JPH085995A - 液晶光学素子 - Google Patents

液晶光学素子

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JPH085995A
JPH085995A JP6138787A JP13878794A JPH085995A JP H085995 A JPH085995 A JP H085995A JP 6138787 A JP6138787 A JP 6138787A JP 13878794 A JP13878794 A JP 13878794A JP H085995 A JPH085995 A JP H085995A
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JP
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liquid crystal
optical element
crystal optical
polymer
light
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JP6138787A
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Masao Yamamoto
雅夫 山本
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶光学素子に重合開始剤の光吸収領域の光
を遮断する手段を設けたことにより、高分子分散型液晶
の劣化を抑制し、信頼性の高い液晶光学素子を提供す
る。 【構成】 透明電極15を有する上下一対の基板11、
12をスペーサ兼シール樹脂17を介して貼り合わせ作
製した空セルに、液晶13と未重合の重合性材料14を
用いて作製した高分子分散型液晶樹脂を挟持した液晶光
学素子を作製する。この液晶光学素子に重合開始剤の光
吸収を遮断できる手段16を備え付ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶が高分子樹脂マト
リクス中に分散保持された高分子分散型液晶を用いた液
晶光学素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶分子の屈折率とほぼ同じ屈折
率を有する高分子に、ネマチック液晶を分散保持させた
高分子分散型液晶を、電極を有する上下一対の基板間に
挟み込み、電界の有無により、液晶の屈折率を変化さ
せ、散乱状態と透過状態とを切り換える液晶光学素子が
多く提案されている(例えば特表昭58−501631
号公報、特開昭60−252687号公報、特表昭61
−502128号公報)。図2(a)(b)は、この液
晶光学素子の表示原理を示す概略図である。電圧無印加
状態(図2(a))では、液晶24の分子軸がランダム
な方向を向くため液晶領域の屈折率が周囲の高分子層2
5の屈折率と異なり、液晶光学素子に入った入射光22
は散乱光23となり、その結果、散乱状態が得られる。
一方、透明電極層21に電界を印加すると(図2
(b))、液晶24の分子軸が電界方向に配列し、基板
に垂直に入射した光に対しては、液晶領域の屈折率が周
囲の高分子層25の屈折率とほぼ一致するため、光の散
乱が生じず透過光26となり、その結果、透過状態が得
られる。
【0003】この高分子分散型液晶を用いた液晶光学素
子は、光の散乱を利用するため、偏光板を使用する必要
がなく、従来のツイステッドネマチック(TN)型の液
晶光学素子のように、直線偏光を得るために、偏光板が
必要な液晶光学素子に比べ、画面が明るく、視野角の広
い表示が可能になる。さらに、従来のTN型等の液晶光
学素子は、配向処理や上下基板間隔を正確に制御する必
要があり、大面積の表示に関しては、表示むらが出易い
という課題を有していたが、高分子分散型液晶を用いた
液晶光学素子は、配向処理が不要で基板間隔の制御も厳
密でなく、大面積の液晶光学素子も容易に作製できると
いう特徴を有する。
【0004】高分子分散型液晶の製造法には、高分子と
液晶を共通の溶媒に溶解し、基板上にキャストする溶媒
キャスト法(J.Membrance Sci.,vol.11,p.39-52,Jan.,1
982)、高分子多孔質膜の空孔中に、液晶を含浸させる含
浸法(Applied physics Letters,vol.48,no.1,p22-24,J
an.1982)、高分子の水溶液に液晶を乳化、分散させてキ
ャストする乳化法(SID Int.Symp.Dig.Tech.,vol.16.p6
8,1985)、液晶と重合性モノマーの均一溶液を作り、こ
れを重合によって相分離し、相分離構造を形成する重合
法(Applied physics Letters,vol.48,no.4,p269-271,J
an.1985)等がある。これらの製造法のうち、含浸法は、
工業的に応用した例は少ない。乳化法、溶媒キャスト
法、重合法は、応用例はあるが、高分子分散型液晶を液
晶光学素子等のディスプレイ用に応用する場合、高分子
分散型液晶を電極を有する基板上に形成し、精密に上下
一対の基板の位置を合わせる必要があり、分散溶媒であ
る水や溶剤を基板上で揮発する必要のある乳化法、溶媒
キャスト法では、基板の貼り合わせが困難である。従っ
て、ディスプレイに応用する際には、溶媒を必要としな
い重合法が適しており、特に、重合時間が短く、製造が
極めて簡単に行える光重合法がよく用いられている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、重合法
によって作製した高分子分散型液晶では重合が十分でな
く、未重合の低分子量モノマーや未反応の重合開始剤が
その内部に残存する場合がしばしば起こる。これら物質
の残存は液晶光学素子の電荷保持特性に悪影響を及ぼす
が、特に未反応の重合開始剤は、光源等からの光によっ
て種々の活性なラジカル種を発生させる。この様にして
発生したラジカル種は液晶材料やポリマー材料の劣化反
応が誘発し、液晶光学素子の表示性能を著しく悪化させ
るという問題があった。
【0006】本発明は、前記従来の問題を解決するた
め、高分子分散型液晶の劣化を抑制し、信頼性の高い液
晶光学素子を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の液晶光学素子は、液晶材料と重合性樹脂材
料及び重合開始剤を含む組成物を用い、重合法により作
製した高分子樹脂マトリクス中に分散保持された高分子
分散型液晶を用いた液晶光学素子であって、前記液晶光
学素子に前記重合開始剤の光吸収領域の光を遮断する手
段を設けたことを特徴とする。
【0008】前記構成においては、光遮断手段が、高分
子分散型液晶を挟持する2枚の透明基板の外側に配置さ
れ、かつ透明プレートであることが好ましい。前記構成
においては、透明プレートが、ガラスまたは樹脂フィル
ムであることが好ましい。
【0009】また本発明の液晶光学素子は、液晶と重合
性樹脂材料及び重合開始剤からなる組成物を、少なくと
も一方が透明な電極層を有する一対の基板間に挟持し、
光あるいは熱等により重合を行い作製した液晶光学素子
に、前記重合開始剤の光吸収波長領域の光を遮断する手
段を備え付けた液晶光学素子であることが好ましい。
【0010】
【作用】前記本発明の液晶光学素子の構成によれば、液
晶材料と重合性樹脂材料及び重合開始剤を含む組成物を
用い、重合法により作製した高分子樹脂マトリクス中に
分散保持された高分子分散型液晶を用いた液晶光学素子
であって、前記液晶光学素子に前記重合開始剤の光吸収
領域の光を遮断する手段を設けたことにより、高分子分
散型液晶の劣化を抑制し、信頼性の高い液晶光学素子を
実現できる。すなわち、重合後に高分子分散型液晶中に
残存した重合開始剤の光吸収を抑えることが可能にな
り、その結果、重合開始剤の光吸収によるラジカル種の
発生は抑制される。従って液晶材料やポリマー材料の劣
化も抑えることができ、液晶光学素子は長期にわたり安
定な表示性能を示す。
【0011】前記において、光遮断手段が、高分子分散
型液晶を挟持する2枚の透明基板の外側に配置され、か
つ透明プレートであると、従来の素子の構成を大きく変
更することなく、しかも見やすいものとなる。
【0012】前記において、透明プレートが、ガラスま
たは樹脂フィルムであると、実用的である。
【0013】
【実施例】以下、本発明の一実施例の液晶光学素子につ
いて、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施例
の液晶表示素子の概略を示す図である。インジウム・錫
酸化物よりなる透明電極15を形成した上下一対の透明
基板11、12を用意し、スペーサ兼シール樹脂17を
介して貼り合わせ、空セルを完成した。その後、空セル
の開口部より液晶13と重合開始剤を含む未重合の重合
性樹脂材料14を加熱、撹拌した均一溶液を注入した。
注入後、開口部を封止し、紫外線または熱により樹脂を
重合させ、いわゆる高分子分散型液晶からなる液晶セル
を作製した。このように作製した液晶セルに、紫外線カ
ットフィルター等の重合開始剤の光吸収を抑える手段1
6を具備した。
【0014】以下、具体的実施例をあげさらに詳しく説
明する。 (実施例1)インジウム・錫酸化物よりなる透明電極を
形成したガラスを2枚用意し、前記透明電極が内面を向
くように配置し、図3(a)(b)に示すようにその片
方の支持板(例えば下側基板32)の表面にスペーサ兼
シール樹脂33として直径13μmのガラス繊維を分散
した酸無水物硬化型エポキシ樹脂を2辺のみ辺の中央に
約5mmの幅を残して他の周辺に0.2mm幅で印刷し
た。前記エポキシ樹脂が存在しない部分を開口部34と
呼ぶ。上側基板31と下側基板32を対向させた状態で
加圧し、140℃で4時間加熱して硬化接着し、空セル
を完成した。次に、液晶材料として、メルク(株)製の
フッ素系液晶(商品名:ZLI4792)を8.200
g、高分子形成モノマーとして、2−エチルヘキシルア
クリレートを0.954g、オリゴマーとしてポリウレ
タンアクリレートを0.808g、光重合開始剤として
ベンジルジメチルケタール(日本化薬(株)製)を0.
038gを用意し、、上記した成分から成る組成物を5
0℃で十分撹拌し、液晶と重合性樹脂材料の均一溶液を
調整した。図4〜図7に本実施例で使用したZLI47
92、モノマー材料、オリゴマー材料及びベンジルジメ
チルケタールの光吸収スペクトルをを示す。これらの光
吸収スペクトルはセルギャップ13μmの石英セルを用
いて測定した。
【0015】さらに、この均一溶液を50℃で上記した
製造法により作製した空セルに、その開口部34から注
入し、その後開口部34をエポキシ樹脂で封止した後、
50℃で紫外線(24.5mW/cm2 )を10秒照射
し、高分子分散型液晶からなる液晶セルを作製した(以
下液晶セルAとする)。
【0016】次に、液晶セルAの両表示面に、図8に示
した光透過特性を有する紫外線カットフィルター(東芝
色ガラスフィルター:商品名Y−43)をガラス面に接
して備え付け、目的とする液晶光学素子(以下液晶光学
素子Aとする)を完成した。こうして完成した液晶光学
素子Aの信頼性試験として、図9に示す分光特性を有す
るキセノンランプ(出力6kW,放射照度610W/m
2 )を用いた光暴露試験を行った。ガラス基板の表面温
度は約60℃で試験を行った。
【0017】液晶光学素子Aの特性評価は、フレーム周
期30Hz、電圧±5V,ON時間60μsecの矩形
波を液晶光学素子に印加したときの電荷の保持特性の経
時変化を指標にして調べた。電荷の保持特性は、電荷保
持率として定量化し、ON時間内に蓄積された電荷が、
その後フレーム期間に渡り変化が全く起こらないものを
電荷保持率100%とした。液晶光学素子の性能の劣化
により、電荷の保持特性が悪くなるに従って、電荷保持
率は徐々に低下する。電荷保持率の測定温度は40℃で
行った。この結果を(表1)に示す。
【0018】
【表1】
【0019】表1から、明らかな通り、本実施例の液晶
光学素子Aの電荷保持率は93.0%と非常に高い値を
示し、キセノンランプ1000時間暴露後も、暴露前の
電荷保持率とほとんど変化無く、液晶光学素子の性能は
劣化していないことが確認できた。
【0020】(比較例1)実施例1記載と同種、同量の
液晶、モノマー、オリゴマー及び重合開始剤を使用し、
実施例1と同様の操作により高分子分散型液晶からなる
液晶光学素子を完成した。この液晶光学素子には、紫外
線カットフィルターは備え付けていない(以下液晶光学
素子Bとする)。この液晶光学素子Bについて、実施例
1に記載した同様の光暴露試験を行った。その結果を表
1に示すが、暴露時間が5時間で、すでに電荷保持率が
暴露前の約50%に低下し、液晶光学素子の性能は大き
く劣化していることがわかる。
【0021】(比較例2)実施例1記載と同種、同量の
液晶、モノマー、オリゴマー及び光重合開始剤を使用
し、実施例1と同様の操作により高分子分散型液晶から
なる液晶光学素子を作製した。この液晶光学素子には紫
外線カットフィルター(東芝色ガラスフィルター:商品
名UV−31)を備え付けた(以下液晶表示素子Cとす
る)。UV31の光透過特性を図10に示す。図10か
らわかるようにUV−31では、実施例1記載の液晶光
学素子(液晶光学素子A)に設けた紫外線カットフィル
ターY−43に比べ紫外線の透過量が多く、重合開始剤
の光吸収の遮断は不十分である。この液晶光学素子Cに
ついて、実施例1に記載した同様の光暴露試験を行っ
た。その結果を表1に示すが、暴露時間が5時間で、電
荷保持率の低下が始まり、さらに24時間で暴露前の約
50%に低下し、液晶光学素子の性能は大きく劣化して
いることがわかる。
【0022】(実施例2)液晶材料、高分子形成モノマ
ー及びオリゴマー材料は実施例1と同じ材料を用い、各
成分の混合量は同じにして重合開始剤のみを2,4−ジ
エチルチオキサントンに代え、実施例1に記載した同様
の操作で液晶セル(液晶セルDとする)を完成した。
2,4−ジエチルチオキサントンの光吸収スペクトルは
図11に示すように420nmまでテイルを引いてい
る。
【0023】次に液晶セルDの両表示面に420nm以
下の波長の光をカットできる図13に示した光透過特性
を有する紫外線カットフィルター(東芝色ガラスフィル
ター:商品名Y−45)をガラス面に接して備え付け、
目的とする液晶光学素子(以下液晶光学素子Dとする)
を完成した。
【0024】この液晶光学素子について実施例1に記載
した同様の光暴露試験を行った。この結果を(表2)に
示す。
【0025】
【表2】
【0026】表2から明らかな通り、液晶光学素子Dの
電圧保持率はキセノンランプ1000時間暴露後も暴露
前の電圧保持率と殆ど変化無く、液晶光学素子の性能は
劣化していないことがわかる。
【0027】(比較例3)実施例2記載と同種、同量の
液晶、モノマー、オリゴマー及び光重合開始剤を使用
し、実施例1と同様の操作により高分子分散型液晶から
なる液晶光学素子を作製した。この液晶光学素子には紫
外線カットフィルター(東芝色ガラスフィルター:商品
名Y−44)を備え付けた(以下液晶表示素子Eとす
る)。Y−44の光透過特性を図12に示す。図12か
らわかるようにY−44では、液晶材料やモノマー及び
オリゴマー材料の光吸収は抑えることはできるが重合開
始剤の光吸収の遮断は不十分である。
【0028】この液晶光学素子Eについて、実施例1に
記載した同様の光暴露試験を行った。その結果を表2に
示すが、暴露時間が5時間で、電荷保持率の低下が始ま
り、さらに24時間で暴露前の約50%に低下し、液晶
光学素子の性能は大きく劣化していることがわかる。
【0029】(比較例4)実施例2記載と同種、同量の
液晶、モノマー、オリゴマー及び光重合開始剤を使用
し、実施例1と同様の操作により高分子分散型液晶から
なる液晶光学素子を作製した。この液晶光学素子には図
8に示す光透過特性を有する紫外線カットフィルター
(東芝色ガラスフィルター:商品名Y−43)を備え付
けた(以下液晶表示素子Fとする)。
【0030】図8からわかるようにY−43では、液晶
材料やモノマー及びオリゴマー材料の光吸収は抑えるこ
とはできるが重合開始剤の光吸収の遮断は不十分であ
り、また液晶光学素子Eに設けた紫外線カットフィルタ
ーY−44より紫外線の透過量は多い。
【0031】この液晶光学素子Fについて、実施例1に
記載した同様の光暴露試験を行った。その結果を(表
2)に示すが、暴露時間が5時間で、電荷保持率の低下
が始まり、さらに24時間で暴露前の約50%に低下
し、液晶光学素子の性能は大きく劣化しており、更に劣
化の程度は比較例3の液晶光学素子Eより大きいことが
わかる。
【0032】上記した実施例及び比較例から、重合法で
作製した高分子分散型液晶を用いた液晶光学素子の信頼
性には重合終了後に高分子分散型液晶中に残存した重合
開始剤の光吸収が大きく関係しており、液晶光学素子の
信頼性向上には、いかに重合終了後に、重合開始剤の光
吸収を遮断するかが重要であることがわかる。液晶光学
素子に重合開始剤の光吸収を抑えることのできる紫外線
カットフィルターを設けた本発明の液晶光学素子は有効
な手段となる。尚、使用する液晶材料は上記したフッ素
系のZLI4792に限定されるものでなく、シアノ系
やクロル系等種々のネマチック液晶等が利用できる。高
分子分散型液晶中の液晶割合も本実施例の82重量%に
限定されるものでない。高分子形成モノマー材料、オリ
ゴマー材料としては、今回使用したアクリル系のモノマ
ー、ウレタン系のオリゴマーに限定されるものでなく、
一般に市販されているアクリル系、ウレタン系以外の市
販品でも応用が可能である。
【0033】また、光重合開始剤もベンジルジメチルケ
タールや2,4ジエチルチオキサントンに限定されるも
のでなく、メルク(株)製のダロキュア1173、ダロ
キュア1116やチバガイキー(株)製のイルガキュア
651等でもよい。
【0034】本実施例では光重合性の樹脂を用いている
が、これに限定されるものでなく熱重合性樹脂であって
もよい。紫外線カットフィルターは本実施例で使用した
ものに限定されるものでなく、使用する重合開始剤の光
吸収に合ったものを適宜選択して使用できる。また、ガ
ラス基板の代わりに、紫外線吸収剤を予め含有したフィ
ルム基板を用いても同様の効果が実現できる。これらの
基板は実施例に示したように、液晶光学素子のガラス基
板に接して配置してもよいし、それ以外にガラス基板と
の間に間隔をおいて配置してもよい。
【0035】上述したように、高分子分散型液晶を利用
した液晶光学素子の信頼性には重合終了後に高分子分散
型液晶中に残存した重合開始剤の光吸収が関係してお
り、液晶光学素子に重合開始剤の光吸収を遮断できる手
段を備えることで、液晶光学素子の信頼性を大幅に向上
することができる。
【0036】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の液晶光学素
子は、液晶材料と重合性樹脂材料及び重合開始剤を含む
組成物を用い、重合法により作製した高分子樹脂マトリ
クス中に分散保持された高分子分散型液晶を用いた液晶
光学素子であって、前記液晶光学素子に前記重合開始剤
の光吸収領域の光を遮断する手段を設けたことにより、
高分子分散型液晶の劣化を抑制し、信頼性の高い液晶光
学素子を実現できる。すなわち、重合後に高分子分散型
液晶中に残存した重合開始剤の光吸収を抑えることが可
能になり、その結果、重合開始剤の光吸収によるラジカ
ル種の発生は抑制される。従って液晶材料やポリマー材
料の劣化も抑えることができ、液晶光学素子は長期にわ
たり安定な表示性能を示す。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の液晶光学素子の一実施例の構成を示す
断面図である。
【図2】高分子分散型液晶を用いて作製した液晶光学素
子の表示原理を示す概略図である。
【図3】(a)は本発明の液晶光学素子の一実施例の平
面図、(b)は断面図である。
【図4】実施例1に記載した、液晶材料(ZLI479
2)の光吸収スペクトルを示す図である。
【図5】実施例1に記載した、モノマー材料の光吸収ス
ペクトルを示す図である。
【図6】実施例1に記載した、オリゴマー材料の光吸収
スペクトルを示す図である。
【図7】実施例1に記載した、重合開始剤(ベンジルジ
メチルケタール)の光吸収スペクトルを示す図である。
【図8】実施例1及び比較例4に記載した紫外線カット
フィルター(Y−43)の光透過特性を示す図である。
【図9】同暴露試験に使用したキセノンランプの分光特
性を示す図である。
【図10】比較例2に記載した紫外線カットフィルター
(UV−31)の光透過特性を示す図である。
【図11】本発明の実施例2に記載した、重合開始剤
(2,4ジエチルチオキサントン)の光吸収スペクトル
を示す図である。
【図12】同実施例2に記載した紫外線カットフィルタ
ー(Y−44)の光透過特性を示す図である。
【図13】比較例3に記載した紫外線カットフィルター
(Y−45)の光透過特性を示す図である。
【符号の説明】
11 上側基板 12 下側基板 13 液晶 14 重合性樹脂 15 透明電極 16 紫外線カットフィルター 21 透明電極 22 入射光 23 散乱光 24 液晶分子 25 高分子層 26 透過光 31 上側基板 32 下側基板 33 スペーサ兼シール樹脂 34 開口部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液晶材料と重合性樹脂材料及び重合開始
    剤を含む組成物を用い、重合法により作製した高分子樹
    脂マトリクス中に分散保持された高分子分散型液晶を用
    いた液晶光学素子であって、前記液晶光学素子に前記重
    合開始剤の光吸収領域の光を遮断する手段を設けたこと
    を特徴とする液晶光学素子。
  2. 【請求項2】 光遮断手段が、高分子分散型液晶を挟持
    する2枚の透明基板の外側に配置され、かつ透明プレー
    トである請求項1に記載の液晶光学素子。
  3. 【請求項3】 透明プレートが、ガラスまたは樹脂フィ
    ルムである請求項1に記載の液晶光学素子。
JP6138787A 1994-06-21 1994-06-21 液晶光学素子 Pending JPH085995A (ja)

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