JPH0859301A - Ultraviolet heat shielding glass - Google Patents
Ultraviolet heat shielding glassInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高い可視光線透過率及び良好な紫外線熱線遮
断性能が要求される部位に好適に使用することができる
紫外線熱線遮断ガラスを提供すること。
【構成】 透明なガラス基板上に、基板側より第1層と
して亜鉛、セリウム、チタン及びカドミニウムから成る
群から選ばれた少なくとも1種を成分とする紫外線遮断
性能を有する酸化物、これらの複合酸化物又はこれらの
酸化物に微量の金属元素を添加した複合酸化物を含有す
る第1の透明誘電体膜を設け、前記第1層上に第2層と
して第2の透明誘電体膜を設け、該第2層上に第3層と
して周期律表のIIIa族、IVa族、Vb族、VIb
族及びVIIb族から成る群から選ばれた少なくとも1
種の金属元素を含有する複合酸化タングステン膜を設
け、前記第3層上に第4層として第3の透明誘電体膜を
設けてなることを特徴とする紫外線熱線遮断ガラス。
(57) [Summary] [Object] To provide an ultraviolet heat ray-shielding glass that can be suitably used in a site where high visible light transmittance and good ultraviolet ray heat-shielding performance are required. [Structure] On a transparent glass substrate, as a first layer from the side of the substrate, an oxide having an ultraviolet-blocking property containing at least one selected from the group consisting of zinc, cerium, titanium and cadmium, and a composite oxide of these. A first transparent dielectric film containing a compound or a complex oxide obtained by adding a trace amount of a metal element to these oxides, and providing a second transparent dielectric film as a second layer on the first layer, On the second layer, as a third layer, a group IIIa, a group IVa, a group Vb, and a group VIb of the periodic table.
At least one selected from the group consisting of Group VIIb and Group VIIb
An ultraviolet heat ray-shielding glass, comprising a composite tungsten oxide film containing one kind of metal element, and a third transparent dielectric film as a fourth layer provided on the third layer.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、自動車用や建築用窓ガ
ラスとして好適な紫外線熱線遮断ガラスに関し、特に高
い可視光線透過率及び良好な紫外線熱線遮断性能が要求
される部位に好適に使用することができる紫外線熱線遮
断ガラスに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultraviolet heat ray-shielding glass suitable as a window glass for automobiles and constructions, and is particularly suitable for use in a part where a high visible light transmittance and a good ultraviolet heat ray-shielding performance are required. It relates to an ultraviolet heat ray-shielding glass capable of
【0002】[0002]
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、省エネルギーの観点から窓ガラスを通じて自動車や
建築物の室内に照射される太陽光の特定の波長部分を遮
断し、室内の温度上昇を減少させると共に、冷房機器の
負荷をも低減させるため、熱線遮断性の高い窓ガラスが
要求されている。2. Description of the Related Art Conventionally, from the viewpoint of energy saving, a specific wavelength portion of sunlight radiated to the interior of an automobile or a building through a window glass is cut off to reduce the temperature rise in the interior. At the same time, in order to reduce the load on the cooling equipment, a window glass having a high heat ray-shielding property is required.
【0003】熱線を遮断する方法としては、いわゆるド
ルーデミラーと呼ばれる透明基板上に酸化インジウムと
酸化錫の混合膜(ITO膜)やアルミニウムを添加した
酸化亜鉛膜に代表される透明導電性膜を成膜して熱線を
遮断する方法が知られている。このタイプのガラスは熱
線を遮断するものの遮断する波長が1.5μm以上であ
り、熱線遮断性能はあまり良くない。As a method of blocking heat rays, a transparent conductive film typified by a mixed film of indium oxide and tin oxide (ITO film) or a zinc oxide film added with aluminum is formed on a transparent substrate called a so-called drude mirror. A method of forming a film to block heat rays is known. This type of glass blocks heat rays, but has a wavelength of 1.5 μm or more, which is not very good.
【0004】また、各種金属膜を積層しドルーデミラー
効果に光干渉効果を組み合わせて特定波長の光を反射又
は透過させることが知られている。この熱線反射膜とし
ては、例えば銀膜を透明誘電体膜で挟んだ構成が提案さ
れ(特公昭47−6315号公報)、また窒化物膜を透
明誘電体膜で挟んだ構成が提案されている(特開昭63
−206333号公報)。Further, it is known that various metal films are laminated to combine a drude mirror effect with an optical interference effect to reflect or transmit light of a specific wavelength. As this heat ray reflective film, for example, a structure in which a silver film is sandwiched between transparent dielectric films is proposed (Japanese Patent Publication No. 47-6315), and a structure in which a nitride film is sandwiched between transparent dielectric films is proposed. (JP-A-63
-206333 publication).
【0005】しかしながら、上記公報に記載された熱線
遮断ガラスは熱線反射性のみを目的にしているため、後
述の紫外線遮断性能はない。また、特定の波長のみを透
過又は反射させる光学フィルターとして高屈折率層と低
屈折率層を特定膜厚だけ交互に多層積層させる方法が知
られており、主として酸化チタンと酸化シリコンで形成
されているが、この場合は特定波長のフィルターを目的
にしており、必ずしも本発明の目的とする遮断性能が得
られないと共に極めて多くの層が必要であった。However, since the heat ray-shielding glass described in the above publication is intended only for heat ray-reflecting property, it does not have the ultraviolet ray-shielding performance described later. Further, as an optical filter that transmits or reflects only a specific wavelength, a method is known in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated in multiple layers, and are mainly formed of titanium oxide and silicon oxide. However, in this case, the purpose is a filter of a specific wavelength, and the cut-off performance intended by the present invention is not always obtained, and an extremely large number of layers are required.
【0006】その他の方法としてガラス板中に特定の金
属元素等を混入させ熱線を吸収させる方法が知られてい
る。このタイプのガラスは特定の金属元素をガラスに添
加することで熱線遮断性が得られるが、添加量を増加す
るとガラス板自体の機械的強度を弱め、また良好な熱線
遮断性を得るには使用する金属元素が限定されるため色
合いの点で問題がある。As another method, there is known a method of absorbing a heat ray by mixing a specific metal element or the like into a glass plate. This type of glass can be obtained by adding a specific metal element to the glass to obtain heat-ray shielding properties.However, increasing the addition amount weakens the mechanical strength of the glass plate itself, and is used to obtain good heat-ray shielding properties. There is a problem in terms of hue because the metal elements to be used are limited.
【0007】一方、紫外線に関しては紫外線が人体に吸
収されると日焼けを生じたり、メラニン色素が沈着して
シミ、ソバカスとなり皮膚を老化させると言われてい
る。また、紫外線照射により車内の内装材の色あせ、劣
化も生じると言われている。この様な観点から紫外線遮
断性能のあるガラスが求められている。On the other hand, with respect to ultraviolet rays, it is said that when the ultraviolet rays are absorbed by the human body, sunburn occurs, and melanin pigments are deposited to form spots and freckles, which causes skin aging. Further, it is said that the interior materials inside the vehicle are faded and deteriorated by the irradiation of ultraviolet rays. From such a point of view, a glass having an ultraviolet blocking performance is required.
【0008】以上のようなニーズに対して紫外線及び熱
線を同時に遮断する方法として、熱線遮断層と紫外線遮
断層とをそれぞれ別々にガラス表面上に層状に形成する
方法が知られており、特開昭61−132902号公報
には紫外線吸収能を有する酸化亜鉛膜を形成し、この膜
上に酸化亜鉛にアルミニウムを0.4〜10原子%含ま
せて熱線遮断性能を付与した紫外線熱線遮断ガラスが開
示されている。As a method for simultaneously blocking ultraviolet rays and heat rays in response to the above needs, there is known a method in which a heat ray blocking layer and an ultraviolet ray blocking layer are separately formed in layers on the glass surface. JP-A-61-132902 discloses an ultraviolet heat ray-shielding glass in which a zinc oxide film having an ultraviolet absorbing ability is formed, and zinc oxide contains aluminum in an amount of 0.4 to 10 atomic% to impart heat ray shielding performance. It is disclosed.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に記載された熱線遮断機能は、上記の技術により形成
されるが、未だ満足すべき性能を発揮し得ないという欠
点があった。また、例えば銀膜を利用した場合には、銀
膜はシート抵抗値が数Ω−10Ω/□程度の値を有して
おり電波遮断性の高いものとなる。熱線遮断ガラスとし
てこのような導電性膜を使用すると電波も遮断し、電波
を透過する必要がある場所、例えば自動車の車室内やラ
ジオ、テレビを設置してある建物内等では携帯電話、ラ
ジオ、テレビ等が使用することができないという欠点が
あった。However, although the heat ray blocking function described in the above publication is formed by the above technique, it has a drawback that it cannot yet exhibit satisfactory performance. Further, for example, when a silver film is used, the silver film has a sheet resistance value of about several Ω-10 Ω / □, and has a high radio wave blocking property. When such a conductive film is used as a heat-shielding glass, it also blocks radio waves, and places where it is necessary to transmit radio waves, such as mobile phones, radios, etc. in the interior of automobiles, radios, buildings where TVs are installed, etc. It has a drawback that it cannot be used by televisions and the like.
【0010】また、建築用ガラスとして用いた場合に
は、高層ビルなどで窓ガラスが周囲の電波強度に影響す
ると言われている。更に、従来の紫外線熱線遮断ガラス
にあっては紫外線及び熱線の遮断性能が必ずしも十分で
ないという欠点があった。従って本発明の目的は、簡素
な層構成で紫外線と熱線を同時に遮断する性能を向上し
た紫外線熱線遮断ガラスを提供することにある。When used as architectural glass, it is said that the window glass affects the surrounding radio wave intensity in high-rise buildings and the like. Further, the conventional UV heat ray blocking glass has a drawback that the UV and heat ray blocking performance is not always sufficient. Therefore, an object of the present invention is to provide an ultraviolet heat ray-shielding glass having a simple layered structure and having an improved ability to simultaneously shield ultraviolet rays and heat rays.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は、
透明なガラス基板上に、基板側より第1層として亜鉛、
セリウム、チタン及びカドミニウムから成る群から選ば
れた少なくとも1種を成分とする紫外線遮断性能を有す
る酸化物、これらの複合酸化物又はこれらの酸化物に微
量の金属元素を添加した複合酸化物を含有する第1の透
明誘電体膜を設け、前記第1層上に第2層として第2の
透明誘電体膜を設け、該第2層上に第3層として周期律
表のIIIa族、IVa族、Vb族、VIb族及びVI
Ib族から成る群から選ばれた少なくとも1種の金属元
素を含有する複合酸化タングステン膜を設け、前記第3
層上に第4層として第3の透明誘電体膜を設けてなるこ
とを特徴とする紫外線熱線遮断ガラスにより達成され
た。SUMMARY OF THE INVENTION The above objects of the present invention are as follows.
Zinc as the first layer from the substrate side on the transparent glass substrate,
Containing an oxide having an ultraviolet ray blocking performance, which contains at least one selected from the group consisting of cerium, titanium and cadmium, a composite oxide of these, or a composite oxide obtained by adding a trace amount of a metal element to these oxides. A first transparent dielectric film, a second transparent dielectric film is provided as a second layer on the first layer, and a third layer is a third layer on the second layer. , Vb, VIb and VI
Providing a composite tungsten oxide film containing at least one metal element selected from the group consisting of Group Ib,
This has been achieved by an ultraviolet heat ray-shielding glass characterized in that a third transparent dielectric film is provided as a fourth layer on the layer.
【0012】以下、本発明を更に詳細に説明する。図1
は本発明の熱線遮断ガラスの構成を示す。図1におい
て、1は透明なガラス基板を示す。この透明なガラス基
板は、ソーダライムガラスやアルミノシリケートガラス
などの各種ガラス板、グレー、ブルー、ブロンズ及びグ
リーン色などの着色ガラス板、ポリメチルメタアクリレ
ート(PMMA)やポリカーボネイト(PC)などの透
明樹脂基板から適宜選択することができる。The present invention will be described in more detail below. FIG.
Shows the constitution of the heat ray shielding glass of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a transparent glass substrate. This transparent glass substrate includes various glass plates such as soda lime glass and aluminosilicate glass, colored glass plates such as gray, blue, bronze and green, and transparent resins such as polymethylmethacrylate (PMMA) and polycarbonate (PC). It can be appropriately selected from the substrates.
【0013】図1において、2は第1層として前記透明
なガラス基板1上に設けられた亜鉛、セリウム、チタ
ン、カドミニウムのいずれかを主成分とする紫外線遮断
性能を有する酸化物、これらの複合酸化物又はこれらの
酸化物に微量の金属元素を添加した複合酸化物を含有す
る第1の透明誘電体膜を示す。In FIG. 1, reference numeral 2 denotes an oxide, which is provided as a first layer on the transparent glass substrate 1 and has an ultraviolet ray-shielding property containing zinc, cerium, titanium or cadmium as a main component, and a composite thereof. 1 shows a first transparent dielectric film containing an oxide or a composite oxide obtained by adding a trace amount of a metal element to these oxides.
【0014】3は第2層として第1の透明誘電体膜2上
に設けられた第2の透明誘電体膜を示す。4は第3層と
して前記第2の透明誘電体膜3上に設けられた周期律表
のIIIa族、IVa族、Vb族、VIb族及びVII
b族から成る群から選ばれた少なくとも1種の金属元素
を含有する複合酸化タングステン膜を示す。5は第4層
として前記複合酸化タングステン膜4上に設けられた第
3の透明誘電体膜を示す。Reference numeral 3 denotes a second transparent dielectric film provided as a second layer on the first transparent dielectric film 2. Reference numeral 4 indicates a group IIIa, IVa, Vb, VIb and VII of the periodic table provided as a third layer on the second transparent dielectric film 3.
2 shows a composite tungsten oxide film containing at least one metal element selected from the group consisting of group b. Reference numeral 5 denotes a third transparent dielectric film provided on the composite tungsten oxide film 4 as a fourth layer.
【0015】第1の透明誘電体膜2は上記の誘電体から
任意に選択することができるが、特に酸化亜鉛、酸化亜
鉛と酸化セリウム、酸化カドミニウム、酸化シリコンな
どの透明誘電体よりなる複合誘電体膜、及び酸化チタン
と酸化セリウムよりなる複合誘電体膜が好ましい。これ
はこれらの膜が優れた紫外線遮断性能と可視光線域での
透明性を有するためである。The first transparent dielectric film 2 can be arbitrarily selected from the above-mentioned dielectrics, but in particular, it is a composite dielectric composed of a transparent dielectric such as zinc oxide, zinc oxide and cerium oxide, cadmium oxide, or silicon oxide. A body film and a composite dielectric film composed of titanium oxide and cerium oxide are preferable. This is because these films have excellent ultraviolet blocking performance and transparency in the visible light region.
【0016】微量金属としては鉄、クロム、シリコンが
好ましく用いられ、その添加量は1〜10原子%の範囲
である。この範囲を超える添加量になると紫外線遮断性
能が向上しない。特に酸化亜鉛に鉄、クロム、シリコン
を少なくとも1種1〜10原子%の範囲で添加したもの
が好ましい。これはこれらの膜が優れた紫外線遮断性能
と可視光線域での透明性を有するためである。Iron, chromium, and silicon are preferably used as the trace metal, and the addition amount thereof is in the range of 1 to 10 atomic%. If the amount added exceeds this range, the ultraviolet blocking performance will not be improved. Particularly preferred is zinc oxide to which at least one kind of iron, chromium, and silicon is added in the range of 1 to 10 atomic%. This is because these films have excellent ultraviolet blocking performance and transparency in the visible light region.
【0017】第1の透明誘電体膜2の屈折率は少なくと
も1.5以上、特に1.5〜2.5の範囲の値であるこ
とが好ましい。屈折率が1.5未満になると、紫外線遮
断性能が劣り、逆に2.5を超えるとガラス側からの反
射色が強くなる。The refractive index of the first transparent dielectric film 2 is preferably at least 1.5 or more, and particularly preferably in the range of 1.5 to 2.5. When the refractive index is less than 1.5, the ultraviolet ray blocking performance is poor, and conversely, when it exceeds 2.5, the color reflected from the glass side is strong.
【0018】第2の透明誘電体膜3は上記のものから任
意のものを使用することができるが、特にシリコン、チ
タン、アルミニウム、錫、ジルコニウム、タンタル、ク
ロム、ステンレス及びニクロムの酸化物、それらの複合
酸化物又は窒化酸化物が用いられる。この透明誘電体膜
の屈折率は第1の透明誘電体膜の屈折率と同等かそれよ
り低いことが好ましく、特に1.4〜2.5の範囲にあ
ることが好ましい。この範囲を超えると充分な光干渉効
果が得られない。The second transparent dielectric film 3 may be any of those described above, but especially oxides of silicon, titanium, aluminum, tin, zirconium, tantalum, chromium, stainless steel and nichrome, and the like. The complex oxide or nitride oxide of is used. The refractive index of this transparent dielectric film is preferably equal to or lower than the refractive index of the first transparent dielectric film, and particularly preferably in the range of 1.4 to 2.5. If it exceeds this range, a sufficient optical interference effect cannot be obtained.
【0019】第2の透明誘電体層上に第3層4として形
成される膜は、周期律表のIIIa族、IVa族、Vb
族、VIb族及びVIIb族から成る群から選ばれた少
なくとも1種の金属元素を含有する複合酸化タングステ
ン膜である。本発明において熱線を遮断する機能は、こ
の第3層として用いられる複合酸化タングステン膜、及
び第1の透明誘電体膜2、第2の透明誘電体膜3、複合
酸化タングステン膜4、第3の透明誘電体膜5の積層構
成に起因する光干渉による。The film formed as the third layer 4 on the second transparent dielectric layer is a group IIIa, IVa or Vb of the periodic table.
It is a composite tungsten oxide film containing at least one metal element selected from the group consisting of Group VI, Group VIb and Group VIIb. In the present invention, the function of blocking heat rays has the function of the composite tungsten oxide film used as the third layer, the first transparent dielectric film 2, the second transparent dielectric film 3, the composite tungsten oxide film 4, and the third transparent dielectric film 3. This is due to optical interference caused by the laminated structure of the transparent dielectric film 5.
【0020】一般に、酸化タングステン膜において最も
酸化された状態ではタングステンは6価の価数を有す
る。この状態では酸化タングステン膜は透明であり、熱
線を遮断する能力はない。最も酸化された状態より若干
還元された5価のタングステンが存在すると熱線を遮断
する能力は高く、特に近赤外線域に吸収を生じる。この
吸収をもつ酸化タングステンは酸素/タングステン比で
2.50〜2.98の範囲である。この範囲以外の比率
になると熱線吸収を期待することはできない。In general, tungsten has a hexavalent valence in the most oxidized state in the tungsten oxide film. In this state, the tungsten oxide film is transparent and has no ability to block heat rays. The presence of pentavalent tungsten, which is slightly reduced from the most oxidized state, has a high ability to block heat rays and causes absorption especially in the near infrared region. Tungsten oxide with this absorption has an oxygen / tungsten ratio in the range of 2.50 to 2.98. If the ratio is outside this range, heat ray absorption cannot be expected.
【0021】また、酸化タングステンはその製造方法に
もよるが、一般に耐久性が充分でないことが知られてい
る。更に、導電性は膜厚にもよるが、数KΩ/□〜数十
KΩ/□の範囲であり、上記電波透過性の問題点を考慮
すると充分な高抵抗値ではない。It is generally known that tungsten oxide has insufficient durability, although it depends on the manufacturing method. Furthermore, the conductivity is in the range of several KΩ / □ to several tens of KΩ / □ depending on the film thickness, and is not a sufficiently high resistance value in consideration of the above-mentioned problem of radio wave transparency.
【0022】本発明においては、ガラス基板上に周期律
表のIIIa族、IVa族、Vb族、VIb族及びVI
Ib族から成る群から選ばれた少なくとも1種の金属元
素を含有する複合酸化タングステン膜を用いる。この複
合酸化物膜は酸化タングステンが有する赤外線域の強い
光吸収を本質的に持つ。According to the present invention, a group IIIa, a group IVa, a group Vb, a group VIb and a group VI of the periodic table are provided on a glass substrate.
A composite tungsten oxide film containing at least one metal element selected from the group consisting of Group Ib is used. This composite oxide film essentially has strong light absorption in the infrared region of tungsten oxide.
【0023】周期律表のIIIa族、IVa族、Vb
族、VIb族及びVIIb族から成る群から選ばれた少
なくとも1種の金属元素は、複合酸化タングステン膜中
で安定な酸化物として酸化タングステンと共存する。こ
れらの元素を酸化タングステンに添加することにより膜
の耐久性をより向上させることができると共に、膜の抵
抗値を数百KΩ/□〜数百MΩ/□まで高抵抗化するこ
とができる。IIIa group, IVa group, Vb of the periodic table
At least one metal element selected from the group consisting of Group VI, Group VIb, and Group VIIb coexists with tungsten oxide as a stable oxide in the composite tungsten oxide film. By adding these elements to tungsten oxide, the durability of the film can be further improved, and the resistance value of the film can be increased to several hundreds KΩ / □ to several hundreds MΩ / □.
【0024】本発明の複合酸化タングステン膜は、周期
律表のIIIa族、IVa族、Vb族、VIb族及びV
IIb族から成る群から選ばれた少なくとも1種をタン
グステン膜に含有させることにより得られる。IIIa
族としてはAl、IVa族としてはSi、Vb族として
はV、Nb、VIb族としてはCr、VIIb族として
はMnを好ましく用いることができる。これらの元素を
用いることにより、更に良好な熱線遮断性能及び耐久性
が得られ、複合酸化タングステン膜を高抵抗化すること
ができる。The composite tungsten oxide film of the present invention is a group IIIa, a group IVa, a group Vb, a group VIb and a group V of the periodic table.
It is obtained by incorporating at least one selected from the group consisting of Group IIb into the tungsten film. IIIa
Preferably, Al is used as the group, Si is used as the IVa group, V is used as the Vb group, Nb is Cr as the VIb group, and Mn is used as the VIIb group. By using these elements, better heat ray shielding performance and durability can be obtained, and the resistance of the composite tungsten oxide film can be increased.
【0025】複合酸化タングステン膜の屈折率は第1及
び第2の透明誘電体膜の屈折率よりも高いことが好まし
く、2.2〜2.8の範囲にあることが好ましい。複合
酸化タングステン膜の屈折率が2.2より低いと他の膜
との光干渉が充分に得られず、逆に2.8より高いと反
射色が強くて実用的でない。The refractive index of the composite tungsten oxide film is preferably higher than that of the first and second transparent dielectric films, and is preferably in the range of 2.2 to 2.8. If the refractive index of the composite tungsten oxide film is lower than 2.2, sufficient optical interference with other films cannot be obtained, and conversely, if it is higher than 2.8, the reflected color is strong and it is not practical.
【0026】第3の透明誘電体膜5は任意のものから適
宜選択することができるが、特にシリコン、チタン、ア
ルミニウム、錫、ジルコニウム、タンタル、クロム、ス
テンレス及びニクロムの酸化物、それらの複合酸化物又
は窒化酸化物を用いることが好ましい。第3の透明誘電
体膜5の屈折率は複合酸化タングステン膜4の屈折率よ
りも低いことが好ましく、特に1.4〜2.5の範囲に
あることが好ましい。第3の透明誘電体膜5は、第2の
透明誘電体膜3と同じでも異なっていても良く、またそ
の膜厚や屈折率も同じでも異なっていても良い。The third transparent dielectric film 5 can be appropriately selected from arbitrary ones, but in particular, oxides of silicon, titanium, aluminum, tin, zirconium, tantalum, chromium, stainless steel and nichrome, and composite oxides thereof. It is preferable to use an oxide or a nitride oxide. The refractive index of the third transparent dielectric film 5 is preferably lower than that of the composite tungsten oxide film 4, and particularly preferably in the range of 1.4 to 2.5. The third transparent dielectric film 5 may be the same as or different from the second transparent dielectric film 3, and the film thickness and the refractive index thereof may be the same or different.
【0027】これらの紫外線熱線遮断膜はスパッタ法、
蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相法(CVD
法)などの真空成膜法及びゾルゲル法等の湿式成膜法に
よって成膜することができる。また、任意の層の作製法
としてこれらの方法を組み合わせて行うこともできる。These ultraviolet heat ray blocking films are formed by the sputtering method,
Vapor deposition method, ion plating method, chemical vapor deposition method (CVD
Method) and a wet film forming method such as a sol-gel method. In addition, these methods can be combined to form an arbitrary layer.
【0028】このうち大面積化及び生産性等の観点か
ら、スパッタ法及びゾルゲル法が好ましく用いられる。
例えば、複合酸化タングステン膜3は以下のスパッター
法で成膜することができる。スパッタターゲットとして
タングステンと周期律表のIIIa族、IVa族、Vb
族、VIb族及びVIIb族から成る群から選ばれた少
なくとも1種の元素を所定の濃度含む合金ターゲットを
使用し、スパッタガスとして所定のガス比に調整された
アルゴン(Ar)と酸素(O2 )の混合ガスを用い、い
わゆる反応性スパッタ法にて、ガラス基板上に複合酸化
物膜を形成することができる。Of these, the sputtering method and the sol-gel method are preferably used from the viewpoints of increasing the area and productivity.
For example, the composite tungsten oxide film 3 can be formed by the following sputtering method. Tungsten as a sputtering target and IIIa group, IVa group, and Vb of the periodic table
Using an alloy target containing a predetermined concentration of at least one element selected from the group consisting of Group VI, Group VIb and Group VIIb, argon (Ar) and oxygen (O 2 ) adjusted to have a predetermined gas ratio as a sputtering gas. It is possible to form a composite oxide film on a glass substrate by a so-called reactive sputtering method using the mixed gas of (1).
【0029】また、例えば第1の透明誘電体膜2の紫外
線を遮断する酸化亜鉛膜は以下のゾルゲル法で成膜する
ことができる。亜鉛の金属石鹸を含む塗布液を作製し、
この塗布液に片面をマスキングした透明ガラス基板を浸
漬し、一定速度で引き上げ、片面に塗布膜を得る。この
塗布膜を電気炉にて焼成することによって透明酸化亜鉛
膜を成膜することができる。Further, for example, the zinc oxide film for blocking the ultraviolet rays of the first transparent dielectric film 2 can be formed by the following sol-gel method. Prepare a coating liquid containing zinc metal soap,
A transparent glass substrate having one surface masked is dipped in this coating solution and pulled up at a constant speed to obtain a coating film on one surface. A transparent zinc oxide film can be formed by firing this coating film in an electric furnace.
【0030】各層の膜厚としては第1層の第1の透明誘
電体膜2は紫外線遮断性能を発現させるために50nm
以上、特に100〜9,000nmの範囲とすること
で、良好な紫外線遮断性能を得ることができる。第2層
の第2の透明誘電体膜3は光干渉効果が現れる厚さでよ
いが、特に2〜300nmの範囲であることが好まし
い。第2の透明誘電体膜3の厚さが2nm未満になると
島状となり、逆に300nmを超えると経済性に劣る。
また、この両者に加え、全体の膜構成中において安定か
つ確実な性能を得るためには5〜200nmの範囲にあ
ることが好ましい。As for the film thickness of each layer, the first transparent dielectric film 2 of the first layer has a thickness of 50 nm in order to exhibit ultraviolet blocking performance.
As described above, particularly in the range of 100 to 9,000 nm, good ultraviolet blocking performance can be obtained. The thickness of the second transparent dielectric film 3 of the second layer may be such that the optical interference effect appears, but it is particularly preferably in the range of 2 to 300 nm. When the thickness of the second transparent dielectric film 3 is less than 2 nm, the second transparent dielectric film 3 has an island shape, and when it exceeds 300 nm, the economy is poor.
In addition to both of these, in order to obtain stable and reliable performance in the entire film constitution, it is preferably in the range of 5 to 200 nm.
【0031】第3層の複合酸化タングステン膜4の膜厚
は熱線遮断機能を発現することのできる厚さであればよ
いが、特に2〜300nmの範囲であることが好まし
い。複合酸化タングステン膜4の膜厚が2nm未満にな
ると島状となり、逆に300nmを超えると経済性に劣
る。また、この両者に加え、全体の膜構成中において安
定かつ確実な性能を得るためには5〜200nmの範囲
にあることが好ましい。The thickness of the third layer composite tungsten oxide film 4 may be a thickness capable of exhibiting a heat ray blocking function, but is particularly preferably in the range of 2 to 300 nm. If the thickness of the composite tungsten oxide film 4 is less than 2 nm, it becomes island-shaped, and conversely, if it exceeds 300 nm, the economy is poor. In addition to both of these, in order to obtain stable and reliable performance in the entire film constitution, it is preferably in the range of 5 to 200 nm.
【0032】第4層の第3の透明誘電体膜5の膜厚は光
干渉効果が現れる厚さ及び保護機能の発現する厚さであ
ればよいが、特に2〜300nmの範囲であることが好
ましい。第3の透明誘電体膜5の膜厚が2nm未満にな
ると島状となり、逆に300nmを超えると経済性に劣
る。また、この両者に加え、全体の膜構成中において安
全かつ確実な性能を得るためには5〜200nmの範囲
にあることが好ましい。The thickness of the third transparent dielectric film 5 of the fourth layer may be any thickness as long as an optical interference effect is exhibited and a protective function is exhibited, but it is particularly preferably in the range of 2 to 300 nm. preferable. If the thickness of the third transparent dielectric film 5 is less than 2 nm, it becomes island-shaped, and conversely, if it exceeds 300 nm, the economy is poor. In addition to both of these, in order to obtain safe and reliable performance in the whole film constitution, it is preferably in the range of 5 to 200 nm.
【0033】本発明は、紫外線及び熱線を効率良く遮断
することができると共に、可視光線を充分に透過させる
ことができるため、充分な透明性を発現することがで
き、自動車用や建築用の紫外線熱線遮断ガラスを提供す
ることができる。また、本発明の紫外線熱線遮断ガラス
は誘電体の多層積層によるものであり、その表面抵抗は
少なくとも10KΩ/□以上であり、ほとんどの場合で
は1MΩ/□であり、外来の電波を充分に透過させるこ
とができる。更に、本発明の紫外線熱線遮断ガラスは単
板で使用することができるが、合わせガラス又は複層ガ
ラスとして使用しても良い。According to the present invention, ultraviolet rays and heat rays can be efficiently shielded and visible rays can be sufficiently transmitted, so that sufficient transparency can be exhibited, and ultraviolet rays for automobiles and constructions can be expressed. A heat ray shielding glass can be provided. Further, the ultraviolet heat ray-shielding glass of the present invention is formed by laminating multiple layers of dielectrics, and its surface resistance is at least 10 KΩ / □ or more, and in most cases it is 1 MΩ / □, which allows sufficient transmission of external radio waves. be able to. Further, although the ultraviolet heat ray-shielding glass of the present invention can be used as a single plate, it may be used as a laminated glass or a double glazing.
【0034】[0034]
【作用】本発明は、透明なガラス基板上に、基板側より
第1層として亜鉛、セリウム、チタン及びカドミニウム
から成る群から選ばれた少なくとも1種を成分とする紫
外線遮断性能を有する酸化物、これらの複合酸化物又は
これらの酸化物に微量の金属元素を添加した複合酸化物
を含有する第1の透明誘電体膜を設け、前記第1層上に
第2層として第2の透明誘電体膜を設け、該第2層上に
第3層として周期律表のIIIa族、IVa族、Vb
族、VIb族及びVIIb族から成る群から選ばれた少
なくとも1種の金属元素を含有する複合酸化タングステ
ン膜を設け、前記第3層上に第4層として第3の透明誘
電体膜を設けてなることを特徴とする紫外線熱線遮断ガ
ラスにより、紫外線及び熱線を効率良く遮断し、更に良
好な可視光線透過率を有すると共に、充分な電波透過性
能を有する自動車用や建築用窓ガラスを提供することが
できる。According to the present invention, an oxide having an ultraviolet ray-shielding property, which is composed of at least one selected from the group consisting of zinc, cerium, titanium and cadmium as a first layer on the transparent glass substrate from the substrate side, A first transparent dielectric film containing these complex oxides or a complex oxide obtained by adding a trace amount of a metal element to these oxides is provided, and a second transparent dielectric layer is formed as a second layer on the first layer. A film is provided, and a group IIIa, IVa, Vb of the periodic table is provided as a third layer on the second layer.
A composite tungsten oxide film containing at least one metal element selected from the group consisting of Group VI, Group VIb, and Group VIIb, and providing a third transparent dielectric film as a fourth layer on the third layer. To provide a window glass for an automobile or a building, which efficiently shields ultraviolet rays and heat rays, has a good visible light transmittance, and has sufficient radio wave transmission performance, by using the ultraviolet heat ray-shielding glass characterized in that You can
【0035】[0035]
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳述する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.
【0036】実施例1 透明なガラス基板をイソプロピルアルコールにて脱脂洗
浄し、純水リンスした後、窒素ブローで乾燥した。この
透明ガラス基板をスパッタ装置内に搬送し、5×10-6
Torrまで排気した。真空槽内には紫外線遮断膜2として
用いる酸化亜鉛膜用の亜鉛ターゲット、透明誘電体膜3
及び5として用いる酸化シリコン用の酸化シリコンター
ゲット、熱線遮断膜4として用いるシリコンを含有した
酸化タングステン膜用のシリコンとタングステンの合金
ターゲット(Si:W=0.1:1原子比)を設置し
た。Example 1 A transparent glass substrate was degreased and washed with isopropyl alcohol, rinsed with pure water, and then dried by nitrogen blowing. This transparent glass substrate was transferred into the sputtering device and transferred to 5 × 10 -6
Exhausted to Torr. In the vacuum chamber, a zinc target for a zinc oxide film used as the ultraviolet blocking film 2 and a transparent dielectric film 3
And 5, a silicon oxide target for silicon oxide used as Nos. 5 and 5, and an alloy target of silicon and tungsten (Si: W = 0.1: 1 atomic ratio) for the tungsten oxide film containing silicon used as the heat ray blocking film 4.
【0037】まず、スパッタガスとしてアルゴン及び酸
素の混合ガスをAr:O2 =1:1になるように調整
し、真空槽内のガス圧が3×10-3 Torr となるように
排気速度やガス流量を調整し、スパッタパワー300W
で、反応性スパッタにて紫外線遮断膜2として酸化亜鉛
膜を150nmに成膜した。この膜の屈折率は2.0で
あった。First, a mixed gas of argon and oxygen was adjusted as Ar: O 2 = 1: 1 as a sputtering gas, and the exhaust speed and the gas pressure in the vacuum chamber were adjusted to 3 × 10 -3 Torr. Adjusting the gas flow rate, sputtering power 300W
Then, a zinc oxide film having a thickness of 150 nm was formed as the ultraviolet blocking film 2 by reactive sputtering. The refractive index of this film was 2.0.
【0038】次に、スパッタガスとしてアルゴン及び酸
素の混合ガスをAr:O2 =1:1に調整し、真空槽内
のガス圧が4×10-3Torrとなるように排気速度や
ガス流量を調整し、スパッタパワー500Wで、反応性
スパッタにて透明誘電体膜3として酸化シリコン膜を5
0nmに成膜した。この膜の屈折率は1.46であっ
た。Next, a mixed gas of argon and oxygen was adjusted to Ar: O 2 = 1: 1 as a sputtering gas, and the exhaust speed and the gas flow rate were adjusted so that the gas pressure in the vacuum chamber was 4 × 10 -3 Torr. Of the silicon oxide film as the transparent dielectric film 3 by reactive sputtering with the sputtering power of 500 W.
The film was formed to 0 nm. The refractive index of this film was 1.46.
【0039】更に、スパッタガスとしてアルゴン及び酸
素の混合ガスをAr:O2 =30:4に調整し、真空槽
内のガス圧が5×10-3 Torr となるように排気速度や
ガス流量を調整し、スパッタパワー500Wで、反応性
スパッタにてシリコンを含有した複合酸化タングステン
膜4を90nmに成膜した。このときのO/W比は2.
96であり、膜抵抗は50MΩ/□であった。次に、透
明誘電体膜5として酸化シリコン膜を上記したように5
0nmに成膜した。この膜の屈折率は1.46であっ
た。Further, a mixed gas of argon and oxygen was adjusted as Ar: O 2 = 30: 4 as a sputtering gas, and the exhaust rate and the gas flow rate were adjusted so that the gas pressure in the vacuum chamber was 5 × 10 −3 Torr. The composite tungsten oxide film 4 containing silicon was adjusted to 90 nm by reactive sputtering with the sputtering power adjusted to 500 W. The O / W ratio at this time is 2.
96, and the membrane resistance was 50 MΩ / □. Next, a silicon oxide film is formed as the transparent dielectric film 5 as described above.
The film was formed to 0 nm. The refractive index of this film was 1.46.
【0040】このようにして成膜された紫外線熱線遮断
ガラスの光学的特性は、可視光線透過率74%で自動車
用窓ガラスとして要求されるに充分な視認性を有し、日
射透過率58%で太陽光の熱線を充分に遮断していた。
また、紫外線透過率も20%であり、有害な紫外線を充
分に遮断していた。The ultraviolet heat ray-shielding glass thus formed has an optical characteristic of visible light transmittance of 74% and sufficient visibility required for automobile window glass, and solar radiation transmittance of 58%. I was blocking the heat rays of sunlight.
Further, the ultraviolet ray transmittance was 20%, which was sufficient to block harmful ultraviolet rays.
【0041】このガラスを建物用窓ガラスとして使用し
たところ、携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではFMやAM電波を良好に受信することができ
た。また、自動車用窓ガラスとして使用しても同様に携
帯電話が支障無く使用することができ、ラジオではFM
やAM電波を良好に受信することができた。When this glass was used as a window glass for buildings, a mobile phone could be used without any trouble, and a radio could receive FM and AM radio waves satisfactorily. In addition, even if it is used as a window glass for automobiles, the mobile phone can be used without any trouble, and FM can be used for radio.
And AM radio waves could be received well.
【0042】実施例2 実施例1と同等の膜材料や成膜条件で、酸化亜鉛膜2の
膜厚を300nmとし、透明誘電体膜3及び5の酸化シ
リコン膜の膜厚を100nm、複合酸化タングステン膜
4の膜厚を50nmとした。Example 2 Under the same film material and film forming conditions as in Example 1, the thickness of the zinc oxide film 2 was set to 300 nm, the thickness of the silicon oxide film of the transparent dielectric films 3 and 5 was set to 100 nm, and complex oxidation was performed. The film thickness of the tungsten film 4 was set to 50 nm.
【0043】このように成膜された紫外線熱線遮断ガラ
スの光学的特性は可視光線透過率72%で自動車用窓ガ
ラスとして要求されるに充分な視認性をもち、日射透過
率56%で太陽光の熱線を充分に遮断していた。また、
紫外線透過率も15%であり有害な紫外線を充分に遮断
していた。The UV heat ray-shielding glass thus formed has an optical characteristic of a visible light transmittance of 72% and sufficient visibility required for a window glass for automobiles, and a solar radiation of 56% for sunlight. Had sufficiently cut off the heat rays. Also,
The ultraviolet ray transmittance was 15%, which was sufficient to block harmful ultraviolet rays.
【0044】このガラスを建物用窓ガラスとして使用し
たところ、携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではFMやAM電波を良好に受信することができ
た。更に、自動車用窓ガラスとして使用しても同様に携
帯電話が支障なく使用することができ、ラジオではFM
やAM電波を良好に受信することができた。When this glass was used as a window glass for a building, a mobile phone could be used without any trouble and a radio could receive FM and AM radio waves satisfactorily. Furthermore, even if it is used as a window glass for automobiles, the mobile phone can be used without any trouble, and FM is used for radio.
And AM radio waves could be received well.
【0045】実施例3 実施例1及び2と膜材料の異なるものについて説明す
る。透明なガラス基板をイソプロピルアルコールにて脱
脂洗浄し、純水リンスした後、窒素ブローで乾燥した。
この透明ガラス基板をスパッタ装置内に搬送し、5×1
0-3Torrまで排気した。真空槽内には紫外線遮断膜
2として用いるクロムドープ酸化亜鉛膜用のクロムをド
ープした酸化亜鉛ターゲット、第2の透明誘電体膜3及
び第3の透明誘電体膜5として用いる酸化アルミニウム
膜用のアルミニウムターゲット、複合酸化タングステン
膜4として用いるアルミニウム含有酸化タングステン膜
用のアルミニウムとタングステンの合金ターゲット(A
l:W=0.1:1原子比)を設置した。Example 3 A film material different from those in Examples 1 and 2 will be described. The transparent glass substrate was degreased and washed with isopropyl alcohol, rinsed with pure water, and then dried by nitrogen blowing.
Transfer this transparent glass substrate into the sputtering equipment and
Evacuated to 0 -3 Torr. In the vacuum chamber, a chromium-doped zinc oxide target for the chromium-doped zinc oxide film used as the ultraviolet blocking film 2, aluminum for the aluminum oxide film used as the second transparent dielectric film 3 and the third transparent dielectric film 5. A target, an alloy target of aluminum and tungsten for an aluminum-containing tungsten oxide film used as the composite tungsten oxide film 4 (A
(l: W = 0.1: 1 atomic ratio).
【0046】まず、スパッタガスとしてアルゴンガスを
真空槽内のガス圧が2×10-3Torrとなるように排
気速度やガス流量を調整し、スパッタパワー400W
で、紫外線遮断膜2としてクロムドープ酸化亜鉛膜を1
50nmに成膜した。この膜の屈折率は1.8であっ
た。First, argon gas was used as the sputtering gas, the exhaust speed and the gas flow rate were adjusted so that the gas pressure in the vacuum chamber was 2 × 10 −3 Torr, and the sputtering power was 400 W.
Then, a chromium-doped zinc oxide film is used as the ultraviolet blocking film 2.
The film was formed to 50 nm. The refractive index of this film was 1.8.
【0047】次いで、スパッタガスとしてアルゴン及び
酸素の混合ガスをAr:O2 =30:5に調整し、真空
槽内のガス圧が5×10-3Torrとなるように排気速
度やガス流量を調整し、スパッタパワー400Wで、第
2の透明誘電体膜3として酸化アルミニウム膜を20n
mに成膜した。この膜の屈折率は1.6であった。Next, a mixed gas of argon and oxygen was adjusted to Ar: O 2 = 30: 5 as a sputtering gas, and the exhaust speed and the gas flow rate were adjusted so that the gas pressure in the vacuum chamber was 5 × 10 −3 Torr. The aluminum oxide film is adjusted to 20 n with the sputtering power of 400 W as the second transparent dielectric film 3.
m was formed into a film. The refractive index of this film was 1.6.
【0048】次に、スパッタガスとしてアルゴン及び酸
素の混合ガスをAr:O2 =30:4に調整し、真空槽
内のガス圧が5×10-3Torrとなるように排気速度
やガス流量を調整し、スパッタパワー500Wで、反応
性スパッタにて複合酸化タングステン膜4としてアルミ
ニウム含有酸化タングステン膜を80nmに成膜した。
このときのO/W比は2.98であり、膜抵抗は150
MΩ/□であった。また、屈折率は2.4であった。更
に、第3の透明誘電体膜5として第2の透明誘電体膜3
と同様にして酸化アルミニウム膜を10nmに成膜し
た。Next, a mixed gas of argon and oxygen was adjusted to Ar: O 2 = 30: 4 as a sputtering gas, and the exhaust speed and the gas flow rate were adjusted so that the gas pressure in the vacuum chamber was 5 × 10 −3 Torr. Was adjusted, and an aluminum-containing tungsten oxide film having a thickness of 80 nm was formed as the composite tungsten oxide film 4 by reactive sputtering with a sputtering power of 500 W.
At this time, the O / W ratio was 2.98 and the membrane resistance was 150.
It was MΩ / □. The refractive index was 2.4. Further, the second transparent dielectric film 3 is used as the third transparent dielectric film 5.
An aluminum oxide film was formed to a thickness of 10 nm in the same manner as in.
【0049】このようにして成膜された紫外線熱線遮断
ガラスの光学的特性は、可視光線透過率74%で自動車
用窓ガラスとして要求されるに充分な視認性を有し、日
射透過率57%で太陽光の熱線を充分に遮断していた。
また、紫外線透過率も17%であり有害な紫外線を充分
に遮断していた。The ultraviolet heat ray-shielding glass thus formed has an optical characteristic of a visible light transmittance of 74% and sufficient visibility required for automobile window glass, and a solar radiation transmittance of 57%. I was blocking the heat rays of sunlight.
Further, the ultraviolet ray transmittance was 17%, which was sufficient to block harmful ultraviolet rays.
【0050】このガラスを建物用窓ガラスとして使用し
たところ、携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではFMやAM電波を良好に受信することができ
た。また、自動車用窓ガラスとして使用しても同様に携
帯電話が支障無く使用することができ、ラジオではFM
やAM電波を良好に受信することができた。When this glass was used as a window glass for buildings, a mobile phone could be used without any trouble, and a radio could receive FM and AM radio waves satisfactorily. In addition, even if it is used as a window glass for automobiles, the mobile phone can be used without any trouble, and FM can be used for radio.
And AM radio waves could be received well.
【0051】実施例4 第2の透明誘電体膜3として酸化シリコン膜の代わりに
酸化錫膜を15nmとし、複合酸化タングステン膜4と
してシリコン含有酸化タングステン膜の代わりにマンガ
ンを含有する酸化タングステン膜を50nm用いた他
は、実施例1と全く同様にして紫外線熱線遮断ガラスを
成膜した。この時、酸化シリコンターゲットに代えて酸
化錫ターゲットを用い、シリコンとタングステンの合金
ターゲットに代えてマンガンとタングステンの合金ター
ゲット(Mn:W比は0.1:1)を用いた。マンガン
含有酸化タングステン膜のO/Wは2.72、屈折率は
2.5、膜抵抗は60MΩ/□であった。また、酸化錫
膜の屈折率は1.9であった。Example 4 As the second transparent dielectric film 3, a tin oxide film having a thickness of 15 nm was used instead of the silicon oxide film, and as the composite tungsten oxide film 4, a tungsten oxide film containing manganese was used instead of the silicon-containing tungsten oxide film. An ultraviolet heat ray-shielding glass was formed in the same manner as in Example 1 except that 50 nm was used. At this time, a tin oxide target was used instead of the silicon oxide target, and an alloy target of manganese and tungsten (Mn: W ratio was 0.1: 1) was used instead of the alloy target of silicon and tungsten. The manganese-containing tungsten oxide film had an O / W of 2.72, a refractive index of 2.5, and a film resistance of 60 MΩ / □. The refractive index of the tin oxide film was 1.9.
【0052】このようにして成膜された紫外線熱線遮断
ガラスの光学的特性は、可視光線透過率72%で自動車
用窓ガラスとして要求されるに充分な視認性をもち、日
射透過率54%で太陽光の熱線を充分に遮断していた。
また、紫外線透過率も20%であり有害な紫外線を充分
に遮断していた。更に、このガラスを建物用窓ガラスと
して使用したところ、携帯電話が支障無く使用すること
ができ、ラジオではFMやAM電波を良好に受信するこ
とができた。また、自動車用窓ガラスとして使用しても
同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラジオ
ではFMやAM電波を良好に受信することができた。The ultraviolet heat ray-shielding glass thus formed has an optical characteristic of a visible light transmittance of 72% and sufficient visibility required for an automobile window glass, and a solar radiation transmittance of 54%. The heat rays of sunlight were sufficiently blocked.
Further, the ultraviolet ray transmittance was 20%, which was sufficient to block harmful ultraviolet rays. Furthermore, when this glass was used as a window glass for buildings, a mobile phone could be used without any trouble, and FM and AM radio waves could be satisfactorily received by a radio. Further, even when used as a window glass for an automobile, the mobile phone can be used without any trouble, and the radio can receive FM and AM radio waves satisfactorily.
【0053】実施例5 第1の透明誘電体膜2及び複合酸化タングステン膜3の
成膜をゾルゲル法にて行った例について説明する。第1
の透明誘電体膜2として酸化亜鉛膜を以下のようにゾル
ゲル法にて成膜した。2−エチルヘキサン酸亜鉛(18
%)100g、脱水ひまし油脂肪酸(リノール酸含有率
86%)80g、レベリング剤としてTSF400(東
芝シリコーン株式会社製の商品番号)5g、希釈溶媒と
して混合キシレン320gを攪拌混合して、酸化亜鉛膜
用塗布液を得た。Example 5 An example in which the first transparent dielectric film 2 and the composite tungsten oxide film 3 are formed by the sol-gel method will be described. First
A zinc oxide film was formed as the transparent dielectric film 2 by the sol-gel method as follows. Zinc 2-ethylhexanoate (18
%) 100 g, dehydrated castor oil fatty acid (linoleic acid content 86%) 80 g, TSF400 (product number of Toshiba Silicone Co., Ltd.) 5 g as a leveling agent, and mixed xylene 320 g as a diluting solvent with stirring, and coating for zinc oxide film A liquid was obtained.
【0054】この塗布液に片面をマスキングした透明ガ
ラス基板を浸漬し20cm/分の速度で引き上げ片面に
塗布膜を得た。この塗布膜を150℃で15分間遠赤外
線炉で乾燥、硬化し更に500℃で15分間電気炉にて
焼成し750nmの透明酸化亜鉛膜を成膜した。この膜
の屈折率は1.8であった。A transparent glass substrate having one surface masked was dipped in this coating solution and pulled up at a speed of 20 cm / min to obtain a coating film on one surface. This coating film was dried and cured in a far infrared furnace at 150 ° C. for 15 minutes, and then baked in an electric furnace at 500 ° C. for 15 minutes to form a transparent zinc oxide film having a thickness of 750 nm. The refractive index of this film was 1.8.
【0055】次に、複合酸化タングステン膜3として酸
化シリコン膜を以下のようにゾルゲル法にて成膜した。
メチルトリメトキシシラン400gとテトラメトキシシ
ラン150gとを混合し、n−ブタノール1600gに
加えて混合した。更に、5%酢酸水溶液284gを滴下
した後、約3時間攪拌し、室温で1日放置することによ
り酸化シリコン用塗布液を得た。Next, a silicon oxide film was formed as the composite tungsten oxide film 3 by the sol-gel method as follows.
400 g of methyltrimethoxysilane and 150 g of tetramethoxysilane were mixed and added to 1600 g of n-butanol and mixed. Furthermore, 284 g of a 5% acetic acid aqueous solution was added dropwise, and the mixture was stirred for about 3 hours and left at room temperature for 1 day to obtain a coating solution for silicon oxide.
【0056】この塗布液に上記の酸化亜鉛膜が成膜され
た透明ガラス基板を浸漬し、20cm/分の速度で引き
上げ片面に塗布膜を得た。この塗布膜を120℃で15
分間乾燥し、500℃で30分間電気炉にて焼成した
後、更に650℃で2分間電気炉にて焼成し、透明酸化
亜鉛膜上に酸化シリコン膜50nmを成膜した。この膜
の屈折率は1.46であった。The transparent glass substrate having the zinc oxide film formed thereon was dipped in this coating solution and pulled up at a speed of 20 cm / min to obtain a coating film on one surface. Apply this coating film at 120 ℃ for 15
After drying for 1 minute and baking at 500 ° C. for 30 minutes in an electric furnace, baking was further performed at 650 ° C. for 2 minutes in an electric furnace to form a silicon oxide film of 50 nm on the transparent zinc oxide film. The refractive index of this film was 1.46.
【0057】このようにゾルゲル法により酸化亜鉛膜、
酸化シリコン膜を成膜した透明ガラス基板をスパッタ装
置内に搬送し、5×10-6Torrまで排気した。真空
槽内には、複合酸化タングステン膜4の熱線遮断膜とし
て用いるシリコンを含有した酸化タングステン膜用のシ
リコンとタングステンの合金ターゲット(Si:W=
0.1:1原子比)、第3の透明誘電体膜5として用い
る酸化シリコン用の酸化シリコンターゲットを設置し
た。In this way, the zinc oxide film by the sol-gel method,
The transparent glass substrate on which the silicon oxide film was formed was conveyed into the sputtering apparatus and exhausted to 5 × 10 −6 Torr. In the vacuum chamber, a silicon-tungsten alloy target (Si: W =) for the tungsten oxide film containing silicon used as the heat ray blocking film of the composite tungsten oxide film 4 is provided.
(0.1: 1 atomic ratio), and a silicon oxide target for silicon oxide used as the third transparent dielectric film 5 was set.
【0058】上記透明ガラス基板上にシリコン含有酸化
タングステン膜を反応性スパッター法により成膜した。
スパッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合ガスをA
r:O 2 =30:4に調整し、真空槽内のガス圧が5×
10-3Torrとなるように排気速度やガス流量を調整
し、スパッタパワー500Wで、シリコン含有酸化タン
グステン膜を80nmに成膜した。この膜のO/W比は
2.98であり、膜抵抗は60MΩ/□であった。ま
た、膜の屈折率は2.3であった。Silicon-containing oxidation on the transparent glass substrate
A tungsten film was formed by the reactive sputtering method.
A mixed gas of argon and oxygen is used as a sputtering gas.
r: O 2= 30: 4, the gas pressure in the vacuum chamber is 5 ×
10-3Adjusting the exhaust speed and gas flow rate to Torr
And sputter power of 500 W, silicon-containing tan oxide
A Gusten film was formed to a thickness of 80 nm. The O / W ratio of this film is
It was 2.98 and the membrane resistance was 60 MΩ / □. Well
The refractive index of the film was 2.3.
【0059】次いで、第3の透明誘電体膜5として酸化
シリコンを反応性スパッター法により以下のように成膜
した。スパッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合ガス
をAr:O2 =30:5になるように調整し、真空槽内
のガス圧が5×10-3Torrとなるように排気速度や
ガス流量を調整し、スパッタパワー400Wで、第3の
透明誘電体膜5として酸化シリコン膜を50nmに成膜
した。この膜の屈折率は1.46であった。Then, silicon oxide was deposited as the third transparent dielectric film 5 by the reactive sputtering method as follows. A mixed gas of argon and oxygen was adjusted as Ar: O 2 = 30: 5 as a sputter gas, and the exhaust speed and the gas flow rate were adjusted so that the gas pressure in the vacuum chamber was 5 × 10 −3 Torr. A silicon oxide film having a thickness of 50 nm was formed as the third transparent dielectric film 5 with a sputtering power of 400 W. The refractive index of this film was 1.46.
【0060】このようにして成膜された紫外線熱線遮断
ガラスの光学的特性は、可視光線透過率70%で自動車
用窓ガラスとして要求されるに充分な視認性をもち、日
射透過率52%で太陽光の熱線を充分に遮断していた。
また、紫外線透過率も20%であり有害な紫外線を充分
に遮断していた。The ultraviolet heat ray-shielding glass thus formed has an optical characteristic of a visible light transmittance of 70% and sufficient visibility required for an automobile window glass, and a solar radiation transmittance of 52%. The heat rays of sunlight were sufficiently blocked.
Further, the ultraviolet ray transmittance was 20%, which was sufficient to block harmful ultraviolet rays.
【0061】このガラスを建物用窓ガラスとして使用し
たところ、携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではFMやAM電波を良好に受信することができ
た。また、自動車用窓ガラスとして使用しても同様に携
帯電話が支障無く使用することができ、ラジオではFM
やAM電波を良好に受信することができた。When this glass was used as a window glass for buildings, a mobile phone could be used without any trouble, and a radio could receive FM and AM radio waves satisfactorily. In addition, even if it is used as a window glass for automobiles, the mobile phone can be used without any trouble, and FM can be used for radio.
And AM radio waves could be received well.
【0062】実施例6 実施例5と同様に第1の透明誘電体2及び第2の透明誘
電体3の成膜をゾルゲル法にて行った別の例について説
明する。第1の透明誘電体膜2及び第2の透明誘電体膜
3として実施例5と全く同様な方法により酸化亜鉛膜及
び酸化シリコン膜を形成したが、膜厚をそれぞれ650
nm及び150nmとした他は、実施例5と全く同様に
して紫外線熱線遮断ガラスを成膜した。Example 6 Another example in which the first transparent dielectric 2 and the second transparent dielectric 3 are formed by the sol-gel method in the same manner as in Example 5 will be described. A zinc oxide film and a silicon oxide film were formed as the first transparent dielectric film 2 and the second transparent dielectric film 3 by exactly the same method as in Example 5, but the film thicknesses were 650 each.
The ultraviolet heat ray-shielding glass was formed in exactly the same manner as in Example 5 except that the thickness was set to 150 nm and 150 nm.
【0063】このようにゾルゲル法により酸化亜鉛膜及
び酸化シリコン膜を成膜した透明ガラス基板をスパッタ
装置内に搬送し、5×10-6Torrまで排気した。真
空槽内には、複合酸化タングステン膜4の熱線遮断膜と
して用いるニオブを含有した酸化タングステン膜用のニ
オブとタングステンの合金ターゲット(Nb:W=0.
1:1原子比)、第3の透明誘電体膜5として用いる酸
化チタン用のチタンターゲットを設置した。The transparent glass substrate on which the zinc oxide film and the silicon oxide film were thus formed by the sol-gel method was conveyed into the sputtering apparatus and evacuated to 5 × 10 -6 Torr. In the vacuum chamber, a niobium-tungsten alloy target for a tungsten oxide film containing niobium used as a heat ray blocking film of the composite tungsten oxide film 4 (Nb: W = 0.
(1: 1 atomic ratio), and a titanium target for titanium oxide used as the third transparent dielectric film 5 was set.
【0064】上記透明ガラス基板上にニオブ含有酸化タ
ングステン膜を反応性スパッター法により成膜した。ス
パッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合ガスをAr:
O2=30:4に調整し、真空槽内のガス圧が5×10
-3Torrとなるように排気速度やガス流量を調整し、
スパッタパワー400Wで、ニオブ含有酸化タングステ
ン膜を90nmに成膜した。A niobium-containing tungsten oxide film was formed on the transparent glass substrate by the reactive sputtering method. Ar mixed gas of argon and oxygen is used as a sputtering gas:
The gas pressure in the vacuum chamber was adjusted to 5 × 10 by adjusting O 2 = 30: 4.
-Adjust the exhaust speed and gas flow rate to become -3 Torr,
A niobium-containing tungsten oxide film was formed to 90 nm with a sputtering power of 400 W.
【0065】このときのO/W比は2.6であり、膜抵
抗は170MΩ/□であった。また、屈折率は2.4で
あった。次いで、第3の透明誘電体膜5として酸化チタ
ンを反応性スパッター法により以下のように成膜した。
スパッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合ガスをA
r:O2 =1:1となるように調整し、真空槽内のガス
圧が5×10-3Torrとなるように排気速度及びガス
流量を調整し、スパッタパワー400Wで、第3の透明
誘電体膜5として酸化チタン膜を10nmに成膜した。
この膜の屈折率は2.2であった。At this time, the O / W ratio was 2.6 and the film resistance was 170 MΩ / □. The refractive index was 2.4. Then, titanium oxide was deposited as the third transparent dielectric film 5 by the reactive sputtering method as follows.
A mixed gas of argon and oxygen is used as a sputtering gas.
Adjusting r: O 2 = 1: 1, adjusting the exhaust speed and gas flow rate so that the gas pressure in the vacuum chamber is 5 × 10 −3 Torr, and using sputter power 400 W, the third transparent A titanium oxide film having a thickness of 10 nm was formed as the dielectric film 5.
The refractive index of this film was 2.2.
【0066】このようにして成膜された紫外線熱線遮断
ガラスの光学的特性は、可視光線透過率75%で自動車
用窓ガラスとして要求されるに充分な視認性を有し、日
射透過率54%で太陽光の熱線を充分に遮断していた。
また、紫外線透過率も25%であり有害な紫外線を充分
に遮断していた。The ultraviolet heat ray-shielding glass thus formed has an optical characteristic of a visible light transmittance of 75% and sufficient visibility required for automobile window glass, and a solar radiation transmittance of 54%. I was blocking the heat rays of sunlight.
Further, the ultraviolet ray transmittance was 25%, which was sufficient to block harmful ultraviolet rays.
【0067】このガラスを建物用窓ガラスとして使用し
たところ、携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではFMやAM電波を良好に受信することができ
た。また、自動車用窓ガラスとして使用しても同様に携
帯電話が支障無く使用することができ、ラジオではFM
やAM電波を良好に受信することができた。When this glass was used as a window glass for buildings, a mobile phone could be used without any trouble, and a radio could receive FM and AM radio waves satisfactorily. In addition, even if it is used as a window glass for automobiles, the mobile phone can be used without any trouble, and FM can be used for radio.
And AM radio waves could be received well.
【0068】実施例7 第1の透明誘電体膜2の成膜を他のゾルゲル法にて行っ
た例について説明する。第1の透明誘電体膜2を以下の
方法によるTiO2 +CeO膜とした他は、実施例5と
全く同様にして紫外線熱線遮断ガラスを成膜した。Example 7 An example of forming the first transparent dielectric film 2 by another sol-gel method will be described. An ultraviolet heat ray-shielding glass was formed in exactly the same manner as in Example 5 except that the first transparent dielectric film 2 was a TiO 2 + CeO film formed by the following method.
【0069】塩化セリウム2.8gをエタノール35c
c中に加えて溶解した。この溶液にチタニウムテトライ
ソプロポキシド1.7gを添加し、シリコンテトラエト
キシド0.9gを添加し、更に2−(2−メトキシエト
キシ)エタノール5.0gを加え、80℃で1時間攪拌
しつつ、加熱した。Cerium chloride 2.8 g was added to ethanol 35c.
It was added to c and dissolved. 1.7 g of titanium tetraisopropoxide was added to this solution, 0.9 g of silicon tetraethoxide was added, 5.0 g of 2- (2-methoxyethoxy) ethanol was further added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour. , Heated.
【0070】室温まで冷却した後、水0.35ml及び
61%硝酸0.1mlを加え、80℃で1時間攪拌しつ
つ、加熱した。この時のpHは2であった。この溶液を
室温まで冷却した後スピンナーによりソーダライムガラ
ス上に塗布した。スピンナー塗布条件は1000rpm
で30秒であった。塗布試料を大気中で乾燥させた後、
電気炉中に入れ、500℃で10分間焼成した。得られ
た薄膜試料の膜厚は400nmであり、屈折率は1.9
であった。After cooling to room temperature, 0.35 ml of water and 0.1 ml of 61% nitric acid were added, and the mixture was heated at 80 ° C. for 1 hour with stirring. The pH at this time was 2. This solution was cooled to room temperature and then applied on soda lime glass by a spinner. Spinner coating condition is 1000 rpm
It was 30 seconds. After drying the coated sample in the atmosphere,
It was put in an electric furnace and fired at 500 ° C. for 10 minutes. The obtained thin film sample had a film thickness of 400 nm and a refractive index of 1.9.
Met.
【0071】このようにして成膜された紫外線熱線遮断
ガラスの光学的特性は、可視光線透過率72%で自動車
用窓ガラスとして要求されるに充分な視認性を有し、日
射透過率53%で太陽光の熱線を充分に遮断していた。
また、紫外線透過率も20%であり、有害な紫外線を充
分に遮断していた。The ultraviolet heat ray-shielding glass thus formed has an optical characteristic of a visible light transmittance of 72% and sufficient visibility required for an automobile window glass, and a solar radiation transmittance of 53%. I was blocking the heat rays of sunlight.
Further, the ultraviolet ray transmittance was 20%, which was sufficient to block harmful ultraviolet rays.
【0072】このガラスを建物用窓ガラスとして使用し
たところ、携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではFMやAM電波を良好に受信することができ
た。また、自動車用窓ガラスとして使用しても同様に携
帯電話が支障なく使用することができ、ラジオではFM
やAM電波を良好に受信することができた。When this glass was used as a window glass for buildings, a mobile phone could be used without any trouble, and a radio could receive FM and AM radio waves satisfactorily. In addition, even if it is used as a window glass for automobiles, the mobile phone can be used without any trouble, and FM can be used for radio.
And AM radio waves could be received well.
【0073】[0073]
【発明の効果】本発明の紫外線熱線遮断ガラスによれ
ば、透明なガラス基板上に、基板側より第1層として亜
鉛、セリウム、チタン及びカドミニウムから成る群から
選ばれた少なくとも1種を成分とする紫外線遮断性能を
有する酸化物、これらの複合酸化物又はこれらの酸化物
に微量の金属元素を添加した複合酸化物を含有する第1
の透明誘電体膜を設け、前記第1層上に第2層として第
2の透明誘電体膜を設け、該第2層上に第3層として周
期律表のIIIa族、IVa族、Vb族、VIb族及び
VIIb族から成る群から選ばれた少なくとも1種の金
属元素を含有する複合酸化タングステン膜を設け、前記
第3層上に第4層として第3の透明誘電体膜を設けてな
ることを特徴とする紫外線熱線遮断ガラスにより、紫外
線及び熱線を効率良く遮断し、更に良好な可視光線透過
率を有すると共に、充分な電波透過性能を有する自動車
用や建築用窓ガラスが得られる。According to the ultraviolet heat ray-shielding glass of the present invention, at least one selected from the group consisting of zinc, cerium, titanium and cadmium is contained as a first layer from the substrate side on a transparent glass substrate. First, containing an oxide having an ultraviolet blocking ability, a composite oxide of these oxides, or a composite oxide obtained by adding a trace amount of a metal element to these oxides.
A transparent dielectric film, a second transparent dielectric film is provided as a second layer on the first layer, and a third layer is provided as a third layer on the second layer in the IIIa group, the IVa group, and the Vb group of the periodic table. , A composite tungsten oxide film containing at least one metal element selected from the group consisting of VIb group and VIIb group, and a third transparent dielectric film as a fourth layer on the third layer. With the ultraviolet heat ray-shielding glass characterized by the above, it is possible to obtain a window glass for automobiles and buildings that efficiently shields ultraviolet rays and heat rays, has a good visible light transmittance, and has sufficient radio wave transmission performance.
【図1】本発明の熱線遮断ガラスの膜構成を示す断面図
である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a film structure of a heat ray-shielding glass of the present invention.
1 透明なガラス基板 2 第1の透明誘電体膜 3 第2の透明誘電体膜 4 複合酸化タングステン膜 5 第3の透明誘電体膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent glass substrate 2 1st transparent dielectric film 3 2nd transparent dielectric film 4 Composite tungsten oxide film 5 3rd transparent dielectric film
Claims (2)
層として亜鉛、セリウム、チタン及びカドミニウムから
成る群から選ばれた少なくとも1種を成分とする紫外線
遮断性能を有する酸化物、これらの複合酸化物又はこれ
らの酸化物に微量の金属元素を添加した複合酸化物を含
有する第1の透明誘電体膜を設け、前記第1層上に第2
層として第2の透明誘電体膜を設け、該第2層上に第3
層として周期律表のIIIa族、IVa族、Vb族、V
Ib族及びVIIb族から成る群から選ばれた少なくと
も1種の金属元素を含有する複合酸化タングステン膜を
設け、前記第3層上に第4層として第3の透明誘電体膜
を設けてなることを特徴とする紫外線熱線遮断ガラス。1. A transparent glass substrate having a first side from the substrate side.
As a layer, an oxide having an ultraviolet ray-shielding property containing at least one selected from the group consisting of zinc, cerium, titanium and cadmium, a composite oxide of these, or a composite of these oxides to which a trace amount of a metal element is added. A first transparent dielectric film containing an oxide is provided, and a second transparent dielectric film is formed on the first layer.
A second transparent dielectric film is provided as a layer, and a third transparent dielectric film is provided on the second layer.
As a layer, IIIa group, IVa group, Vb group, V of the periodic table
A composite tungsten oxide film containing at least one metal element selected from the group consisting of Ib group and VIIb group is provided, and a third transparent dielectric film is provided as a fourth layer on the third layer. A glass that blocks UV heat rays.
の第3の透明誘電体膜がシリコン、チタン、アルミニウ
ム、錫、ジルコニウム、タンタル、クロム、ステンレス
及びニクロムから成る群から選ばれた少なくとも1種の
酸化物、それらの複合酸化物又は窒化酸化物であること
を特徴とする請求項1記載の紫外線熱線遮断ガラス。2. The second transparent dielectric film of the second layer and the third transparent dielectric film of the fourth layer are selected from the group consisting of silicon, titanium, aluminum, tin, zirconium, tantalum, chromium, stainless steel and nichrome. The ultraviolet heat ray-shielding glass according to claim 1, which is at least one selected oxide, a composite oxide or a nitrided oxide thereof.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20097094A JPH0859301A (en) | 1994-08-25 | 1994-08-25 | Ultraviolet heat shielding glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20097094A JPH0859301A (en) | 1994-08-25 | 1994-08-25 | Ultraviolet heat shielding glass |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0859301A true JPH0859301A (en) | 1996-03-05 |
Family
ID=16433355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20097094A Pending JPH0859301A (en) | 1994-08-25 | 1994-08-25 | Ultraviolet heat shielding glass |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0859301A (en) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005087680A1 (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Sun screening laminated structure |
| WO2006100799A1 (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Agro-horticultural soil cover film |
| JP2008247739A (en) * | 1996-05-14 | 2008-10-16 | Saint-Gobain Glass France | Glazing having antireflection coating |
| JP2009001482A (en) * | 1996-09-13 | 2009-01-08 | Pilkington Group Ltd | Improved coated glass |
| JP2010215451A (en) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Bridgestone Corp | Heat ray shielding glass and double glazing using the same |
| JP2010222160A (en) * | 2009-03-23 | 2010-10-07 | Bridgestone Corp | Heat ray shielding glass and multilayered glass using the same |
| JP2017066381A (en) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | Hoya Candeo Optronics株式会社 | UV absorbing paint, UV absorbing film, light absorbing film, optical element, optical unit and light irradiation device |
| WO2022209712A1 (en) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 住友金属鉱山株式会社 | Infrared absorbing particles, infrared-absorbing particle dispersion liquid, infrared-absorbing particle dispersion material, infrared-absorbing laminate transparent substrate, and infrared-absorbing transparent substrate |
-
1994
- 1994-08-25 JP JP20097094A patent/JPH0859301A/en active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008247739A (en) * | 1996-05-14 | 2008-10-16 | Saint-Gobain Glass France | Glazing having antireflection coating |
| JP2009001482A (en) * | 1996-09-13 | 2009-01-08 | Pilkington Group Ltd | Improved coated glass |
| US7655301B2 (en) | 2004-03-16 | 2010-02-02 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Laminated structure for shielding against solar radiation |
| AU2004317197B2 (en) * | 2004-03-16 | 2010-09-09 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Sun screening laminated structure |
| CN100368331C (en) * | 2004-03-16 | 2008-02-13 | 住友金属矿山株式会社 | Solar radiation shielding laminated structure |
| WO2005087680A1 (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Sun screening laminated structure |
| JPWO2006100799A1 (en) * | 2005-03-18 | 2008-08-28 | 住友金属鉱山株式会社 | Agricultural and horticultural soil covering film |
| WO2006100799A1 (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Agro-horticultural soil cover film |
| JP4623093B2 (en) * | 2005-03-18 | 2011-02-02 | 住友金属鉱山株式会社 | Agricultural and horticultural soil covering film |
| JP2010215451A (en) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Bridgestone Corp | Heat ray shielding glass and double glazing using the same |
| JP2010222160A (en) * | 2009-03-23 | 2010-10-07 | Bridgestone Corp | Heat ray shielding glass and multilayered glass using the same |
| JP2017066381A (en) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | Hoya Candeo Optronics株式会社 | UV absorbing paint, UV absorbing film, light absorbing film, optical element, optical unit and light irradiation device |
| WO2022209712A1 (en) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 住友金属鉱山株式会社 | Infrared absorbing particles, infrared-absorbing particle dispersion liquid, infrared-absorbing particle dispersion material, infrared-absorbing laminate transparent substrate, and infrared-absorbing transparent substrate |
| KR20230131276A (en) | 2021-03-31 | 2023-09-12 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | Infrared absorbing particles, infrared absorbing particle dispersion, infrared absorbing particle dispersion, infrared absorbing bonded transparent substrate, infrared absorbing transparent substrate |
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