JPH08507727A - ヒートモード記録材料及びそれを用いたリス印刷乾版の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、インク受容性表面を有するか又はインク受容性層を塗布された支持体上に、光を熱に変換することができる物質及び厚さが３μｍ以下の硬膜親水性表面層を有する、記録速度の速いヒートモード記録材料を提供する。さらにそれを用いて高品質の印刷乾版を製造する方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】 ヒートモード記録材料及びそれを用いたリス印刷乾版の製造法 １．発明の分野 本発明はリス印刷（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）で用いる ためのリス乾版を製造するためのヒートモード記録材料に関する。本発明はさら に、例えばレーザーを用い、該ヒートモード記録材料を画像形成（ｉｍａｇｉｎ ｇ）するための方法に関する。 ２．発明の背景 リス印刷は、そのいくらかの領域がインクを受容することができ（疎水性領域 ）、他の領域がインクを受容しない（親水性領域）特別に製造された表面からの 印刷の方法である。いわゆるコンベンショナル又は湿印刷乾版に従うと、水又は 水性給湿液及びインクの両方が親水性及び疎水性領域を含む乾版表面に適用され る。親水性領域は水又は給湿液に浸漬され、それにより疎油性となるが、疎水性 領域はインクを受容する。 油性インクを用いた印刷のための直接オフセットマスター（ｄｉｒｅｃｔ ｏ ｆｆｓｅｔ ｍａｓｔｅｒ）としてレーザーヒートモード記録材料が用いられる 場合、画像及び非画像領域の疎水性−親水性マッピング（ｍａｐｐｉｎｇ）を有 することが必要である。ヒートモードレーザーアブレーションの場合、親水性又 は疎水性上塗りを完全に画像通りに除去し、下にあるレーザー感受性記録材料の それぞれ疎水性又は親水性表面を露出し、画像及び非画像領域の間のインク−受 容性における必要な差を得ることも必要である。 例えばＤＥ−Ａ−２４４８３２５は、例えば親水性表面層を備えたポリエステ ルフィルム支持体を含むレーザーヒートモード「直接ネガ（ｄｉｒｅｃｔ ｎｅ ｇａｔｉｖｅ）」印刷乾版を開示している。開示されているヒートモード記録材 料はアルゴンレーザーを用いて画像形成され、それにより露光領域が疎水性とさ れる。かくしてさらに処理することなく印刷機（ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｒｅｓｓ ）上で用いることができるオフセット印刷乾版が得られる。乾版は、露光された 記録材料の領域がインク受容性とされるので、「直接ネガ」乾版と呼ばれる。 ＤＥ−Ａ−２４４８３２５における他の開示は、例えば水溶性レーザー光（ア ルゴン−４８８ｎｍ）吸収色素又は親水性ポリマーとレーザー光吸収色素（アル ゴン−４８８ｎｍ）の混合物に基づくコーティングを塗布した親水性アルミニウ ム支持体を含む「直接ネガ」印刷乾版に関する。「直接ネガ」印刷乾版の製造の ためのヒートモード記録材料に関する他の例は、例えばＵＳ−Ａ−４０３４１１ ８３、ＤＥ−Ａ−２６０７２０７、ＤＤ−Ａ−２１３５３０、ＤＤ−Ａ−２１７ ６４５及びＤＤ−Ａ−２１７９１４を含む。これらの文献は陽極酸化アルミニウ ム支持体上に親水性層を有するヒートモード記録材料を開示している。開示され ているヒートモード記録材料はレーザーを用いて画像通りに露光される。レーザ ー露光により露光された領域は不溶性及びインク受容性とされるが非露光画像部 分は親水性及び水溶性のまま残り、印刷の間に給湿液により除去することができ 、親水性支持体が露出される。そのような乾版は処理することなく印刷機上で直 接用いることができる。 ＤＤ−Ａ−１５５４０７は、親水性酸化アルミニウム層が直接レーザーヒート モード画像形成により親油性とされるレーザーヒートモード「直 接ネガ」印刷乾版を開示している。これらの印刷乾版もさらに処理することなく 印刷機上で用いることができる。 上記から、レーザーヒートモード記録による「直接ネガ」オフセット印刷乾版 の製造のための多くの提案が成されたことがわかる。それらは遅い記録速度、及 び／又は得られる乾版の品質が悪いなどの欠点を有する。 ３．発明の概要 本発明に従えば、目的は高品質のネガ作用（ｎｅｇａｔｉｖｅ ｗｏｒｋｉｎ ｇ）リス印刷乾版の製造のための、代替えとなる高感度のヒートモード記録材料 の提供である。 生態学的理由から、本発明の他の目的はこの高品質のリス印刷乾版を好ましく は本質的に乾燥条件下の、又は淡水（ｐｌａｉｎ ｗａｔｅｒ）を用いた現像に より、あるいは画像形成未処理乾版を直接印刷機上で用いることにより得られる ことであり、これらの処理法は「生態学的処理（ｅｃｏｌｏｇｉｃａｌ ｐｒｏ ｃｅｓｓｉｎｇ）」と呼ばれる。 本発明のさらに別の目的は後文の説明から明らかになるであろう。 本発明に従えば、インク受容性表面を有するか、又はインク受容性層が塗布さ れた支持体上に、光を熱に変換することができる物質及び厚さが３μｍ以下であ る硬膜親水性表面層を有するヒートモード記録材料が提供される。 本発明に従えば、 −インク受容性表面を有するか又はインク受容性層が塗布された支持体上に、光 を熱に変換することができる物質及び厚さが３μｍ以下である硬膜親水性表面層 を有するヒートモード記録材料を画像通りに露光し、 −続いてかくして得られる画像通りに露光されたヒートモード記録材料の本質的 に乾燥条件下における摩擦により、あるいは水又は水溶液を用いることにより該 硬膜親水性表面層を露光領域ににおいて除去する 段階を含むリス印刷乾版の製造のための方法が提供される。 ４．発明の詳細な記述 本発明に従えば、より生態学的に許容し得る方法で、記録速度が速く、高い印 刷耐久性、高い鮮鋭さ、優れたコントラスト及び優れた解像度を与えるネガ作用 リス印刷乾版が得られることが見いだされた。 本発明のオフセットを得るために、親水性表面層の厚さは３μｍ以下、好まし くは１μｍ以下であることが重要である。親水性表面層の厚さが３μｍより厚く なると、記録速度が遅く、品質の悪い印刷乾版を与えるヒートモード記録材料が 得られるであろう。表面層の最小の厚さは特に重要ではないが、０．０５μｍよ り厚いのが好ましい。親水性表面層の厚さに関する特に興味深い範囲は０．０５ μｍ〜０．５μｍである。 優れたリス印刷性を得るために、特に優れた印刷耐久性を得るために、親水性 表面層は硬膜されていることも必要である。 本発明の好ましい方法に従うと、ヒートモード記録材料はレーザーを用いて画 像通りに露光される。用いるのが好ましいレーザーは、例えば半導体レーザー、 ＹＡＧレーザー、例えばＮｄ−ＹＡＧレーザー、アルゴンレーザーなどである。 レーザーは４０ｍＷ〜１００００ｍＷの出力を有することができ、スペクトルの 赤外部分で作用するのが好ましい。 画像通りの露光に続いて親水性表面層を露光された画像領域において除去する 。除去は、例えばブラシ又は綿パッドを用いた、例えば摩擦により行うことがで きる。そのような摩擦はＵＳ−Ｐ−５．１４８．７４ ６に記載の通り画像通りの露光の間に行うことができる。ヒートモード記録材料 の摩擦は、本質的に乾燥条件下で液体の不在下で行うのが好ましい。しかし淡水 又は水に基づく現像薬も用いることができる。画像形成領域上の親水性表面層の 除去はさらに、淡水又は水に基づく現像薬中に浸した画像形成記録材料の超音波 処理により、淡水又は水に基づく現像薬の加圧ジェットを用いて行うことができ る。露光領域の除去は、乾版を印刷機上に直接載せ、印刷機の始動の間に給湿液 で露光領域において親水性表面層を溶解し、除去することによっても行うことが できる。 光を熱に変換することができる物質が、支持体及び／又は支持体と硬膜親水性 表面層の間に備えられた別の記録層に存在しなければならない。そのような別の 記録層の厚さは広い範囲にわたって変化することができる。しかしそのような記 録層の厚さが３μｍより厚くなった場合、画像通りの露光は硬膜親水性表面層を 介して行わなければならない。この場合、そのような記録層と硬膜親水性表面層 の間に追加の層が含まれないか、あるいはそのような追加の層の厚さを好ましく は０．５μｍ以下の最小に保つのも好ましい。さらに厚さが３μｍより厚い記録 層を用いる場合、そのような層はインク受容性でなければならない。 他方、記録層の厚さが３μｍ未満の場合、露光は、透明なら支持体を介して、 あるいは硬膜親水性層を介して行うことができる。さらにこの場合一般に、下に ある表面又は層がインク受容性であり、露光領域において親水性表面層と一緒に 記録層の全体的除去が可能であれば、記録層はインク受容性である必要はない。 いずれの場合も、記録層の厚さにかかわらず、硬膜親水性表面層を介しての露 光により得られる印刷乾版は、より優れた解像度及び鮮鋭さを 有することが見いだされたので、この方法が好ましい。 本発明の好ましい実施態様に従うと、厚さが０．０１μｍ〜３０μｍの記録層 が用いられる。 本発明に関連して用いることができる光を熱に変換することができる物質の例 は、例えばカーボンブラック、赤外もしくは近赤外吸収色素又は顔料、Ｂｉ、Ｓ ｎ、Ｔｅなどの金属、あるいはこれらの組み合わせである。適した赤外色素は例 えばＵＳ−４８３３１２４、ＥＰ−３２１９２３、ＵＳ−４７７４５８３、ＵＳ −４９４２１４１、ＵＳ−４９４８７７６、ＵＳ−４９４８７７７、ＵＳ−４９ ４８７７８、ＵＳ−４９５０６３９、ＵＳ−４９５０６４０、ＵＳ−４９５８５ ５２、ＵＳ−５０２４９９０、ＵＳ−５０２３２２９などに開示されている。適 した赤外顔料は例えばＨｅｕｂａｃｈ Ｌａｎｇｅｌｓｈｅｉｍから入手可能な ＨＥＵＣＯＤＯＲ金属酸化物顔料である。例えばビスマスなどの金属が熱変換物 質として用いられる場合、記録層は真空蒸着又は蒸着金属層であることが好まし い。 本発明の特定の実施態様に従うと、記録層は真空蒸着されたアルミニウム層で あることができる。しかしそのようなアルミニウム層の厚さは２５０Åより薄く なければならず、１００Å〜２２５Åがより好ましい。 しかし光を熱に変換することができる物質は結合剤中に溶解又は分散すること もできる。記録層のためのポリマー結合剤は疎水性が好ましく、例えばセルロー スエステル類、例えばセルロースアセテート、セルロースナイトレート、ビニリ デンクロリドとアクリロニトリルのコポリマー、ポリ（メタ）アクリレート、ポ リビニルクロリドなどが好ましい。記録層中のポリマー結合剤は感熱性であるの が好ましく、例えば硝酸エステ ル基を含むポリマー（例えばＧＢ−１３１６３９８及びＤＥ−Ａ−２５１２０３ ８に開示されている自己酸化結合剤セルロースナイトレート）、例えばカーボネ ート基を含むポリマー（例えばポリアルキレンカーボネート）、例えば共有結合 塩素を含むポリマー（例えばポリビニリデンクロリド）が好ましい。 本発明に関連して用いられるヒートモード記録材料のための適した支持体は、 疎水性（インク受容性）表面を有する非−金属性支持体、例えばポリエステルフ ィルム支持体、ポリエチレンなどのポリオレフィンを塗布した紙、ポリカーボネ ートフィルム、ポリスチレンフィルムなどが好ましい。しかし例えばアルミニウ ムなどの金属性支持体も本発明と関連して用いることができる。支持体の表面が 疎水性でないか、又は不十分な疎水性である場合、中間疎水性下塗りコーティン グを設け、その上に記録層を蒸着させることができる。別の場合記録層が同時に 疎水性層であることができる。 本発明に従い、記録層は可塑剤、架橋剤及び樹脂、記録層のアブレーションさ れた画像部分の靭性、印刷耐久性及び親油表面性を与えるための粒子状材料、例 えばポリエチレン又はフッ素化ポリマー分散体、湿潤剤、艶消剤、酸化防止剤な どの追加の物質を含むことができる。記録層はそれが結合剤を含む場合、硬膜さ れるのが好ましい。 任意の下塗り層の組成に関し、いずれのポリマー結合剤も、それにより記録層 と支持体の間の接着が強化されれば適している。下塗り層が熱に不安定な基（例 えば共有結合クロリド）を有するポリマーを記録層に隣接して含む場合、ＥＰ ９２２０１６３３．２に開示されている通り記録材料の速度を促進することがで きる。 本発明の最も好ましい実施態様に従うと、ヒートモード記録材料の画像形成は 親水性表面層を介して行われる。この方法で優れた画質（高い鮮鋭さ、優れたコ ントラスト、優れた解像度）及び向上した感度が得られる。 本発明と関連し、種々の硬膜親水性表面層が適している。親水性コーティング は、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシ−プロ ピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどを含む遊 離の反応性基を有する親水性結合剤を、例えば親水性有機チタン試薬、アルミノ ホルミルアセテート、ジメチロールウレア、メラミン、アルデヒド、加水分解テ トラアルキルオルトシリケートなどを含む適した架橋剤又は修飾剤と共に含む水 性組成物からキャストするのが好ましい。 親水性層のための適したポリマーはアラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉 誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそれらのＮａ塩、セルロースアセテー ト、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン− マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸 類及びそれらの塩、ヒドロキシ−エチレンポリマー類、ポリエチレングリコール 類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水 分解度が少なくとも６０重量％、好ましくは少なくとも８０重量％の加水分解ポ リビニルアセテートから成る群より選ばれることができる。 例えばＵＳ−Ｐ−３４７６９３７に開示されているようなポリビニルアルコー ル又は少なくとも６０重量％の程度まで加水分解されたポリビニルアセテートを 含み、テトラアルキルオルトシリケート、例えばテト ラエチルオルトシリケート又はテトラメチルオルトシリケートを用いて硬膜され た親水性層は、それらを本発明のヒートモード記録材料で用いると優れたリス印 刷性を生ずるので、特に好ましい。 さらに別の適した硬膜親水性表面層はＥＰ ９１２０１２２７．５に開示され ている。このＥＰ−出願に開示されている親水性層は、少なくとも１つの遊離の 水素を有するアミン又はアミド官能基を含む（コ）ポリマー（例えばアミノ修飾 デキストラン）及びアルデヒドの硬膜反応生成物を含む。 本発明に従うと、硬膜親水性表面層は例えば可塑剤、顔料、色素などの追加の 物質を含むことができる。硬膜親水性表面層は、親水性層の強度及び／又は親水 性を増すために例えばＴｉＯ₂又はコロイドシリカなどの粒子状材料も含むこと ができる。 ここで、以下の実施例を用いて本発明を例示するが、本発明をそれに制限する ものではない。他に特定しなければ、部はすべて重量による。 実施例１ ビニリデンクロリド（８８モル％）、メチルアクリレート（１０モル％）及び イタコン酸（２モル％）のコポリマーの層を１７０ｍｇ／ｍ²の量で備えたポリ エチレンテレフタレート支持体に、記録層としてビスマス層を、その光学濃度が ４．５となるように（約０．３０μｍの厚さ）真空蒸着した。 次いでこの記録層に、親水性層のための以下のコーティング分散液を塗布した ：脱イオン水中に２１．５％のＴｉＯ₂（平均粒径０．３〜０．５μｍ）及び２ ．５％のポリビニルアルコールを含む８２ｇの分散液に、撹拌しながら続いて６ ３９ｇの５％ポリビニルアルコール水溶液、７７ ｇの水中の加水分解２２％テトラメチルオルトシリケート乳液及び２２ｇの１０ ％湿潤剤溶液を加えた。次いでこの混合物に１８０ｇの脱イオン水を加え、ｐＨ をｐＨ＝４に調節した。コーティング分散液を記録層上に０．５μｍの乾燥厚さ まで塗布し、親水性表面層を得た。かくして得られる要素を３０℃で乾燥した後 、８０℃の温度に数時間供した。 かくして製造したヒートモード記録材料をＮｄ−ＹＬＦレーザー（１０５３ｎ ｍ）を用い、３２．８ｍ／ｓの線状筆記速度（ｌｉｎｅａｒ ｗｒｉｔｉｎｇ ｓｐｅｅｄ）で、１８μｍの点直径（１／ｅ２）、及び１６００ｍＷのヒート記 録材料の表面における出力を用い、親水性表面層を介して画像通りに露光した。 画像形成後、乾燥綿パッドを用いて摩擦することにより親水性表面層を画像通り に除去し、支持体の疎水性画像部分を露出した。形成された画像部分の光学濃度 は、４．５の光学濃度を有する非画像形成領域と比較して約０．０５に低下した 。画像形成及び非画像形成部分の間のこの光学濃度の差が乾版上の記録画像の視 覚による検査を可能にする。 かくして製造した印刷乾版を印刷機ＡＢＤｉｃｋ ３６０上に載せ、通常用い られるインク及び給湿溶液を用いた印刷に用いた。達成される画像通りの疎水性 −親水性の差は満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得られた。 実施例２ 実施例１に記載の画像形成されたヒートモード記録材料を実施例１に記載の通 りに画像通り露光し、淡水中で２分間超音波処理した。 かくして製造した印刷乾版を印刷機ＡＢＤｉｃｋ ３６０上に載せ、通常用い られるインク及び給湿溶液を用いた印刷に用いた。画像通りに 達成される疎水性−親水性の差は満足できるものであり、優れた品質の印刷コピ ーが得られた。 実施例３ 実施例１に記載の画像形成されたヒートモード記録材料を実施例１に記載の通 りに画像通りに露光し、次いでさらに処理することなく印刷機ＡＢＤｉｃｋ ３ ６０上に載せた。記録材料を用い、通常用いられるインク及び給湿溶液を用いて 印刷した。画像通りに達成される疎水性−親水性の差は満足できるものであり、 優れた品質の印刷コピーが得られた。 実施例４ ポリエチレンテレフタレート支持体に以下の組成を有する記録層のための分散 液を塗布した：９．５ｇの低分子量ニトロセルロースＥ３３０（１）、９．５ｇ のカーボンブラックＳｐｅｃｉａｌ Ｓｃｈｗａｒｚ ２５０、０．２ｇのＳｏ ｌｓｐｅｒｓｅ ５０００（２）、０．８ｇのＳｏｌｓｐｅｒｓｅ ２４０００ （３）、８０ｇのｎ−ブタノン。記録層を約２の光学濃度に対応する約０．５μ ｍの乾燥コーティング厚さまで適用した。 （１）Ｅ３３０は低分子量ニトロセルロース、供給者Ｗｏｌｆｆ Ｗａｌｓｒｏ ｄｅである。 （２）Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ５０００はＩＣＩからの分散剤である。 （３）Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ２４０００はＩＣＩからの分散剤である。 次いでこの記録層に親水性層のための実施例１からのコーティング分散液を０ ．５μｍの乾燥厚さまで塗布し、親水性表面層を得た。３０℃で乾燥した後、か くして得た要素を８０℃の温度に数時間供した。 かくして製造したヒートモード記録材料をＮｄ−ＹＬＦレーザー（１ ０５３ｎｍ）を用い、３２．８ｍ／ｓの線状筆記速度で、１８μｍの点直径（１ ／ｅ２）、及び１６００ｍＷのヒートモード記録材料の表面における出力を用い 、親水性表面層を介して画像通りに露光した。画像形成後、乾燥綿パッドを用い て摩擦することにより親水性表面層を画像通りに除去し、残った記録層の疎水性 画像部分を露出した。形成された画像部分の光学濃度は、４．５の光学濃度を有 する非画像形成領域と比較して約１に低下した。画像形成及び非画像形成部分の 間のこの光学濃度の差が乾版上の記録画像の視覚による検査を可能にする。 かくして製造した印刷乾版を印刷機ＡＢＤｉｃｋ ３６０上に載せ、通常用い られるインク及び給湿溶液を用いた印刷に用いた。達成される画像通りの疎水性 −親水性の差は満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得られた。 実施例５ ポリエチレンテレフタレート支持体に実施例４の組成に従う記録層のための分 散液を塗布した。記録層を＞５の光学濃度に対応する約６μｍの乾燥コーティン グ厚さまで適用した。 次いでこの記録層に親水性層のための実施例１からのコーティング分散液を０ ．５μｍの乾燥厚さまで塗布し、親水性表面層を得た。３０℃で乾燥した後、か くして得た要素を８０℃の温度に数時間供した。 かくして製造したヒートモード記録材料をＮｄ−ＹＬＦレーザー（１０５３ｎ ｍ）を用い、３２．８ｍ／ｓの線状筆記速度で、１８μの点直径（１／ｅ２）、 及び１６００ｍＷのヒートモード記録材料の表面における出力を用い、親水性表 面層を介して画像通りに露光した。画像形成後、乾燥綿パッドを用いて摩擦する ことにより親水性表面層を画像通り に除去し、残った記録層の疎水性画像部分を露出した。画像部分は非画像領域と 比較して低下した光学的反射率を示した。画像形成及び非画像形成部分の間のこ の光学的反射率の差が乾版上の記録画像の視覚による検査を可能にする。 かくして製造した印刷乾版を印刷機ＡＢＤｉｃｋ ３６０上に載せ、通常用い られるインク及び給湿溶液を用いた印刷に用いた。達成される画像通りの疎水性 −親水性の差は満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得られた。 実施例６ ポリエチレンテレフタレート支持体に実施例４の組成に従う記録層のための分 散液を塗布した。記録層を約２の光学濃度に対応する０．５μｍの乾燥コーティ ング厚さまで適用した。 次いでこの記録層に親水性表面層のための以下のコーティング組成物を塗布し た：適用の前に２％のカルボキシ−メチルセルロース（ＣＭＣ）の溶液に、水中 の加水分解２２％テトラメチルオルトシリケート乳液４．５ｇ、及び湿潤剤の１ ０％溶液２ｇを加えた。組成物のｐＨをｐＨ＝４に調節した。コーティング分散 液を記録層に０．５μｍの厚さまで塗布した。３０℃で乾燥した後、かくして得 られた要素を１３０℃の温度に５分間供した。湿った綿パッドで磨いた後、厚さ が＜０．５μｍの非常に強靭な親水性表面層が疎水性ニトロセルロース−カーボ ンブラックベース記録層の上に得られた。 かくして製造したヒートモード記録材料をＮｄ−ＹＬＦレーザー（１０５３ｎ ｍ）を用い、３２．８ｍ／ｓの線状筆記速度で、１８μの点直径（１／ｅ２）、 及び１６００ｍＷのヒートモード記録材料の表面にお ける出力を用い、親水性上層を介して画像通りに露光した。画像形成後、乾燥綿 パッドを用いて摩擦することにより親水性表面層を画像通りに除去し、残った記 録層の疎水性画像部分を露出した。画像形成部分の光学濃度は、２の光学濃度を 示す非画像形成領域と比較して約１であった。画像形成及び非画像形成部分の間 のこの光学濃度の差が乾版上の記録画像の視覚による検査を可能にする。 かくして製造した印刷乾版を印刷機ＡＢＤｉｃｋ ３６０上に載せ、通常用い られるインク及び給湿溶液を用いた印刷に用いた。達成される画像通りの疎水性 −親水性の差は満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得られた。 実施例７ 実施例４、５及び６に従って製造し、露光された画像形成ヒートモード記録材 料を淡水中で２分間超音波処理した。 かくして製造した印刷乾版を印刷機ＡＢＤｉｃｋ ３６０上に載せ、通常用い られるインク及び給湿溶液を用いた印刷に用いた。達成される画像通りの疎水性 −親水性の差は満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得られた。 実施例８ 実施例４、５及び６に従って製造し、露光された画像形成ヒートモード記録材 料をさらに処理することなく印刷機ＡＢＤｉｃｋ ３６０上に載せた。 記録材料を、通常用いられるインク及び給湿溶液を用いた印刷に用いた。達成 される画像通りの疎水性−親水性の差は満足できるものであり、優れた品質の印 刷コピーが得られた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 バン・デン・ベルグ，ルドルフ ベルギー・ビー―2640モルトセル・セプテ ストラート27・デイアイイー3800・アグフ ア―ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノ ートシヤツプ内 (72)発明者 ドウ・ムーテ，ステフアーン・カレル ベルギー・ビー―2640モルトセル・セプテ ストラート27・デイアイイー3800・アグフ ア―ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノ ートシヤツプ内 (72)発明者 ベルメールシユ，ジヨアン・トリフオン ベルギー・ビー―2640モルトセル・セプテ ストラート27・デイアイイー3800・アグフ ア―ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノ ートシヤツプ内

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．インク受容性表面を有するか又はインク受容性層が塗布された支持体上に、 光を熱に変換することができる物質及び厚さが３μｍ以下の硬膜親水性表面層を 有するヒートモード記録材料。 ２．光を熱に変換することができる該物質が該支持体と該硬膜親水性表面層の間 の別の記録層中に与えられる請求の範囲第１項に記載のヒートモード記録材料。 ３．該記録層が３μｍより厚く、インク受容性である請求の範囲第２項に記載の ヒートモード記録材料。 ４．該記録層が該硬膜親水性表面層に隣接しているか、又は該記録層と該硬膜親 水性表面層の間に厚さが０．５μｍ以下の中間層が設けられている請求の範囲第 ３項に記載のヒートモード記録材料。 ５．該記録層の厚さが３μｍ以下である請求の範囲第２項に記載のヒートモード 記録材料。 ６．該記録層が蒸着又は真空蒸着金属層である請求の範囲第５項に記載のヒート モード記録材料。 ７．該硬膜親水性表面層が親水性ポリマー及び加水分解テトラアルキルオルトシ リケートの反応生成物を含む請求の範囲第１〜６項のいずれかに記載のヒートモ ード記録材料。 ８．−インク受容性表面を有するか又はインク受容性層が塗布された支持体上に 、光を熱に変換することができる物質及び厚さが３μｍ以下である硬膜親水性表 面層を有するヒートモード記録材料を画像通りに露光し、 −続いてかくして得られる画像通りに露光されたヒートモード記録材料 の本質的に乾燥条件下における摩擦により、あるいは水又は水溶液を用いること により該硬膜親水性表面層を露光領域において除去する 段階を含むリス印刷乾版の製造方法。 ９．光を熱に変換することができる該物質が該支持体と該硬膜親水性表面層の間 の別の記録層中に与えられる請求の範囲第８項に記載の方法。 １０．該記録層が３μｍより厚く、インク受容性であり、画像通りの露光が該硬 膜親水性表面層を介して行われる請求の範囲第９項に記載の方法。