JPH0855601A - 誘導結合プラズマ分析装置用の試料導入装置 - Google Patents
誘導結合プラズマ分析装置用の試料導入装置Info
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- JPH0855601A JPH0855601A JP6189640A JP18964094A JPH0855601A JP H0855601 A JPH0855601 A JP H0855601A JP 6189640 A JP6189640 A JP 6189640A JP 18964094 A JP18964094 A JP 18964094A JP H0855601 A JPH0855601 A JP H0855601A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/08—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor using a stream of discrete samples flowing along a tube system, e.g. flow injection analysis
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
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- H—ELECTRICITY
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 試料容器と、洗浄液槽と、ノズルと、ノズル
を支持するアームと、アームを移動させる駆動装置と、
駆動装置を動かす時間を管理するタイマーを備え、試料
溶液を誘導結合プラズマ分析装置に導入する量を前ノズ
ルを試料溶液に浸す時間によって制御したことを特徴と
する誘導結合プラズマ分析装置用の試料導入装置。また
ノズルを試料溶液に浸すためにアームを動かしたタイミ
ングを基準にして、誘導結合プラズマ分析装置は一定の
時間後に得られる信号を試料溶液の信号として測定を行
った。 【効果】 本発明によると、分析に悪影響を及ぼすメモ
リー効果がない。また試料溶液の導入量の変更が、試料
溶液が通るチューブや継ぎ手等を作業者が触ることなく
容易に行えるとともに、本試料導入装置が外部の環境や
作業者自身によって汚染されることがない。さらに、確
実に測定すべき微量不純物を確実に検出することができ
る。
を支持するアームと、アームを移動させる駆動装置と、
駆動装置を動かす時間を管理するタイマーを備え、試料
溶液を誘導結合プラズマ分析装置に導入する量を前ノズ
ルを試料溶液に浸す時間によって制御したことを特徴と
する誘導結合プラズマ分析装置用の試料導入装置。また
ノズルを試料溶液に浸すためにアームを動かしたタイミ
ングを基準にして、誘導結合プラズマ分析装置は一定の
時間後に得られる信号を試料溶液の信号として測定を行
った。 【効果】 本発明によると、分析に悪影響を及ぼすメモ
リー効果がない。また試料溶液の導入量の変更が、試料
溶液が通るチューブや継ぎ手等を作業者が触ることなく
容易に行えるとともに、本試料導入装置が外部の環境や
作業者自身によって汚染されることがない。さらに、確
実に測定すべき微量不純物を確実に検出することができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料溶液中の微量不純
物元素の同定・定量を行う誘導結合プラズマ発光分光分
析装置（以下ＩＣＰ−ＡＥＳと呼ぶ）または誘導結合プ
ラズマ質量分析装置（以下ＩＣＰ−ＭＳと呼ぶ）に試料
溶液を導入する試料導入装置に関するものである。
物元素の同定・定量を行う誘導結合プラズマ発光分光分
析装置（以下ＩＣＰ−ＡＥＳと呼ぶ）または誘導結合プ
ラズマ質量分析装置（以下ＩＣＰ−ＭＳと呼ぶ）に試料
溶液を導入する試料導入装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の技術を図２を用いて説明する。図
２において、１は洗浄液、２は試料溶液、３ａおよび３
ｂは送液ポンプ、４ａ、４ｂおよび４ｃはチューブ、５
は六方バルブ、６はローター、７ａ、７ｂ、７ｃ、７
ｄ、７ｅ、７ｆは継ぎ手、８は試料ループ、９はネブラ
イザーである。
２において、１は洗浄液、２は試料溶液、３ａおよび３
ｂは送液ポンプ、４ａ、４ｂおよび４ｃはチューブ、５
は六方バルブ、６はローター、７ａ、７ｂ、７ｃ、７
ｄ、７ｅ、７ｆは継ぎ手、８は試料ループ、９はネブラ
イザーである。
【０００３】洗浄液１は送液ポンプ３ａおよびチューブ
４ａを通して六方バルブ５の継ぎ手７ａに達する。また
試料溶液２は送液ポンプ３ｂおよびチューブ４ｂを通し
て六方バルブ５の継ぎ手７ｂに達する。送液ポンプ３ａ
および３ｂは、ペリスタルティックポンプといった「し
ごき」型のポンプが使用される。洗浄液１をネブライザ
ー９に導くときは図２のように、洗浄液１は継ぎ手７ａ
から六方バルブ５およびローター６に開けられた穴をを
通して継ぎ手７ｆに至り、チューブ４ｃを通してネブラ
イザー９に達する。このとき試料溶液２は、継ぎ手７ｃ
から継ぎ手７ｂ、試料ループ８、継ぎ手７ｅ、継ぎ手７
ｄの順に流れて、試料ループ８内を試料溶液２で満た
す。試料溶液２の分析は、試料ループ８に満たされた試
料溶液を誘導結合プラズマ分析装置に導いて行う。この
ときはローター６が回転して、図３のように六方バルブ
５内で継ぎ手７ａと７ｂ、継ぎ手７ｃと７ｄおよび継ぎ
手７ｅと７ｆがつながる。そして試料ループ８内の試料
溶液は送液ポンプ３ａによって押し流されてネブライザ
ー９に至る。
４ａを通して六方バルブ５の継ぎ手７ａに達する。また
試料溶液２は送液ポンプ３ｂおよびチューブ４ｂを通し
て六方バルブ５の継ぎ手７ｂに達する。送液ポンプ３ａ
および３ｂは、ペリスタルティックポンプといった「し
ごき」型のポンプが使用される。洗浄液１をネブライザ
ー９に導くときは図２のように、洗浄液１は継ぎ手７ａ
から六方バルブ５およびローター６に開けられた穴をを
通して継ぎ手７ｆに至り、チューブ４ｃを通してネブラ
イザー９に達する。このとき試料溶液２は、継ぎ手７ｃ
から継ぎ手７ｂ、試料ループ８、継ぎ手７ｅ、継ぎ手７
ｄの順に流れて、試料ループ８内を試料溶液２で満た
す。試料溶液２の分析は、試料ループ８に満たされた試
料溶液を誘導結合プラズマ分析装置に導いて行う。この
ときはローター６が回転して、図３のように六方バルブ
５内で継ぎ手７ａと７ｂ、継ぎ手７ｃと７ｄおよび継ぎ
手７ｅと７ｆがつながる。そして試料ループ８内の試料
溶液は送液ポンプ３ａによって押し流されてネブライザ
ー９に至る。
【０００４】誘導結合プラズマ分析装置は、ネブライザ
ー９、スプレーチャンバー１０、プラズマトーチ１１、
ワークコイル１２、高周波電源１３、分析管１４で構成
される。ネブライザー９は、導かれた試料溶液２や洗浄
液１を霧状に噴霧する働きをしている。スプレーチャン
バー１０は、噴霧された霧の粒径を分級する働きをして
いる。ただし最近の誘導結合プラズマ分析装置では、ス
プレーチャンバー１０を省略してネブライザー９で発生
した霧を直接プラズマトーチに導くものもある。プラズ
マトーチ１１の先端にはワークコイル１２が巻かれてお
り、ワークコイル１２には高周波電源１３により２７Ｍ
Ｈｚや４０ＭＨｚの高周波電力が印加される。この高周
波電力により、プラズマトーチ１１に導入された試料溶
液２の霧は同時に導入されるアルゴン等のガス（図示せ
ず）と共にプラズマ１５となる。分析管１４はプラズマ
１５中の試料溶液中の不純物元素のイオンや光を分析す
るものである。分析管１４は、ＩＣＰ−ＡＥＳでは光の
波長から不純物元素の同定を行い強度から定量を行う、
ＩＣＰ−ＭＳではイオンの質量から不純物元素の同定を
行い強度（イオン計数率やカウント数）から定量を行
う。
ー９、スプレーチャンバー１０、プラズマトーチ１１、
ワークコイル１２、高周波電源１３、分析管１４で構成
される。ネブライザー９は、導かれた試料溶液２や洗浄
液１を霧状に噴霧する働きをしている。スプレーチャン
バー１０は、噴霧された霧の粒径を分級する働きをして
いる。ただし最近の誘導結合プラズマ分析装置では、ス
プレーチャンバー１０を省略してネブライザー９で発生
した霧を直接プラズマトーチに導くものもある。プラズ
マトーチ１１の先端にはワークコイル１２が巻かれてお
り、ワークコイル１２には高周波電源１３により２７Ｍ
Ｈｚや４０ＭＨｚの高周波電力が印加される。この高周
波電力により、プラズマトーチ１１に導入された試料溶
液２の霧は同時に導入されるアルゴン等のガス（図示せ
ず）と共にプラズマ１５となる。分析管１４はプラズマ
１５中の試料溶液中の不純物元素のイオンや光を分析す
るものである。分析管１４は、ＩＣＰ−ＡＥＳでは光の
波長から不純物元素の同定を行い強度から定量を行う、
ＩＣＰ−ＭＳではイオンの質量から不純物元素の同定を
行い強度（イオン計数率やカウント数）から定量を行
う。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし従来の技術には
次のような課題がある。第一はメモリー効果である。従
来の試料導入装置では、試料溶液は複数の継ぎ手や六方
バルブ内のローターの境を通過するが、継ぎ手やロータ
ーの境には液が滞留しやすい。そのため複数の試料溶液
を分析するときに滞留して残った試料溶液によって以後
の試料の分析結果に影響を及ぼしてしまう。この問題
は、ＩＣＰ−ＭＳのようにｐｐｔレベルの超高感度分析
を行う装置では特に重大である。第二に誘導結合プラズ
マ分析装置に導入する試料溶液の量の変更の問題であ
る。
次のような課題がある。第一はメモリー効果である。従
来の試料導入装置では、試料溶液は複数の継ぎ手や六方
バルブ内のローターの境を通過するが、継ぎ手やロータ
ーの境には液が滞留しやすい。そのため複数の試料溶液
を分析するときに滞留して残った試料溶液によって以後
の試料の分析結果に影響を及ぼしてしまう。この問題
は、ＩＣＰ−ＭＳのようにｐｐｔレベルの超高感度分析
を行う装置では特に重大である。第二に誘導結合プラズ
マ分析装置に導入する試料溶液の量の変更の問題であ
る。
【０００６】従来の試料導入装置では、導入する試料溶
液の量は試料ループを交換しなければならかった。この
作業は煩雑であるばかりでなく、作業によって試料導入
装置が外部の環境た作業者自身によって汚染してしまう
危険がある。本発明は以上のような課題を解決して、メ
モリー効果や汚染の心配がなく、しかも容易に誘導結合
プラズマ分析装置に導入する試料溶液量を変更できる試
料導入装置を提供するものである。また試料溶液中の微
量不純物の信号を確実に検出することのできる誘導結合
プラズマ分析装置用の試料導入装置を提供するものであ
る。
液の量は試料ループを交換しなければならかった。この
作業は煩雑であるばかりでなく、作業によって試料導入
装置が外部の環境た作業者自身によって汚染してしまう
危険がある。本発明は以上のような課題を解決して、メ
モリー効果や汚染の心配がなく、しかも容易に誘導結合
プラズマ分析装置に導入する試料溶液量を変更できる試
料導入装置を提供するものである。また試料溶液中の微
量不純物の信号を確実に検出することのできる誘導結合
プラズマ分析装置用の試料導入装置を提供するものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は試料溶液中の微
量不純物の分析を行う誘導結合プラズマ分析装置に前記
試料溶液を導入する装置で、前記試料溶液を入れる試料
容器と、前記試料溶液中に浸して前記試料溶液を吸入し
て前記誘導結合プラズマ分析装置に導くノズルと、前記
試料溶液を前記誘導結合プラズマ分析装置に導入してい
ない時に前記ノズルから吸入して前記誘導結合プラズマ
分析装置までの中を洗浄するための洗浄液を入れた洗浄
液槽と、前記ノズルを支持するアームと、前記アームを
駆動して前記ノズルを前記試料容器と前記洗浄液槽との
間で移動させるための駆動装置と、前記駆動装置を動か
す時間を管理するタイマーを備え、前記誘導結合プラズ
マ分析装置に前記試料溶液を導入する量を前記ノズルを
前記試料溶液に浸すために前記駆動装置が動作する時間
によって制御したことを特徴とする前記誘導結合プラズ
マ分析装置用の試料導入装置である。
量不純物の分析を行う誘導結合プラズマ分析装置に前記
試料溶液を導入する装置で、前記試料溶液を入れる試料
容器と、前記試料溶液中に浸して前記試料溶液を吸入し
て前記誘導結合プラズマ分析装置に導くノズルと、前記
試料溶液を前記誘導結合プラズマ分析装置に導入してい
ない時に前記ノズルから吸入して前記誘導結合プラズマ
分析装置までの中を洗浄するための洗浄液を入れた洗浄
液槽と、前記ノズルを支持するアームと、前記アームを
駆動して前記ノズルを前記試料容器と前記洗浄液槽との
間で移動させるための駆動装置と、前記駆動装置を動か
す時間を管理するタイマーを備え、前記誘導結合プラズ
マ分析装置に前記試料溶液を導入する量を前記ノズルを
前記試料溶液に浸すために前記駆動装置が動作する時間
によって制御したことを特徴とする前記誘導結合プラズ
マ分析装置用の試料導入装置である。
【０００８】また前記ノズルを前記試料溶液に浸すため
に前記アームを動かしたタイミングを基準にして、前記
誘導結合プラズマ分析装置は一定の時間後に得られる信
号を前記試料溶液の信号として測定を行ったことを特徴
とする誘導結合プラズマ分析装置用の試料導入装置であ
る。
に前記アームを動かしたタイミングを基準にして、前記
誘導結合プラズマ分析装置は一定の時間後に得られる信
号を前記試料溶液の信号として測定を行ったことを特徴
とする誘導結合プラズマ分析装置用の試料導入装置であ
る。
【０００９】
【作用】本発明によると、六方バルブの継ぎ手やロータ
ーの境等の試料溶液が滞留する場所が存在しないため、
分析に悪影響を及ぼすメモリー効果がない。また試料溶
液の導入量は、ノズルの試料溶液に浸す時間で制御する
ため、試料溶液が通るチューブや継ぎ手等を作業者が触
ることなく容易に変更できるとともに、本試料導入装置
が外部の環境や作業者自身によって汚染することがな
い。
ーの境等の試料溶液が滞留する場所が存在しないため、
分析に悪影響を及ぼすメモリー効果がない。また試料溶
液の導入量は、ノズルの試料溶液に浸す時間で制御する
ため、試料溶液が通るチューブや継ぎ手等を作業者が触
ることなく容易に変更できるとともに、本試料導入装置
が外部の環境や作業者自身によって汚染することがな
い。
【００１０】さらにノズルを試料溶液に浸すために前記
アームを動かしたタイミングを基準にして、前記誘導結
合プラズマ分析装置は一定の時間後に得られる信号を前
記試料溶液の信号として測定を行ったことにより、測定
すべき微量不純物を確実に検出することができる。
アームを動かしたタイミングを基準にして、前記誘導結
合プラズマ分析装置は一定の時間後に得られる信号を前
記試料溶液の信号として測定を行ったことにより、測定
すべき微量不純物を確実に検出することができる。
【００１１】
【実施例】以下に図１を用いて本発明の実施例を説明す
る。図１において、誘導結合プラズマ分析装置は、ネブ
ライザー９、スプレーチャンバー１０、プラズマトーチ
１１、ワークコイル１２、高周波電源１３、分析管１４
で構成されている。なお従来の技術で述べたように、ス
プレーチャンバー１０は、省略されることがある。１５
は洗浄液槽で、中に洗浄液１を入れている。１６は試料
容器で、中に試料溶液２が入っている。１７は試料台
で、試料容器１６を装着するようになっている。試料台
１７は図１のように試料容器１６を複数個装着させるこ
とも可能である。
る。図１において、誘導結合プラズマ分析装置は、ネブ
ライザー９、スプレーチャンバー１０、プラズマトーチ
１１、ワークコイル１２、高周波電源１３、分析管１４
で構成されている。なお従来の技術で述べたように、ス
プレーチャンバー１０は、省略されることがある。１５
は洗浄液槽で、中に洗浄液１を入れている。１６は試料
容器で、中に試料溶液２が入っている。１７は試料台
で、試料容器１６を装着するようになっている。試料台
１７は図１のように試料容器１６を複数個装着させるこ
とも可能である。
【００１２】４ｄはチューブで洗浄液１や試料溶液２を
ネブライザー９に導くための管である。チューブ４ｄ
は、内径０．５ｍｍから１．５ｍｍ程度で、材質はＰＴ
ＦＥ等のフッ素系の樹脂が使用される。３ｃは送液ポン
プで、洗浄液１や試料溶液２をネブライザー９に流す働
きをしている。ただしネブライザー９はコンセントリッ
クネブライザーのように自身で溶液を吸い込めるものも
あるため、送液ポンプ３ｃは省略することもある。１８
はノズルである。ノズル１８は洗浄液１や試料溶液２を
吸入するための穴が開いた構造をしており、チューブ４
ｄの先端を切っただけのものでも、チューブ４ｄとは別
に装着する管状のものでもかまわない。１９はアーム
で、先端にノズル１８を固定している。
ネブライザー９に導くための管である。チューブ４ｄ
は、内径０．５ｍｍから１．５ｍｍ程度で、材質はＰＴ
ＦＥ等のフッ素系の樹脂が使用される。３ｃは送液ポン
プで、洗浄液１や試料溶液２をネブライザー９に流す働
きをしている。ただしネブライザー９はコンセントリッ
クネブライザーのように自身で溶液を吸い込めるものも
あるため、送液ポンプ３ｃは省略することもある。１８
はノズルである。ノズル１８は洗浄液１や試料溶液２を
吸入するための穴が開いた構造をしており、チューブ４
ｄの先端を切っただけのものでも、チューブ４ｄとは別
に装着する管状のものでもかまわない。１９はアーム
で、先端にノズル１８を固定している。
【００１３】２０は駆動装置である。駆動装置２０はア
ーム１９を駆動して、ノズル１８を洗浄液槽１５と試料
容器１６の上部で水平移動させたり、ノズル１８を洗浄
液１や試料溶液２に浸したりする上下方向の移動をさせ
る働きをする。２１は制御装置、２２はタイマー、２３
は通信装置である。制御装置２１は駆動装置２０と通信
装置２３を介して通信できるようになっている。制御装
置２１は通信装置２３によって、駆動装置２０にアーム
１９を移動させる制御信号を送信したり、駆動装置２０
からアーム１９の移動動作が完了した信号を受信する。
タイマー２２は制御信号の時間を管理するためのもので
ある。制御装置２１およびタイマー２２は、コンピュー
ターとして一体となることもる。また誘導結合プラズマ
質量分析装置を制御するコンピューターが制御装置２１
およびタイマー２２の働きを兼ねてもかまわない。
ーム１９を駆動して、ノズル１８を洗浄液槽１５と試料
容器１６の上部で水平移動させたり、ノズル１８を洗浄
液１や試料溶液２に浸したりする上下方向の移動をさせ
る働きをする。２１は制御装置、２２はタイマー、２３
は通信装置である。制御装置２１は駆動装置２０と通信
装置２３を介して通信できるようになっている。制御装
置２１は通信装置２３によって、駆動装置２０にアーム
１９を移動させる制御信号を送信したり、駆動装置２０
からアーム１９の移動動作が完了した信号を受信する。
タイマー２２は制御信号の時間を管理するためのもので
ある。制御装置２１およびタイマー２２は、コンピュー
ターとして一体となることもる。また誘導結合プラズマ
質量分析装置を制御するコンピューターが制御装置２１
およびタイマー２２の働きを兼ねてもかまわない。
【００１４】試料溶液２はノズル１８が試料容器１６の
位置で下降して試料溶液２に浸っているときに誘導結合
プラズマ分析装置に送液される。従って誘導結合プラズ
マ分析装置に送液する試料溶液２の量は、ノズル１８が
試料容器１６の位置で下降している時間を制御装置２１
および／またはタイマー２２によって制御することによ
り自由に設定できるようになる。例えば、送液ポンプ３
ｃの送液速度が２ミリリットル毎分で０．１ミリリット
ルの試料溶液を誘導結合プラズマ質量分析装置に導入し
たいときは、ノズル１８が試料溶液１６中に下降してい
る時間を０．０５分に設定すれば良い。
位置で下降して試料溶液２に浸っているときに誘導結合
プラズマ分析装置に送液される。従って誘導結合プラズ
マ分析装置に送液する試料溶液２の量は、ノズル１８が
試料容器１６の位置で下降している時間を制御装置２１
および／またはタイマー２２によって制御することによ
り自由に設定できるようになる。例えば、送液ポンプ３
ｃの送液速度が２ミリリットル毎分で０．１ミリリット
ルの試料溶液を誘導結合プラズマ質量分析装置に導入し
たいときは、ノズル１８が試料溶液１６中に下降してい
る時間を０．０５分に設定すれば良い。
【００１５】次に本発明の試料導入装置を使用した誘導
結合プラズマ質量分析装置で行う分析の流れを説明す
る。最初はノズル１８は通常洗浄槽１５の位置で下降し
て洗浄液が誘導結合プラズマ分析装置に送られている。
分析が始まると、ノズル１８は洗浄槽１５中から上昇
し、次に指定された試料容器１６の上部に水平移動しす
る。そしてノズル１８を下降させて試料溶液２に浸ら
せ、試料溶液の導入量に対応した時間の後に上昇、水平
移動して洗浄槽１５の位置で下降する。ノズル１８の試
料容器１６への上部に水平移動が「完了した信号」ある
いはノズル１８の試料容器１６への下降動作が「完了し
た信号」を、駆動装置２０は制御装置２１に送信する。
この「完了した信号」を受信したタイミングを基準にし
て、誘導結合プラズマ分析装置は一定時間の「待ち時
間」の後に検出される信号を目的の微量不純物の信号と
して測定する。この「待ち時間」は、試料溶液２がチュ
ーブ４ｄを移動して分析管１４に信号として検出される
迄の時間に対応しており、主にチューブ４ｄの容積およ
び送液ポンプ３ｃの送液速度に依存している。
結合プラズマ質量分析装置で行う分析の流れを説明す
る。最初はノズル１８は通常洗浄槽１５の位置で下降し
て洗浄液が誘導結合プラズマ分析装置に送られている。
分析が始まると、ノズル１８は洗浄槽１５中から上昇
し、次に指定された試料容器１６の上部に水平移動しす
る。そしてノズル１８を下降させて試料溶液２に浸ら
せ、試料溶液の導入量に対応した時間の後に上昇、水平
移動して洗浄槽１５の位置で下降する。ノズル１８の試
料容器１６への上部に水平移動が「完了した信号」ある
いはノズル１８の試料容器１６への下降動作が「完了し
た信号」を、駆動装置２０は制御装置２１に送信する。
この「完了した信号」を受信したタイミングを基準にし
て、誘導結合プラズマ分析装置は一定時間の「待ち時
間」の後に検出される信号を目的の微量不純物の信号と
して測定する。この「待ち時間」は、試料溶液２がチュ
ーブ４ｄを移動して分析管１４に信号として検出される
迄の時間に対応しており、主にチューブ４ｄの容積およ
び送液ポンプ３ｃの送液速度に依存している。
【００１６】図４は、目的の微量不純物の信号強度の経
時変化を示すグラフである。図４に示されたピークが試
料溶液２に含まれる微量不純物の信号に相当する。「完
了した信号」からこのピークの立ち上がり迄の時間が
「待ち時間」に相当する。誘導結合プラズマ分析装置で
は、図４に示されたピークの高さあるいは面積から、目
的の微量不純物の濃度を求めることになる。前記「待ち
時間」を設定することにより、目的の微量不純物のピー
クを確実に捉えることができて、信頼性の高い分析を行
うことができるようになる。目的の微量不純物の検出が
終了すると、試料導入装置のノズル１８は、次の試料容
器１６に移動して、上記した手順を繰り返して、分析を
続けてゆく。
時変化を示すグラフである。図４に示されたピークが試
料溶液２に含まれる微量不純物の信号に相当する。「完
了した信号」からこのピークの立ち上がり迄の時間が
「待ち時間」に相当する。誘導結合プラズマ分析装置で
は、図４に示されたピークの高さあるいは面積から、目
的の微量不純物の濃度を求めることになる。前記「待ち
時間」を設定することにより、目的の微量不純物のピー
クを確実に捉えることができて、信頼性の高い分析を行
うことができるようになる。目的の微量不純物の検出が
終了すると、試料導入装置のノズル１８は、次の試料容
器１６に移動して、上記した手順を繰り返して、分析を
続けてゆく。
【００１７】
【発明の効果】本発明によると、分析に悪影響を及ぼす
メモリー効果がない。また試料溶液の導入量を変更が、
試料溶液が通るチューブや継ぎ手等を作業者が触ること
なく容易に行えるとともに、本試料導入装置が外部の環
境や作業者自身によって汚染されることがない。さら
に、確実に測定すべき微量不純物を確実に検出すること
ができる。このようにして、信頼性の高い分析が可能に
なる。
メモリー効果がない。また試料溶液の導入量を変更が、
試料溶液が通るチューブや継ぎ手等を作業者が触ること
なく容易に行えるとともに、本試料導入装置が外部の環
境や作業者自身によって汚染されることがない。さら
に、確実に測定すべき微量不純物を確実に検出すること
ができる。このようにして、信頼性の高い分析が可能に
なる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による誘導結合プラズマ分析装置用の試
料導入装置の図。
料導入装置の図。
【図２】従来の技術を説明する図。
【図３】従来の技術を説明する図。
【図４】目的の微量不純物の信号の経時変化を示すグラ
フ。
フ。
１ 洗浄液 ２ 試料溶液 ３ａ、３ｂ、３ｃ 送液ポンプ ４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ チューブ ５ 六方バルブ ６ ローター ７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、７ｅ、７ｆ 継ぎ手 ８ 試料ループ ９ ネブライザー １０ スプレーチャンバー １１ プラズマトーチ １２ ワークコイル １３ 高周波電源 １４ 分析管 １５ プラズマ １６ 試料容器 １７ 試料台 １８ ノズル １９ アーム ２０ 駆動装置 ２１ 制御装置 ２２タイマー ２３ 通信装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｊ 49/10
Claims (2)
- 【請求項１】 試料溶液中の微量不純物の分析を行う誘
導結合プラズマ分析装置に前記試料溶液を導入する装置
で、前記試料溶液を入れる試料容器と、前記試料溶液中
に浸して前記試料溶液を吸入して前記誘導結合プラズマ
分析装置に導くノズルと、前記試料溶液を前記誘導結合
プラズマ分析装置に導入していない時に前記ノズルから
吸入して前記誘導結合プラズマ分析装置までの中を洗浄
するための洗浄液を入れた洗浄液槽と、前記ノズルを支
持するアームと、前記アームを駆動して前記ノズルを前
記試料容器と前記洗浄液槽との間で移動させるための駆
動装置と、前記駆動装置を動かす時間を管理するタイマ
ーを備え、前記誘導結合プラズマ分析装置に前記試料溶
液を導入する量を前記ノズルを前記試料溶液に浸すため
に前記駆動装置が動作する時間によって制御したことを
特徴とする前記誘導結合プラズマ分析装置用の試料導入
装置。 - 【請求項２】 前記ノズルを前記試料溶液に浸すために
前記アームを動かしたタイミングを基準にして、前記誘
導結合プラズマ分析装置は一定の時間後に得られる信号
を前記試料溶液の信号として測定を行ったことを特徴と
する請求項１記載の誘導結合プラズマ分析装置用の試料
導入装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18964094A JP3786724B2 (ja) | 1994-08-11 | 1994-08-11 | 誘導結合プラズマ分析装置およびその試料導入装置 |
| US08/513,541 US5867262A (en) | 1994-08-11 | 1995-08-10 | Sample introducing device for inductively coupled plasma analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18964094A JP3786724B2 (ja) | 1994-08-11 | 1994-08-11 | 誘導結合プラズマ分析装置およびその試料導入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0855601A true JPH0855601A (ja) | 1996-02-27 |
| JP3786724B2 JP3786724B2 (ja) | 2006-06-14 |
Family
ID=16244696
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18964094A Expired - Lifetime JP3786724B2 (ja) | 1994-08-11 | 1994-08-11 | 誘導結合プラズマ分析装置およびその試料導入装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5867262A (ja) |
| JP (1) | JP3786724B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10188877A (ja) * | 1996-12-24 | 1998-07-21 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
| JP2000123781A (ja) * | 1998-10-14 | 2000-04-28 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析装置 |
| JP2001311736A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Seiko Instruments Inc | Ｉｃｐ分析装置用のオートサンプラー及びサンプリング方法 |
| JP2002039994A (ja) * | 2000-07-19 | 2002-02-06 | Yokogawa Analytical Systems Inc | 試料連続分析方法及び試料連続分析装置 |
| JP2002174596A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-06-21 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 水質汚染度測定装置 |
| JP2004039313A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Toshiba Microelectronics Corp | Ｉｃｐ質量分析装置及びその分析方法 |
| JP2004127709A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-04-22 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマイオン源質量分析装置 |
| JP2005069817A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Shimadzu Corp | 液体クロマトグラフ質量分析装置 |
| JP2006066312A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Yokogawa Analytical Systems Inc | Ｉｃｐ分析用試料導入装置及び方法 |
| JP2006234672A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Tdk Corp | 試料導入方法及び試料導入装置 |
| JP2018146513A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | オルガノ株式会社 | 洗浄液の汚染監視方法、洗浄液の汚染監視システム及び洗浄液精製装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6166379A (en) * | 1997-12-30 | 2000-12-26 | George Washington University | Direct injection high efficiency nebulizer for analytical spectrometry |
| US6002097A (en) * | 1998-09-01 | 1999-12-14 | Transgenomic, Inc. | System and method for producing nebulized sample analyte containing solution for introduction to sample analysis systems |
| CN102890113A (zh) * | 2012-10-09 | 2013-01-23 | 浙江大学 | 一种消减icp-ms测定中汞记忆效应的方法 |
| GB2506892B (en) * | 2012-10-11 | 2015-06-10 | Thermo Fisher Scient Bremen | Apparatus and method for improving throughput in spectrometry |
| US9620343B1 (en) * | 2013-12-10 | 2017-04-11 | Elemental Scientific, Inc. | Balanced sample introduction system |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4737342A (en) * | 1982-08-06 | 1988-04-12 | Ciba Corning Diagnostics Corp. | Test module |
| US4872353A (en) * | 1987-11-25 | 1989-10-10 | Micromeritics Instrument Corp. | Automatic sample feeder for suspended samples |
| US4926021A (en) * | 1988-09-09 | 1990-05-15 | Amax Inc. | Reactive gas sample introduction system for an inductively coupled plasma mass spectrometer |
| JPH087202B2 (ja) * | 1990-01-08 | 1996-01-29 | 株式会社日立製作所 | 生体試料のクロマトグラフイー分析法および液体クロマトグラフ装置 |
| JPH05251038A (ja) * | 1992-03-04 | 1993-09-28 | Hitachi Ltd | プラズマイオン質量分析装置 |
| US5381008A (en) * | 1993-05-11 | 1995-01-10 | Mds Health Group Ltd. | Method of plasma mass analysis with reduced space charge effects |
| US5480809A (en) * | 1994-07-27 | 1996-01-02 | Mcgill University | Method and apparatus for removal of residual interfering nebulized sample |
-
1994
- 1994-08-11 JP JP18964094A patent/JP3786724B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-08-10 US US08/513,541 patent/US5867262A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH10188877A (ja) * | 1996-12-24 | 1998-07-21 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
| JP2000123781A (ja) * | 1998-10-14 | 2000-04-28 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析装置 |
| JP2001311736A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Seiko Instruments Inc | Ｉｃｐ分析装置用のオートサンプラー及びサンプリング方法 |
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| JP2004039313A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Toshiba Microelectronics Corp | Ｉｃｐ質量分析装置及びその分析方法 |
| JP2004127709A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-04-22 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマイオン源質量分析装置 |
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| JP2006066312A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Yokogawa Analytical Systems Inc | Ｉｃｐ分析用試料導入装置及び方法 |
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| JP2018146513A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | オルガノ株式会社 | 洗浄液の汚染監視方法、洗浄液の汚染監視システム及び洗浄液精製装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5867262A (en) | 1999-02-02 |
| JP3786724B2 (ja) | 2006-06-14 |
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