JPH0864490A

JPH0864490A - ガス系の流量制御装置

Info

Publication number: JPH0864490A
Application number: JP32647094A
Authority: JP
Inventors: Osamu Uchisawa; 内澤　　修; Koichi Murakami; 功一村上; Atsushi Yamashima; 淳山島
Original assignee: Motoyama Eng Works Ltd
Current assignee: Motoyama Eng Works Ltd
Priority date: 1993-12-27
Filing date: 1994-12-27
Publication date: 1996-03-08

Abstract

(57)【要約】【目的】供給ガス系や排気ガス系の省スペース化を実
現でき、また遠隔制御が可能で、兼価に構成でき、チャ
ンバなどの処理部内の圧力回復を連続的に行えるガス系
の流量制御装置を提供する。【構成】分岐流路部（Ａ〜Ｃ）と、これら分岐流部
（Ａ〜Ｃ）に流れる作動ガス圧を独立して設定可能な電
磁弁（８、１０、１２）と、電磁弁（８、１０）の作動
により流れる各作動ガスを独立に供給可能な切換弁
（７）と、切換弁（７）と電磁弁（１２）の作動により
流れる各作動ガスを独立に供給可能な切換弁（６）と、
切換弁（６）の出口部が接続され、分岐流路（Ａ〜Ｃ）
に流れる各作動ガスに設定されたガス圧の範囲にそれぞ
れ対応した駆動量を有する駆動部（３ａ）、及び上記設
定されたガス圧の範囲に対応した弁開度を有するように
使用ガス又は排気ガスの流量を制御する弁本体部（３
ｂ）からなるガス圧作動弁（３）とを備えて構成され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造装置
のガス系において、真空処理チャンバに不活性ガスを導
入し、又はこの真空処理チャンバを排気する際に用いら
れ、不活性ガスを導入する給気ライン又は排気ラインの
流量を変化させるための、ガス系の流量制御装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造装置の構成例として
は、例えば図８に示した構成のものが知られている。ウ
ェハの処理部である真空処理チャンバ８０は、ロートチ
ャンバ８１、反応チャンバ８２、及びアンロードチャン
バ８３等から構成される。このうち、ロードチャンバ８
１、アンロードチャンバ８３には、パージライン８４か
らのパージガス、例えば不活性ガスである窒素ガスやア
ルゴンガス等が、給気ユニット８５Ａ、８５Ｂを介して
導入される。

【０００３】反応チャンバ８２には、パージライン８４
及び少なくとも１つのプロセスガスライン８６〜８９か
ら、窒素ガス及びプロセスガスが、それぞれ混合ガス制
御機構８５Ｃを介して導入される。また、ロードチャン
バ８１とアンロードチャンバ８３は、排気ユニット９０
Ａ、９０Ｂ等を介してそれぞれ排気される。また反応チ
ャンバ８２は、管理用プロセッサ９１等を介して排気さ
れる。

【０００４】ロードチャンバ８１内の真空排気及び真空
破壊の各工程を例にとって、この従来の流量制御装置の
動作を説明する。まず、第１の工程として、大気圧状態
のロードチャンバ８１内にウェハ（図示省略）を搬入す
る。次いで、第２の工程として、ロードチャンバ８１内
を排気ユニット９０Ａにより真空排気する。続いて、第
３の工程として、チャンバ８１とこれに隣接する反応チ
ャンバ８２とを仕切るゲート弁８０ａを開き、上記ウェ
ハを反応チャンバ８２内に移動し、その後、ゲート弁８
０ａを閉じる。次いで、第４の工程として、給気ユニッ
ト８５Ａを介してロードチャンバ８１内に不活性ガスを
導入し、チャンバ８１を再び大気圧状態に戻す。

【０００５】ところで、上記の従来の流量制御装置で
は、第４の工程である、ロードチャンバ８１内のガス圧
を真空状態から大気圧状態に回復する工程において、例
えば給気ユニット８５Ａに何らかの手段を講じていない
場合には、チャンバ８１内のガス圧が急激に上昇してし
まう。そしてこのために、チャンバ内で多量の塵や粒子
が舞い上がり、搬入したウェハ上にこれら塵や粒子等が
滞積するなどの不都合が生じる。

【０００６】上記のようなチャンバ内のガス圧変動を回
避するため、給気ユニット８５Ａを、例えば図９のよう
な構成とすることが提案されている。すなわち、パージ
ライン８４を分流する２つの分岐ライン８４ａ、８４ｂ
を設けることである。一方の分岐ライン８４ａには、空
圧作動弁９２とニードル弁９３を上流側からその順序で
配設し、他方の分岐ライン８４ｂには、空圧作動弁９４
を配設する。また、これら分岐ライン８４ａ、８４ｂの
合流点の下流側は、フィルタ９５を介してロードチャン
バ８１を接続する。なお、上記の空圧作動弁９２、９
４、並びにニードル弁９３は、適宜な継手を介して各ラ
インに配設される。

【０００７】給気ユニット８５Ａを上記のような構成と
すれば、ニードル弁９３が設けられているので、一方の
分岐ライン８４ａは、他方の分岐ライン８４ｂに比べ
て、流量が絞られ、このためチャンバ内の圧力回復を段
階的に行うことができる。すなわち、上記の圧力回復時
の当初は、一方の分岐ライン８４ａの空圧作動弁９２を
開弁し、チャンバ８１内に送られる不活性ガスをニード
ル弁９３によって設定された小流量とする。また、図１
０に示すように、チャンバ内のガス圧Ｐ_Cがある程度回
復した所定の時点Ｔ_Cにおいて、他方の分岐ライン８４
ｂの空圧作動弁９４を開弁し、これにより大流量の不活
性ガスを流して大気圧（７６０Ｔｏｒｒ）に戻す。

【０００８】図１１は、上記の給気ユニット８５Ａの他
の構成例を示すものである。この例では、上記のように
弁相互の接続を配管や継手を介して行うことに代えて、
２つの空圧作動弁９６（他の１台の空圧作動弁は背後の
隠れた位置にある）及び突出するように形成された調整
用ハンドル９７ａを有するニードル弁９７を一体的にブ
ロック化した構成としたものである。

【０００９】しかしながら、上記従来技術の構成では、
比較的スペースの大きな３つの弁を同一箇所に配置する
必要があるので、少なくとも、不活性ガスの供給ガス系
の全占有スペースが大きくなる。

【００１０】またこれら３つの弁は供給ガスの配管系に
それぞれ配設する必要があるので、必然的に、ニードル
弁がチャンバの直近に配置されることになる。このた
め、圧力回復特性を変える場合において、流量設定の変
更を行う際には、手動操作により行う必要があり、その
結果、操作スペースを確保する必要がある。

【００１１】更に、不活性ガスの供給ガス系に高価な３
台の弁を用いる構成であるので、全体として高価にな
り、しかも、その配管回しが長くなるので、小型化が制
約される。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、供給
ガス系や排気ガス系の省スペース化を実現でき、また遠
隔制御が可能であり、更に兼価に構成でき、チャンバな
どの処理部内の圧力回復を連続的に行える、ガス系の流
量制御装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段及び作用】上記の目的を達
成するため、本発明のガス系の流量制御装置は、使用ガ
スの流量を変動させることで使用ガスを所定の処理部内
に導入し、又は排気ガスの流量を変動させることで所定
の処理部内を排気するように構成されたガス系の流量制
御装置において、所定流量の作動ガスを分流する第１乃
至第３の分岐流路部と、第１乃至第３の分岐流部にそれ
ぞれ設けられ、かつ、これら分岐流路部に流れる作動ガ
ス圧を独立して設定可能な第１乃至第３の電磁弁と、第
１及び第２の電磁弁の作動により流れる各作動ガスを独
立に供給可能な第１の切換弁と、第１の切換弁と第３の
電磁弁の作動により流れる各作動ガスを独立に供給可能
な第２の切換弁と、第２の切換弁の出口部が接続され、
第１乃至第３の分岐流路に流れる各作動ガスに設定され
たガス圧の範囲にそれぞれ対応した駆動量を有する駆動
部、及び設定されたガス圧の範囲に対応した弁開度を有
するように使用ガス又は排気ガスの流量を制御する弁本
体部からなるガス圧作動弁とを備えた。

【００１４】上記の構成である本発明に係るガス系の流
量制御装置では、例えば使用ガスを所定の処理部内に供
給する場合には、まず、第３の分岐流路部の電磁弁を開
弁し、第３の分岐流路部からガス圧作動弁に、このガス
圧作動弁が開き始めるのに必要なガス圧力の作動ガスを
供給する。次いで、第２の分岐流路部の電磁弁を開弁
し、第２の分岐流路部からガス圧作動弁に、ニードル弁
あるいはオリフィスあるいはボリュームタンクを介し、
第３の分岐流路部からガス圧作動弁へ供給されたガス圧
により、徐々に作動ガスのガス圧を上昇させて供給し、
ガス圧作動弁を対応する弁開度で開弁させる。これによ
り、小流量の使用ガスが所定の処理部内に導入される。
この場合において、ガス圧作動弁は第２の分岐流路部か
らのガス圧供給によりデッドタイムなしにスムーズに開
弁し、よって処理部内の圧力のステップの変化が防止さ
れ、従来のようなオーバーシュートが発生することがな
い。次いで、使用ガスの流量の増量程度に応じて開弁す
るように設定された第１の電磁弁を開弁し、これにより
高いガス圧の作動ガスに対応する弁開度でガス圧作動弁
を開いて、大流量の使用ガスが所定の処理部内に導入さ
れる。

【００１５】また、本発明に係る他のガス系の流量制御
装置は、使用ガスの流量を段階的に変動させることによ
り、使用ガスを所定の処理部内に導入し、又は排気ガス
の流量を段階的に変動させることで所定の処理部内を排
気するように構成されたガス系の流量制御装置におい
て、所定流量の作動ガスを分流する第１及び第２の分岐
流路部と、第１及び第２の分岐流部にそれぞれ設けら
れ、かつ、これら分岐流路部に流れる作動ガス圧を互い
に異なるように設定可能な第１及び第２の電磁弁と、第
１及び第２の電磁弁の作動により流れる各作動ガスを出
口部から独立に供給可能な３方向チェックバルブと、３
方向チェックバルブの出口部が接続され、第１及び第２
の分岐流路部に流れる各作動ガスのそれぞれに設定され
たガス圧の範囲に対応した駆動量を有する駆動部、及び
それぞれに設定されたガス圧の範囲に対応した弁開度を
有するように使用ガス又は排気ガスの流路に設けられて
その流量を制御する弁本体部からなるガス圧作動弁とを
備えた。

【００１６】上記の構成である本発明に係る他のガス系
の流量制御装置では、例えば使用ガスを所定の処理部内
に供給する場合には、まず、作動ガスが互いに異なるガ
ス圧である第１及び第２の分岐流路部のうち、低いガス
圧である方の分岐流路部の電磁弁を開弁し、このガス圧
に対応する弁開度でガス圧作動弁を開弁する。これによ
り、作動ガスのガス圧に対応した小流量の使用ガスが所
定の処理部内に導入される、次いで、使用ガスの流量の
増量程度に応じて開弁するように設定されたもう一方の
電磁弁を開弁すると、高いガス圧の作動ガスに対応する
弁開度でガス圧作動弁が開弁し、使用ガスは大流量で所
定の処理部内に導入される。

【００１７】更に本発明に係わるガス系の流量制御装置
は、使用ガスの流量を変動させることで使用ガスを所定
の処理部内に導入し、又は排気ガスの流量を変動させる
ことで所定の処理部内を排気するように構成されたガス
系の流量制御装置において、所定流量の作動ガスを分流
する第１及び第２の分岐流路部と、第１及び第２の分岐
流部にそれぞれ設けられ、かつ、これら分岐流路部に流
れる作動ガス圧を独立して設定可能な第１及び第２の電
磁弁と、第１の電磁弁に接続されたオリフィス、第１の
逆止弁、並びに圧力調整器と、第２の電磁弁に接続され
た第２の逆止弁と、圧力調整器に接続された第３の逆止
弁と、第２及び第３の逆止弁に接続されたボリュームタ
ンクと、ボリュームタンクの出口部に接続され、第１及
び第２の分岐流路部に流れる各作動ガスのそれぞれに設
定されたガス圧の範囲にそれぞれ対応した駆動量を有す
る駆動部、及び前記設定されたガス圧の範囲に対応した
弁開度を有するように使用ガス又は排気ガスの流量を制
御する弁本体部からなるガス圧作動弁とを備えた。

【００１８】

【実施例】

（実施例１）本発明に係るガス系の流量制御装置を所定
の処理部であるロードチャンバ１の給気ユニット２に適
用した場合の一実施例を図１に示した。この実施例で
は、常閉型のガス圧作動弁である空圧作動弁３は、駆動
部３ａ及び弁本体部３ｂとから構成される。弁本体部３
ｂの上流側は、使用ガスである窒素ガスのパージガス供
給源４に接続されている。また弁本体部３ｂの下流側
は、フィルタ５を介してロードチャンバ１に接続されて
いる。

【００１９】空圧作動弁３の駆動部３ａは、３方向チェ
ックバルブからなる切換弁（シャットルバルブ）６の出
口部６ａに接続されている。切換弁６の入り口部６ｂに
は別の切換弁７の出口部７ａが接続されている。また入
り口部６ｃには、常閉型の電磁弁１２、圧力調整器１３
が順次接続されている。圧力調整器１３は作動ガスであ
る操作空気の供給源１４に接続されている。

【００２０】切換弁７の入り口部７ｂには常閉型の電磁
弁８が接続されている。また、入り口部７ｃには、オリ
フィス９、常閉型の電磁弁１０、並びに圧力調整器１１
が順次接続されている。また、電磁弁８、圧力調整器１
１には、上記の供給源１４がそれぞれ接続されている。

【００２１】ここで、供給源１４から見れば、供給源１
４からの作動ガスである窒素ガスは、３つの分岐流路部
Ａ〜Ｃに分流される。また、各分岐流路部Ａ〜Ｃには、
上記の電磁弁８、１０、１２や圧力調整器１１、１３が
設けられている。

【００２２】電磁弁８、１０、１２は図示しないコント
ロール部からの信号により電気的に開閉が制御される。
また、圧力調整器１１とオリフィス（あるいはボリュー
ムタンクまたはニードル弁）９により、電磁弁１０から
オリフィス９を介して入り口部７ｃに流れる操作空気の
ガス圧が、圧力調整器１３と電磁弁１２から入り口部６
ｃを流れる操作空気のガス圧より徐々に上昇するように
調整されている。更に、電磁弁８から入り口部７ｂを流
れる操作空気は、作動ガスである操作空気の供給源１４
のガス圧が供給される。

【００２３】図２に、空圧作動弁３のより詳細な構成を
示した。ここで、駆動部３ａのハウジング３０は全体と
して円筒状であり、また筒心方向Ｑの一端側には、操作
空気の供給部３０ａを有している。ハウジング３０内に
は、操作空気の加圧量に比例して直線運動するピストン
３１、ハウジング３０内に設けられピストン３１を操作
空気の加圧に抗する方向に付勢するリターンスプリング
３２、筒心方向Ｑと軸芯方向が直交する回動軸３６を備
えたカムピニオン３７が配設されている。

【００２４】カムピニオン３７は、ピストン３１に一体
的に延設されている。また、カムピニオン３７は、ピス
トン３１の往復動方向に沿った噛合歯を有するラック部
３３、ラック部３３に噛合するピニオン部３４、並びに
ピニオン部３４と一体的に設けられたカム面部３５を有
している。

【００２５】弁本体部３ｂは、バルブボディ３８に形成
された弁室３９内に弁孔４０を開閉するダイヤフラム４
１が配設されている。ダイヤフラム４１は、カムピニオ
ン３７のカム面部３５の回動変位により、ベアリング４
２、ステム４３およびアクチュエータボタン４４を介し
て、駆動される。

【００２６】ここで、バルブボディ３８の流入口３８ａ
は、配管を介して、パージガス供給源４に接続されてい
る。また流出口３８ｂは、配管を介して、フィルタ５に
供給されている。ロードチャンバ１には、図１のよう
に、給気ユニット１と同様な構成の排気ユニット４５を
介して、排気ポンプ４６が接続されている。

【００２７】図３に、上記の空圧作動弁３において、操
作空気圧Ｐを変化させた場合における、弁孔４０を通過
する窒素ガスの流量（弁流量Ｒ）の変化を示した。すな
わち、この空圧作動弁３では、操作空気圧Ｐが０の領域
に続く、操作空気圧Ｐがある程度小さい値の領域で
は、弁流量Ｒも小流量である。そして、操作空気圧Ｐが
ある程度大きな値となる領域になると、最大弁操作空
気圧Ｐ_Wに達するまで、弁流量Ｒが急峻的に大流量とな
る。これにより、ロードチャンバ１に導入される窒素ガ
スの流量を連続的に変化させることができる。

【００２８】また図４に、カムピニオン３７の回転角θ
の変化に対するダイヤフラム４１のリフト量Ｌの変化を
示した。ここで、カム面部３５のカム特性は、回転角θ
がある程度小さい領域Ｉでは、リフト量Ｌが小さい。ま
た、回転角θがある程度以上大きくなる領域ＩＩでは、
リフト量Ｌが急峻的に大きくなるように設定されてい
る。つまり、図３の特性と図４の特性は一対一に対応す
るもので、これにより、空圧作動弁３がロードチャンバ
１の圧力回復時に要求される特性に適合した構成とする
ことができる。

【００２９】上記のように構成される実施例の流量制御
装置では、電磁弁８、１０、１２の開閉制御によって、
ロードチャンバ１内の圧力回復を連続的に変化させるも
のである。なお、この制御は、上記のコントロール部に
おけるシーケンス制御等のプログラムにより行われるも
のである。そして、この制御により、空圧作動弁３への
操作空気の供給が制御され、空圧作動弁３が連続的に動
作して、ロードチャンバ１内の圧力を連続的に変化させ
ることができる。

【００３０】ここで、図５に示したように、空圧作動弁
３が開き始めるために必要な操作空気圧Ｐ_Oがある。こ
の圧力は、圧力調整器１３に設定される。従って、電磁
弁１２を開くことで、この操作空気圧Ｐ_Oは切換弁６を
介して、空圧作動弁３に供給される。このように操作空
気圧Ｐ_Oを空圧作動弁３に供給することで、図３の流量
特性において、空圧作動弁３の特性を領域の終り、つ
まり領域の始めに位置させることができ、空圧作動弁
３が開き始めるまでのデッドタイムをなくすことができ
る。

【００３１】また、電磁弁１０を開とすることで、圧力
調整器１１により所定の圧力に設定された操作空気圧
を、オリフィス９を通して徐々に供給することができ
る。これにより、空圧作動弁３の流量特性（カム特性に
よる）と相俟って、空圧作動弁３の弁が徐々に開き始
め、この結果、ロードチャンバ１内の圧力が緩やかに回
復するようになる。

【００３２】そして、ロードチャンバ１内の圧力が回復
したら、電磁弁８を開く。これにより、空圧作動弁３の
弁全開に必要な操作空気圧が供給される。そして、ロー
ドチャンバ１は、窒素ガスの導入により、速やかに圧力
が大気状態に回復する。

【００３３】ここで、電磁弁８、１０、１２の切換えに
よるラインの切り替えは、切換弁６、７によって行われ
る。また、オリフィス９の径、あるいは圧力調整器１１
の設定を変えることで、ロードチャンバ１内の圧力回復
特性を自由に設定することができる。

【００３４】上記の説明はロードチャンバ１の圧力回復
時における過程を例にとったものであるが、アンロード
チャンバの過程も同様であり、また、排気ユニットによ
る真空引き時の過程も同様に行うことができる。

【００３５】本発明は、上記実施例に限定されるもので
はない。例えば、分岐流路部Ａ、Ｃの電磁弁８、１２の
下流側にオリフィスを設ける構成としても良い。これに
より、圧力調整器１３による調整範囲を補ったり、ある
いは作動ガスの流動開始時期を調整したりすることがで
きる。また、分岐流路部Ａや分岐流路部Ｂにボリューム
タンクを設けて、同様な流動開始時期の調整を行っても
良い。更に、オリフィスやボリュームタンクに代えてニ
ードル弁等の流量調整弁を用いる構成としても良い。ま
た、圧力調整器１１、１３、あるいは電磁弁８、１０、
１２は、仕様に応じて手動操作で作動させるようにする
こともできる。更に、上記説明では、使用ガスとして不
活性ガスである窒素ガスを用いたが、例えば半導体製造
装置のガス系に適用した場合においては、シラン等の特
殊材料ガス、あるいはこの特殊ガスと不活性ガスとの混
合ガス等を使用ガスとして用いることは、もちろんであ
る。

【００３６】なお、以上の構成である本発明の実施例の
ガス系の流量制御装置では、例えば後述する実施例のよ
うにチャンバ内の圧力回復を段階的、例えば２段階で行
う場合に比べて、圧力がステップ状に変化することがな
い。このように圧力がステップ状に変化した場合には、
第１段目においてオーバーシュートが発生し易くなる。
そして、オーバーシュートの軽減のために流量を絞り過
ぎた場合には、チャンバ内の圧力回復までに時間がかか
り過ぎ、生産性の低下を招くという問題が起きる。

【００３７】（実施例２）次に本発明の他の実施例を説
明する。図６は、実施例のガス系の流量制御装置を所定
の処理部であるロードチャンバ１０１の給気ユニット１
０２に適用した例を示したものである。常閉型のガス圧
作動弁である２段階空圧力作動弁３は、駆動部１０３ａ
と弁本体部１０３ｂとから構成される。弁本体部１０３
ｂの上流側は、使用ガスである窒素のパージガス供給源
１０４に接続されている。またその下流側はフィルタ１
０５を介してロードチャンバ１０１に接続されている。

【００３８】２段階空圧作動弁１０３の駆動部１０３ａ
は、３方向チェックバルブ１０６の出口部１０６ａに接
続されている。またその２つの入り口部１０６ｂ，１０
６ｃにはそれぞれ第１および第２の分岐流路部１０７、
１０８が接続されている。第１の分岐流路部１０７に
は、常閉型の第１の電磁弁１０９が設けられている。ま
た第２の分岐流路部１０８には、常閉型の第２の電磁弁
１１０および圧力調整器１１１が設けられている。更
に、第１及び第２の分岐流路部１０７、１０８の両上流
側の合流点は、作動ガスである操作空気の供給源１２に
接続されている。

【００３９】なお、第１及び第２の電磁弁１０９、１１
０の駆動部１０９ａ、１１０ａは、コントロール部１１
３に電気的に接続されている。また、第２の電磁弁１１
０の弁本体部１１０ｂを流れる操作空気のガス圧は、第
１の電磁弁１０９の弁本体部１０９ｂを流れる操作空気
のガス圧に比べて小さくなるように、電磁弁１０９、１
１０を作動させるためのコントロール部１１３のプログ
ラムに基づいて、遠隔操作的に圧力調整器１１により調
整される。

【００４０】上記の２段階空圧作動弁１０３としては、
図２に示した構造と同じものを用いることができる。そ
の場合、バルブボディ３８の流入口３８ａを配管を介し
てパージガス供給源１０４に接続し、また流出口３８ｂ
は配管を介してフィルタ１０５に接続する。なお、ロー
ドチャンバ１０１には、図６に示したように、給気ユニ
ット１０１と同様な構成の排気ユニット１４５を介して
排気ポンプ１４６が接続されている。

【００４１】この２段階空圧作動弁１０３における操作
空気圧Ｐを変化させた時の弁流量Ｒの変化特性は、図３
と同様である。そしてこのように、操作空気圧Ｐがある
程度小さい値の領域では弁流量Ｒも小流量であるが、
操作空気圧Ｐがある程度大きな値となる領域になると
最大弁操作空気圧Ｐ_Wに達するまで弁流量Ｒが急峻的に
大流量となる特性を持った２段階空圧作動弁１０３を本
実施例において用いることで、ロードチャンバ１に導入
される窒素ガスの流量を２段階に、つまり段階的に変化
させることができる。なお、この２段階空圧作動弁１０
３における、カムピニオン３７の回転角θの変化に対す
るダイヤフラム４１のリフト量Ｌの変化も、図４と同じ
であり、２段階空圧作動弁１０３をロードチャンバ１の
圧力回復時に要求される特性に適合した構成となってい
る。

【００４２】以上の構成である本実施例の流量制御装置
では、ロードチャンバ１０１の圧力回復時には、コント
ロール部１１３のシーケンス制御等のプログラムによ
り、圧力調整器１１１を調整し、あらかじめ第２の分岐
流路部１０８に図３に示す領域に対応する流量の操作
空気が流れるようにする。また、第１の電磁弁１０９を
閉弁状態とし、第２の電磁弁１１０を開弁状態とする。
これにより、３方向チェックバルブ１０６の一方の入口
部１０６ｃだけが開口し、またその出口部１０６ａを介
して供給される操作空気の操作空気圧に応じて２段階空
圧作動弁１０３の駆動部１０３ａが作動する。このた
め、２段階空圧作動弁１０３の弁本体部３ｂのダイヤフ
ラム１４１が小さいリフト量でリフトし、真空状態のロ
ードチャンバ１０１は緩やかに圧力が回復する結果、ロ
ードチャンバ１０１内の塵や粒子が舞うことがない。

【００４３】２段階空圧作動弁１０３への操作空気圧が
上記の領域から領域に対応する圧力となると、第２
の電磁弁１１０が閉弁状態となるとともに、第１の電磁
弁１０９が開弁状態になる。すると、３方向チェックバ
ルブ１０６の他方の入口部６ｂだけが開口し、出口部１
０６ａを介して操作空気が２段階空圧作動弁１０３に供
給され、その操作空気圧に応じて駆動部１０３ａが作動
する。これにより、弁本体部１０３ｂのダイヤフラム４
１が大リフト量でリフトする。そしてこの結果、ロード
チャンバ１０１にはその内部の塵や粒子が舞うことな
く、窒素ガスの導入によって圧力が速やかに大気状態に
回復する。

【００４４】ところで、上記ではロードチャンバ１０１
の圧力回復時の過程を例に採って説明したが、アンロー
ドチャンバの場合でも同様であり、また排気ユニットに
よる真空引き時の過程についても同様に説明できるもの
である。

【００４５】本発明は、上記実施例に限定されるもので
はない。例えば、第２分岐流路部１０８の第２電磁弁８
の下流側にオリフィスを設けても良い。これにより、圧
力調整器１１１による調整範囲を補ったり、あるいは、
２段階空圧作動弁１０３に供給される作動ガスの流動開
始時期を調整し、その駆動部１０３ａの立上がり時間を
遅らせることができる。また、ボリュームタンクを設け
て、同様な流動開始時期の調整を行っても良い。また、
圧力調整器１１１、第１及び第２の電磁弁１０９、１１
０は、仕様に応じて手動操作で作動させるようにするこ
ともできる。更に、使用ガスとして用いた不活性ガスで
ある窒素ガスに代えて、例えば半導体製造装置のガス系
に適用した場合においては、シラン等の特殊材料ガス、
あるいはこの特殊ガスと不活性ガスとの混合ガス等を使
用ガスとして用いることもできる。

【００４６】（実施例３）更に、本発明の別の実施例を
説明する。図７は、本発明に係る実施例のガス系の流量
制御装置を所定の処理部であるロードチャンバ２１３の
給気ユニットに適用した例を示したものである。この実
施例では、常閉型のガス圧作動弁である空圧力作動弁２
１１は、駆動部２１１ａおよび弁本体部２１１ｂとから
構成される。弁本体部２１１ｂの上流側は、使用ガスで
ある窒素のパージガス供給源２１０に接続されている。
また弁本体部２１１ｂの下流側はフィルタ２１２を介し
てロードチャンバ２０１に接続されている。なお、空圧
作動弁２１１としては図２に示したものと同じ構造のも
のが用いられ、よって、空圧作動弁２１１における操作
空気圧Ｐを変化させた時における弁流量Ｒの変化特性は
図３に示したものと同じである。

【００４７】空圧作動弁２１１の駆動部２１１ａは、ボ
リュームタンクの出口部２０９ｂに接続されている。ボ
リュームタンクの入口部２０９ａには、オリフィス２０
４、逆止弁２０５の一次側２０５ａ、逆止弁２０６の二
次側２０６ｂ、逆止弁２０７の二次側２０７ｂがそれぞ
れ接続されている。逆止弁２０７の一次側２０７ａは、
圧力調整器２０８の二次側２０８ｂに接続されている。
また、電磁弁２０２は、オリフィス２０４、逆止弁２０
５の二次側２０５ｂ、圧力調整器２０８の一次側２０８
ａに、それぞれ接続されている。更に、逆止弁２０６の
一次側２０６ａには電磁弁２０３が接続されている。ま
た電磁弁２０２、２０３には、操作空気の供給源２０１
がそれぞれ接続されている。

【００４８】この流量制御装置では、供給源２０１から
見た場合、供給源２０１からの操作空気は２つの分岐流
路部Ａ，Ｂに分流される。また、各分岐流路部Ａ，Ｂに
は、上記した電磁弁２０２、２０３がそれぞれ設けられ
ている。これらの電磁弁２０２、２０３は、図示しない
コントロール部からの信号により電磁的に開閉が制御さ
れるものである。

【００４９】上記のように構成される実施例の流量制御
装置では、電磁弁２０２、２０３の開閉制御によって、
ロードチャンバ２１３内部の圧力回復を連続的に変化さ
せることができる。この制御は、上記のコントロール部
におけるシーケンス制御などのプログラムにより行われ
る。この制御により、空圧作動弁２１１はその操作空気
の供給が制御され、連続的に動作して、これによりロー
ドチャンバ２１３内の圧力が連続的に変化する。

【００５０】ここで、図５に示したように、空圧作動弁
２１１が開き始めるために必要な操作空気圧Ｐ_Oがあ
る。この圧力は、圧力調整器２０８に設定される。従っ
て、電磁弁２０２を開くことで、この操作空気圧Ｐ_Oは
空圧作動弁２１１に供給される。このように操作空気圧
Ｐ_Oを空圧作動弁２１１に供給することで、図３の流量
特性において、空圧作動弁２１１の特性を領域の終
り、つまり領域の始めに位置させることができる。よ
って、空圧作動弁２１１が開き始めるまでのデッドタイ
ムをなくすことができる。

【００５１】また、同時に、電磁弁２０３を開とするこ
とで、供給源２０１の操作空気圧力がオリフィス２０４
を通して徐々に供給される。そして、逆止弁２０５〜２
０７により、圧力調整器２０８に設定された操作空気圧
力Ｐ_Oが空圧作動弁２１１に供給されると、オリフィス
２０４からの供給のみとなり、空圧作動弁２１１に供給
される圧力が徐々に上昇し、ロードチャンバ２１３内の
圧力が緩やかに回復するようになる。そして、ロードチ
ャンバ２１３内の圧力がある程度回復した段階で、電磁
弁２０３を開くことにより、空圧作動弁２１１の弁全開
に必要な操作空気圧力が供給される。この結果、ロード
チャンバ２１３はパージバスの導入によって速やかに圧
力が大気状態に回復する。

【００５２】なお、オリフィス２０４の径、ボリューム
タンク２０９の容量、あるいは圧力調整器２０８の設定
を変えることにより、ロードチャンバ２１３の圧力回復
特性を自由に設定することができる。

【００５３】上記の説明は、ロードチャンバ２１３の圧
力回復時における過程を例にとったものであるが、アン
ロードチャンバの過程、あるいは排気ユニットによる真
空引きの過程も同様に行うことができるものである。更
に、オリフィス２０４を削除することで、上記した実施
例のように、チャンバ内の圧力回復を２段階で行う場合
にも対応することができる。

【００５４】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、使用ガスを所
定の処理部内に導入する場合において、ガス圧作動弁を
デッドタイムなしにスムーズに開弁できるので、処理部
内の圧力の回復を緩やかに連続的に行うことができ、チ
ャンバ内の粒子の舞上がりを防止できる。また、使用ガ
ス又は排気ガスの流路に１台のガス圧作動弁を設けるだ
けで済み、それに伴う配管回し量も削減できるので、配
置スペースを縮小して省スペース化が可能であり、か
つ、装置を兼価に構成できる。更に、電磁弁を用いた構
成であるので、遠隔制御が可能となる。

【００５５】請求項２の発明によれば、使用ガスが不活
性ガスであるので、所定の処理部における被処理体を化
学的に安定に処理することができる。

【００５６】請求項３または４の発明によれば、使用ガ
スが特殊材料ガス又は特殊材料ガスと不活性ガスの混合
ガスであるので、半導体製造装置の処理部における処理
に適用した場合に有用である。

【００５７】請求項５の発明によれば、所定の処理部が
半導体ウェアのロードチャンバ又はアンロードチャンバ
であるので、本装置の適用にきわめて有用である。

【００５８】請求項６または７の発明によれば、ガス圧
作動弁が空気を作動ガスとしてた空圧作動弁であるの
で、従来の技術を活用でき、取扱いや設計等が容易であ
る。また、空圧作動弁として標準のスプリングリターン
式ＯＮ−ＯＦＦ空気圧作動弁であれば対応できるので、
特殊な弁を用いなくとも実現可能であり、その分コスト
ダウンが図れる。

【００５９】請求項８の発明によれば、電磁弁の作動に
より流れる作動ガスのガス圧を調整可能な圧力調整器を
設けたので、ガス圧作動弁の弁開度設定を容易に行うこ
とができる。

【００６０】請求項９の発明によれば、流量調整手段を
設けたので、使用ガスの所定の処理部への各種供給態様
に対応することができる。この場合、流量調整手段とし
ては、請求項１０、１１、１２のように、入手性等に優
れた流量調整弁（例えばニードル弁）やオリフィスある
いはボリュームタンクであることが望ましい。または、
請求項１３のように、これら流量調整弁、オリフィス、
ボリュームタンクを２つ以上組合わせた構成としても良
い。

【００６１】請求項１４の発明によれば、圧力調整器を
電気的に遠隔操作することが可能になる。また請求項１
５の発明のように手動型の圧力調整器を用いることで、
仕様に応じた適宜な操作が可能となる。

【００６２】請求項１６または１７の発明によれば、圧
力調整器や電磁弁の操作性向上が図れる。

【００６３】請求項１８の発明によれば、使用ガスまた
は排気ガスの流路に弁開度が使用ガスの小流量及び大流
量の２段階に設定されるガス圧力作動弁を用いること
で、使用ガスの導入時または排気時において所定の処理
部内で塵や粒子が舞うことが防止できる。また、使用ガ
スまたは排気ガスの流路に１台のガス圧作動弁を設ける
だけで良いため、従来技術に比べて配管回しの量が削減
され、配置スペースを縮小して省スペース化が図れ、ま
た装置を兼価に構成できる。また、外部操作として必要
な調整操作の対象となる圧力調整器は、使用ガスまたは
排気ガスの流路とは別系統に設けられるので、この流路
から十分に離して設けることができ、従来技術のように
操作スペースを制約された個所に確保する必要がない。

【００６４】請求項１９の発明によれば、使用ガスが不
活性ガスであるので、所定の処理部における被処理体を
化学的に安定に処理することができる。

【００６５】請求項２０または２１の発明によれば、使
用ガスが特殊材料ガス又は特殊材料ガスと不活性ガスの
混合ガスであるので、半導体製造装置の処理部における
処理に適用した場合に有用である。

【００６６】請求項２２の発明によれば、所定の処理部
が半導体ウェアのロードチャンバ又はアンロードチャン
バであるので、本装置の適用にきわめて有用である。

【００６７】請求項２３または２４の発明によれば、ガ
ス圧作動弁が空気を作動ガスとしてた空圧作動弁である
ので、従来の技術を活用でき、取扱いや設計等が容易で
ある。

【００６８】請求項２５の発明によれば、電磁弁の作動
により流れる作動ガスのガス圧を調整可能な圧力調整器
を設けたので、ガス圧作動弁の２段階の弁開度設定を容
易に行うことができる。

【００６９】請求項２６の発明によれば、流量調整手段
を設けたので、使用ガスの所定の処理部への各種供給態
様に対応することができる。この場合、流量調整手段と
しては、請求項２７、２８、２９のように、入手性等に
優れた流量調整弁（例えばニードル弁）やオリフィスあ
るいはボリュームタンクであることが望ましい。また
は、請求項３０のように、これら流量調整弁、オリフィ
ス、ボリュームタンクを２つ以上組合わせた構成として
も良い。

【００７０】請求項３１の発明によれば、圧力調整器を
電気的に遠隔操作することが可能になる。

【００７１】請求項３２の発明によれば、手動型の圧力
調整器を用いることで、仕様に応じた適宜な操作が可能
となる。

【００７２】請求項３３の発明によれば、圧力調整器の
監視操作等が容易となる。

【００７３】また請求項３４または３５の発明によれ
ば、圧力調整器や電磁弁の操作性向上が図れる。

【００７４】請求項３６の発明によれば、使用ガスを所
定の処理部内に導入する場合において、ガス圧作動弁を
デッドタイムなしにスムーズに開弁できるので、処理部
内の圧力の回復を緩やかに連続的に行うことができ、チ
ャンバ内の粒子の舞上がりを防止できる。また、使用ガ
ス又は排気ガスの流路に１台のガス圧作動弁を設けるだ
けで済み、それに伴う配管回し量も削減できるので、配
置スペースを縮小して省スペース化が可能であり、か
つ、装置を兼価に構成できる。更に、電磁弁を用いた構
成であるので、遠隔制御が可能となる。

【００７５】請求項３７の発明によれば、使用ガスが不
活性ガスであるので、所定の処理部における被処理体を
化学的に安定に処理することができる。

【００７６】請求項３８または３９の発明によれば、使
用ガスが特殊材料ガス又は特殊材料ガスと不活性ガスの
混合ガスであるので、半導体製造装置の処理部における
処理に適用した場合に有用である。

【００７７】請求項４０の発明によれば、所定の処理部
が半導体ウェアのロードチャンバ又はアンロードチャン
バであるので、本装置の適用にきわめて有用である。

【００７８】請求項４１または４２の発明によれば、ガ
ス圧作動弁が空気を作動ガスとしてた空圧作動弁である
ので、従来の技術を活用でき、取扱いや設計等が容易で
ある。また、空圧作動弁として標準のスプリングリター
ン式ＯＮ−ＯＦＦ空気圧作動弁であれば対応できるの
で、特殊な弁を用いなくとも実現可能であり、その分コ
ストダウンが図れる。

【００７９】請求項４３の発明によれば、電磁弁の作動
により流れる作動ガスのガス圧を調整可能な圧力調整器
を設けたので、ガス圧作動弁の弁開度設定を容易に行う
ことができる。

【００８０】請求項４４の発明によれば、逆止弁を設け
たので、第１の分岐流路部と第２の分岐流路部との間の
相互の流れを規制することができる。

【００８１】請求項４５の発明によれば、流量調整手段
を設けたので、使用ガスの所定の処理部への各種供給態
様に対応することができる。この場合、流量調整手段と
しては、請求項４６、４７、４８のように、入手性等に
優れた流量調整弁（例えばニードル弁）やオリフィスあ
るいはボリュームタンクであることが望ましい。

【００８２】請求項４９の発明によれば、圧力調整器を
電気的に遠隔操作することが可能になる。また請求項５
０の発明のように手動型の圧力調整器を用いることで、
仕様に応じた適宜な操作が可能となる。

【００８３】請求項５１または５２の発明によれば、圧
力調整器や電磁弁の操作性向上が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るガス系の流量制御装置の実施例を
示すブロック構成図である。

【図２】図１に示す空圧作動弁の詳細な構成を示す縦断
面図である。

【図３】実施例に係る空圧作動弁の操作空気圧と弁本体
部の弁流量との関係を示すグラフである。

【図４】図３の空圧作動弁におけるカムピニオンの回転
角とダイヤフラムのリフト量との関係を示すグラフであ
る。

【図５】図３の空圧作動弁における操作空気圧とリフト
量との関係を示すグラフである。

【図６】本発明に係る他のガス系の流量制御装置の実施
例を示すブロック構成図である。

【図７】本発明に係るその他のガス系の流量制御装置の
実施例を示すブロック構成図である。

【図８】本発明に係るガス系の流量制御装置が適用され
る半導体製造装置の構成例を示すブロック図である。

【図９】従来の給気ユニットの構成を示すブロック図で
ある。

【図１０】図９の給気ユニットを用いた場合におけるロ
ードチャンバの圧力回復特性を示すグラフである。

【図１１】図９の給気ユニットの他の構成を示す側面図
である。

【符号の説明】

１ロードチャンバ、２給気ユニット、３空圧作動弁、３ａ駆動部、３ｂ弁本体部、４パージガス供給源、５フィルタ、６切換弁（シャットルバルブ）、６ａ、７ａ出口部、６ｂ、６ｃ、７ｂ、７ｃ入り口部、７切換弁、８、１０、１２電磁弁、９オリフィス、１１圧力調整器、１４供給源、３０ハウジング、３０ａ操作空気の供給部、３１ピストン、３２リターンスプリング、３３ラック部、３４ピニオン部、３５カム面部、３６回動軸、３７カムピニオン、３８バルブボディ、３８ａ、３８ｂ流入口３９弁室、４０弁孔、４１ダイヤフラム、４２ベアリング、４３ステム、４４アクチュエータボタン、４５排気ユニット、４６排気ポンプ、８０真空処理チャンバ、８０ａゲート弁、８１ロートチャンバ、８２反応チャンバ、８３アンロードチャンバ、８４パージライン、８５Ａ、８５Ｂ給気ユニット、８５Ｃ混合ガス制御機構、８６〜８９プロセスガスライン、９０Ａ、９０Ｂ排気ユニット、９１管理用プロセッサ、９２、９４空圧作動弁、９３ニードル弁、９５フィルタ、９６空圧作動弁、９７ニードル弁、９７ａ調整用ハンドル、１０１ロードチャンバ、１０２給気ユニット、１０３段階空圧作動弁、１０３ａ、１０９ａ、１１０ａ駆動部、１０３ｂ、１０９ｂ、１１０ｂ弁本体部、１０４パージガス供給源、１０５フィルタ、１０６３方向チェックバルブ、１０６ａ出口部、１０６ｂ、１０６ｃ入り口部、１０７第１の分岐流路部、１０８第２の分岐流路部、１０９常閉型の第１の電磁弁、１０９、１１０電磁弁、１１１圧力調整器、１１２操作空気の供給源、１１３コントロール部、１４５排気ユニット、１４６排気ポンプ、２０１操作空気の供給源、２０２、２０３電磁弁、２０４オリフィス、２０５、２０６、２０７逆止弁２０５ａ逆止弁２０５の一次側、２０５ｂ逆止弁２０５の二次側、２０６ａ逆止弁２０６の一次側、２０６ｂ逆止弁２０６の二次側、２０７ａ逆止弁２０７の一次側、２０７ｂ逆止弁２０７の二次側、２０８圧力調整器、２０８ａ圧力調整器２０８の一次側、２０８ｂ圧力調整器２０８の二次側、２０９ボリュームタンク、２０９ａボリュームタンクの入口部、２０９ｂボリュームタンクの出口部、２１０パージガス供給源、２１１空圧力作動弁、２１１ａ駆動部、２１１ｂ弁本体部、２１２フィルタ、２１３ロードチャンバ。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】使用ガスの流量を変動させることで前記
使用ガスを所定の処理部内に導入し、又は排気ガスの流
量を変動させることで所定の処理部内を排気するように
構成されたガス系の流量制御装置において、所定流量の作動ガスを分流する第１乃至第３の分岐流路
部と、前記第１乃至第３の分岐流部にそれぞれ設けられ、か
つ、これら分岐流路部に流れる作動ガス圧を独立して設
定可能な第１乃至第３の電磁弁と、前記第１及び第２の電磁弁の作動により流れる各作動ガ
スを独立に供給可能な第１の切換弁と、前記第１の切換弁と前記第３の電磁弁の作動により流れ
る各作動ガスを独立に供給可能な第２の切換弁と、前記第２の切換弁の出口部が接続され、前記第１乃至第
３の分岐流路に流れる各作動ガスに設定されたガス圧の
範囲にそれぞれ対応した駆動量を有する駆動部、及び前
記設定されたガス圧の範囲に対応した弁開度を有するよ
うに前記使用ガス又は排気ガスの流量を制御する弁本体
部からなるガス圧作動弁とを備えたことを特徴とするガ
ス系の流量制御装置。
【請求項２】前記使用ガスが不活性ガスであることを
特徴とする請求項１に記載のガス系の流量制御装置。
【請求項３】前記使用ガスが特殊材料ガスであること
を特徴とする請求項１に記載のガス系の流量制御装置。
【請求項４】前記使用ガスが、不活性ガスおよび特殊
材料ガスの混合ガスであることを特徴とする請求項１に
記載のガス系の流量制御装置。
【請求項５】前記所定の処理部が、半導体ウェハのロ
ードチャンバ又はアンロードチャンバであることを特徴
とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のガス系の
流量制御装置。
【請求項６】前記ガス圧作動弁が、前記弁開度が使用
ガスの流量に応じて設定される空圧作動弁であることを
特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のガス
系の流量制御装置。
【請求項７】前記作動ガスが空気であることを特徴と
する請求項４に記載のガス系の流量制御装置。
【請求項８】前記第２及び第３の分岐流路部には、こ
れら分岐流路部に設けられた前記電磁弁の上流側であっ
て、前記電磁弁の作動により流れる作動ガスのガス圧を
調整可能な圧力調整器が設けられていることを特徴とす
る請求項１乃至７のいずれか１項に記載のガス系の流量
制御装置。
【請求項９】前記圧力調整器が設けられた分岐流路部
には、前記電磁弁の下流側に、前記電磁弁の作動により
流れる作動ガスの流量を調整する流量調整手段が設けら
れていることを特徴とする請求項８に記載のガス系の流
量制御装置。
【請求項１０】前記流量調整手段が流量調整弁である
ことを特徴とする請求項９に記載のガス系の流量制御装
置。
【請求項１１】前記流量調整手段がオリフィスである
ことを特徴とする請求項９に記載のガス系の流量制御装
置。
【請求項１２】前記流量調整手段がボリュームタンク
であることを特徴とする請求項９に記載のガス系の流量
制御装置。
【請求項１３】前記流量調整手段が、流量調整弁、オ
リフィス、ボリュームタンクのうちの２つ以上を組合わ
せて構成されることを特徴とする請求項９に記載のガス
系の流量調整装置。
【請求項１４】前記圧力調整器が電動型であることを
特徴とする請求項８乃至１３のいずれか１項に記載のガ
ス系の流量制御装置。
【請求項１５】前記圧力調整器が手動型であることを
特徴とする請求項８乃至１３のいずれか１項に記載のガ
ス系の流量制御装置。
【請求項１６】前記圧力調整器が所要のプログラムに
より制御されることを特徴とする請求項８に記載のガス
系の流量制御装置。
【請求項１７】前記第１乃至第３の電磁弁の作動が、
所要のプログラムにより制御されることを特徴とする請
求項１、８、９のいずれか１項に記載のガス系の流量制
御装置。
【請求項１８】使用ガスの流量を段階的に変動させる
ことにより、前記使用ガスを所定の処理部内に導入し、
又は排気ガスの流量を段階的に変動させることで所定の
処理部内を排気するように構成されたガス系の流量制御
装置において、所定流量の作動ガスを分流する第１及び第２の分岐流路
部と、前記第１及び第２の分岐流部にそれぞれ設けられ、か
つ、これら分岐流路部に流れる作動ガス圧を互いに異な
るように設定可能な第１及び第２の電磁弁と、前記第１及び第２の電磁弁の作動により流れる各作動ガ
スを出口部から独立に供給可能な３方向チェックバルブ
と、前記３方向チェックバルブの出口部が接続され、前記第
１及び第２の分岐流路部に流れる各作動ガスのそれぞれ
に設定されたガス圧の範囲に対応した駆動量を有する駆
動部、及び前記それぞれに設定されたガス圧の範囲に対
応した弁開度を有するように前記使用ガス又は排気ガス
の流路に設けられてその流量を制御する弁本体部からな
るガス圧作動弁とを備えたことを特徴とするガス系の流
量制御装置。
【請求項１９】前記使用ガスが不活性ガスであること
を特徴とする請求項１８に記載のガス系の流量制御装
置。
【請求項２０】前記使用ガスが特殊材料ガスであるこ
とを特徴とする請求項１８に記載のガス系の流量制御装
置。
【請求項２１】前記使用ガスが不活性ガスおよび特殊
材料ガスの混合ガスであることを特徴とする請求項１８
に記載のガス系の流量制御装置。
【請求項２２】前記所定の処理部が半導体ウェハのロ
ードチャンバ又はアンロードチャンバであることを特徴
とする請求項１８乃至２１のいずれか１項に記載のガス
系の流量制御装置。
【請求項２３】前記ガス圧作動弁が前記弁開度が使用
ガスの小流量及び大流量の２段階に設定される２段階空
圧作動弁であることを特徴とする請求項１８乃至２２の
いずれか１項に記載のガス系の流量制御装置。
【請求項２４】前記作動ガスが空気であることを特徴
とする請求項２１に記載のガス系の流量制御装置。
【請求項２５】前記第１及び第２の分岐流路部には、
そのいずれか一方に配される電磁弁の上流側であって、
前記電磁弁の作動により流れる作動ガスのガス圧を調整
可能な圧力調整器が設けられていることを特徴とする請
求項１８乃至２４のいずれか１項に記載のガス系の流量
制御装置。
【請求項２６】前記圧力調整器が設けられた分岐流路
部には、前記電磁弁の下流側に、前記電磁弁の作動によ
り流れる作動ガスの流量開始時期を調整する流量調整手
段が設けられていることを特徴とする請求項２５に記載
のガス系の流量制御装置。
【請求項２７】前記流量調整手段が流量調整弁である
ことを特徴とする請求項２６に記載のガス系の流量制御
装置。
【請求項２８】前記流量調整手段がオリフィスである
ことを特徴をする請求項２６に記載のガス系の流量制御
装置。
【請求項２９】前記流量調整手段がボリュームタンク
であることを特徴とする請求項２６に記載のガス系の流
量制御装置。
【請求項３０】前記流量調整手段が、流量調整弁、オ
リフィス、ボリュームタンクのうちの２つ以上を組合わ
せて構成されることを特徴とする請求項２６に記載のガ
ス系の流量調整装置。
【請求項３１】前記圧力調整器が電動型であることを
特徴とする請求項２５乃至３０のいずれか１項に記載の
ガス系の流量制御装置。
【請求項３２】前記圧力調整器が手動型であることを
特徴とする請求項２５乃至３０のいずれか１項に記載に
記載のガス系の流量制御装置。
【請求項３３】前記圧力調整器がコントロールパネル
に取り付けられていることを特徴とする請求項３１に記
載のガス系の流量制御装置。
【請求項３４】前記圧力調整器がプログラムにより制
御されることを特徴とする請求項３１に記載のガス系の
流量制御装置。
【請求項３５】前記第１及び第２の電磁弁が前記プロ
グラムにより制御されることを特徴とする請求項３４に
記載のガス系の流量制御装置。
【請求項３６】使用ガスの流量を変動させることで前
記使用ガスを所定の処理部内に導入し、又は排気ガスの
流量を変動させることで所定の処理部内を排気するよう
に構成されたガス系の流量制御装置において、所定流量の作動ガスを分流する第１及び第２の分岐流路
部と、前記第１及び第２の分岐流部にそれぞれ設けられ、か
つ、これら分岐流路部に流れる作動ガス圧を独立して設
定可能な第１及び第２の電磁弁と、前記第１の電磁弁に接続されたオリフィス、第１の逆止
弁、並びに圧力調整器と、前記第２の電磁弁に接続された第２の逆止弁と、前記圧力調整器に接続された第３の逆止弁と、前記第２及び第３の逆止弁に接続されたボリュームタン
クと、前記ボリュームタンクの出口部に接続され、前記第１及
び第２の分岐流路部に流れる各作動ガスのそれぞれに設
定されたガス圧の範囲にそれぞれ対応した駆動量を有す
る駆動部、及び前記設定されたガス圧の範囲に対応した
弁開度を有するように前記使用ガス又は排気ガスの流量
を制御する弁本体部からなるガス圧作動弁とを備えたこ
とを特徴とするガス系の流量制御装置。
【請求項３７】前記使用ガスが不活性ガスであること
を特徴とする請求項３６に記載のガス系の流量制御装
置。
【請求項３８】前記使用ガスが特殊材料ガスであるこ
とを特徴とする請求項３６に記載のガス系の流量制御装
置。
【請求項３９】前記使用ガスが、不活性ガスおよび特
殊材料ガスの混合ガスであることを特徴とする請求項３
６に記載のガス系の流量制御装置。
【請求項４０】前記所定の処理部が、半導体ウェハの
ロードチャンバ又はアンロードチャンバであることを特
徴とする請求項３６乃至３９のいずれか１項に記載のガ
ス系の流量制御装置。
【請求項４１】前記ガス圧作動弁が、前記弁開度が使
用ガスの流量に応じて設定される空圧作動弁であること
を特徴とする請求項３６乃至４０のいずれか１項に記載
のガス系の流量制御装置。
【請求項４２】前記作動ガスが空気であることを特徴
とする請求項３６乃至４１のいずれか１項に記載のガス
系の流量制御装置。
【請求項４３】前記第１の分岐流量部には、電磁弁の
下流側であって、前記電磁弁の作動により流れる作動ガ
スのガス圧を調整可能な圧力調整器が設けられているこ
とを特徴とする請求項３６乃至４２のいずれか１項に記
載のガス系の流量制御装置。
【請求項４４】前記第１及び第２の分岐流路部には第
１乃至第３の逆止弁が設けられていることを特徴とする
請求項３６乃至４３のいずれか１項に記載のガス系の流
量制御装置。
【請求項４５】前記電磁弁の下流側に、前記電磁弁の
作動により流れる作動ガスの流量を調整する流量調整手
段が設けられていることを特徴とする請求項４４に記載
のガス系の流量制御装置。
【請求項４６】前記流量調整手段が流量調整弁である
ことを特徴とする請求項４５に記載のガス系の流量制御
装置。
【請求項４７】前記流量調整手段がオリフィスである
ことを特徴とする請求項４５に記載のガス系の流量制御
装置。
【請求項４８】前記流量調整手段がボリュームタンク
であることを特徴とする請求項４５に記載のガス系の流
量制御装置。
【請求項４９】前記圧力調整器が電動型であることを
特徴とする請求項４３乃至４８のいずれか１項に記載の
ガス系の流量制御装置。
【請求項５０】前記圧力調整器が手動型であることを
特徴とする請求項４３乃至４８のいずれか１項に記載の
ガス系の流量制御装置。
【請求項５１】前記圧力調整器が所要のプログラムに
より制御されることを特徴とする請求項４３に記載のガ
ス系の流量制御装置。
【請求項５２】前記第１、第２の電磁弁の作動が、所
要のプログラムにより制御されることを特徴とする請求
項３６、４３、４５のいずれか１項に記載のガス系の流
量制御装置。