JPH0851012A - 酸化物磁性材料 - Google Patents

酸化物磁性材料

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JPH0851012A
JPH0851012A JP6204526A JP20452694A JPH0851012A JP H0851012 A JPH0851012 A JP H0851012A JP 6204526 A JP6204526 A JP 6204526A JP 20452694 A JP20452694 A JP 20452694A JP H0851012 A JPH0851012 A JP H0851012A
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JP
Japan
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mol
inductance
magnetic material
oxide magnetic
magnetic field
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Application number
JP6204526A
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English (en)
Inventor
Muneyuki Tanaka
宗幸 田中
Toshihiko Tanaka
俊彦 田中
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Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Ferrite Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 大きな外部応力に対してもインダクタンスの
変化が小さく、外部磁場印加後のインダクタンスの低下
の少ない酸化物磁性材料を提供する。 【構成】 Fe23 5〜24.5mol%、ZnO
0〜30mol%(但し、0mol%を含まない)、C
uO 0〜30mol%(但し、0mol%を含まな
い)、残部NiOからなることを特徴とする酸化物磁性
材料、またはこれにCo34 0〜0.5wt%、Si
2 0〜10wt%、Bi23 0〜10wt%のう
ち少なくとも一種を含有する酸化物磁性材料。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、PHS等の通信機器、
携帯型VTR等の回路に使用されるエポキシ樹脂等で外
装した構造を有するインダクター用の磁心材料となる酸
化物磁性材料に関するものである。
【0002】
【従来技術】このインダクターとしては、磁心に巻線を
施した後、樹脂等でモールドされる場合があり、このよ
うな場合、コアに加わる応力によってインダクタンスが
低下するという問題点、また外部から一時的に加わる磁
界によってインダクタンスが低下するという問題点があ
った。例えば、特開平3―93667号公報に示されて
いるように、25〜45mol%のFe23、0〜20
mol%のZnO、残りがNiOとCuOであり、Ni
Oのモル比がCuOのモル比よりも多いスピネル型組成
物であって、少量成分として0.1〜12wt%のBi
23及び0.05〜4.0wt%のSiO2を含む材料
が1MHz以上の高周波においても損失が少なく、かつ
外部からの加圧及び磁場印加に対するインダクタンスの
低下が少ない材料であることが提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この外部応力に対する
インダクタンスの変化、及び外部磁場印加後のインダク
タンスの低下に対して、更なる改良の要求があり、大き
な外部応力に対してもインダクタンスの変化が小さく、
外部磁場印加後のインダクタンスの低下の少ない酸化物
磁性材料を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、Fe23
〜24.5mol%、ZnO 0〜30mol%(但
し、0mol%を含まない)、CuO 0〜30mol
%(但し、0mol%を含まない)、残部NiOからな
る酸化物磁性材料である。また本発明は、上記材料に、
Co34 0〜0.5wt%、SiO2 0〜10wt
%、Bi23 0〜10wt%のうち少なくとも一種を
含有するものである。また本発明は、上記材料に、Al
23を0.1〜10mol%含有するものである。また
本発明は、上記材料に、PbOを0.5〜10wt%含
有するものである。
【0005】
【作用】本発明は、Fe23の含有量が24.5mol
%以下であることが、外部磁場印加後のインダクタンス
の低下が少ないことを見出したものである。本発明にお
いて、各成分を限定した理由は以下の通りである。Fe
23の含有量は、24.5mol%を越えると、磁場印
加後のインダクタンスの低下が大きくなり、5mol%
より少ないと、透磁率が1.5以下となり、磁性体とし
て役立たない。ZnOが30mol%を越えると、Qが
低くなり、実用的でない。CuOが30mol%を越え
ると、透磁率が焼成条件で敏感に変動し、特性の再現性
が悪い。SiO2は、10wt%を越えると焼結性が悪
くなり、製品の強度が低下する。Bi23は、10wt
%を越えると透磁率が大幅に低下する。Co34が0.
5wt%を越えると、磁場劣化が大きくなる。PbOは
焼結促進に有効であるが、10wt%を越えると透磁率
が大幅に低下する。
【0006】
【実施例】Fe23 24.5mol%、ZnO 7.
5wt%、CuO 2.5mol%、NiO 65.5
mol%の主成分に、SiO2 0.6wt%、Bi2
34.0wt%、Co34 0.1wt%を含有させた
原料を混合し、900℃で2時間仮焼した後、振動ミ
ル、アトライタで粉砕し、1.0〜1.5μmのフェラ
イト粉末を作成した。これを造粒し、30φのトロイダ
ル形状の成形体と、角棒(5×5×15mm)の成形体
を得た。これを大気中1050℃で2時間焼成し試料を
作成した。これを実姉例1とする。
【0007】焼成した30φのトロイダルコアは、透磁
率、Q、相対温度係数(αμr)、焼結密度の測定に用
いた。角棒は、2×2×10mmに加工し、消磁した
後、直径0.1mmの被膜導線を40ターン密巻に巻線
を施し、応力特性の測定を行った。この応力特性は、5
kg/mm2、10kg/mm2の圧力をかけて、圧力を
かける前のインダクタンスをL1とし、軸方向に上記の
荷重を加えた状態でインダクタンスを測定し、L2と
し、(L2―L1)/L1*100により変化率(%)
とした。また、磁場特性については、10kg/mm2
の荷重を加えた状態で100mTの磁界を瞬間的に加
え、外部磁界を取り去った後インダクタンスを測定し、
L3とし、(L3―L2)/L1*100により変化率
(%)とした。
【0008】また、表1に示す組成比にて、上記実施例
1と同様にして各試料を作成し、特性を評価した。各試
料の特性を表2に示す。
【0009】
【表1】
【0010】
【表2】
【0011】この表1、2からわかるとおり、本発明の
実姉例は、5kg/mm2での加圧特性では従来例と大
差ないが、10kg/mm2での加圧特性は従来例に比
較し大幅に改善されている。特に、磁場特性において、
従来例に比較し、大幅に改善されている。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、外部応力を受けたとき
にインダクタンスの変化が少なく、しかも外部磁界の影
響によるインダクタンスの低下が極めて少ない磁性材料
を得ることが出来る。これにより、チップインダクター
として用いられた場合、巻線後の樹脂モールドによる応
力に対してインダクタンスの変化が少なく、しかも自動
装着機などを使用した場合の磁石による吸着を受けた場
合のインダクタンスの低下の少ないチップインダクター
を得ることが出来、産業上有益である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 Fe23 5〜24.5mol%、Zn
    O 0〜30mol%(但し、0mol%を含まな
    い)、CuO 0〜30mol%(但し、0mol%を
    含まない)、残部NiOからなることを特徴とする酸化
    物磁性材料。
  2. 【請求項2】 請求項1において、Co34 0〜0.
    5wt%、SiO2 0〜10wt%、Bi23 0〜10wt%のうち少な
    くとも一種を含有することを特徴とする酸化物磁性材
    料。
  3. 【請求項3】 請求項2において、Al23を0.1〜
    10mol%含有することを特徴とする酸化物磁性材
    料。
  4. 【請求項4】 請求項2において、PbOを0.5〜1
    0wt%含有することを特徴とする酸化物磁性材料。
JP6204526A 1994-08-05 1994-08-05 酸化物磁性材料 Pending JPH0851012A (ja)

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