度比
が所定の値に達したとき前記フォトレジスト膜と前記現
像液との接触を停止することを特徴とする請求項１記載
の現像方法。 - 【請求項３】 前記所定量の現像液を収容した容器に浸
漬する代わりに、スリット状に開口したノズルを前記原
盤の直径方向に対向して配置し、そこから現像液を供給
しながら現像を進行させ、かつ前記原盤の現像液を供給
している部分よりも上方部分にレーザー光を入射させ、
現像の進行に応じて生じる該レーザー光の回折光を検出
し、前記検出された回折光の強度比が所定の値に達した
とき前記現像液を純水に切り替えることを特徴とする請
求項１記載の現像方法。 - 【請求項４】 ガラス原盤上にフォトレジストを塗布し
てフォトレジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜に
光ビームを照射してピットまたはグルーブ形状に露光し
た後に、これを現像して光ディスク原盤を作成するよう
にした光ディスク原盤の製造装置において、前記原盤の
回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜させて前記
原盤を回転させつつ、所定量の現像液を収容した容器に
前記原盤の一部を浸漬させて現像させ、かつ前記原盤の
現像液に浸漬していない部分にレーザー光を入射させ、
現像の進行に応じて生じる該レーザー光の回折光を検出
し、前記検出された回折光の強度比が所定の値に達した
とき前記フォトレジスト膜と前記現像液との接触を停止
することを特徴とする現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18368394A JPH0850740A (ja) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | 光ディスク原盤の現像方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18368394A JPH0850740A (ja) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | 光ディスク原盤の現像方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0850740A true JPH0850740A (ja) | 1996-02-20 |
Family
ID=16140106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18368394A Pending JPH0850740A (ja) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | 光ディスク原盤の現像方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0850740A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020097425A (ko) * | 2001-06-21 | 2002-12-31 | 한국과학기술연구원 | 초저속 경사 회전 노광장치 |
-
1994
- 1994-08-04 JP JP18368394A patent/JPH0850740A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020097425A (ko) * | 2001-06-21 | 2002-12-31 | 한국과학기술연구원 | 초저속 경사 회전 노광장치 |
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