JPH0860394A - パラジウムめっき液 - Google Patents
パラジウムめっき液Info
- Publication number
- JPH0860394A JPH0860394A JP22078094A JP22078094A JPH0860394A JP H0860394 A JPH0860394 A JP H0860394A JP 22078094 A JP22078094 A JP 22078094A JP 22078094 A JP22078094 A JP 22078094A JP H0860394 A JPH0860394 A JP H0860394A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- palladium
- plating
- plating solution
- current density
- palladium plating
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- Withdrawn
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 中間めっき工程を必要とせずに高電流密度で
の密着性を改善することのできるパラジウムめっき液の
開発。 【構成】 クロロニトロジアンミンパラジウムまたはク
ロロニトロテトラアンミンパラジウムを含み、そして随
意的に光沢剤として亜硝酸またはその塩を加えたことを
特徴とするパラジウムめっき液。従来のパラジウムめっ
き液では水素ガスが発生し、これがめっき皮膜中に吸蔵
されて大きな残留応力が発生し、これがめっき皮膜の剥
離を生じさせる原因となっていたが、ハロゲンとパラジ
ウムとを同時に含む錯体の使用によりこの問題を解決し
た。
の密着性を改善することのできるパラジウムめっき液の
開発。 【構成】 クロロニトロジアンミンパラジウムまたはク
ロロニトロテトラアンミンパラジウムを含み、そして随
意的に光沢剤として亜硝酸またはその塩を加えたことを
特徴とするパラジウムめっき液。従来のパラジウムめっ
き液では水素ガスが発生し、これがめっき皮膜中に吸蔵
されて大きな残留応力が発生し、これがめっき皮膜の剥
離を生じさせる原因となっていたが、ハロゲンとパラジ
ウムとを同時に含む錯体の使用によりこの問題を解決し
た。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光沢に優れたパラジウ
ムめっきを可能とするパラジウムめっき液に関するもの
であり、特に高電流密度でも光沢があり、密着性の良好
なパラジウムめっき膜を得ることのできるパラジウムめ
っき液に関する。
ムめっきを可能とするパラジウムめっき液に関するもの
であり、特に高電流密度でも光沢があり、密着性の良好
なパラジウムめっき膜を得ることのできるパラジウムめ
っき液に関する。
【０００２】
【従来の技術】パラジウムめっきは、耐食性、光沢に優
れるため装飾用、コネクター等の電気・電子部品用など
に使用されているが、基材の表面にパラジウムの電気め
っきを行う場合、めっき皮膜の密着性が低いことが問題
であった。特に電流密度が高くなるほど密着性は低下
し、析出膜の剥離が生じ易かった。
れるため装飾用、コネクター等の電気・電子部品用など
に使用されているが、基材の表面にパラジウムの電気め
っきを行う場合、めっき皮膜の密着性が低いことが問題
であった。特に電流密度が高くなるほど密着性は低下
し、析出膜の剥離が生じ易かった。
【０００３】このような問題に対して、例えば特公昭６
３−９０２８号には、水溶性パラジウム化合物、電解質
及び亜硝酸化合物を含むパラジウム浴を前提として、パ
ラジウムめっき皮膜の高電流密度での下地との密着性を
改善するために、中間層として水溶性パラジウム化合物
及び亜硝酸化合物を含むパラジウムストライク浴を用い
てパラジウムストライクめっきを施すことが記載されて
いる。その結果、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 においても光
沢に優れ、密着性の良好なパラジウムめっきが可能であ
るとされている。
３−９０２８号には、水溶性パラジウム化合物、電解質
及び亜硝酸化合物を含むパラジウム浴を前提として、パ
ラジウムめっき皮膜の高電流密度での下地との密着性を
改善するために、中間層として水溶性パラジウム化合物
及び亜硝酸化合物を含むパラジウムストライク浴を用い
てパラジウムストライクめっきを施すことが記載されて
いる。その結果、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 においても光
沢に優れ、密着性の良好なパラジウムめっきが可能であ
るとされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このように中間層とし
てパラジウムストライクめっきを施すことで高電流密度
での密着性は改善されるが、一方、ストライクめっき工
程を加えなければならないために、作業性が悪くまたコ
ストが高くなるという問題がある。本発明の課題は、パ
ラジウムめっきにおいて中間めっき工程を必要とせずに
高電流密度での密着性を改善することのできるパラジウ
ムめっき液を開発することである。
てパラジウムストライクめっきを施すことで高電流密度
での密着性は改善されるが、一方、ストライクめっき工
程を加えなければならないために、作業性が悪くまたコ
ストが高くなるという問題がある。本発明の課題は、パ
ラジウムめっきにおいて中間めっき工程を必要とせずに
高電流密度での密着性を改善することのできるパラジウ
ムめっき液を開発することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記のような課題を解決
するため本発明者らは鋭意努力した結果、クロロニトロ
アンミンパラジウム錯体を含むめっき液を用いることに
より、高電流密度でも光沢があり密着性の良好なパラジ
ウムめっき膜が得られることを見いだした。本発明は、
この知見に基づいてなされたもので、クロロニトロジア
ンミンパラジウムまたはクロロニトロテトラアンミンパ
ラジウムを含むことを特徴とするパラジウムめっき液を
提供する。本発明はまた、上記めっき液に光沢剤をさら
に加えたパラジウムめっき液をも提供するものである。
パラジウム源としてジニトロジアミンパラジウムまたは
ジニトロテトラアンミンパラジウムを別途に加えること
もできる。
するため本発明者らは鋭意努力した結果、クロロニトロ
アンミンパラジウム錯体を含むめっき液を用いることに
より、高電流密度でも光沢があり密着性の良好なパラジ
ウムめっき膜が得られることを見いだした。本発明は、
この知見に基づいてなされたもので、クロロニトロジア
ンミンパラジウムまたはクロロニトロテトラアンミンパ
ラジウムを含むことを特徴とするパラジウムめっき液を
提供する。本発明はまた、上記めっき液に光沢剤をさら
に加えたパラジウムめっき液をも提供するものである。
パラジウム源としてジニトロジアミンパラジウムまたは
ジニトロテトラアンミンパラジウムを別途に加えること
もできる。
【０００６】
【作用】従来のパラジウムめっき浴では高電流密度にお
いて多量の水素ガスが発生し、これがめっき皮膜中に吸
蔵され大きな残留応力が発生し、これがめっき皮膜の剥
離を生じさせる原因となっていたが、本発明では基本塩
中のハロゲンイオンによってこれを緩和することができ
るものと考えられる。ハロゲンとパラジウムとを同時に
含む錯体の使用によりこの問題を簡易に解決したもので
ある。
いて多量の水素ガスが発生し、これがめっき皮膜中に吸
蔵され大きな残留応力が発生し、これがめっき皮膜の剥
離を生じさせる原因となっていたが、本発明では基本塩
中のハロゲンイオンによってこれを緩和することができ
るものと考えられる。ハロゲンとパラジウムとを同時に
含む錯体の使用によりこの問題を簡易に解決したもので
ある。
【０００７】
【発明の具体的な説明】本発明のパラジウムめっき液の
基本塩としては、クロロニトロジアンミンパラジウムま
たはクロロニトロテトラアンミンパラジウムが用いられ
るが、パラジウム源としてジニトロジアミンパラジウム
またはジニトロテトラアンミンパラジウムを別途に加え
ても良い。併用することにより、パラジウム及びハロゲ
ンの濃度管理が容易となる。めっき液中での基本塩の濃
度範囲或いは基本塩と別途加えたパラジウム源との濃度
範囲は、パラジウム量として１〜３０ｇ／ｌであること
が好ましい。濃度が低すぎると高電流密度部の光沢が悪
く、濃度が高すぎるとめっき液の持ち出しが問題となる
ため好ましくない。従来のパラジウムめっき浴では高電
流密度において多量の水素ガスが発生し、これがめっき
皮膜中に吸蔵され大きな残留応力が発生し、これがめっ
き皮膜の剥離を生じさせる原因となっていたが、ハロゲ
ンイオンを添加することによってこれを緩和することが
できるものと考えられる。クロロニトロジアンミンパラ
ジウムまたはクロロニトロテトラアンミンパラジウムの
添加を通して、０．０１〜１００ｇ／ｌ、好ましくは
０．１〜２０ｇ／ｌのハロゲン量を与えるようにするこ
とが好ましい。
基本塩としては、クロロニトロジアンミンパラジウムま
たはクロロニトロテトラアンミンパラジウムが用いられ
るが、パラジウム源としてジニトロジアミンパラジウム
またはジニトロテトラアンミンパラジウムを別途に加え
ても良い。併用することにより、パラジウム及びハロゲ
ンの濃度管理が容易となる。めっき液中での基本塩の濃
度範囲或いは基本塩と別途加えたパラジウム源との濃度
範囲は、パラジウム量として１〜３０ｇ／ｌであること
が好ましい。濃度が低すぎると高電流密度部の光沢が悪
く、濃度が高すぎるとめっき液の持ち出しが問題となる
ため好ましくない。従来のパラジウムめっき浴では高電
流密度において多量の水素ガスが発生し、これがめっき
皮膜中に吸蔵され大きな残留応力が発生し、これがめっ
き皮膜の剥離を生じさせる原因となっていたが、ハロゲ
ンイオンを添加することによってこれを緩和することが
できるものと考えられる。クロロニトロジアンミンパラ
ジウムまたはクロロニトロテトラアンミンパラジウムの
添加を通して、０．０１〜１００ｇ／ｌ、好ましくは
０．１〜２０ｇ／ｌのハロゲン量を与えるようにするこ
とが好ましい。
【０００８】さらに、通常、めっき液の電導性を良くす
るために支持電解質が加えられる。支持電解質として
は、硝酸、硫酸、リン酸、ピロリン酸、スルファミン
酸、スルホン酸、カルボン酸等の酸、またはこれらのア
ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩な
どが挙げられる。その濃度範囲は、１０〜５００ｇ／
ｌ、好ましくは２０〜２００ｇ／ｌである。濃度が低す
ぎるとめっき液の電導度が低くなり、濃度が高すぎると
めっき外観が悪くなるため好ましくない。
るために支持電解質が加えられる。支持電解質として
は、硝酸、硫酸、リン酸、ピロリン酸、スルファミン
酸、スルホン酸、カルボン酸等の酸、またはこれらのア
ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩な
どが挙げられる。その濃度範囲は、１０〜５００ｇ／
ｌ、好ましくは２０〜２００ｇ／ｌである。濃度が低す
ぎるとめっき液の電導度が低くなり、濃度が高すぎると
めっき外観が悪くなるため好ましくない。
【０００９】また、さらに光沢剤を加えても良い。光沢
剤としては、亜硝酸またはその塩が用いられる。光沢剤
の濃度範囲は、１〜２００ｇ／ｌ、好ましくは、５〜１
００ｇ／ｌである。光沢剤の濃度が低すぎると、高電流
密度での光沢度が低下し、濃度が高すぎると電着速度が
遅くなるため好ましくない。
剤としては、亜硝酸またはその塩が用いられる。光沢剤
の濃度範囲は、１〜２００ｇ／ｌ、好ましくは、５〜１
００ｇ／ｌである。光沢剤の濃度が低すぎると、高電流
密度での光沢度が低下し、濃度が高すぎると電着速度が
遅くなるため好ましくない。
【００１０】上記のようなめっき液を用いて、所定の条
件で電気めっきを行う。めっき液のｐＨは、６〜１４、
好ましくは７〜１０とする。ｐＨが低すぎるとめっき浴
が不安定になり、ｐＨが高すぎると光沢が悪くなる傾向
があるため好ましくない。電流密度は特に限定されるも
のではないが、吹き付けのような強い撹拌以外の場合は
あまり電流密度が高いとめっき外観が悪くなりやすいた
め、通常０．１〜２０Ａ／ｄｍ2 、好ましくは０．３〜
１０Ａ／ｄｍ2 にすることが望ましい。めっき浴の温度
は特に限定されるものではないが、高すぎると浴が不安
定になり、低すぎるとめっき速度が遅くなるため、通常
は１５〜８０℃、好ましくは２０〜７０℃にすることが
望ましい。なお、めっき中には浴の撹拌を行うことが望
ましく、特に電流密度が高い場合には撹拌速度は速い方
が良い。
件で電気めっきを行う。めっき液のｐＨは、６〜１４、
好ましくは７〜１０とする。ｐＨが低すぎるとめっき浴
が不安定になり、ｐＨが高すぎると光沢が悪くなる傾向
があるため好ましくない。電流密度は特に限定されるも
のではないが、吹き付けのような強い撹拌以外の場合は
あまり電流密度が高いとめっき外観が悪くなりやすいた
め、通常０．１〜２０Ａ／ｄｍ2 、好ましくは０．３〜
１０Ａ／ｄｍ2 にすることが望ましい。めっき浴の温度
は特に限定されるものではないが、高すぎると浴が不安
定になり、低すぎるとめっき速度が遅くなるため、通常
は１５〜８０℃、好ましくは２０〜７０℃にすることが
望ましい。なお、めっき中には浴の撹拌を行うことが望
ましく、特に電流密度が高い場合には撹拌速度は速い方
が良い。
【００１１】
【実施例】次に実施例及び比較例によって本発明をさら
に詳細に説明する。基材としてはハルセル黄銅板を使用
した。ハルセル法により電気めっきを行った後、電流密
度に対するめっき皮膜の密着性と光沢の評価を行った。
に詳細に説明する。基材としてはハルセル黄銅板を使用
した。ハルセル法により電気めっきを行った後、電流密
度に対するめっき皮膜の密着性と光沢の評価を行った。
【００１２】（実施例１） 〔めっき浴組成〕 パラジウム塩：クロロニトロジアンミンパラジウム、パ
ラジウム量として１０ｇ／ｌ 支持電解質 ：硝酸アンモニウム、１００ｇ／ｌ 光沢剤 ：亜硝酸ナトリウム、５０ｇ／ｌ 〔めっき条件〕 ｐＨ ：８．０ 電流密度 ：０〜１５Ａ／ｄｍ2 （ハルセル総電流２
Ａ） 浴温度 ：３０℃ めっき時間 ：３０分 撹拌 ：強 〔結果〕密着性については０〜１５Ａ／ｄｍ2 の全ての
電流密度において良好であった。また光沢についても、
０〜１５Ａ／ｄｍ2 の全ての電流密度において良好であ
った。
ラジウム量として１０ｇ／ｌ 支持電解質 ：硝酸アンモニウム、１００ｇ／ｌ 光沢剤 ：亜硝酸ナトリウム、５０ｇ／ｌ 〔めっき条件〕 ｐＨ ：８．０ 電流密度 ：０〜１５Ａ／ｄｍ2 （ハルセル総電流２
Ａ） 浴温度 ：３０℃ めっき時間 ：３０分 撹拌 ：強 〔結果〕密着性については０〜１５Ａ／ｄｍ2 の全ての
電流密度において良好であった。また光沢についても、
０〜１５Ａ／ｄｍ2 の全ての電流密度において良好であ
った。
【００１３】（実施例２） 〔めっき浴組成〕 パラジウム塩：ジニトロテトラアンミンパラジウム、パ
ラジウム量として２０ｇ／ｌ、クロロニトロジアンミン
パラジウム、パラジウム量として３ｇ／ｌ 支持電解質 ：硝酸アンモニウム、１００ｇ／ｌ 光沢剤 ：亜硝酸ナトリウム、５０ｇ／ｌ 〔めっき条件〕 ｐＨ ：８．０ 電流密度 ：０〜１５Ａ／ｄｍ2 （ハルセル総電流２
Ａ） 浴温度 ：３０℃ めっき時間 ：３０分 撹拌 ：強 〔結果〕密着性については０〜１５Ａ／ｄｍ2 の全ての
電流密度において良好であった。また光沢についても、
０〜１５Ａ／ｄｍ2 の全ての電流密度において良好であ
った。
ラジウム量として２０ｇ／ｌ、クロロニトロジアンミン
パラジウム、パラジウム量として３ｇ／ｌ 支持電解質 ：硝酸アンモニウム、１００ｇ／ｌ 光沢剤 ：亜硝酸ナトリウム、５０ｇ／ｌ 〔めっき条件〕 ｐＨ ：８．０ 電流密度 ：０〜１５Ａ／ｄｍ2 （ハルセル総電流２
Ａ） 浴温度 ：３０℃ めっき時間 ：３０分 撹拌 ：強 〔結果〕密着性については０〜１５Ａ／ｄｍ2 の全ての
電流密度において良好であった。また光沢についても、
０〜１５Ａ／ｄｍ2 の全ての電流密度において良好であ
った。
【００１４】実施例１及び２いずれにおいても、光沢剤
を添加しない場合には、光沢度は低下したが、実用可能
であった。
を添加しない場合には、光沢度は低下したが、実用可能
であった。
【００１５】（比較例） 〔めっき浴組成〕 パラジウム塩：ジニトロジアンミンパラジウム、パラジ
ウム量として１０ｇ／ｌ 支持電解質 ：硝酸アンモニウム、１００ｇ／ｌ 光沢剤 ：亜硝酸ナトリウム、２５ｇ／ｌ 〔めっき条件〕実施例１と同じ条件でめっきを行った。 〔結果〕密着性については電流密度３Ａ／ｄｍ2 におい
てめっき皮膜の剥離が生じた。光沢については、電流密
度が１０Ａ／ｄｍ2 以下において良好であった。
ウム量として１０ｇ／ｌ 支持電解質 ：硝酸アンモニウム、１００ｇ／ｌ 光沢剤 ：亜硝酸ナトリウム、２５ｇ／ｌ 〔めっき条件〕実施例１と同じ条件でめっきを行った。 〔結果〕密着性については電流密度３Ａ／ｄｍ2 におい
てめっき皮膜の剥離が生じた。光沢については、電流密
度が１０Ａ／ｄｍ2 以下において良好であった。
【００１６】
【発明の効果】本発明のめっき液によって、１０Ａ／ｄ
ｍ2 以上の高電流密度でも、密着性が良好で光沢のある
パラジウムめっきを行うことが可能である。
ｍ2 以上の高電流密度でも、密着性が良好で光沢のある
パラジウムめっきを行うことが可能である。
Claims (3)
- 【請求項１】 クロロニトロジアンミンパラジウムまた
はクロロニトロテトラアンミンパラジウムを含むことを
特徴とするパラジウムめっき液。 - 【請求項２】 クロロニトロジアンミンパラジウムまた
はクロロニトロテトラアンミンパラジウムを含み、そし
て光沢剤として亜硝酸またはその塩を加えたことを特徴
とするパラジウムめっき液。 - 【請求項３】 パラジウム源としてジニトロジアミンパ
ラジウムまたはジニトロテトラアンミンパラジウムを別
途に加える請求項１乃至２のパラジウムめっき液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22078094A JPH0860394A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | パラジウムめっき液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22078094A JPH0860394A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | パラジウムめっき液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0860394A true JPH0860394A (ja) | 1996-03-05 |
Family
ID=16756457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22078094A Withdrawn JPH0860394A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | パラジウムめっき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0860394A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001262390A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-09-26 | Furukawa Electric Co Ltd:The | パラジウムめっき液 |
-
1994
- 1994-08-24 JP JP22078094A patent/JPH0860394A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001262390A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-09-26 | Furukawa Electric Co Ltd:The | パラジウムめっき液 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011106 |