JPH0863791A - 光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH0863791A JPH0863791A JP6225691A JP22569194A JPH0863791A JP H0863791 A JPH0863791 A JP H0863791A JP 6225691 A JP6225691 A JP 6225691A JP 22569194 A JP22569194 A JP 22569194A JP H0863791 A JPH0863791 A JP H0863791A
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- recording medium
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 色素の特性を変えずに、かつディスクとして
の特性を落とすことなく、容易に記録感度を上げること
ができる追記型光ディスク、及びその製造方法を提供す
る。 【構成】 透光性を有する基板１と、基板１上に色素材
料からなる記録層２と、記録層２上に反射層３と、反射
層３上に保護層４とを有する光情報記録媒体であって、
反射層３をＡｕ−Ｔｉ合金膜とする。この合金膜はＣｏ
−スパッタリング法により形成する。この場合、Ａｕタ
ーゲットに入力するスパッタリングパワーは一定にし、
Ｔｉターゲットに入力するスパッタリングパワーを次第
に減少させることにより、Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成
比が、記録層２から保護層４へ向かって減少する光情報
記録媒体を容易に製造することができる。
の特性を落とすことなく、容易に記録感度を上げること
ができる追記型光ディスク、及びその製造方法を提供す
る。 【構成】 透光性を有する基板１と、基板１上に色素材
料からなる記録層２と、記録層２上に反射層３と、反射
層３上に保護層４とを有する光情報記録媒体であって、
反射層３をＡｕ−Ｔｉ合金膜とする。この合金膜はＣｏ
−スパッタリング法により形成する。この場合、Ａｕタ
ーゲットに入力するスパッタリングパワーは一定にし、
Ｔｉターゲットに入力するスパッタリングパワーを次第
に減少させることにより、Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成
比が、記録層２から保護層４へ向かって減少する光情報
記録媒体を容易に製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光による情報
の記録・再生を行う光ディスクに関し、さらに詳しく
は、コンパクトディスク（ＣＤ）あるいはコンパクトデ
ィスク−ＲＯＭ（ＣＤ−ＲＯＭ）対応の追記型光ディス
クに関する。
の記録・再生を行う光ディスクに関し、さらに詳しく
は、コンパクトディスク（ＣＤ）あるいはコンパクトデ
ィスク−ＲＯＭ（ＣＤ−ＲＯＭ）対応の追記型光ディス
クに関する。
【０００２】
【従来の技術】集光レーザー光による情報記録媒体の中
で、オーディオ等の音楽再生用としてＣＤが、またコン
ピュータ−ＲＯＭとしてＣＤ−ＲＯＭが、それぞれ広く
普及している。このようなＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭは通常ポ
リカーボネート等の透明基板表面にＣＤフォーマット信
号またはＣＤ−ＲＯＭフォーマット信号を有するピット
列を射出成形時に形成し、その上からアルミニウム、金
等を蒸着あるいはスパッタリングにより反射膜として設
け、さらに保護膜をコートして作製する。
で、オーディオ等の音楽再生用としてＣＤが、またコン
ピュータ−ＲＯＭとしてＣＤ−ＲＯＭが、それぞれ広く
普及している。このようなＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭは通常ポ
リカーボネート等の透明基板表面にＣＤフォーマット信
号またはＣＤ−ＲＯＭフォーマット信号を有するピット
列を射出成形時に形成し、その上からアルミニウム、金
等を蒸着あるいはスパッタリングにより反射膜として設
け、さらに保護膜をコートして作製する。
【０００３】一方、編集機能を有する追記型光ディスク
としてはシアニン、フタロシアニン等の有機化合物（色
素）を記録膜とし、その上に金等の反射膜を設けて反射
率を確保する方法が実用化されている。
としてはシアニン、フタロシアニン等の有機化合物（色
素）を記録膜とし、その上に金等の反射膜を設けて反射
率を確保する方法が実用化されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記色素
では、その光安定性等の特性と、ディスクにしたときの
記録感度との間に密接な関係があり、光安定性等の特性
を落とさずに記録感度を上げるのは難しいという問題が
あった。
では、その光安定性等の特性と、ディスクにしたときの
記録感度との間に密接な関係があり、光安定性等の特性
を落とさずに記録感度を上げるのは難しいという問題が
あった。
【０００５】本発明は、この点に鑑みなされたもので、
その目的は、色素の特性を変えずに、かつディスクとし
ての特性を落とすことなく、容易に記録感度を上げるこ
とができる追記型光ディスク、及びその製造方法を提供
することににある。
その目的は、色素の特性を変えずに、かつディスクとし
ての特性を落とすことなく、容易に記録感度を上げるこ
とができる追記型光ディスク、及びその製造方法を提供
することににある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この問題を解決するた
め、請求項１の光情報記録媒体は、図１に示すように、
透光性を有する基板１と、この基板１上に色素材料から
構成した記録層２と、この記録層２上に反射層３と、こ
の反射層３上に保護層４とを有する光情報記録媒体であ
って、前記反射層３がＡｕ−Ｔｉ合金膜であることを特
徴とする。
め、請求項１の光情報記録媒体は、図１に示すように、
透光性を有する基板１と、この基板１上に色素材料から
構成した記録層２と、この記録層２上に反射層３と、こ
の反射層３上に保護層４とを有する光情報記録媒体であ
って、前記反射層３がＡｕ−Ｔｉ合金膜であることを特
徴とする。
【０００７】請求項２に記載の光情報記録媒体は、請求
項１において、前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成比が
０．１〜１０ｗｔ％であることを特徴とする。
項１において、前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成比が
０．１〜１０ｗｔ％であることを特徴とする。
【０００８】請求項３に記載の光情報記録媒体は、請求
項１において、前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜の膜厚が５００Å
以上であることを特徴とする。
項１において、前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜の膜厚が５００Å
以上であることを特徴とする。
【０００９】請求項４に記載の光情報記録媒体は、請求
項１または２において、前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組
成比が、該合金膜の厚さ方向に変化していることを特徴
とする。
項１または２において、前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組
成比が、該合金膜の厚さ方向に変化していることを特徴
とする。
【００１０】請求項５に記載の光情報記録媒体は、請求
項４において、前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成比が、
前記記録層から前記保護層へ向かって減少していること
を特徴とする。
項４において、前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成比が、
前記記録層から前記保護層へ向かって減少していること
を特徴とする。
【００１１】請求項６に記載の光情報記録媒体の製造方
法は、透光性を有する基板と、この基板上に色素材料か
ら構成した記録層と、この記録層上に反射層と、この反
射層上に保護層とを有する光情報記録媒体であって、前
記反射層がＡｕ−Ｔｉ合金膜であるものを製造するに際
し、このＡｕ−Ｔｉ合金膜をスパッタリング法で作製す
ることを特徴とする。
法は、透光性を有する基板と、この基板上に色素材料か
ら構成した記録層と、この記録層上に反射層と、この反
射層上に保護層とを有する光情報記録媒体であって、前
記反射層がＡｕ−Ｔｉ合金膜であるものを製造するに際
し、このＡｕ−Ｔｉ合金膜をスパッタリング法で作製す
ることを特徴とする。
【００１２】
【作用】請求項１の光情報記録媒体においては、反射層
を従来のＡｕ膜からＡｕ−Ｔｉ合金膜に変えたことによ
り、その熱伝導率が下がる。このため記録層の熱が逃げ
にくくなり、記録感度が上昇する。
を従来のＡｕ膜からＡｕ−Ｔｉ合金膜に変えたことによ
り、その熱伝導率が下がる。このため記録層の熱が逃げ
にくくなり、記録感度が上昇する。
【００１３】請求項１の光情報記録媒体においては、Ａ
ｕ−Ｔｉ合金膜を設けたことにより熱伝導率は下がる
が、同時に反射率も下がってしまう。そこで、請求項
２，３においてＡｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成比を０．１
〜１０ｗｔ％とし、かつ膜厚を５００Å以上にすること
により、この合金膜の熱伝導率を下げるとともに、その
反射率の低下を抑えることができる。
ｕ−Ｔｉ合金膜を設けたことにより熱伝導率は下がる
が、同時に反射率も下がってしまう。そこで、請求項
２，３においてＡｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成比を０．１
〜１０ｗｔ％とし、かつ膜厚を５００Å以上にすること
により、この合金膜の熱伝導率を下げるとともに、その
反射率の低下を抑えることができる。
【００１４】なお、Ｔｉの組成比が０．１ｗｔ％未満で
は反射率は低下しないが、熱伝導率も下がらない。Ｔｉ
の組成比が１０ｗｔ％を超えると、熱伝導率は下がる
が、反射率も下がってしまう。また、Ａｕ−Ｔｉ合金膜
の膜厚が５００Å未満であると膜厚の減少とともに反射
率も低下するが、膜厚が５００Å以上であれば反射率は
一定となる。
は反射率は低下しないが、熱伝導率も下がらない。Ｔｉ
の組成比が１０ｗｔ％を超えると、熱伝導率は下がる
が、反射率も下がってしまう。また、Ａｕ−Ｔｉ合金膜
の膜厚が５００Å未満であると膜厚の減少とともに反射
率も低下するが、膜厚が５００Å以上であれば反射率は
一定となる。
【００１５】請求項４においては、前記Ａｕ−Ｔｉ合金
膜のＴｉ組成比を、この合金膜の膜厚方向に変化させる
ことで、熱伝導率の高い部分と、低い部分とを設けるこ
とができる。特に、請求項５のとおりにＴｉ組成比を、
記録層から保護層へ向かって減少させることで、記録層
に接する付近では熱伝導率が低く、保護層に近づくに従
って熱伝導率が高くなり、同時に反射率も高くなる。す
なわち、Ｔｉの組成比を合金膜の膜厚方向に変化させな
い場合に比べて、反射率を下げずに記録感度を上げるこ
とできる。
膜のＴｉ組成比を、この合金膜の膜厚方向に変化させる
ことで、熱伝導率の高い部分と、低い部分とを設けるこ
とができる。特に、請求項５のとおりにＴｉ組成比を、
記録層から保護層へ向かって減少させることで、記録層
に接する付近では熱伝導率が低く、保護層に近づくに従
って熱伝導率が高くなり、同時に反射率も高くなる。す
なわち、Ｔｉの組成比を合金膜の膜厚方向に変化させな
い場合に比べて、反射率を下げずに記録感度を上げるこ
とできる。
【００１６】請求項６に記載の製造方法においては、Ａ
ｕ−Ｔｉ合金膜を作製する場合、スパッタリング法、特
にＣｏ−スパッタリング法を用い、Ａｕターゲットに入
力するスパッタリングパワーは一定にし、Ｔｉターゲッ
トに入力するスパッタリングパワーを次第に減少させて
いくという方法を採れば、請求項４または５の光情報記
録媒体を容易に製造することができる。
ｕ−Ｔｉ合金膜を作製する場合、スパッタリング法、特
にＣｏ−スパッタリング法を用い、Ａｕターゲットに入
力するスパッタリングパワーは一定にし、Ｔｉターゲッ
トに入力するスパッタリングパワーを次第に減少させて
いくという方法を採れば、請求項４または５の光情報記
録媒体を容易に製造することができる。
【００１７】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例１（図１参照） 深さ１４００Å、幅０．４５μｍ、ピッチ１．６μｍの
案内溝を有する厚さ１．２ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径
１５ｍｍのポリカーボネート基板１上にフタロシアニン
系色素の記録層２を、スピンコーターによって膜厚１６
００Åに成膜した。次に、この記録層２上に反射層３と
してＡｕ−Ｔｉ合金膜を１２００Åに成膜した。この場
合、ＡｕとＴｉのＣｏ−スパッタリング法を用い、Ｔｉ
組成比が８ｗｔ％となるようにＡｕとＴｉのそれぞれス
パッタリングパワーを調整した。更に、この合金膜の上
に紫外線硬化樹脂により膜厚５μｍの保護層４を設けて
光ディスクを作製した。
る。 実施例１（図１参照） 深さ１４００Å、幅０．４５μｍ、ピッチ１．６μｍの
案内溝を有する厚さ１．２ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径
１５ｍｍのポリカーボネート基板１上にフタロシアニン
系色素の記録層２を、スピンコーターによって膜厚１６
００Åに成膜した。次に、この記録層２上に反射層３と
してＡｕ−Ｔｉ合金膜を１２００Åに成膜した。この場
合、ＡｕとＴｉのＣｏ−スパッタリング法を用い、Ｔｉ
組成比が８ｗｔ％となるようにＡｕとＴｉのそれぞれス
パッタリングパワーを調整した。更に、この合金膜の上
に紫外線硬化樹脂により膜厚５μｍの保護層４を設けて
光ディスクを作製した。
【００１８】実施例２ 反射層以外は実施例１と同一で、反射層はＡｕとＴｉの
Ｃｏ−スパッタリングによって以下のように成膜した。
すなわち、スパッタリング開始時のＴｉ組成比が８ｗｔ
％となるようにＡｕとＴｉのそれぞれのスパッタリング
パワーを調整し、Ｔｉのパワーのみを徐々に減少させ、
スパッタリング終了と同時にゼロとなるようにした。こ
れにより反射層として、Ｔｉの組成比が記録層から保護
層に向かって減少する、膜厚１２００ÅのＡｕ−Ｔｉ合
金膜を成膜した光ディスクを作製した。
Ｃｏ−スパッタリングによって以下のように成膜した。
すなわち、スパッタリング開始時のＴｉ組成比が８ｗｔ
％となるようにＡｕとＴｉのそれぞれのスパッタリング
パワーを調整し、Ｔｉのパワーのみを徐々に減少させ、
スパッタリング終了と同時にゼロとなるようにした。こ
れにより反射層として、Ｔｉの組成比が記録層から保護
層に向かって減少する、膜厚１２００ÅのＡｕ−Ｔｉ合
金膜を成膜した光ディスクを作製した。
【００１９】比較例１ 反射層以外は上記実施例１，２と同一で、反射層はＡｕ
のターゲットをスパッタリングすることにより、膜厚１
２００ÅのＡｕ膜を成膜した光ディスクを作製した。
のターゲットをスパッタリングすることにより、膜厚１
２００ÅのＡｕ膜を成膜した光ディスクを作製した。
【００２０】このようにして作製した実施例１，２の光
ディスクの反射率はそれぞれ７３％と８０％で、比較例
１の光ディスクの反射率は８２％であった。次に、波長
７８５ｎｍの半導体レーザーを使用して線速度１．４ｍ
／ｓｅｃでＥＦＭ−ＣＤフォーマット信号を記録したと
ころ、最適レーザーパワーが実施例１，２の光ディスク
ではそれぞれ７．０ｍＷと７．７ｍＷで、比較例１の光
ディスクでは８．２ｍＷでそれぞれ記録可能であった。
以上の結果をまとめると、下記［表１］のとおりであ
る。
ディスクの反射率はそれぞれ７３％と８０％で、比較例
１の光ディスクの反射率は８２％であった。次に、波長
７８５ｎｍの半導体レーザーを使用して線速度１．４ｍ
／ｓｅｃでＥＦＭ−ＣＤフォーマット信号を記録したと
ころ、最適レーザーパワーが実施例１，２の光ディスク
ではそれぞれ７．０ｍＷと７．７ｍＷで、比較例１の光
ディスクでは８．２ｍＷでそれぞれ記録可能であった。
以上の結果をまとめると、下記［表１］のとおりであ
る。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
光情報記録媒体では、反射層にＡｕ−Ｔｉ合金膜を用い
（請求項１）、そのＴｉ組成比と膜厚を規定する（請求
項２，３）ことにより、反射率の低下を抑えつつ、記録
感度を向上させることができる。また、Ａｕ−Ｔｉ合金
膜のＴｉ組成比を記録層から保護層に向かって減少させ
る（請求項５）ことで、反射率を殆ど低下させることな
く記録感度を向上させることができる。さらに、Ａｕ−
Ｔｉ合金膜をスパッタリング法で作製する（請求項６）
ことにより、上記特性を有する光情報記録媒体を容易に
製造することができる。
光情報記録媒体では、反射層にＡｕ−Ｔｉ合金膜を用い
（請求項１）、そのＴｉ組成比と膜厚を規定する（請求
項２，３）ことにより、反射率の低下を抑えつつ、記録
感度を向上させることができる。また、Ａｕ−Ｔｉ合金
膜のＴｉ組成比を記録層から保護層に向かって減少させ
る（請求項５）ことで、反射率を殆ど低下させることな
く記録感度を向上させることができる。さらに、Ａｕ−
Ｔｉ合金膜をスパッタリング法で作製する（請求項６）
ことにより、上記特性を有する光情報記録媒体を容易に
製造することができる。
【図１】本発明に係る光情報記録媒体の構成を示す断面
図である。
図である。
１ 基板 ２ 記録層 ３ 反射層 ４ 保護層
Claims (6)
- 【請求項１】 透光性を有する基板と、この基板上に色
素材料から構成した記録層と、この記録層上に反射層
と、この反射層上に保護層とを有する光情報記録媒体で
あって、前記反射層がＡｕ−Ｔｉ合金膜であることを特
徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項２】 前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成比が
０．１〜１０ｗｔ％であることを特徴とする請求項１に
記載の光情報記録媒体。 - 【請求項３】 前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜の膜厚が５００Å
以上であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記
録媒体。 - 【請求項４】 前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成比が、
該合金膜の厚さ方向に変化していることを特徴とする請
求項１または２に記載の光情報記録媒体。 - 【請求項５】 前記Ａｕ−Ｔｉ合金膜のＴｉ組成比が、
前記記録層から前記保護層へ向かって減少していること
を特徴とする請求項４に記載の光情報記録媒体。 - 【請求項６】 透光性を有する基板と、この基板上に色
素材料から構成した記録層と、この記録層上に反射層
と、この反射層上に保護層とを有する光情報記録媒体で
あって、前記反射層がＡｕ−Ｔｉ合金膜であるものを製
造するに際し、このＡｕ−Ｔｉ合金膜をスパッタリング
法で作製することを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22569194A JP3336422B2 (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22569194A JP3336422B2 (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0863791A true JPH0863791A (ja) | 1996-03-08 |
| JP3336422B2 JP3336422B2 (ja) | 2002-10-21 |
Family
ID=16833285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22569194A Expired - Fee Related JP3336422B2 (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3336422B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7018696B2 (en) | 2003-04-18 | 2006-03-28 | Target Technology Company Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7045188B2 (en) | 1998-06-22 | 2006-05-16 | Nee Han H | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314657B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314659B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314660B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7316837B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7374805B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-05-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
-
1994
- 1994-08-26 JP JP22569194A patent/JP3336422B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7045188B2 (en) | 1998-06-22 | 2006-05-16 | Nee Han H | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7291374B2 (en) | 1998-06-22 | 2007-11-06 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7384677B2 (en) | 1998-06-22 | 2008-06-10 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314657B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314659B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314660B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7316837B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7374805B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-05-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7018696B2 (en) | 2003-04-18 | 2006-03-28 | Target Technology Company Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3336422B2 (ja) | 2002-10-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080809 Year of fee payment: 6 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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