JPH0695401B2 - 光ディスクのスピン現像方法及び装置 - Google Patents
光ディスクのスピン現像方法及び装置Info
- Publication number
- JPH0695401B2 JPH0695401B2 JP59034283A JP3428384A JPH0695401B2 JP H0695401 B2 JPH0695401 B2 JP H0695401B2 JP 59034283 A JP59034283 A JP 59034283A JP 3428384 A JP3428384 A JP 3428384A JP H0695401 B2 JPH0695401 B2 JP H0695401B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developing
- resist
- developing solution
- spin
- supply
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は光デイスクの製造装置に係り、特にホトレジス
ト原盤に一定の断面形状の溝を安定に形成する光デイス
クのスピン現像方法及び装置に関するものである。
ト原盤に一定の断面形状の溝を安定に形成する光デイス
クのスピン現像方法及び装置に関するものである。
案内溝をそなえた光デイスクのホトレジスト原盤を形成
する場合、原盤を一定速度で回転させながら、所定の溝
間隔になるように記録用ヘッドと一定相対速度で移動さ
せ、ホトレジスト上に一定エネルギー密度の光を露光
し、これを現像することにより、案内溝を形成する。従
来においては一定温度、濃度の現像液中に一定時間浸漬
して現像する方法や、一定濃度、温度の現像液を、回転
原盤上にシヤワーするスピン現像法、あるいは第１図に
示すような現像の進行を溝による光の回折を利用してモ
ニターするモニタースピン現像装置がある。例えば、特
開昭58−169356号を参照。第１図において、１はガラス
板、２はホトレジスト膜、３は回転用モーター、４はモ
ニター用He−Neレーザ、５はミラー、6,7は第０次およ
び第１次回折光A,B用のホトデイテクター、8,9は増巾
器、10は演算器、11は基準電圧発生器、12はコンパレー
ター、13,14は現像液および現像停止液a,b用電磁弁、1
5,16はそれぞれのノズルである。ノズルは矢印に示す方
向に移動させることが出来る。現像の進行により、割算
器10の出力が基準レベルを越えると、電磁弁が働いて現
像液をストツプし現像停止液をシヤワーして現像を停止
させるようになつている。溝の形成にあたつて、ホトレ
ジストを底迄打抜く場合にはこの従来装置で十分である
が、ホトレジストの現像を途中で止める中間調現像によ
つて溝形成を行う場合、従来装置では溝深さにバラツキ
が出て、一定の深さの溝を作ることは困難である。これ
はホトレジストの深さ方向に対してはホトレジストが強
く感光しているために、露光、現像条件のわずかなバラ
ツキによつて現像量が大きく変わるためである。特にス
ピン現像の場合、デイスク半径方向で深さが大きく変化
する欠点があつた。
する場合、原盤を一定速度で回転させながら、所定の溝
間隔になるように記録用ヘッドと一定相対速度で移動さ
せ、ホトレジスト上に一定エネルギー密度の光を露光
し、これを現像することにより、案内溝を形成する。従
来においては一定温度、濃度の現像液中に一定時間浸漬
して現像する方法や、一定濃度、温度の現像液を、回転
原盤上にシヤワーするスピン現像法、あるいは第１図に
示すような現像の進行を溝による光の回折を利用してモ
ニターするモニタースピン現像装置がある。例えば、特
開昭58−169356号を参照。第１図において、１はガラス
板、２はホトレジスト膜、３は回転用モーター、４はモ
ニター用He−Neレーザ、５はミラー、6,7は第０次およ
び第１次回折光A,B用のホトデイテクター、8,9は増巾
器、10は演算器、11は基準電圧発生器、12はコンパレー
ター、13,14は現像液および現像停止液a,b用電磁弁、1
5,16はそれぞれのノズルである。ノズルは矢印に示す方
向に移動させることが出来る。現像の進行により、割算
器10の出力が基準レベルを越えると、電磁弁が働いて現
像液をストツプし現像停止液をシヤワーして現像を停止
させるようになつている。溝の形成にあたつて、ホトレ
ジストを底迄打抜く場合にはこの従来装置で十分である
が、ホトレジストの現像を途中で止める中間調現像によ
つて溝形成を行う場合、従来装置では溝深さにバラツキ
が出て、一定の深さの溝を作ることは困難である。これ
はホトレジストの深さ方向に対してはホトレジストが強
く感光しているために、露光、現像条件のわずかなバラ
ツキによつて現像量が大きく変わるためである。特にス
ピン現像の場合、デイスク半径方向で深さが大きく変化
する欠点があつた。
本発明の目的はこのような欠点を除去し、デイスク全面
にわたつて一定の深さの溝形成が可能な、ホトレジスト
原盤のスピン現像方法及び装置を提供することにある。
にわたつて一定の深さの溝形成が可能な、ホトレジスト
原盤のスピン現像方法及び装置を提供することにある。
本発明は、ディスク上への現像液の供給量がディスクの
回転中心からの距離にほぼ比例するようにしたことを特
徴とするものである。
回転中心からの距離にほぼ比例するようにしたことを特
徴とするものである。
ホトレジストの露光エネルギー密度が一定の場合、溝形
状、特に深さの一様性は現像の一様性に依存する。スピ
ン現像の場合、デイスクが回転しているため、デイスク
上の現像液は外側にすみやかに排出される。現像液にか
かる遠心力は注目点のデイスク回転中心からの距離に比
例する。デイスク上の注目点での現像力は、現像液の滞
留時間と、新鮮現像液の供給量に比例すると考えられ
る。滞留時間は現像液にかかる力、すなわち遠心力の逆
数に比例するため、注目点での新鮮現像液の供給量を注
目点の回転中心からの距離に比例するようにすれば、現
像力は回転中心からの距離によらず一定となることにな
る。
状、特に深さの一様性は現像の一様性に依存する。スピ
ン現像の場合、デイスクが回転しているため、デイスク
上の現像液は外側にすみやかに排出される。現像液にか
かる遠心力は注目点のデイスク回転中心からの距離に比
例する。デイスク上の注目点での現像力は、現像液の滞
留時間と、新鮮現像液の供給量に比例すると考えられ
る。滞留時間は現像液にかかる力、すなわち遠心力の逆
数に比例するため、注目点での新鮮現像液の供給量を注
目点の回転中心からの距離に比例するようにすれば、現
像力は回転中心からの距離によらず一定となることにな
る。
以下、本発明の一実施例を第２図により説明する。第２
図は本発明によるスピン現像装置のノズル部分を示す図
であり、他の構成は第１図と同じである。ガラス板１上
に塗布されたホストレジスト２上に多孔ノズル17から現
像液が各孔18を通つて流下するようになつている。ガラ
ス板はモータ３により回転する。孔18の位置の回転中心
からの距離をγとすると、孔18の面積Ｓ（γ）はγに比
例するようにし、孔からの流下量がγに比例するように
している。従つて各孔の面積は異つている。この場合、
各孔には現像液の動圧がなるべくかからないように、静
圧が孔からの流出量を決めるようにノズル内の空間部分
19を広くとる必要がある。そうしないと、流下量は孔面
積に比例しなくなる。例としてあげれば、記録径がφ13
5mmからφ280mmの場合、最外孔径2mmで、6mmピツチに計
16個の孔をあけたノズルで、全流量約1.2／分で一様
な結果が得られた。
図は本発明によるスピン現像装置のノズル部分を示す図
であり、他の構成は第１図と同じである。ガラス板１上
に塗布されたホストレジスト２上に多孔ノズル17から現
像液が各孔18を通つて流下するようになつている。ガラ
ス板はモータ３により回転する。孔18の位置の回転中心
からの距離をγとすると、孔18の面積Ｓ（γ）はγに比
例するようにし、孔からの流下量がγに比例するように
している。従つて各孔の面積は異つている。この場合、
各孔には現像液の動圧がなるべくかからないように、静
圧が孔からの流出量を決めるようにノズル内の空間部分
19を広くとる必要がある。そうしないと、流下量は孔面
積に比例しなくなる。例としてあげれば、記録径がφ13
5mmからφ280mmの場合、最外孔径2mmで、6mmピツチに計
16個の孔をあけたノズルで、全流量約1.2／分で一様
な結果が得られた。
第３図は本発明の別の実施例を示す図である。第２図と
同様にノズル部分のみを示す。本実施例ではノズルの空
間部分を狭くして、現像液の動圧が孔にかかり、流出量
を決める例を示している。この場合、孔21からの流出量
は孔の面積に必ずしも比例しない。従つてここでは例と
して数値をあげると、最外孔径2mmで6mmピツチに計16個
の孔をその径が孔の回転中心からの距離に比例するよう
にあけ、空間の断面径4mmとしたときに、全流量を約1.2
／分とすると一様な結果が得られた。いずれにして
も、新規現像液の流下供給量が回転中心からの距離に比
例するようにすればよい。
同様にノズル部分のみを示す。本実施例ではノズルの空
間部分を狭くして、現像液の動圧が孔にかかり、流出量
を決める例を示している。この場合、孔21からの流出量
は孔の面積に必ずしも比例しない。従つてここでは例と
して数値をあげると、最外孔径2mmで6mmピツチに計16個
の孔をその径が孔の回転中心からの距離に比例するよう
にあけ、空間の断面径4mmとしたときに、全流量を約1.2
／分とすると一様な結果が得られた。いずれにして
も、新規現像液の流下供給量が回転中心からの距離に比
例するようにすればよい。
第４図は本発明の別の実施例を示す図である。
本実施例では現像液ノズル23を１個とし、このノズルを
デイスク半径方向にスキヤンすることにより、時間平均
的にみて、ノズルの回転中心からの距離γにおける平均
滞留時間が距離γに比例するようしている。現像時間を
60秒程度とすると、半径方向のスキヤンくり返し回数は
30回程度は必要である。第２図〜第４図の実施例におい
ては煩雑さをさけるために図示しなかつたが、第１図と
同様に構成にして、現像の進行をモニターすることによ
り、更に安定に一定深さの溝を形成することが出来る。
デイスク半径方向にスキヤンすることにより、時間平均
的にみて、ノズルの回転中心からの距離γにおける平均
滞留時間が距離γに比例するようしている。現像時間を
60秒程度とすると、半径方向のスキヤンくり返し回数は
30回程度は必要である。第２図〜第４図の実施例におい
ては煩雑さをさけるために図示しなかつたが、第１図と
同様に構成にして、現像の進行をモニターすることによ
り、更に安定に一定深さの溝を形成することが出来る。
以上、本発明によれば、デイスク全面にわたり安定に所
定断面形状の溝を形成することが可能となり、信頼性の
高い原盤作製が可能となる。従つて、光デイスクにとつ
て最適な形状の溝が形成でき、記録再生ヘツドの位置決
めが安定となり、信頼性の高いデータの記録が可能とな
る効果がある。また生産面でみると、原盤作製の歩留り
が向上し、コスト低下の効果も得られる。
定断面形状の溝を形成することが可能となり、信頼性の
高い原盤作製が可能となる。従つて、光デイスクにとつ
て最適な形状の溝が形成でき、記録再生ヘツドの位置決
めが安定となり、信頼性の高いデータの記録が可能とな
る効果がある。また生産面でみると、原盤作製の歩留り
が向上し、コスト低下の効果も得られる。
第１図は従来のモニタースピン現像装置の概略を示す
図、第２図〜第４図は本発明の実施例を示す図であり、
スピン現像装置のノズル部分を示している。
図、第２図〜第４図は本発明の実施例を示す図であり、
スピン現像装置のノズル部分を示している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長手 弘 大阪府茨木市丑寅１丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 渡辺 均 大阪府茨木市丑寅１丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−78342（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−110933（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−102123（ＪＰ，Ａ)
Claims (8)
- 【請求項１】所望のパターンを露光したレジスト付ディ
スク板を回転させながら、該レジスト上へ現像液を供給
してパターンを現像するスピン現像方法であって、前記
現像液のレジストへの供給量が前記ディスク板の回転中
心からの距離に比例するようにしたことを特徴とする光
ディスクのスピン現像方法。 - 【請求項２】前記レジスト付ディスク板へレーザ光をほ
ぼ垂直に入射させ、その透過光と１次回折光の強度比を
検出し、該強度比が所定の大きさに達したときに前記現
像液の供給を停止するとともに、現像停止液を供給して
現像を停止させることを特徴とする特許請求の範囲第１
項に記載の光ディスクのスピン現像方法。 - 【請求項３】前記現像液を前記レジスト上へ供給するた
めに前記ディスク板の半径方向に配列した複数の吐出口
を有するノズルを用い、各吐出口からの前記現像液の供
給量を前記ディスク板の回転中心から各吐出口の位置ま
での距離に比例するようにしたことを特徴とする特許請
求の範囲第１項又は第２項に記載の光ディスクのスピン
現像方法。 - 【請求項４】前記現像液を前記レジスト上へ供給するた
めに前記現像液の吐出口を前記ディスク板の半径方向に
走査し、該吐出口から供給された前記現像液が前記レジ
スト上に滞在する平均時間が前記ディスク板の回転中心
からの距離に比例するようにしたことを特徴とする特許
請求の範囲第１項又は第２項に記載の光ディスクのスピ
ン現像方法。 - 【請求項５】所望のパターンを露光したレジスト付ディ
スク板を回転させる回転手段と、回転している前記ディ
スク板の前記レジスト上へ現像液を供給する現像液供給
手段とを備え、前記現像液供給手段から前記レジスト上
へ供給される前記現像液の供給量が前記ディスク板の回
転中心からの距離に比例するように前記現像供給手段を
構成したことを特徴とする光ディスクのスピン現像装
置。 - 【請求項６】前記ディスク板へレーザ光をほぼ垂直に照
射する照射手段と、前記ディスク板へ照射したレーザ光
の透過光と１次回折光の強度比を検出する検出手段と、
該強度比が所定の大きさに達したときに、前記現像液の
前記レジスト上への供給を停止するように前記現像供給
手段を制御するとともに、現像停止液が前記レジスト上
へ供給されるように現像停止液供給手段を制御する手段
とを有することを特徴とする特許請求の範囲第５項に記
載の光ディスクのスピン現像装置。 - 【請求項７】前記現像供給手段は、前記ディスク板の半
径方向に配列した複数の吐出口を有するノズルを備え、
各吐出口からの前記現像液の供給量が前記ディスク板の
回転中心から各吐出口の位置までの距離に比例するよう
にしたことを特徴とする特許請求の範囲第５項又は第６
項に記載の光ディスクのスピン現像装置。 - 【請求項８】前記現像供給手段は、前記現像液を前記レ
ジスト上へ吐出するノズルを前記ディスク板の半径方向
に走査する手段を備え、該ノズルから供給された前記現
像液の前記レジスト上に滞在する平均時間が前記ディス
ク板の回転中心からの距離に比例するようにしたことを
特徴とする特許請求の範囲第５項又は第６項に記載の光
ディスクのスピン現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59034283A JPH0695401B2 (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 光ディスクのスピン現像方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59034283A JPH0695401B2 (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 光ディスクのスピン現像方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60179957A JPS60179957A (ja) | 1985-09-13 |
| JPH0695401B2 true JPH0695401B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=12409828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59034283A Expired - Lifetime JPH0695401B2 (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 光ディスクのスピン現像方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695401B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3588568B2 (ja) * | 1998-08-19 | 2004-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像装置 |
| JP3526266B2 (ja) * | 2000-10-12 | 2004-05-10 | 沖電気工業株式会社 | フォトレジスト現像ノズル、フォトレジスト現像装置、およびフォトレジスト現像方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54102123A (en) * | 1978-01-27 | 1979-08-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Developing method |
| JPS56110933A (en) * | 1980-01-25 | 1981-09-02 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Developing method |
| JPS5817444A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Hitachi Ltd | フオトレジスト現像装置 |
| JPS5963726A (ja) * | 1982-10-05 | 1984-04-11 | Toshiba Corp | ホトレジスト現像装置 |
| JPS5978342A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-07 | Fujitsu Ltd | レジスト膜の現像方法 |
| JPS60103830U (ja) * | 1983-12-20 | 1985-07-15 | 株式会社東芝 | 回転現像装置 |
-
1984
- 1984-02-27 JP JP59034283A patent/JPH0695401B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60179957A (ja) | 1985-09-13 |
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