JPH0855941A - Electronic part sealing resin package and epoxy resin composition used for it - Google Patents
Electronic part sealing resin package and epoxy resin composition used for itInfo
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 102
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 81
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 81
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title abstract description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 108
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 claims abstract description 36
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 53
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 35
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims description 5
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 170
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 89
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 18
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 5
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 4
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- CAYGQBVSOZLICD-UHFFFAOYSA-N hexabromobenzene Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1Br CAYGQBVSOZLICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015110 jellies Nutrition 0.000 description 1
- 239000008274 jelly Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- CWHJLNJICCBAOK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-6-yl)ethyl]silane Chemical compound C1CCCC2OC21CC[Si](OC)(OC)OC CWHJLNJICCBAOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品の樹脂封止物
及びその製造方法とその電子部品の樹脂封止物の製造に
用いる液状エポキシ樹脂組成物に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-sealed product for an electronic component, a method for producing the same, and a liquid epoxy resin composition used for producing the resin-sealed product for the electronic component.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、周壁がプラスチックケースから形
成されているケース内に半導体素子等の電子部品を収容
させるとともに、そのケース内に樹脂を充填し、電子部
品をケース内において樹脂封止させることは広く行われ
ている。このような電子部品の樹脂封止物において、原
料樹脂としては、柔軟性や弾力性に富む硬化物を与える
樹脂Aと、剛性に富む硬化物を与える樹脂Bの2種類の
樹脂が用いられている。この場合、樹脂Aは下層として
電子部品を封止するために用いられ、樹脂Bは上層とし
て透水を防止するとともに、外部端子を固定化させるた
めに用いられている。また、樹脂Aとしては、シリコー
ンゲルが一般的に用いられ、樹脂Bとしては、液状エポ
キシ樹脂組成物が一般的に用いられている。ところで、
前記のような構造の電子部品の樹脂封止物は高電圧に対
する電気絶縁性が悪く、高電圧を印加した場合には、絶
縁破壊等の不都合を生じた。2. Description of the Related Art Conventionally, an electronic part such as a semiconductor element is housed in a case whose peripheral wall is formed of a plastic case, and the case is filled with a resin to seal the electronic part in the case. Is widely practiced. In such a resin-sealed product of an electronic component, two kinds of resins are used as raw material resins: a resin A which gives a cured product rich in flexibility and elasticity, and a resin B which gives a cured product rich in rigidity. There is. In this case, the resin A is used as a lower layer to seal the electronic component, and the resin B is used as an upper layer to prevent water permeation and to fix the external terminals. A silicone gel is generally used as the resin A, and a liquid epoxy resin composition is generally used as the resin B. by the way,
The resin-sealed product of the electronic component having the above-described structure has a poor electrical insulation property against a high voltage, and when a high voltage is applied, problems such as dielectric breakdown occur.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、電子部品を
封止するシリコーンゲル硬化物層の上にエポキシ樹脂組
成物硬化物層を積層させた構造を有する電子部品の樹脂
封止物において、高電圧に対して良好な電気絶縁性を有
するものを提供することをその第1の課題とする。ま
た、本発明は、前記電子部品の樹脂封止物の製造方法を
提供することをその第2の課題とする。さらに、本発明
は、前記電子部品の樹脂封止物の製造に好ましく適用さ
れる液状エポキシ樹脂組成物を提供することをその第3
の課題とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a resin-sealed product for an electronic component, which has a structure in which a cured product layer of an epoxy resin composition is laminated on a cured layer of a silicone gel for sealing an electronic component, The first object is to provide a material having a good electric insulation property against a high voltage. A second object of the present invention is to provide a method for producing a resin-sealed product of the electronic component. Furthermore, the third aspect of the present invention is to provide a liquid epoxy resin composition which is preferably applied to the production of a resin-sealed product of the electronic component.
And the subject.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、従来の電子部品の樹
脂封止物は、下層を構成するシリコーンゲル硬化物層と
上層を形成するエポキシ樹脂組成物硬化物層とが強固に
接着しており、しかもシリコーンゲル硬化物層の冷却に
よる体積収縮率はエポキシ樹脂組成物硬化物層のそれよ
りも大きいために、電子部品の樹脂封止物製造時等にお
いて、その電子部品の樹脂封止物が冷却されたときに、
シリコーンゲル硬化物層に大きな引張応力が作用し、こ
のために機械的強度の弱いシリコーンゲルの硬化物層に
亀裂が生じ、その結果、シリコーンゲル硬化物層の電気
絶縁性が大幅に低下することを見出した。また、本発明
者は、前記電子部品の樹脂封止物の電気絶縁性の低下の
問題は、シリコーンゲル硬化物層とエポキシ樹脂組成物
硬化物層との間を実質的に非接着の状態に保持すること
により解決し得ることを見出した。本発明は、前記のよ
うな知見に基づき完成されたものである。As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventor of the present invention has found that a conventional resin-sealed product for electronic parts has a silicone gel cured product layer constituting a lower layer and an upper layer. The epoxy resin composition cured product layer to be formed is firmly adhered, and the volume contraction rate of the silicone gel cured product layer upon cooling is larger than that of the epoxy resin composition cured product layer. At the time of manufacturing the sealed product, etc., when the resin sealed product of the electronic component is cooled,
A large tensile stress acts on the cured silicone gel layer, which causes cracks in the cured silicone gel layer with weak mechanical strength, resulting in a significant decrease in electrical insulation of the cured silicone gel layer. Found. In addition, the present inventor has found that the problem of deterioration in electrical insulation of the resin-sealed product of the electronic component is that the silicone gel cured product layer and the epoxy resin composition cured product layer are substantially in a non-adhesive state. It was found that holding it could solve the problem. The present invention has been completed based on the above findings.
【0005】即ち、本発明によれば、電子部品を封止す
るシリコーンゲル硬化物層Aの上面にエポキシ樹脂組成
物硬化物層Bを形成させた構造を有し、前記層Aと層B
との間が実質的に非接着状態にあることを特徴とする電
子部品の樹脂封止物が提供される。That is, according to the present invention, the epoxy resin composition cured product layer B is formed on the upper surface of the silicone gel cured product layer A for encapsulating electronic parts.
There is provided a resin-encapsulated product for an electronic component, which is substantially in a non-adhesive state.
【0006】また、本発明によれば、電子部品を封止す
るシリコーンゲル硬化物層Aの上面に難接着性物質層C
を介してエポキシ樹脂組成物硬化物層Bを形成させた構
造を有し、前記層Aと層Cとの間が実質的に非接着状態
にあることを特徴とする電子部品の樹脂封止物が提供さ
れる。Further, according to the present invention, the hardly-adhesive substance layer C is formed on the upper surface of the silicone gel cured product layer A for encapsulating electronic parts.
A resin-encapsulated product for electronic parts, which has a structure in which a cured product layer B of an epoxy resin composition is formed through a layer, and the layer A and the layer C are substantially in a non-adhesive state. Will be provided.
【0007】さらにまた、本発明によれば、電子部品を
封止するシリコーンゲル硬化物層Aを高められた温度に
保持し、この高められた温度にあるシリコーンゲル硬化
物層Aの上にシリコーンゲル硬化物に対する引張接着強
度が40g/cm2以下である液状エポキシ樹脂組成物
層B’を形成し、この液状エポキシ樹脂組成物層B’を
加熱硬化させてエポキシ樹脂組成物硬化物層Bを形成さ
せた後冷却し、前記シリコーンゲル硬化物層Aとエポキ
シ樹脂組成物硬化物層Bとの間を実質的に非接着状態に
形成することを特徴とする電子部品の樹脂封止物の製造
方法が提供される。Furthermore, according to the present invention, the silicone gel cured product layer A for encapsulating electronic parts is held at an elevated temperature, and the silicone gel cured product layer A at this elevated temperature is coated with silicone. A liquid epoxy resin composition layer B ′ having a tensile adhesion strength to the gel cured product of 40 g / cm 2 or less is formed, and the liquid epoxy resin composition layer B ′ is heat-cured to form the cured epoxy resin composition layer B. After being formed, it is cooled to form a substantially non-adhesive state between the silicone gel cured product layer A and the epoxy resin composition cured product layer B. A method is provided.
【0008】さらにまた、本発明によれば、電子部品を
封止するシリコーンゲル硬化物層Aの上に、シリコーン
ゲル硬化物に対する引張接着強度が40g/cm2以下
である難接着性物質層Cを形成するとともに、このシリ
コーンゲル硬化物層A及び難接着性物質層Cを高められ
た温度に保持し、この高められた温度にある難接着性物
質層Cの上に液状エポキシ樹脂組成物層B’を形成し、
この液状エポキシ樹脂組成層B’を加熱硬化させてエポ
キシ樹脂組成物硬化物層Bを形成した後、冷却し、前記
シリコーンゲル硬化物層Aと難接着性物質層Cとの間を
実質的に非接着状態に形成することを特徴とする電子部
品の樹脂封止物の製造方法が提供される。Furthermore, according to the present invention, a layer C of a hard-to-adhesive substance having a tensile adhesive strength of 40 g / cm 2 or less with respect to a silicone gel cured product is provided on the silicone gel cured product layer A for sealing electronic parts. And the silicone gel cured product layer A and the hardly-adhesive substance layer C are maintained at an elevated temperature, and the liquid epoxy resin composition layer is formed on the hardly-adhesive substance layer C at the elevated temperature. Forming B ',
This liquid epoxy resin composition layer B ′ is heated and cured to form an epoxy resin composition cured product layer B, and then cooled, and a space between the silicone gel cured product layer A and the hardly-adhesive substance layer C is substantially obtained. Provided is a method for producing a resin-sealed product for an electronic component, which is characterized in that the resin-sealed product is formed in a non-adhesive state.
【0009】さらにまた、本発明によれば、シリコーン
ゲル硬化物に対する引張接着強度が、40g/cm2以
下であることを特徴とする液状エポキシ樹脂組成物が提
供される。Furthermore, according to the present invention, there is provided a liquid epoxy resin composition having a tensile adhesive strength to a silicone gel cured product of 40 g / cm 2 or less.
【0010】次に、本発明を図面を参照して説明する。
図1は、パワーモジュールとして用いられている電子部
品の樹脂封止物の1例についての構造説明図を示す。こ
の図において、1は放熱板、2はプラスチック周壁、3
はシリコーン系接着剤層、4は半田層、5は配線基板、
6は電子部品(半導体チップ)、7は導電性ワイヤー、
8〜12は外部端子、Aはシリコーンゲル硬化物層、B
はエポキシ樹脂組成物硬化物層を各示す。Next, the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a structural explanatory view of an example of a resin-sealed product of an electronic component used as a power module. In this figure, 1 is a heat sink, 2 is a plastic peripheral wall, 3
Is a silicone adhesive layer, 4 is a solder layer, 5 is a wiring board,
6 is an electronic component (semiconductor chip), 7 is a conductive wire,
8 to 12 are external terminals, A is a silicone gel cured product layer, B
Indicates each of the cured epoxy resin composition layers.
【0011】図1に示した構造の本発明の電子部品の樹
脂封止物において、シリコーンゲル硬化物層Aとエポキ
シ樹脂組成物硬化物層Bとは、実質的に非接着状態に保
持されている。これによって、層Aが冷却により大きく
体積収縮しても、その層Aの体積収縮は層Bによっては
何ら制限されないことから、その層Aには大きな引張応
力は作用せず、亀裂を生じるようなことはない。もし層
Aと層Bとが、従来の電子部品の樹脂封止物のように強
固に接着保持されているときには、層Aの冷却による体
積収縮率は、層Bの体積収縮率よりも著しく大きいため
に、層Aには大きな引張応力が作用し、その結果、機械
的強度の弱い層Aには亀裂(炸裂)を生じ、層Aの電気
絶縁性は大きく低下してしまう。In the resin-sealed product of the electronic component of the present invention having the structure shown in FIG. 1, the silicone gel cured product layer A and the epoxy resin composition cured product layer B are held substantially in a non-adhesive state. There is. As a result, even if the layer A undergoes a large volume contraction due to cooling, the volume contraction of the layer A is not limited by the layer B at all, so that a large tensile stress does not act on the layer A and a crack is generated. There is no such thing. If the layer A and the layer B are firmly adhered and held like a resin-sealed product of a conventional electronic component, the volume shrinkage rate of the layer A upon cooling is significantly larger than the volume shrinkage rate of the layer B. Therefore, a large tensile stress acts on the layer A, and as a result, a crack (explosion) occurs in the layer A having low mechanical strength, and the electrical insulation of the layer A is greatly reduced.
【0012】層Aと層Bとの間を実質的に非接着の状態
に保持するためには、各種の方法があるが、その1つ
は、エポキシ樹脂組成物中にその接着力を低下させる接
着性低下剤を添加する方法であり、他の1つは、層Aと
層Bとの間に難接着性物質層Cを存在させる方法であ
る。以下、これらの方法について詳述する。There are various methods for maintaining a substantially non-adhesive state between the layer A and the layer B, one of which is to reduce the adhesive force in the epoxy resin composition. This is a method of adding an adhesion-reducing agent, and the other one is a method of allowing the hardly-adhesive substance layer C to exist between the layer A and the layer B. Hereinafter, these methods will be described in detail.
【0013】(エポキシ樹脂組成物に接着性低下剤を添
加する方法)一般に用いられている液状エポキシ樹脂組
成物は、良好な接着性を示し、シリコーンゲル硬化物に
対しても強く接着するが、そのエポキシ樹脂組成物に対
して、その接着力を低下させる物質(接着性低下剤)を
添加することによって、シリコーンゲル硬化物に対して
接着性の弱いエポキシ樹脂組成物とすることができる。
本発明者の研究によれば、シリコーンゲル硬化物に対す
るエポキシ樹脂組成物の引張接着強度を、40g/cm
2以下、好ましくは35g/cm2以下に低下させること
により、シリコーンゲル硬化物層Aとエポキシ樹脂組成
物層Bとの間が実質的に非接着の状態に保持され、層A
の体積収縮が層Bによって実質的に制限されず、層Aの
亀裂が効果的に防止されることが見出された。(Method of Adding Adhesion-Reducing Agent to Epoxy Resin Composition) A commonly used liquid epoxy resin composition exhibits good adhesiveness and strongly adheres to a silicone gel cured product, By adding a substance that reduces the adhesive strength (adhesion-reducing agent) to the epoxy resin composition, an epoxy resin composition having weak adhesion to the silicone gel cured product can be obtained.
According to the study by the present inventor, the tensile adhesive strength of the epoxy resin composition to the silicone gel cured product was 40 g / cm.
2 or less, preferably by lowering below 35 g / cm 2, between the silicone gel cured layer A and an epoxy resin composition layer B is held in a state of substantially non-adhesive, layer A
It was found that the volumetric shrinkage of layer A was not substantially limited by layer B and cracking of layer A was effectively prevented.
【0014】前記接着性低下剤としては、エポキシ樹脂
組成物の接着力を、前記のように、シリコーンゲル硬化
物に対する引張接着強度で、40g/cm2以下、好ま
しくは35g/cm2以下に低下させ得るものであれば
どのようなものでも使用可能である。接着性低下剤は、
長鎖疎水基と極性基を有する物質であり、界面活性剤
や、流動性向上剤、レベリング剤等の中から適宜選ばれ
る。具体的な接着性低下剤は、この接着性低下剤を含む
エポキシ樹脂組成物のシリコーンゲル硬化物に対する引
張接着強度試験によって容易に選定することができる。
好ましい接着性低下剤の具体例を示すと、例えば、フッ
素系界面活性剤(住友スリーエム社製、Fluorad
FC−430,FC−431等)、アクリルポリマー
(ビックケミー・ジャパン社製、BYK 354)、ア
クリル共重合物(ビックケミー・ジャパン社製、BYK
361)、高分子量不飽和ポリカルボン酸(ビックケ
ミー・ジャパン社製、BYK−P104)、高分子量不
飽和ポリカルボン酸とシリコン樹脂との混合物(ビック
ケミー・ジャパン社製、BYK−P104S)、アミノ
樹脂変性アクリル共重合体(ヘキストジャパン社製、A
dditol XL480、XL490)、ポリジメチ
ルシクロキサン側鎖グリシジルポリオキシアルキレン
(日本ユニカー社製、FZ−3736)等が挙げられ
る。これらの物質は、従来の液状エポキシ樹脂組成物に
対し、0.15〜10重量%、好ましくは0.2〜10
重量%の割合で添加される。As the adhesiveness-reducing agent, the adhesive strength of the epoxy resin composition is reduced to 40 g / cm 2 or less, preferably 35 g / cm 2 or less, as described above, in terms of tensile adhesive strength to a cured silicone gel. Anything that can be used can be used. The adhesion-reducing agent is
It is a substance having a long-chain hydrophobic group and a polar group, and is appropriately selected from surfactants, fluidity improvers, leveling agents, and the like. A specific adhesion-reducing agent can be easily selected by a tensile adhesion strength test of a cured epoxy resin composition containing the adhesion-reducing agent to a silicone gel cured product.
A specific example of a preferable adhesion-reducing agent is, for example, a fluorine-based surfactant (Sumitomo 3M, Fluorad).
FC-430, FC-431, etc.), acrylic polymer (manufactured by BYK Chemie Japan, BYK 354), acrylic copolymer (manufactured by BYK Chemie Japan, BYK).
361), high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid (manufactured by BYK-Chemie Japan, BYK-P104), mixture of high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid and silicone resin (manufactured by BYK-Chemie Japan, BYK-P104S), amino resin modified Acrylic copolymer (Hoechst Japan, A
dditol XL480, XL490), polydimethylcycloxane side chain glycidyl polyoxyalkylene (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd., FZ-3736) and the like. These substances are contained in the conventional liquid epoxy resin composition in an amount of 0.15 to 10% by weight, preferably 0.2 to 10% by weight.
It is added in a percentage by weight.
【0015】(難接着性物質層を存在させる方法)難接
着性物質としては、シリコーンゲル硬化物層Aとエポキ
シ樹脂組成物硬化物層Bとの間の接着性を阻害し、両者
の引張接着強度を40g/cm2以下、好ましくは35
g/cm2以下に低下させるような物質、あるいはシリ
コーンゲル硬化物に対する引張接着強度が40g/cm
2以下、好ましくは35g/cm2以下である物質であれ
ばどのようなものでも用いることができる。このような
難接着性物質としては、前記したエポキシ樹脂組成物に
関して示した接着性低下剤;ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、含フ
ッ素樹脂、ポリスチレン等の熱可塑性樹脂;不飽和ポリ
エステル樹脂等の硬化性樹脂等が挙げられる。これらの
難接着性物質は、必要に応じ、無機系又は有機系の充填
剤を含有することもできる。これらの物質はシリコーン
ゲル硬化物層Aの上面に難接着性物質層Cとして形成さ
れるが、この場合の層Cの形成方法としては、その難接
着性物質の種類に応じて適当な方法が採用される。例え
ば、難接着性物質が塗布性のものであればハケ塗り法や
スプレー塗布法等が採用され、難接着性物質が熱溶融性
のものであれば、その熱溶融物を層Aの上面に流延させ
ればよい。また、難接着性物質が液状の硬化性樹脂組成
物の場合には、その組成物を層Aの上に流延し、硬化さ
せればよい。難接着性物質層Cの厚さは、特に制約され
ないが、一般的には、1μm〜2mm、好ましくは10
〜1000μmである。難接着性物質層Cは、エポキシ
樹脂組成物の硬化時には完全溶融しないものであること
が好ましい。(Method of Presenting Difficult-to-Adhesive Substance Layer) As the difficult-to-adhesive substance, the adhesive property between the silicone gel cured product layer A and the epoxy resin composition cured product layer B is impeded, and tensile adhesion between the two is carried out. Strength is 40 g / cm 2 or less, preferably 35
40 g / cm tensile adhesion strength to a substance that lowers g / cm 2 or less, or to a cured silicone gel
2 below, can be preferably used even mentioned any substances is 35 g / cm 2 or less. Examples of such a hard-to-adhere substance include an adhesion-reducing agent shown for the epoxy resin composition described above; a thermoplastic resin such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyamide, a fluorine-containing resin and polystyrene; an unsaturated polyester resin and the like. Curable resin etc. are mentioned. These poorly-adhesive substances may contain an inorganic or organic filler, if necessary. These substances are formed as the hardly-adhesive substance layer C on the upper surface of the silicone gel cured product layer A. In this case, the layer C may be formed by any suitable method depending on the kind of the hardly-adhesive substance. Adopted. For example, a brush coating method or a spray coating method is adopted if the hardly-adhesive substance is a coating substance, and if the hardly-adhesive substance is a heat-melting substance, the heat-melting substance is applied to the upper surface of the layer A. Cast it. When the hard-to-adhere substance is a liquid curable resin composition, the composition may be cast on the layer A and cured. The thickness of the hardly-adhesive substance layer C is not particularly limited, but is generally 1 μm to 2 mm, preferably 10 μm.
Is about 1000 μm. It is preferable that the hardly-adhesive substance layer C does not completely melt when the epoxy resin composition is cured.
【0016】本発明の電子部品の樹脂封止物を製造する
1つの方法においては、先ず、図1に示した構造の電子
部品封止物において、樹脂の充填のない構造物を用意す
る。即ち、底面が放熱板1からなり、周壁がプラスチッ
ク周壁2からなるケースの放熱板1上に半田層4を介し
て、表面に電子部品(半導体チップ)6とワイヤー7と
外部端子8〜12を有する配線基板を載置した構造物を
用意する。この構造物において、放熱板1としては、銅
板やアルミニウム板等の金属板が用いられ、プラスチッ
ク周壁2としては、ポリフェニレンサルファイドやポリ
ブブチレンテレフタレート等のプラスチックが用いられ
る。ワイヤー7としては、アルミニウム線や銅線等の金
属線が用いられる。外部端子としては、銅やアルミニウ
ム等の金属の帯状物が用いられる。In one method of manufacturing a resin-sealed product for an electronic component according to the present invention, first, in the electronic-device-sealed product having the structure shown in FIG. 1, a structure not filled with resin is prepared. That is, the electronic component (semiconductor chip) 6, the wire 7, and the external terminals 8 to 12 are provided on the surface of the heat dissipation plate 1 of the case whose bottom surface is composed of the heat dissipation plate 1 and whose peripheral wall is composed of the plastic peripheral wall 2 via the solder layer 4. A structure on which the wiring board is mounted is prepared. In this structure, a metal plate such as a copper plate or an aluminum plate is used as the heat dissipation plate 1, and a plastic such as polyphenylene sulfide or polybutylene terephthalate is used as the plastic peripheral wall 2. As the wire 7, a metal wire such as an aluminum wire or a copper wire is used. A metal strip such as copper or aluminum is used as the external terminal.
【0017】次に、前記構造物の内部に、先ず、シリコ
ーンゲルを充填し、シリコーンゲル層A’を形成させた
後、これを硬化させて、シリコーンゲル硬化物層Aを形
成する。このシリコーンゲル硬化物層Aの上端面は、そ
の基板5の上面からの高さが、基板5の上面からの周壁
2の高さの40〜70%の範囲になるよう位置させる。Next, the inside of the structure is first filled with silicone gel to form a silicone gel layer A ', which is then cured to form a silicone gel cured product layer A. The upper end surface of the silicone gel cured product layer A is positioned so that the height from the upper surface of the substrate 5 is in the range of 40 to 70% of the height of the peripheral wall 2 from the upper surface of the substrate 5.
【0018】次に、前記のようにして形成されたシリコ
ーンゲル硬化物層Aの上に、接着性低下剤を含む液状エ
ポキシ樹脂組成物を充填(注加)し、液状エポキシ樹脂
組成物層B’を形成した後、これを硬化させて、エポキ
シ樹脂組成物硬化物層Bを形成する。この場合、液状エ
ポキシ樹脂組成物の硬化は、その組成物の種類に応じて
常温や加温が採用される。Next, a liquid epoxy resin composition containing an adhesion-reducing agent is filled (added) on the silicone gel cured product layer A formed as described above, and the liquid epoxy resin composition layer B is added. After the formation of ', the epoxy resin composition cured product layer B is formed by curing it. In this case, for curing the liquid epoxy resin composition, normal temperature or heating is adopted depending on the type of the composition.
【0019】前記のようにして電子部品の樹脂封止物を
製造する場合、接着性低下剤を含む液状エポキシ樹脂組
成物としては、その硬化温度が100〜180℃、好ま
しくは120〜160℃のものを用い、これをその硬化
温度より低い温度に予熱し、加熱されたシリコーンゲル
硬化物層A上に充填し、そのエポキシ樹脂組成物の硬化
温度範囲の温度条件で硬化させるのが好ましい。層Aの
加熱温度は、通常、110〜190℃、好ましくは13
0〜170℃である。また、層Aの加熱温度は、前記エ
ポキシ樹脂組成物の硬化に採用される温度より5〜20
℃、好ましくは10〜15℃程度高い温度であることが
好ましい。このようにして電子部品の樹脂封止物を製造
する場合には、その熱膨張した層Aと層Bが室温にまで
冷却されたときに、層Aが層Bよりも大きく体積収縮す
るために、層Aと層Bとの間には引張応力が生じ、層A
と層Bはこの引張応力により剥離し、層Aと層Bとの間
には空隙部が形成される。そしてこのような空隙部が形
成されたときには、層Aの体積収縮は、層Bによっては
制限されないため、層A内には大きな引張応力が生じ
ず、層Aの亀裂の発生が防止される。In the case of producing a resin-sealed product for electronic parts as described above, the liquid epoxy resin composition containing an adhesion-reducing agent has a curing temperature of 100 to 180 ° C, preferably 120 to 160 ° C. It is preferable to use a material, preheat it to a temperature lower than its curing temperature, fill it on the heated silicone gel cured material layer A, and cure it under the temperature conditions of the curing temperature range of the epoxy resin composition. The heating temperature of the layer A is usually 110 to 190 ° C., preferably 13
It is 0 to 170 ° C. Further, the heating temperature of the layer A is 5 to 20 from the temperature adopted for curing the epoxy resin composition.
It is preferable that the temperature is as high as 0 ° C, preferably about 10 to 15 ° C. In the case of producing a resin-sealed product of an electronic component in this way, when the thermally expanded layers A and B are cooled to room temperature, the layer A shrinks more than the layer B in volume. , A tensile stress is generated between the layer A and the layer B,
The layer B is peeled off by this tensile stress, and a void is formed between the layer A and the layer B. When such voids are formed, the volume shrinkage of the layer A is not limited by the layer B, so that a large tensile stress does not occur in the layer A and the generation of cracks in the layer A is prevented.
【0020】本発明の電子部品封止物を製造する他の方
法においては、前記のようにして形成されたシリコーン
ゲル硬化物層Aの上に、難接着性物質層Cを形成した
後、その上に液状エポキシ樹脂組成物を充填し、液状エ
ポキシ樹脂組成物層B’を形成した後、これを硬化させ
る。前記のようにして電子部品の樹脂封止物を製造する
場合、液状エポキシ樹脂組成物としては、その硬化温度
が100〜180℃、好ましくは120〜160℃のも
のを用い、これをその硬化温度より低い温度に予熱し、
加熱されたシリコーンゲル硬化物層A上に充填し、その
エポキシ樹脂組成物の硬化温度範囲の温度条件下で硬化
させるのが好ましい。層A及び層Cの加熱温度は、11
0〜190℃、好ましくは130〜170℃である。ま
た、層A及び層Cの加熱温度は、前記エポキシ樹脂組成
物の硬化に採用される温度より5〜20℃、好ましくは
10〜15℃程度高い温度であることが好ましい。この
ようにして電子部品の樹脂封止物を製造する場合には、
その熱膨張した層A、B及びCが室温にまで冷却された
ときに、層Aが層B及びCよりも大きく体積収縮するた
めに、層Aと層Cとの間には引張応力が生じ、層Aと層
Cはこの引張応力により剥離し、層Aと層Cとの間には
空隙部が形成される。そして、このような空隙部が形成
されたときには、層Aの体積収縮は、層B及び層Cによ
っては制限されないため、層A内には大きな引張応力が
生じず、層Aの亀裂の発生が防止される。In another method for producing an electronic component encapsulant of the present invention, after forming the hardly-adhesive substance layer C on the silicone gel cured product layer A formed as described above, After the liquid epoxy resin composition is filled on the above to form a liquid epoxy resin composition layer B ′, it is cured. When a resin-sealed product for electronic parts is produced as described above, a liquid epoxy resin composition having a curing temperature of 100 to 180 ° C., preferably 120 to 160 ° C., is used. Preheat to a lower temperature,
It is preferable to fill the heated silicone gel cured product layer A and cure under the temperature condition of the curing temperature range of the epoxy resin composition. The heating temperature of the layers A and C is 11
The temperature is 0 to 190 ° C, preferably 130 to 170 ° C. The heating temperature of the layers A and C is preferably 5 to 20 ° C., preferably about 10 to 15 ° C. higher than the temperature used for curing the epoxy resin composition. In this way, when manufacturing a resin-sealed product for electronic parts,
When the thermally expanded layers A, B and C are cooled to room temperature, a tensile stress is generated between the layers A and C because the layer A shrinks more than the layers B and C by volume. The layers A and C are separated by this tensile stress, and a void is formed between the layers A and C. When such voids are formed, the volume shrinkage of the layer A is not limited by the layers B and C, so that a large tensile stress does not occur in the layer A and cracks in the layer A are not generated. To be prevented.
【0021】本発明で用いるシリコーンゲルとしては、
電子部品の樹脂封止物の製造に用いられている従来公知
のものが任意に用いられる。シリコーンゲルは、硬化性
オルガノポリシロキサン(例えば、ジメチルポリシロキ
サン等)の部分架橋化物で、一般的には、硬化前には低
粘度のオイル状を示し、硬化後には、ゼリー状を示す。
シリコーンゲルには、一液タイプと二液タイプがあり、
いずれのものも本発明に適用することができる。一液タ
イプのものは、通常100℃以上の温度で硬化し、二液
タイプのものは、混合後、室温放置又は70℃程度まで
の加熱によって硬化する。本発明では、一液タイプのも
のの使用が好ましい。シリコーンゲルの硬化の種類に
は、(1)縮合反応により硬化する縮合型の硬化、
(2)付加反応により硬化する付加反応型の硬化及び
(3)紫外線の照射により硬化する紫外線硬化等があ
り、本発明ではいずれの硬化型のものも使用することが
できるが、本発明では付加反応硬化型のものの使用が好
ましい。また、このシリコーンゲルには、シリカ、アル
ミナ、ケイ酸カルシウム、マイカ等の無機充填剤やナイ
ロンビーズ、硬化樹脂粉等の有機系充填剤を添加するこ
ともできる。The silicone gel used in the present invention is
Any conventionally known one used for manufacturing a resin-sealed product of an electronic component may be arbitrarily used. The silicone gel is a partially crosslinked product of a curable organopolysiloxane (for example, dimethylpolysiloxane), and generally exhibits a low-viscosity oil state before curing and a jelly state after curing.
Silicone gel is available in one-pack type and two-pack type.
Any of these can be applied to the present invention. The one-pack type is usually cured at a temperature of 100 ° C. or higher, and the two-pack type is cured after mixing at room temperature or by heating up to about 70 ° C. In the present invention, it is preferable to use a one-pack type. The types of silicone gel curing include (1) condensation-type curing that cures by a condensation reaction,
There are (2) addition reaction type curing which is cured by an addition reaction and (3) ultraviolet curing which is cured by irradiation of ultraviolet rays. In the present invention, any curing type can be used. It is preferable to use a reaction curing type. Further, to this silicone gel, an inorganic filler such as silica, alumina, calcium silicate, mica or the like, or an organic filler such as nylon beads or cured resin powder can be added.
【0022】本発明で用いる液状エポキシ樹脂組成物と
しては、電子部品の樹脂封止物の製造に用いられている
従来公知のものが任意に用いられる。液状エポキシ樹脂
組成物には、一液タイプと二液タイプがあり、いずれの
ものも本発明に適用することができる。一液タイプのも
のは、通常100℃以上の温度で硬化し、二液タイプの
ものは、混合後、室温放置又は100℃程度までの加熱
によって硬化する。本発明では、一液タイプのものの使
用が好ましい。本発明で好ましく用いられるシリコーン
ゲルとしては、TSE 3051(東芝シリコーン社)
やKE−1255(信越化学工業社)等を挙げることが
できる。As the liquid epoxy resin composition used in the present invention, any conventionally known one used in the production of resin-sealed products for electronic parts can be arbitrarily used. The liquid epoxy resin composition is classified into a one-pack type and a two-pack type, and any of them can be applied to the present invention. The one-pack type is usually cured at a temperature of 100 ° C. or higher, and the two-pack type is cured after mixing at room temperature or by heating up to about 100 ° C. In the present invention, it is preferable to use a one-pack type. The silicone gel preferably used in the present invention is TSE 3051 (Toshiba Silicone Co.).
And KE-1255 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like.
【0023】本発明で用いる液状エポキシ樹脂組成物
は、液状エポキシ樹脂と硬化剤を含むものである。エポ
キシ樹脂としては、従来公知の各種のものが用いられ
る。このようなものとしては、例えば、ビスフェノール
A型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等
のジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;脂環式エポキ
シ樹脂;グリシジルエステル型エポキシ樹脂;グリシジ
ルアミン型エポキシ樹脂;線状脂肪族型エポキシ樹脂;
複素環型エポキシ樹脂;ハロゲン化エポキシ樹脂等があ
げられる。本発明では、特に、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂20〜40重量%と脂環式エポキシ樹脂60〜
80重量%との混合物を用いるのが好ましい。また、そ
の硬化剤としては、カルボン酸又はその無水物、ポリア
ミン、ノボラック型フェノール樹脂等の従来公知のもの
が用いられる。エポキシ樹脂組成物には、必要に応じ、
さらに、硬化促進剤、充填剤、着色剤、難燃剤、離型
剤、耐湿剤等を配合することができる。硬化促進剤とし
ては、慣用のもの、例えば、イミダゾール化合物、ジア
ザビシクロウンデセン及びそのフェノール塩、トリフェ
ニルホスフィン、三級アミン、アミンアダクト潜在性硬
化促進剤、ジシアンジアミド等が用いられる。充填剤と
しては、アルミナ、シリカ、マグネシア、三酸化アンチ
モン、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、マイカ、ク
レイなどが挙げられる。本発明においては、液状エポキ
シ樹脂組成物には、前記のように、そのシリコーンゲル
硬化物に対する接着性を低下させるために、接着性低下
剤を添加することができるが、その接着性は、組成物を
構成するエポキシ樹脂、硬化剤、充填剤等の成分の種類
と配合量等を適当に選ぶことによっても所望範囲に低下
させることも可能である。The liquid epoxy resin composition used in the present invention contains a liquid epoxy resin and a curing agent. Various conventionally known epoxy resins are used as the epoxy resin. Examples thereof include diglycidyl ether type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin; novolac type epoxy resins such as phenol novolac type epoxy resin and cresol novolac type epoxy resin; alicyclic. Epoxy resin; Glycidyl ester type epoxy resin; Glycidyl amine type epoxy resin; Linear aliphatic type epoxy resin;
Heterocyclic epoxy resins; halogenated epoxy resins and the like. In the present invention, in particular, 20 to 40% by weight of the bisphenol A type epoxy resin and the alicyclic epoxy resin 60 to
Preference is given to using a mixture with 80% by weight. Further, as the curing agent, conventionally known ones such as carboxylic acid or anhydride thereof, polyamine, novolac type phenol resin and the like are used. The epoxy resin composition, if necessary,
Further, a curing accelerator, a filler, a colorant, a flame retardant, a release agent, a moisture resistance agent, etc. can be added. As the curing accelerator, a conventional one, for example, an imidazole compound, diazabicycloundecene and a phenol salt thereof, triphenylphosphine, a tertiary amine, an amine adduct latent curing accelerator, dicyandiamide or the like is used. Examples of the filler include alumina, silica, magnesia, antimony trioxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, mica and clay. In the present invention, as described above, the liquid epoxy resin composition may be added with an adhesiveness-reducing agent in order to reduce the adhesiveness to the silicone gel cured product. It is also possible to reduce the amount to a desired range by appropriately selecting the types and blending amounts of the components such as the epoxy resin, the curing agent and the filler constituting the product.
【0024】[0024]
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
【0025】実施例1 図1に記した構造の電子部品の樹脂封止物を得るための
模擬実験として、外径195mm、内径193mm,高
さ20mmのガラスシャーレ内に、シリコーンゲルG
と、液状エポキシ樹脂組成物Eに表1に示す接着性低下
剤を0.25重量%添加したものとをそれぞれ充填硬化
させる実験を以下のようにして行った。シリコーンゲル
Gを60℃で1時間オーブン中で予熱した後、5トール
以下の真空槽内で30分間脱泡した。この脱泡シリコー
ンゲルを60℃の温度でガラスシャーレ内に厚さが12
mmになるように充填し、150℃で1時間オーブン中
で加熱し、硬化させた。次に、このようにして得たシリ
コーンゲル硬化物層を内部に形成したシャーレをオーブ
ン中で150℃で1時間放置してシリコーンゲル硬化物
を膨張させるとともに、このシリコーンゲル硬化物層の
上に、60℃に予熱し、5トール以下の真空層内で30
分間脱泡した液状エポキシ樹脂組成物Eを、約6mmの
厚さになるように充填し、オーブン中で140℃で1時
間加熱硬化させた後、シャーレをオーブンから取出し、
室温に30分以上放置して室温に冷却した。このように
して得られた内部にシリコーンゲル硬化物層Aとその上
面に形成されたエポキシ樹脂組成物硬化物層Bとからな
る樹脂層を有するシャーレの裏面から、シリコーンゲル
硬化物層Aに亀裂が生じているか否かを目視で判定し
た。その結果を表1に示す。また、そのシャーレの裏面
からシリコーンゲル硬化物層Aとエポキシ樹脂組成物硬
化物層Bとの間の界面に空隙が生じているか否かを目視
で判定した。その結果を表1に示す。空隙が生じている
場合には、層Bは層Aを通してやや不透明にしか目視で
きないのに対し、空隙が生じてなく、層Aと層Bとの間
が密着している場合には、層Bは層Aを通して透明性よ
く目視できる。Example 1 As a simulation experiment for obtaining a resin-sealed product of an electronic component having the structure shown in FIG. 1, a silicone gel G was placed in a glass petri dish having an outer diameter of 195 mm, an inner diameter of 193 mm and a height of 20 mm.
An experiment of filling and curing liquid epoxy resin composition E with the adhesiveness-reducing agent shown in Table 1 in an amount of 0.25% by weight was carried out as follows. Silicone gel G was preheated at 60 ° C. for 1 hour in an oven and then degassed for 30 minutes in a vacuum chamber at 5 torr or less. The defoamed silicone gel was heated at a temperature of 60 ° C. to a thickness of 12 in a glass petri dish.
It was filled so as to have a size of 10 mm and heated in an oven at 150 ° C. for 1 hour to be cured. Next, the petri dish having the silicone gel cured product layer thus obtained formed therein is left in an oven at 150 ° C. for 1 hour to expand the silicone gel cured product, and at the same time, on the silicone gel cured product layer. Preheat to 60 ° C, 30 in vacuum layer below 5 Torr
The liquid epoxy resin composition E degassed for a minute was filled so as to have a thickness of about 6 mm, heat-cured in an oven at 140 ° C. for 1 hour, and then the petri dish was taken out from the oven.
It was left at room temperature for 30 minutes or longer and cooled to room temperature. A crack is formed in the silicone gel cured product layer A from the back surface of the petri dish having the resin layer composed of the silicone gel cured product layer A and the epoxy resin composition cured product layer B formed on the upper surface inside the thus obtained interior. It was visually judged whether or not the occurrence of the above phenomenon occurred. The results are shown in Table 1. Further, it was visually determined whether or not a void was formed in the interface between the silicone gel cured product layer A and the epoxy resin composition cured product layer B from the back surface of the petri dish. The results are shown in Table 1. When the voids are present, the layer B can be seen only slightly opaque through the layer A, whereas when the voids are not present and the layers A and B are in close contact with each other, the layer B is Is visible through layer A with good transparency.
【0026】[0026]
【表1】 [Table 1]
【0027】前記実験において用いたシリコーンゲルG
とエポキシ樹脂組成物E及び接着性低下剤Y−1〜Y−
8の具体的内容は以下の通りである。 (シリコーンゲルG)ジメチルポリシロキサン系の付加
反応硬化型(TSE3051、東芝シリコーン社製) (エポキシ樹脂組成物E) 〔成分〕 〔組成(重量部)〕 ビスフェノールA型エポキシ樹脂 10 (Araldite GY−260、日本チバガイギー社製) 脂環式エポキシ樹脂 20 (Aral dite CY−179、日本チバガイギー社製) 硬化剤 30 (メチルヘキサヒドロ無水フタル酸) 硬化促進剤 0.5 (トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール) 0.5 シランカップリンク剤 0.1 (β−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン) 難燃剤 16 (ヘキサブロモベンゼン) 難燃助剤 4 (三酸化アンチモン) 充填剤 120 (シリカ粉末)Silicone gel G used in the above experiment
And epoxy resin composition E and adhesion-reducing agents Y-1 to Y-
The specific contents of No. 8 are as follows. (Silicone gel G) Dimethyl polysiloxane-based addition reaction curing type (TSE3051, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) (Epoxy resin composition E) [Component] [Composition (parts by weight)] Bisphenol A type epoxy resin 10 (Araldite GY-260) , Manufactured by Japan Ciba-Geigy) Alicyclic epoxy resin 20 (Aral site CY-179, manufactured by Nippon Ciba-Geigy) Curing agent 30 (Methylhexahydrophthalic anhydride) Curing accelerator 0.5 (Tris (dimethylaminomethyl) phenol) 0.5 Silane coupling agent 0.1 (β-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane) Flame retardant 16 (Hexabromobenzene) Flame retardant aid 4 (Antimony trioxide) Filler 120 (Silica powder)
【0028】(接着性低下剤) Y−1:フッ素系界面活性剤(Fluorad FC−
430、住友スリーエム社製) Y−2:フッ素系界面活性剤(Fluorad FC−
431、住友スリーエム社製) Y−3:アクリルポリマー(BYK 354、ビックケ
ミー・ジャパン社製) Y−4:アクリル共重合物(BYK 361、ビックケ
ミー・ジャパン社製) Y−5:高分子量不飽和ポリカルボン酸(BYK−P1
04、ビックケミー・ジャパン社製) Y−6:高分子量不飽和ポリカルボン酸とシリコン樹脂
との混合物(BYK−P104S、ビックケミー・ジャ
パン社製) Y−7:アミノ樹脂変性アクリル共重合体(Addif
ol XL490、ヘキストジャパン社製) Y−8:ポリジメチルシクロヘキサン側鎖グリシジルポ
リオキシアルキレン(FZ−3736、日本ユニカー社
製)(Adhesion-reducing agent) Y-1: Fluorine-based surfactant (Fluorad FC-)
430, manufactured by Sumitomo 3M Ltd.) Y-2: Fluorine-based surfactant (Fluorad FC-)
431, manufactured by Sumitomo 3M Ltd. Y-3: acrylic polymer (BYK 354, manufactured by Big Chemie Japan) Y-4: acrylic copolymer (BYK 361, manufactured by Big Chemie Japan) Y-5: high molecular weight unsaturated poly Carboxylic acid (BYK-P1
04, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. Y-6: A mixture of a high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid and a silicone resin (BYK-P104S, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) Y-7: Amino resin-modified acrylic copolymer (Addif)
ol XL490, manufactured by Hoechst Japan) Y-8: Polydimethylcyclohexane side chain glycidyl polyoxyalkylene (FZ-3736, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.)
【0029】実施例2 実施例1と同様にしてガラスシャーレ内にシリコーンゲ
ル硬化物層を形成させ、このシリコーンゲルを170℃
に加熱するとともに、温度165℃の溶融ポリプロピレ
ンを約1.5mmの厚さになるように充填した後、温度
を150℃に保持し、液状エポキシ樹脂組成物Eを約6
mmの厚さになるように充填し、オーブン中で140℃
で1時間加熱硬化させた後、シャーレをオーブンから取
出し、室温に30分以上放置して室温に冷却した。この
ようにして得られた内部にシリコーンゲル硬化物層Aと
その上面に形成されたポリプロピレン層Cとその上面に
形成されたエポキシ樹脂組成物硬化物層Bとからなる樹
脂層を有するシャーレの裏面から、シリコーンゲル硬化
物層Aに亀裂が生じているか否かを目視で判定するとと
もに、シリコーンゲル硬化物層Aとポリプロピレン層C
との間に空隙があるか否かを目視で判定した。その結
果、シリコーンゲル硬化物層Aには亀裂の発生はなく、
また、シリコーンゲル硬化物層Aとポリプロピレン層C
との間には空隙が生じていることが確認された。Example 2 A silicone gel cured product layer was formed in a glass petri dish in the same manner as in Example 1, and this silicone gel was heated at 170 ° C.
The mixture was heated to 150 ° C. and filled with molten polypropylene having a temperature of 165 ° C. so as to have a thickness of about 1.5 mm.
Fill to a thickness of mm and 140 ° C in an oven
After being cured by heating for 1 hour, the petri dish was taken out from the oven, left at room temperature for 30 minutes or more, and cooled to room temperature. The back surface of a petri dish having a resin layer composed of a silicone gel cured product layer A, a polypropylene layer C formed on the upper surface thereof, and an epoxy resin composition cured product layer B formed on the upper surface thereof in the inside thus obtained. From the above, it is visually judged whether or not the silicone gel cured product layer A is cracked, and the silicone gel cured product layer A and the polypropylene layer C are
It was visually determined whether or not there was a gap between the two. As a result, the silicone gel cured product layer A has no cracks,
In addition, a silicone gel cured product layer A and a polypropylene layer C
It was confirmed that there was a gap between and.
【0030】実施例3 シリコーンゲル硬化物に対するエポキシ樹脂組成物の引
張接着強度と、シリコーンゲル硬化物層の上面にエポキ
シ樹脂組成物硬化物層を形成したときのそのシリコーン
ゲル硬化物層での亀裂の発生状況との関係を調べるため
に、以下の実験を行った。Example 3 Tensile Adhesive Strength of Epoxy Resin Composition to Silicone Gel Cured Product and Cracking of Silicone Gel Cured Product Layer When Curing Epoxy Resin Composition Cured Layer on Top of Silicone Gel Cured Product Layer The following experiment was conducted to investigate the relationship with the occurrence status of.
【0031】(シリコーンゲル硬化物に対するエポキシ
樹脂組成物の引張接着強度の測定)実施例1で示したシ
リコーンゲルGを、実施例1と同様にして、内径90m
m、高さ18mmのシャーレ内に充填し、硬化させて、
厚さ10mmのシリコーンゲル硬化物層を形成した。次
に、このシリコーンゲル硬化物層の上に、中央部に20
mm×20mmの正方形の透孔を有する厚さ2mmのシ
リコーン樹脂シートを密着積層した。次に、直径1.5
mmの針金の下端を直径(外径)10mmのループ形状
に屈曲させ、このループをその針金に対して直角に屈折
させるとともに、その針金の上端を逆U字形状に下方に
屈曲させて全長約5cmの引張り部材を作り、この引張
り部材を、前記で形成した透孔の中心部を通して、その
下端ループの裏面がシリコーンゲル硬化物層の表面に接
触しないように垂直に挿入し、この状態において、その
透孔から液状エポキシ樹脂組成物を充填し、実施例1と
同様にして、温度140℃で1時間の条件で硬化させ
た。その後、シリコーン樹脂シートを取除き、シャーレ
内に形成された厚さ10mmのシリコーンゲル硬化物層
Aの上面に、縦20mm、横20mm、厚さ2mmのエ
ポキシ樹脂組成物硬化物層Bを積層接着させた樹脂積層
品を得た。(Measurement of Tensile Adhesive Strength of Epoxy Resin Composition to Cured Silicone Gel) Silicone gel G shown in Example 1 was treated in the same manner as in Example 1 to obtain an inner diameter of 90 m.
m, filling in a petri dish with a height of 18 mm and curing,
A silicone gel cured product layer having a thickness of 10 mm was formed. Next, on the silicone gel cured product layer, 20
A 2 mm thick silicone resin sheet having a square through hole of mm × 20 mm was adhered and laminated. Next, diameter 1.5
Bend the lower end of the mm wire into a loop shape with a diameter (outer diameter) of 10 mm, bend this loop at a right angle to the wire, and bend the upper end of the wire downward into an inverted U-shape to make the total length approx. A pulling member of 5 cm is made, and this pulling member is vertically inserted through the central portion of the through hole formed above so that the back surface of the lower end loop does not come into contact with the surface of the cured silicone gel layer. A liquid epoxy resin composition was filled from the through holes and cured in the same manner as in Example 1 at a temperature of 140 ° C. for 1 hour. Then, the silicone resin sheet is removed, and an epoxy resin composition cured product layer B having a length of 20 mm, a width of 20 mm and a thickness of 2 mm is laminated and adhered on the upper surface of the silicone gel cured product layer A having a thickness of 10 mm formed in the petri dish. The resin laminated product thus obtained was obtained.
【0032】次に、エポキシ樹脂組成物のシリコーンゲ
ル硬化物に対する引張接着強度を測定するために、前記
エポキシ樹脂組成物硬化物層Bにその下端ループを埋設
した引張り部材のワイヤーの上端に形成された逆U字形
状の屈曲部にバネばかりの測定端を連結させ、バネばか
りを引上げてエポキシ樹脂組成物硬化物層Bを剥離させ
た。エポキシ樹脂組成物硬化物層Bがシリコーンゲル硬
化物層Bから剥離するときのバネばかりの最大値を測定
し、この値を引張接着力とした 前記のようにして測定された引張接着力に基づいて、単
位面積当りの引張接着力(引張接着強度)を算出し、そ
の引張接着強度(g/cm2)をエポキシ樹脂組成物と
の関連で表2に示す。Next, in order to measure the tensile adhesive strength of the epoxy resin composition to the cured product of silicone gel, the epoxy resin composition cured product layer B is formed on the upper end of the wire of the tensile member in which the lower end loop is embedded. The measuring end of the spring weigher was connected to the bent portion of the inverted U shape, and the spring weigher was pulled up to separate the cured epoxy resin composition layer B. The maximum value of the spring weigh when the epoxy resin composition cured product layer B was peeled from the silicone gel cured product layer B was measured, and this value was taken as the tensile adhesive force based on the tensile adhesive force measured as described above. The tensile adhesive strength per unit area (tensile adhesive strength) was calculated, and the tensile adhesive strength (g / cm 2 ) is shown in Table 2 in relation to the epoxy resin composition.
【0033】[0033]
【表2】 [Table 2]
【0034】表2に符号で示したエポキシ樹脂組成物の
具体的内容は次の通りである。 E :実施例1で示したエポキシ樹脂組
成物E E−Y−7−0.1:エポキシ樹脂組成物Eに対し、実
施例1で示した接着性低下剤Y−7を0.1重量%添加
したもの E−Y−7−0.2:エポキシ樹脂組成物Eに対し、実
施例1で示した接着性低下剤Y−7を0.2重量%添加
したもの E−Y−7−0.3:エポキシ樹脂組成物Eに対し、実
施例1で示した接着性低下剤Y−7を0.3重量%添加
したものThe concrete contents of the epoxy resin composition shown by the reference numeral in Table 2 are as follows. E: Epoxy resin composition E shown in Example 1 E-Y-7-0.1: 0.1% by weight of the adhesion-reducing agent Y-7 shown in Example 1 with respect to the epoxy resin composition E. EY-7-0.2: Epoxy resin composition E to which 0.2% by weight of the adhesiveness-reducing agent Y-7 shown in Example 1 was added EY-7-0 0.3: 0.3% by weight of the adhesion-reducing agent Y-7 shown in Example 1 was added to the epoxy resin composition E.
【0035】(シリコーンゲル硬化物層とエポキシ樹脂
組成物層との積層実験)実施例1において、エポキシ樹
脂組成物として表2に示したものを用いた以外は同様に
して実験を行った。その結果を表3に示す。(Lamination Experiment of Silicone Gel Cured Product Layer and Epoxy Resin Composition Layer) An experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin composition shown in Table 2 was used. Table 3 shows the results.
【0036】[0036]
【表3】 [Table 3]
【0037】表3に示した結果からわかるように、シリ
コーンゲル硬化物に対するエポキシ樹脂組成物の引張接
着強度を低下させることによって、シリコーンゲル硬化
物層Aとエポキシ樹脂組成物硬化物層Bとの間に空隙を
生じさせて両層の間を実質的に非接着状態に保持するこ
とができ、その結果、シリコーンゲル硬化物層A中での
亀裂の発生を防止することができる。As can be seen from the results shown in Table 3, the silicone gel cured product layer A and the epoxy resin composition cured product layer B were formed by reducing the tensile adhesive strength of the epoxy resin composition to the silicone gel cured product. Voids can be created between the two layers to maintain a substantially non-adhesive state between the two layers, and as a result, generation of cracks in the cured silicone gel layer A can be prevented.
【0038】実施例4 図1に示す構造の電子部品の樹脂封止物(パワーモジュ
ール)を作製した。この場合、シリコーンゲルとしては
実施例1で示したシリコーンゲルGを用い、液状エポキ
シ樹脂組成物としては、実施例3で示したE−Y−7−
0.3を用いた。また、それらのシリコーンゲル及び液
状エポキシ樹脂組成物の構造物内への充填は、実施例1
と同様にして行った。このようにして作製された電子部
品の樹脂封止物は、そのシリコーンゲル硬化物層での亀
裂の発生はなく、高電圧(9〜11hv/mm)に対し
てすぐれた電気絶縁性を示した。Example 4 A resin-sealed product (power module) of an electronic component having the structure shown in FIG. 1 was produced. In this case, the silicone gel G shown in Example 1 was used as the silicone gel, and the EY-7- shown in Example 3 was used as the liquid epoxy resin composition.
0.3 was used. Further, the filling of the silicone gel and the liquid epoxy resin composition into the structure was carried out according to Example 1
I went in the same way. The resin-sealed product of the electronic component produced in this manner did not cause cracks in the silicone gel cured product layer and showed excellent electrical insulation properties against high voltage (9 to 11 hv / mm). .
【0039】[0039]
【発明の効果】本発明の電子部品の樹脂封止物は、その
シリコーンゲル硬化物層Aとエポキシ樹脂組成物硬化物
層Bとの間が非接着状態に形成され、シリコーンゲル硬
化物層Aでの亀裂の発生のないことから、すぐれた電気
絶縁性を有する。従来のシリコーンゲル硬化物層Aに亀
裂の生じた製品におけるシリコーンゲル硬化物層Aでの
破壊電圧は3〜8kg/mmと低いのに対し、本発明品
におけるシリコーンゲル硬化物層Aにおける破壊電圧は
9〜11kg/mmと高められたものである。本発明の
電子部品の樹脂封止物の製造方法によれば、電気絶縁性
の高い高品質の製品を安定的に製造することができる。
本発明によるシリコーンゲル硬化物に対する引張接着強
度が40g/cm2以下に低下された液状エポキシ樹脂
組成物は、本発明の電子部品の樹脂封止物製造用の液状
エポキシ樹脂組成物として好適のものである。INDUSTRIAL APPLICABILITY In the resin-sealed product of the electronic component of the present invention, the silicone gel cured product layer A and the epoxy resin composition cured product layer B are formed in a non-adhesive state, and the silicone gel cured product layer A is formed. It has excellent electrical insulation because it does not crack. The breakdown voltage of the conventional silicone gel cured product layer A is as low as 3 to 8 kg / mm in the product having cracks in the silicone gel cured product layer A, whereas the breakdown voltage of the silicone gel cured product layer A of the present invention product is low. Is increased to 9 to 11 kg / mm. According to the method for producing a resin-sealed product of an electronic component of the present invention, a high-quality product having high electric insulation can be stably produced.
The liquid epoxy resin composition having a tensile adhesive strength to the cured silicone gel product of the present invention reduced to 40 g / cm 2 or less is suitable as a liquid epoxy resin composition for producing a resin encapsulant for electronic parts of the present invention. Is.
【図1】本発明による電子部品の樹脂封止物の一例につ
いての構造説明図を示す。FIG. 1 is a structural explanatory view of an example of a resin-sealed product of an electronic component according to the present invention.
1 放射板 2 プラスチック周壁 3 シリコーン系接着剤層 4 半田層 5 配線基板 6 電子部品 7 導電性ワイヤー 8〜12 外部端子 A シリコーンゲル硬化物層 B エポキシ樹脂組成物硬化物層 1 Radiating Plate 2 Plastic Peripheral Wall 3 Silicone Adhesive Layer 4 Solder Layer 5 Wiring Board 6 Electronic Component 7 Conductive Wire 8-12 External Terminal A Silicone Gel Cured Product Layer B Epoxy Resin Composition Cured Product Layer
Claims (7)
物層Aの上面にエポキシ樹脂組成物硬化物層Bを形成さ
せた構造を有し、前記層Aと層Bとの間が実質的に非接
着状態にあることを特徴とする電子部品の樹脂封止物。1. A structure having a cured epoxy resin composition layer B formed on the upper surface of a cured silicone gel layer A for encapsulating electronic parts, wherein the space between the layer A and the layer B is substantially A resin-sealed product for electronic parts, which is in a non-bonded state.
求項1の電子部品の樹脂封止物。2. The resin-sealed product for an electronic component according to claim 1, wherein a void portion is present between the layer A and the layer B.
物層Aの上面に難接着性物質層Cを介してエポキシ樹脂
組成物硬化物層Bを形成させた構造を有し、前記層Aと
層Cとの間が実質的に非接着状態にあることを特徴とす
る電子部品の樹脂封止物。3. An epoxy resin composition cured product layer B is formed on the upper surface of a silicone gel cured product layer A for encapsulating an electronic component via a hardly adhesive substance layer C. A resin encapsulant for an electronic component, which is in a substantially non-adhesive state with the layer C.
求項3の電子部品の樹脂封止物。4. The resin-sealed product for an electronic component according to claim 3, wherein a void portion is present between the layer A and the layer C.
物層Aを高められた温度に保持し、この高められた温度
にあるシリコーンゲル硬化物層Aの上にシリコーンゲル
硬化物に対する引張接着強度が40g/cm2以下であ
る液状エポキシ樹脂組成物層B’を形成し、この液状エ
ポキシ樹脂組成物層B’を加熱硬化させてエポキシ樹脂
組成物硬化物層Bを形成させた後冷却し、前記シリコー
ンゲル硬化物層Aとエポキシ樹脂組成物硬化物層Bとの
間を実質的に非接着状態に形成することを特徴とする電
子部品の樹脂封止物の製造方法。5. A silicone gel cured product layer A for encapsulating an electronic component is held at an elevated temperature, and the silicone gel cured product layer A at this elevated temperature has a tensile adhesive strength to the silicone gel cured product. Of 40 g / cm 2 or less is formed, and the liquid epoxy resin composition layer B ′ is formed, and the liquid epoxy resin composition layer B ′ is cured by heating to form the cured epoxy resin composition layer B, and then cooled, A method for producing a resin-encapsulated product for electronic parts, characterized in that the silicone gel cured product layer A and the epoxy resin composition cured product layer B are formed in a substantially non-adhesive state.
物層Aの上に、シリコーンゲル硬化物に対する引張接着
強度が40g/cm2以下である難接着性物質層Cを形
成するとともに、このシリコーンゲル硬化物層A及び難
接着性物質層Cを高められた温度に保持し、この高めら
れた温度にある難接着性物質層Cの上に液状エポキシ樹
脂組成物層B’を形成し、この液状エポキシ樹脂組成層
B’を加熱硬化させてエポキシ樹脂組成物硬化物層Bを
形成した後冷却し、前記シリコーンゲル硬化物層Aと難
接着性物質層Cとの間を実質的に非接着状態に形成する
ことを特徴とする電子部品の樹脂封止物の製造方法。6. A hard-to-adhere substance layer C having a tensile adhesive strength of 40 g / cm 2 or less with respect to a silicone gel cured product is formed on the silicone gel cured product layer A for encapsulating electronic parts, and this silicone is also used. The gel cured product layer A and the hardly-adhesive substance layer C are kept at an elevated temperature, and a liquid epoxy resin composition layer B ′ is formed on the hardly-adhesive substance layer C at this elevated temperature. The liquid epoxy resin composition layer B ′ is heat-cured to form the epoxy resin composition cured product layer B and then cooled, and the silicone gel cured product layer A and the hardly-adhesive substance layer C are substantially non-adhesive. 1. A method for manufacturing a resin-sealed product for an electronic component, which is characterized in that
強度が、40g/cm2以下であることを特徴とする液
状エポキシ樹脂組成物。7. A liquid epoxy resin composition having a tensile adhesive strength to a silicone gel cured product of 40 g / cm 2 or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21315994A JPH0855941A (en) | 1994-08-15 | 1994-08-15 | Electronic part sealing resin package and epoxy resin composition used for it |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21315994A JPH0855941A (en) | 1994-08-15 | 1994-08-15 | Electronic part sealing resin package and epoxy resin composition used for it |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0855941A true JPH0855941A (en) | 1996-02-27 |
Family
ID=16634550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21315994A Pending JPH0855941A (en) | 1994-08-15 | 1994-08-15 | Electronic part sealing resin package and epoxy resin composition used for it |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0855941A (en) |
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1994
- 1994-08-15 JP JP21315994A patent/JPH0855941A/en active Pending
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