JPH06331966A - 液晶光学素子及びその製造法 - Google Patents
液晶光学素子及びその製造法Info
- Publication number
- JPH06331966A JPH06331966A JP5115904A JP11590493A JPH06331966A JP H06331966 A JPH06331966 A JP H06331966A JP 5115904 A JP5115904 A JP 5115904A JP 11590493 A JP11590493 A JP 11590493A JP H06331966 A JPH06331966 A JP H06331966A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- optical element
- light
- crystal optical
- light absorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高分子分散型液晶を用いた高性能の液晶光学
素子を製造する。 【構成】 透明電極１を有する上下一対の上側基板２と
下側基板３とをスペーサ兼シール樹脂４を介し貼り合わ
せた液晶セル内に、液晶材料と重合性材料及び重合開始
剤から成る溶解物５を注入し、この溶解物５にフィルタ
ー層６を設けた光源７から前記重合開始剤の光吸収波長
（λＣ〜λＣ’）領域内の光であって、前記液晶材料の
光吸収波長（λＡ〜λＡ’）及び前記重合材料の光吸収
波長（λＢ〜λＢ’）の領域外の光８を照射して重合を
行うようにした高分子分散型液晶から成る液晶光学素
子。
素子を製造する。 【構成】 透明電極１を有する上下一対の上側基板２と
下側基板３とをスペーサ兼シール樹脂４を介し貼り合わ
せた液晶セル内に、液晶材料と重合性材料及び重合開始
剤から成る溶解物５を注入し、この溶解物５にフィルタ
ー層６を設けた光源７から前記重合開始剤の光吸収波長
（λＣ〜λＣ’）領域内の光であって、前記液晶材料の
光吸収波長（λＡ〜λＡ’）及び前記重合材料の光吸収
波長（λＢ〜λＢ’）の領域外の光８を照射して重合を
行うようにした高分子分散型液晶から成る液晶光学素
子。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶が高分子樹脂マト
リクス中に分散保持された高分子分散型液晶を用いた液
晶光学素子及びその製造法に関する。
リクス中に分散保持された高分子分散型液晶を用いた液
晶光学素子及びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶分子の屈折率と同じ屈折率を
有する高分子に、ネマチック液晶を分散保持させた高分
子分散型液晶（以下ＰＤＬＤとする）を、電極を有する
上下一対の基板間に挟み込み、電界の有無により、液晶
の屈折率を変化させ、散乱状態と透過状態とを切り換え
る液晶光学素子が多くの研究、開発者の注目を集めてい
る（特表昭５８−５０１６３１号公報、特開昭６０−２
５２６８７号公報、特表昭６１−５０２１２８号公
報）。
有する高分子に、ネマチック液晶を分散保持させた高分
子分散型液晶（以下ＰＤＬＤとする）を、電極を有する
上下一対の基板間に挟み込み、電界の有無により、液晶
の屈折率を変化させ、散乱状態と透過状態とを切り換え
る液晶光学素子が多くの研究、開発者の注目を集めてい
る（特表昭５８−５０１６３１号公報、特開昭６０−２
５２６８７号公報、特表昭６１−５０２１２８号公
報）。
【０００３】図３、図４は、この液晶光学素子の表示原
理を示す概略図である。電圧無印加状態（図３）では、
液晶９の分子軸がランダムな方向を向くため液晶領域の
屈折率が周囲の高分子マトリックス１０の屈折率と異な
り、液晶光学素子に入射した光（入射光１１）は散乱光
１２となり、その結果、散乱状態が得られる。一方、透
明電極１に電界を印加する（図４）と、液晶９の分子軸
が電界方向に配列し、基板に垂直に入射した光に対して
は、液晶領域の屈折率が周囲の高分子マトリックス１０
の屈折率とほぼ一致するため、液晶光学素子に入射した
光（入射光１１）は、透過光１３となり、その結果、透
過状態が得られる。
理を示す概略図である。電圧無印加状態（図３）では、
液晶９の分子軸がランダムな方向を向くため液晶領域の
屈折率が周囲の高分子マトリックス１０の屈折率と異な
り、液晶光学素子に入射した光（入射光１１）は散乱光
１２となり、その結果、散乱状態が得られる。一方、透
明電極１に電界を印加する（図４）と、液晶９の分子軸
が電界方向に配列し、基板に垂直に入射した光に対して
は、液晶領域の屈折率が周囲の高分子マトリックス１０
の屈折率とほぼ一致するため、液晶光学素子に入射した
光（入射光１１）は、透過光１３となり、その結果、透
過状態が得られる。
【０００４】このＰＤＬＣを用いた液晶光学素子は、光
の散乱を利用するため、偏光板を使用する必要がなく、
従来のツイステッドネマチック（ＴＮ）型の液晶光学素
子のように、直線偏光を得るために、偏光板を使用しな
ければならない液晶光学素子に比べ、明るく、視野角の
広い表示が可能になる。ＰＤＬＣの製造法には、高分子
と液晶を共通の溶媒に溶解し、基板上にキャストする溶
媒キャスト法（Ｊ．Ｍｅｍｂｒａｎｃｅ Ｓｃｉ．，ｖ
ｏｌ．１１，ｐ．３９−５２，Ｊａｎ．，１９８２）、
高分子多孔質膜の空孔中に液晶を含浸させる含浸法（Ａ
ｐｐｌｉｅｄ ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ，ｖｏ
ｌ．４８，ｎｏ．１，ｐ．２２−２４，Ｊａｎ．１９８
２）、高分子の水溶液に液晶を乳化、分散させてキャス
トする乳化法（ＳＩＤ Ｉｎｔ．Ｓｙｍｐ．Ｄｉｇ．Ｔ
ｅｃｈ．，ｖｏｌ．１６．ｐ．６８，１９８５）、液晶
と重合性モノマーの均一溶液を作り、これを重合によっ
て相分離し、相分離構造を形成する重合法（Ａｐｐｌｉ
ｅｄ ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ，ｖｏｌ．４
８，ｎｏ．４，ｐ．２６９−２７１，Ｊａｎ．１９８
５）等がある。これらの製造法のうち、含浸法は、工業
的に応用した例は少ない。乳化法、溶媒キャスト法、重
合法は応用例はあるが、ＰＤＬＣを液晶光学素子等ディ
スプレイ用に応用する場合、ＰＤＬＣを電極を有する基
板上に形成し、精密に上下一対の基板の位置を合わせる
必要があり、分散溶媒である水や溶剤を基板上で揮発す
る必要のある乳化法、溶媒キャスト法では基板の貼り合
わせが困難である。従って、ディスプレイに応用する際
には、溶媒を必要としない重合法が適しており、特に、
重合時間が短く、製造が極めて簡単に行える光重合法が
よく用いられ、投射型ディスプレイへの応用が検討され
ている（特開平１−２２９２３２号）。
の散乱を利用するため、偏光板を使用する必要がなく、
従来のツイステッドネマチック（ＴＮ）型の液晶光学素
子のように、直線偏光を得るために、偏光板を使用しな
ければならない液晶光学素子に比べ、明るく、視野角の
広い表示が可能になる。ＰＤＬＣの製造法には、高分子
と液晶を共通の溶媒に溶解し、基板上にキャストする溶
媒キャスト法（Ｊ．Ｍｅｍｂｒａｎｃｅ Ｓｃｉ．，ｖ
ｏｌ．１１，ｐ．３９−５２，Ｊａｎ．，１９８２）、
高分子多孔質膜の空孔中に液晶を含浸させる含浸法（Ａ
ｐｐｌｉｅｄ ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ，ｖｏ
ｌ．４８，ｎｏ．１，ｐ．２２−２４，Ｊａｎ．１９８
２）、高分子の水溶液に液晶を乳化、分散させてキャス
トする乳化法（ＳＩＤ Ｉｎｔ．Ｓｙｍｐ．Ｄｉｇ．Ｔ
ｅｃｈ．，ｖｏｌ．１６．ｐ．６８，１９８５）、液晶
と重合性モノマーの均一溶液を作り、これを重合によっ
て相分離し、相分離構造を形成する重合法（Ａｐｐｌｉ
ｅｄ ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ，ｖｏｌ．４
８，ｎｏ．４，ｐ．２６９−２７１，Ｊａｎ．１９８
５）等がある。これらの製造法のうち、含浸法は、工業
的に応用した例は少ない。乳化法、溶媒キャスト法、重
合法は応用例はあるが、ＰＤＬＣを液晶光学素子等ディ
スプレイ用に応用する場合、ＰＤＬＣを電極を有する基
板上に形成し、精密に上下一対の基板の位置を合わせる
必要があり、分散溶媒である水や溶剤を基板上で揮発す
る必要のある乳化法、溶媒キャスト法では基板の貼り合
わせが困難である。従って、ディスプレイに応用する際
には、溶媒を必要としない重合法が適しており、特に、
重合時間が短く、製造が極めて簡単に行える光重合法が
よく用いられ、投射型ディスプレイへの応用が検討され
ている（特開平１−２２９２３２号）。
【０００５】
【発明が解決しようとしている課題】しかし、ＰＤＬＣ
を用いた液晶光学素子を光重合法によって作製する際、
重合を行うのに用いる光の波長領域や照射条件によって
は、ＰＤＬＣの構成材料である液晶材料や重合性材料の
劣化が起こり、それにより液晶光学素子の性能が損なわ
れる場合もしばしば起こる。これは重合を行う光の波長
領域がＰＤＬＣの構成材料の光吸収波長領域に重なった
場合、前記構成材料が光を吸収し、光劣化が開始され、
その結果として液晶光学素子の性能が劣化するのであ
る。
を用いた液晶光学素子を光重合法によって作製する際、
重合を行うのに用いる光の波長領域や照射条件によって
は、ＰＤＬＣの構成材料である液晶材料や重合性材料の
劣化が起こり、それにより液晶光学素子の性能が損なわ
れる場合もしばしば起こる。これは重合を行う光の波長
領域がＰＤＬＣの構成材料の光吸収波長領域に重なった
場合、前記構成材料が光を吸収し、光劣化が開始され、
その結果として液晶光学素子の性能が劣化するのであ
る。
【０００６】本発明の目的は、上記したＰＤＬＣを用い
た液晶光学素子の問題点を解消し、性能の劣化を起こさ
せない液晶光学素子の製造法を提供し、高性能の特性を
有する液晶光学素子を提供することである。
た液晶光学素子の問題点を解消し、性能の劣化を起こさ
せない液晶光学素子の製造法を提供し、高性能の特性を
有する液晶光学素子を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第１発明は、ＰＤＬＣの構成材料の一つで
ある重合開始剤の光吸収波長領域（λＣ〜λＣ’）の少
なくとも一部が、同じく、ＰＤＬＣの構成材料である液
晶材料の光吸収波長領域（λＡ〜λＡ’）及び重合性材
料の光吸収波長領域（λＢ〜λＢ’）に重ならないよう
な、上記構成材料を含む組成物を用いて成る液晶光学素
子であり、第２発明としての液晶光学素子の製造法は、
前記λＣ〜λＣ’の領域内の波長を有する光であって、
かつλＡ〜λＡ’及びλＢ〜λＢ’の領域外の波長を有
する光を照射して重合を完了する液晶光学素子の製造法
である。
に、本発明の第１発明は、ＰＤＬＣの構成材料の一つで
ある重合開始剤の光吸収波長領域（λＣ〜λＣ’）の少
なくとも一部が、同じく、ＰＤＬＣの構成材料である液
晶材料の光吸収波長領域（λＡ〜λＡ’）及び重合性材
料の光吸収波長領域（λＢ〜λＢ’）に重ならないよう
な、上記構成材料を含む組成物を用いて成る液晶光学素
子であり、第２発明としての液晶光学素子の製造法は、
前記λＣ〜λＣ’の領域内の波長を有する光であって、
かつλＡ〜λＡ’及びλＢ〜λＢ’の領域外の波長を有
する光を照射して重合を完了する液晶光学素子の製造法
である。
【０００８】
【作用】第１発明では、重合開始剤の光吸収波長領域内
の波長を有する光であって、かつ液晶材料及び重合性材
料の光吸収波長領域外の波長を有する光を照射して重合
を行うことで、液晶材料や重合性材料の光吸収を抑える
ことができ、ＰＤＬＣの構成材料の劣化のない液晶光学
素子として高性能を有する。又、第２発明では上記と同
様にＰＤＬＣの構成材料の劣化を引き起こすことなく液
晶光学素子を製造できる。
の波長を有する光であって、かつ液晶材料及び重合性材
料の光吸収波長領域外の波長を有する光を照射して重合
を行うことで、液晶材料や重合性材料の光吸収を抑える
ことができ、ＰＤＬＣの構成材料の劣化のない液晶光学
素子として高性能を有する。又、第２発明では上記と同
様にＰＤＬＣの構成材料の劣化を引き起こすことなく液
晶光学素子を製造できる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の液晶光学素子及びその製造法
について、図面を参照しながら説明する。図１は、本発
明のＰＤＬＣを用いた液晶光学素子の製造法の概略を示
す図である。インジウム・錫酸化物よりなる透明電極１
を形成した上下一対の上側基板２と下側基板３とを用意
し、スペーサ兼シール樹脂４を介して貼り合わせ、空セ
ルを完成する。その後、空セルの開口部より、液晶と未
硬化の光重合性の材料及び重合開始剤を含む組成物を加
熱、攪拌した溶解物５を注入する。注入後、開口部を封
止し、所望の波長を照射できるように紫外線カットフィ
ルター等のフィルター層６を備え付けた光源７から一定
領域の波長を有する光８を前記溶解物５に照射し、いわ
ゆるＰＤＬＣから成る液晶セルを完成した。
について、図面を参照しながら説明する。図１は、本発
明のＰＤＬＣを用いた液晶光学素子の製造法の概略を示
す図である。インジウム・錫酸化物よりなる透明電極１
を形成した上下一対の上側基板２と下側基板３とを用意
し、スペーサ兼シール樹脂４を介して貼り合わせ、空セ
ルを完成する。その後、空セルの開口部より、液晶と未
硬化の光重合性の材料及び重合開始剤を含む組成物を加
熱、攪拌した溶解物５を注入する。注入後、開口部を封
止し、所望の波長を照射できるように紫外線カットフィ
ルター等のフィルター層６を備え付けた光源７から一定
領域の波長を有する光８を前記溶解物５に照射し、いわ
ゆるＰＤＬＣから成る液晶セルを完成した。
【００１０】図２は、上記した製造法により完成した液
晶光学素子の構成を示す断面図である。光照射により、
重合性材料の重合が進行し、相分離が起こり、液晶９が
高分子マトリクス１０中に分散保持されたＰＤＬＣが形
成される。以下、具体的実施例をあげさらに詳しく説明
する。
晶光学素子の構成を示す断面図である。光照射により、
重合性材料の重合が進行し、相分離が起こり、液晶９が
高分子マトリクス１０中に分散保持されたＰＤＬＣが形
成される。以下、具体的実施例をあげさらに詳しく説明
する。
【００１１】（実施例１）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極を形成したガラスを２枚用意し、図５に示す
ようにその片方の支持板（例えば下側基板１１）の表面
にスペーサ兼シール樹脂１２として直径１３μｍのガラ
ス繊維を分散した酸無水物硬化型エポキシ樹脂を１辺の
み辺の中央に５ｍｍの幅の開口部１３を残して他の周辺
に０．２ｍｍ幅で印刷した上で、上側基板１４と下側基
板１１を対向させた状態で加圧し、１４０℃で４時間加
熱して硬化接着し、空セルを完成した。
る透明電極を形成したガラスを２枚用意し、図５に示す
ようにその片方の支持板（例えば下側基板１１）の表面
にスペーサ兼シール樹脂１２として直径１３μｍのガラ
ス繊維を分散した酸無水物硬化型エポキシ樹脂を１辺の
み辺の中央に５ｍｍの幅の開口部１３を残して他の周辺
に０．２ｍｍ幅で印刷した上で、上側基板１４と下側基
板１１を対向させた状態で加圧し、１４０℃で４時間加
熱して硬化接着し、空セルを完成した。
【００１２】次に、液晶材料として、メルク（株）製液
晶（商品名：ＢＬ−０３５）を８．２００ｇ、重合性材
料として、アクリル系のモノマーを０．９５４ｇ、及び
オリゴマーとしてアクリル系のオリゴマーを０．８０８
ｇ、光重合開始剤として２，４−ジエチルチオキサント
ン（日本化薬（株）製）を０．０３８ｇ用意し、前記し
た各成分から成る組成物を５５℃で十分攪拌し、溶解物
（以下溶解物Ａとする）を調整した。図６〜図１２に前
記各成分の光吸収スペクトルを示す。これらのスペクト
ルからわかるように、重合開始剤は、使用した液晶、モ
ノマー、及びオリゴマーの光吸収領域に一部重ならない
光吸収領域を有する材料を選択した。
晶（商品名：ＢＬ−０３５）を８．２００ｇ、重合性材
料として、アクリル系のモノマーを０．９５４ｇ、及び
オリゴマーとしてアクリル系のオリゴマーを０．８０８
ｇ、光重合開始剤として２，４−ジエチルチオキサント
ン（日本化薬（株）製）を０．０３８ｇ用意し、前記し
た各成分から成る組成物を５５℃で十分攪拌し、溶解物
（以下溶解物Ａとする）を調整した。図６〜図１２に前
記各成分の光吸収スペクトルを示す。これらのスペクト
ルからわかるように、重合開始剤は、使用した液晶、モ
ノマー、及びオリゴマーの光吸収領域に一部重ならない
光吸収領域を有する材料を選択した。
【００１３】次に、前記した製造法で作製した空セルに
５５℃で、その開口部１３から溶解物Ａを注入した。注
入完了後、開口部１３を封止し、５５℃で、光源に高圧
水銀ランプを用い、重合性材料の重合を完了し、ＰＤＬ
Ｃから成る液晶光学素子を完成した。この時、高圧水銀
ランプには、紫外線カットフィルター（東芝硝子（株）
製：商品名Ｙ−４３）を取り付け、液晶光学素子に当た
る光の波長が４００ｎｍ以上の光になるようにした（図
１０にＹ−４３の光透過特性を示す）。重合を行った光
の強度は、２４．５ｍＷ／ｃｍ2 で、照射時間は１０秒
である。完成した液晶光学素子の特性評価は、フレーム
周期３０Ｈｚ、電圧±５Ｖ、ＯＮ時間６０μｓｅｃの矩
形波を液晶セルに印加したときの電圧の保持特性を指標
に評価した。電圧の保持特性は、電圧保持率として定量
化し、ＯＮ時間内に蓄積された電圧が、その後フレーム
期間に渡り電圧変化が全く起こらないものを電圧保持率
１００％とした。構成材料の劣化により液晶光学素子の
性能が劣化すると、電圧の保持特性が悪くなり、電圧保
持率は低下する。今回作製した液晶光学素子の電圧保持
率は、４０℃で７９．８％で、高い値を示した。
５５℃で、その開口部１３から溶解物Ａを注入した。注
入完了後、開口部１３を封止し、５５℃で、光源に高圧
水銀ランプを用い、重合性材料の重合を完了し、ＰＤＬ
Ｃから成る液晶光学素子を完成した。この時、高圧水銀
ランプには、紫外線カットフィルター（東芝硝子（株）
製：商品名Ｙ−４３）を取り付け、液晶光学素子に当た
る光の波長が４００ｎｍ以上の光になるようにした（図
１０にＹ−４３の光透過特性を示す）。重合を行った光
の強度は、２４．５ｍＷ／ｃｍ2 で、照射時間は１０秒
である。完成した液晶光学素子の特性評価は、フレーム
周期３０Ｈｚ、電圧±５Ｖ、ＯＮ時間６０μｓｅｃの矩
形波を液晶セルに印加したときの電圧の保持特性を指標
に評価した。電圧の保持特性は、電圧保持率として定量
化し、ＯＮ時間内に蓄積された電圧が、その後フレーム
期間に渡り電圧変化が全く起こらないものを電圧保持率
１００％とした。構成材料の劣化により液晶光学素子の
性能が劣化すると、電圧の保持特性が悪くなり、電圧保
持率は低下する。今回作製した液晶光学素子の電圧保持
率は、４０℃で７９．８％で、高い値を示した。
【００１４】（実施例２）インジウム・錫酸化物よりな
る透明電極を形成したガラスを２枚用意し、図３に示す
ようにその片方の支持板（例えば下側基板１１）の表面
にスペーサ兼シール樹脂１２として直径１３μｍのガラ
ス繊維を分散した酸無水物硬化型エポキシ樹脂を１辺の
み辺の中央に５ｍｍの幅の開口部１３を残して他の周辺
に０．２ｍｍ幅で印刷した上で、上側基板１４と下側基
板１１を対向させた状態で加圧し、１４０℃で４時間加
熱して硬化接着し、空セルを完成した。
る透明電極を形成したガラスを２枚用意し、図３に示す
ようにその片方の支持板（例えば下側基板１１）の表面
にスペーサ兼シール樹脂１２として直径１３μｍのガラ
ス繊維を分散した酸無水物硬化型エポキシ樹脂を１辺の
み辺の中央に５ｍｍの幅の開口部１３を残して他の周辺
に０．２ｍｍ幅で印刷した上で、上側基板１４と下側基
板１１を対向させた状態で加圧し、１４０℃で４時間加
熱して硬化接着し、空セルを完成した。
【００１５】次に、液晶材料として、メルク（株）製液
晶（商品名：ＺＬＩ−４７９２）を８．２００ｇ、重合
性材料として、実施例１に記載したものと同じアクリル
系のモノマーを０．９５４ｇ、及びオリゴマーとして、
実施例１に記載したものと同じアクリル系のオリゴマー
を０．８０８ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチル
ケタール（日本化薬（株）製）を０．０３８ｇ用意し、
前記した各成分から成る組成物を５５℃で十分攪拌し、
溶解物（以下溶解物Ｂとする）を調整した。図９、図１
３に、ＺＬＩ−４７９２とベンジルジメチルケタールの
光吸収スペクトルを示す。図９、図１３及び図６、図７
に示したモノマー、及びオリゴマーのスペクトルからわ
かるように、重合開始剤は、使用した液晶、モノマー、
及びオリゴマーの光吸収領域に一部重ならない光吸収領
域を有する材料を選択した。
晶（商品名：ＺＬＩ−４７９２）を８．２００ｇ、重合
性材料として、実施例１に記載したものと同じアクリル
系のモノマーを０．９５４ｇ、及びオリゴマーとして、
実施例１に記載したものと同じアクリル系のオリゴマー
を０．８０８ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチル
ケタール（日本化薬（株）製）を０．０３８ｇ用意し、
前記した各成分から成る組成物を５５℃で十分攪拌し、
溶解物（以下溶解物Ｂとする）を調整した。図９、図１
３に、ＺＬＩ−４７９２とベンジルジメチルケタールの
光吸収スペクトルを示す。図９、図１３及び図６、図７
に示したモノマー、及びオリゴマーのスペクトルからわ
かるように、重合開始剤は、使用した液晶、モノマー、
及びオリゴマーの光吸収領域に一部重ならない光吸収領
域を有する材料を選択した。
【００１６】次に、前記した製造法で作製した空セルに
５５℃で、その開口部１３から溶解物Ｂを注入した。注
入完了後、開口部１３を封止し、５５℃で、光源に高圧
水銀ランプを用い、重合性材料の重合を完了し、ＰＤＬ
Ｃから成る液晶光学素子を完成した。この時、高圧水銀
ランプには、紫外線カットフィルター（東芝硝子（株）
製：商品名Ｌ−３９）を取り付け、液晶光学素子に当た
る光の波長が３６０ｎｍ以上の光になるようにした（図
１１にＬ−３９の光透過特性を示す）。重合を行った光
の強度は、２４．５ｍＷ／ｃｍ2 で、照射時間は１０秒
である。完成した液晶光学素子の電圧保持率は、４０℃
で９７．３％で、極めて高い値を示した。
５５℃で、その開口部１３から溶解物Ｂを注入した。注
入完了後、開口部１３を封止し、５５℃で、光源に高圧
水銀ランプを用い、重合性材料の重合を完了し、ＰＤＬ
Ｃから成る液晶光学素子を完成した。この時、高圧水銀
ランプには、紫外線カットフィルター（東芝硝子（株）
製：商品名Ｌ−３９）を取り付け、液晶光学素子に当た
る光の波長が３６０ｎｍ以上の光になるようにした（図
１１にＬ−３９の光透過特性を示す）。重合を行った光
の強度は、２４．５ｍＷ／ｃｍ2 で、照射時間は１０秒
である。完成した液晶光学素子の電圧保持率は、４０℃
で９７．３％で、極めて高い値を示した。
【００１７】（比較例１）液晶材料としてＢＬ０３５
（メルク（株）製）、モノマー、オリゴマー材料とし
て、実施例１に記載したものと同じ材料を用い、重合開
始剤はベンジルジメチルケタールを用意した。ベンジル
ジメチルケタールの光吸収波長領域（図１３）は、ＢＬ
０３５の光吸収波長領域（図８）に完全に含まれてい
る。重量比は同じにして、前記各材料を実施例１に記載
した作製法で作製した空セルに挟持し、重合を行う光の
波長領域が、３６０ｎｍ以上の光（ベンジルジメチルケ
タールの光吸収波長領域内の光）になるように、高圧水
銀ランプに実施例２に記載のものと同じ紫外線カットフ
ィルター（東芝硝子（株）製：商品名Ｌ−３９）を取り
付け、重合を行い液晶光学素子を作製した。照射強度、
照射時間は、実施例１記載のものと同じである。完成し
た液晶光学素子の電圧保持率は、４０℃で３５．２％で
実施例１のものに比べかなり低いものであった。
（メルク（株）製）、モノマー、オリゴマー材料とし
て、実施例１に記載したものと同じ材料を用い、重合開
始剤はベンジルジメチルケタールを用意した。ベンジル
ジメチルケタールの光吸収波長領域（図１３）は、ＢＬ
０３５の光吸収波長領域（図８）に完全に含まれてい
る。重量比は同じにして、前記各材料を実施例１に記載
した作製法で作製した空セルに挟持し、重合を行う光の
波長領域が、３６０ｎｍ以上の光（ベンジルジメチルケ
タールの光吸収波長領域内の光）になるように、高圧水
銀ランプに実施例２に記載のものと同じ紫外線カットフ
ィルター（東芝硝子（株）製：商品名Ｌ−３９）を取り
付け、重合を行い液晶光学素子を作製した。照射強度、
照射時間は、実施例１記載のものと同じである。完成し
た液晶光学素子の電圧保持率は、４０℃で３５．２％で
実施例１のものに比べかなり低いものであった。
【００１８】（比較例２）実施例２に記載した溶解物Ｂ
を、実施例１に記載した作製法で作製した空セルに挟持
し、重合を行う光の波長領域が２４０ｎｍ以上の光にな
るように、高圧水銀ランプに紫外線透過フィルター（東
芝硝子（株）製：商品名ＵＶ−２９）を取り付け、溶解
物Ｂの重合を行い液晶光学素子を作製した（図１４にＵ
Ｖ−２９の光透過特性を示す）。照射強度、照射時間
は、実施例１記載のものと同じである。完成した液晶光
学素子の電圧保持率は、４０℃で７０．５％で実施例２
のものに比べ低いものであった。
を、実施例１に記載した作製法で作製した空セルに挟持
し、重合を行う光の波長領域が２４０ｎｍ以上の光にな
るように、高圧水銀ランプに紫外線透過フィルター（東
芝硝子（株）製：商品名ＵＶ−２９）を取り付け、溶解
物Ｂの重合を行い液晶光学素子を作製した（図１４にＵ
Ｖ−２９の光透過特性を示す）。照射強度、照射時間
は、実施例１記載のものと同じである。完成した液晶光
学素子の電圧保持率は、４０℃で７０．５％で実施例２
のものに比べ低いものであった。
【００１９】尚、今回の実施例では、ＰＤＬＣ中の液晶
の割合は、８２重量％にしているが、これに限定される
ものでない。重合性材料としては、今回、用いたアクリ
ル系のモノマーに限定されるものでなく、アクリル系以
外の市販品も応用可能である。また、オリゴマーも前記
したアクリル系のオリゴマーに限定されるものでない。
の割合は、８２重量％にしているが、これに限定される
ものでない。重合性材料としては、今回、用いたアクリ
ル系のモノマーに限定されるものでなく、アクリル系以
外の市販品も応用可能である。また、オリゴマーも前記
したアクリル系のオリゴマーに限定されるものでない。
【００２０】また、本発明の実施例では、重合を行う光
の波長の調整を、光源にフィルター層を取り付けること
で行ったが、それ以外に、フィルター層を基板側に取り
付けてもよい。また、フィルターの代わりに、モノクロ
メータを用いても同様の効果が達成できる。
の波長の調整を、光源にフィルター層を取り付けること
で行ったが、それ以外に、フィルター層を基板側に取り
付けてもよい。また、フィルターの代わりに、モノクロ
メータを用いても同様の効果が達成できる。
【００２１】
【発明の効果】本発明では、重合開始剤の光吸収波長領
域の少なくとも一部が、液晶材料及び重合性材料の光吸
収波長領域に重ならないように選択した波長を有する光
を照射して重合を行うことで、ＰＤＬＣの構成材料の劣
化のない高性能の特性を有する液晶光学素子が実現でき
る。
域の少なくとも一部が、液晶材料及び重合性材料の光吸
収波長領域に重ならないように選択した波長を有する光
を照射して重合を行うことで、ＰＤＬＣの構成材料の劣
化のない高性能の特性を有する液晶光学素子が実現でき
る。
【図１】本発明の高分子分散型液晶を用いた液晶光学素
子の製造法の概略説明図
子の製造法の概略説明図
【図２】本発明の製造法により作製した液晶光学素子の
概略断面図
概略断面図
【図３】液晶光学素子の表示原理を示すもので、電圧を
印加しない場合の説明図
印加しない場合の説明図
【図４】同電圧を印加した場合の説明図
【図５】本発明の製造法により作製した液晶光学素子の
概略平面図
概略平面図
【図６】実施例１で使用したモノマー材料の光吸収スペ
クトル図
クトル図
【図７】実施例１で使用したオリゴマー材料の光吸収ス
ペクトル図
ペクトル図
【図８】ＢＬ０３５の光吸収スペクトル図
【図９】ＺＬＩ４７９２の光吸収スペクトル図
【図１０】紫外線カットフィルターＹ−４３の光透過特
性図
性図
【図１１】紫外線カットフィルターＬ−３９の光透過特
性図
性図
【図１２】２，４−ジエチルチオキサントンの光吸収ス
ペクトル図
ペクトル図
【図１３】ベンジルジメチルケタールの光吸収スペクト
ル図
ル図
【図１４】紫外線透過フィルターＵＶ−２９の光透過特
性図
性図
１ 透明電極 ２ 上側基板 ３ 下側基板 ４ スペーサ兼シール樹脂 ５ 溶解物 ６ フィルター層 ７ 光源 ８ 重合を行う光 ９ 液晶 １０ 高分子マトリクス
Claims (2)
- 【請求項１】 液晶材料と重合性材料及び重合開始剤を
含む組成物に光を照射して製造した高分子分散型液晶を
用いた液晶光学素子において、前記重合開始剤の光吸収
波長領域の少なくとも一部が、前記液晶材料及び重合性
材料の光吸収波長領域に重ならないことを特徴とする液
晶光学素子。 - 【請求項２】 一対の電極を有する基板間に、液晶材料
と重合性材料及び重合開始剤から成る組成物を挟持し、
光照射によって、重合性材料の重合を完了する液晶光学
素子の製造方法において、液晶材料の光吸収波長領域を
λＡ〜λＡ’、重合性材料の光吸収波長領域をλＢ〜λ
Ｂ’、重合開始剤の光吸収波長領域をλＣ〜λＣ’とし
た場合、前記組成物にλＣ〜λＣ’の領域内の光であっ
て、かつλＡ〜λＡ’及びλＢ〜λＢ’の領域外の光を
照射して重合を行うことを特徴とする液晶光学素子の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5115904A JPH06331966A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 液晶光学素子及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5115904A JPH06331966A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 液晶光学素子及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06331966A true JPH06331966A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=14674092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5115904A Pending JPH06331966A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 液晶光学素子及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06331966A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100722228B1 (ko) * | 2005-09-29 | 2007-05-30 | 대한민국 | 새우종묘용 육상수조식육성시스템 및 새우종묘용 육상수조식육성방법 |
| JP2007248669A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Sony Corp | 液晶表示装置の製造方法 |
-
1993
- 1993-05-18 JP JP5115904A patent/JPH06331966A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100722228B1 (ko) * | 2005-09-29 | 2007-05-30 | 대한민국 | 새우종묘용 육상수조식육성시스템 및 새우종묘용 육상수조식육성방법 |
| JP2007248669A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Sony Corp | 液晶表示装置の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69325328T2 (de) | Polymer dispergierter Flüssigkristallfilm, Flüssigkristallanzeige und Verfahren zur Herstellung | |
| JPH0713138A (ja) | 高分子分散型液晶表示素子 | |
| JPH07120728A (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JPH0659246A (ja) | 光変調素子およびその製造方法 | |
| JP2775769B2 (ja) | 投射型アクティブマトリクス液晶表示装置及びその製造方法 | |
| KR100262448B1 (ko) | 전기광학장치 및 그의 제작방법 | |
| JP2000321562A (ja) | リバースモード光スイッチング機能を有する液晶光学装置とその製造方法 | |
| JPH06331966A (ja) | 液晶光学素子及びその製造法 | |
| JPH06324310A (ja) | 液晶表示素子及び光学系 | |
| JP3279710B2 (ja) | 液晶光学素子 | |
| JP3981164B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JP2880354B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JPH11125808A (ja) | 液晶光学素子とその製造方法 | |
| JPH06235908A (ja) | 液晶光学素子及びその製造法 | |
| JP3059030B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JP2881073B2 (ja) | 電界複屈折制御型液晶素子及びその製法 | |
| JPH085995A (ja) | 液晶光学素子 | |
| JP2000066177A (ja) | 高分子分散型液晶の光吸収評価法、液晶表示素子および液晶プロジェクター | |
| JPH11287978A (ja) | 液晶表示パネルの製造方法 | |
| JP3054005B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JP2921040B2 (ja) | 調光フィルムおよびその製造方法 | |
| JP3337521B2 (ja) | 液晶光学素子およびその製造方法 | |
| JPH0895007A (ja) | 液晶光学素子の製造法 | |
| JPH07181454A (ja) | 高分子分散型液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JPH0961797A (ja) | 液晶光学素子及びその製造方法 |