JPH0867642A - オレフィンの二量化方法 - Google Patents
オレフィンの二量化方法Info
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- JPH0867642A JPH0867642A JP7221577A JP22157795A JPH0867642A JP H0867642 A JPH0867642 A JP H0867642A JP 7221577 A JP7221577 A JP 7221577A JP 22157795 A JP22157795 A JP 22157795A JP H0867642 A JPH0867642 A JP H0867642A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】オレフィンの共二量化反応用のニッケル含有触
媒を活性化して、高活性および高選択性を付与する。 【解決手段】一般式: 【化1】 [式中、R1及びR2はアルキル基、アリール基またはア
ラルキル基を表す。]で示されるアザホスホレンを用い
てπ−アリルニッケルハライド/アザホスホレン錯体を
調製する。この錯体を有機アルミニウムハライド等のル
イス酸と共に、例えば、エチレンおよびビシクロヘプテ
ンの混合物と反応させると、光学活性ビニルビシクロヘ
プタンが生成する。
媒を活性化して、高活性および高選択性を付与する。 【解決手段】一般式: 【化1】 [式中、R1及びR2はアルキル基、アリール基またはア
ラルキル基を表す。]で示されるアザホスホレンを用い
てπ−アリルニッケルハライド/アザホスホレン錯体を
調製する。この錯体を有機アルミニウムハライド等のル
イス酸と共に、例えば、エチレンおよびビシクロヘプテ
ンの混合物と反応させると、光学活性ビニルビシクロヘ
プタンが生成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なアザホスホ
レンおよびその製法と用途に関する。
レンおよびその製法と用途に関する。
【0002】
【従来の技術】オレフィンがニッケルを含有するホスフ
ァン変性触媒によって2量化または共2量化(co-dimeri
zed)することは公知である。すなわち、ノルボルネンや
エテンのような環状ジエン又は直鎖状オレフィンの、π
−アリルニッケルハライド又はニッケル(0)化合物を用
いた共2量化、及びルイス酸を用いたそれらの活性化、
並びに非環状ホスファンを用いた変性、また光学活性非
環状ホスファンを用いた変性のことが、[西独特許20
39 125、シュツゥディエンゲゼルシャフト・コ
ール・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング(Studien
gesellshaft Kohle mbH.)(優先権1970年); 米国特
許3,978,147、(シュツゥディエンゲゼルシャフ
ト・コール・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング)
(優先権1973年); 米国特許4,098,834、(シ
ュツゥディエンゲゼルシャフト・コール・ミット・ベシ
ュレンクテル・ハフツング)(優先権1976年); ゲー
・ビルケ(G.Wilke)ら、アンゲヴァンテ・ヘミー(An
gew.Chem.)1972、1070; ベー・ボグダノビ
ッチ(B.Bogdanovic)ら、アンゲヴァンテ・ヘミー1
973、1013; エフ・ペチ(F.Petit)ら、ブレチ
ン・デス・ソシエテス・チミケス(Bull.Soc.Chi
m.)1979、II−415; ジャーナル・オブ・ザ・ケ
ミカル・ソサイアティー(J.Chem.Soc.)198
0、937; ゲー・ブオノ(G.Buono)ら、ジャーナル
・オブ・オーガニック・ケミストリー(J.Org.Che
m.)1985、50、1781]に幾度か記載されてい
る。いままでに知られている方法は、触媒が比較的低い
活性しか示さず、さらには選択性が不十分であるため、
技術的な不利益がある。上記の方法により達っせられる
触媒サイクルの最大数でも、商業的使用にはあまりにも
少ない。
ァン変性触媒によって2量化または共2量化(co-dimeri
zed)することは公知である。すなわち、ノルボルネンや
エテンのような環状ジエン又は直鎖状オレフィンの、π
−アリルニッケルハライド又はニッケル(0)化合物を用
いた共2量化、及びルイス酸を用いたそれらの活性化、
並びに非環状ホスファンを用いた変性、また光学活性非
環状ホスファンを用いた変性のことが、[西独特許20
39 125、シュツゥディエンゲゼルシャフト・コ
ール・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング(Studien
gesellshaft Kohle mbH.)(優先権1970年); 米国特
許3,978,147、(シュツゥディエンゲゼルシャフ
ト・コール・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング)
(優先権1973年); 米国特許4,098,834、(シ
ュツゥディエンゲゼルシャフト・コール・ミット・ベシ
ュレンクテル・ハフツング)(優先権1976年); ゲー
・ビルケ(G.Wilke)ら、アンゲヴァンテ・ヘミー(An
gew.Chem.)1972、1070; ベー・ボグダノビ
ッチ(B.Bogdanovic)ら、アンゲヴァンテ・ヘミー1
973、1013; エフ・ペチ(F.Petit)ら、ブレチ
ン・デス・ソシエテス・チミケス(Bull.Soc.Chi
m.)1979、II−415; ジャーナル・オブ・ザ・ケ
ミカル・ソサイアティー(J.Chem.Soc.)198
0、937; ゲー・ブオノ(G.Buono)ら、ジャーナル
・オブ・オーガニック・ケミストリー(J.Org.Che
m.)1985、50、1781]に幾度か記載されてい
る。いままでに知られている方法は、触媒が比較的低い
活性しか示さず、さらには選択性が不十分であるため、
技術的な不利益がある。上記の方法により達っせられる
触媒サイクルの最大数でも、商業的使用にはあまりにも
少ない。
【0003】驚くべきことに、公知方法の前記技術的欠
点は、アザホスホレンを変性配位子として用いることに
より克服されることが見出された。そのアザホスホレン
置換基は、その空間的要求のために、触媒錯体における
あるローテーションを阻止する。それ故、1つのニッケ
ル原子が常に各燐原子と錯形成しているような比較的強
固な触媒の配列が、必然的に得られる。そのような配位
子は、下記構造を有するホスホレンである:
点は、アザホスホレンを変性配位子として用いることに
より克服されることが見出された。そのアザホスホレン
置換基は、その空間的要求のために、触媒錯体における
あるローテーションを阻止する。それ故、1つのニッケ
ル原子が常に各燐原子と錯形成しているような比較的強
固な触媒の配列が、必然的に得られる。そのような配位
子は、下記構造を有するホスホレンである:
【0004】
【化3】 上記式中、R1及びR2は広範囲のアルキル基、アリール
基またはアラルキル基である。好ましくは、R1及びR2
は、1〜3個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル
基、またはフェニル基により置換された1〜3個の炭素
原子を有するアルキル基である。特に、
基またはアラルキル基である。好ましくは、R1及びR2
は、1〜3個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル
基、またはフェニル基により置換された1〜3個の炭素
原子を有するアルキル基である。特に、
【化4】 であり、好ましくは光学的RまたはS体であり、R2=
CH3であるような好ましい選択において、特によい結
果が得られる。これらの物質を用いて形成される今まで
未知のジアステレオマーは、X線構造分析によれば、図
1のような構造と立体配置を有す。
CH3であるような好ましい選択において、特によい結
果が得られる。これらの物質を用いて形成される今まで
未知のジアステレオマーは、X線構造分析によれば、図
1のような構造と立体配置を有す。
【0005】このジアステレオマー6aは、(−)−α−
ピネン又は[(−)−(1R、5S)−ミルテナール 1]及
び(+)−R−α−フェニルエチルアミン 2から出発
し、以下の反応ルートにより得られる。
ピネン又は[(−)−(1R、5S)−ミルテナール 1]及
び(+)−R−α−フェニルエチルアミン 2から出発
し、以下の反応ルートにより得られる。
【0006】
【化5】
【0007】
【化6】
【0008】
【化7】
【0009】同様にして、(+)−α−ピネン及び(−)−
S−α−フェニルエチルアミンから出発して、前記ジア
ステレオマーのエナンチオマーである化合物6a'が調
製される。ニッケル含有触媒中の配位子としての6aお
よび6a'は、以下のような効果がある。例えば、ノル
ボルネンとエチレンの共2量化が、60℃から−120
℃、好ましくは−20℃から−80℃の温度においてさ
えも、1時間あたり20000サイクルの活性と90%
以上の選択性をもって実現される。ジクロロメタン中
で、ニッケル触媒中における配位子としての6aを用い
て、下記反応式:
S−α−フェニルエチルアミンから出発して、前記ジア
ステレオマーのエナンチオマーである化合物6a'が調
製される。ニッケル含有触媒中の配位子としての6aお
よび6a'は、以下のような効果がある。例えば、ノル
ボルネンとエチレンの共2量化が、60℃から−120
℃、好ましくは−20℃から−80℃の温度においてさ
えも、1時間あたり20000サイクルの活性と90%
以上の選択性をもって実現される。ジクロロメタン中
で、ニッケル触媒中における配位子としての6aを用い
て、下記反応式:
【化8】 に従って形成された(−)−エキソ−ビニルノルボルネン
は、57%のe.e.(エナンチオマー過剰)を有する。
即ち、配位子6aが、高活性と高選択性を引き起こすの
みならず、高光学的誘導も引き起こし、そのため前記方
法によれば光学活性生成物をその78.5%が一種のエ
ナンチオマーからなるように得られる。
は、57%のe.e.(エナンチオマー過剰)を有する。
即ち、配位子6aが、高活性と高選択性を引き起こすの
みならず、高光学的誘導も引き起こし、そのため前記方
法によれば光学活性生成物をその78.5%が一種のエ
ナンチオマーからなるように得られる。
【0010】もし、これとは反対に、類似のホスホレン
が(−)−α−ピネン及び(−)−S−α−フェニルエチル
アミンから出発して形成されれば、別のジアステレオマ
ー6bがそれらから得られ、その構造はX−線解析によ
ると図2に示す通りである。
が(−)−α−ピネン及び(−)−S−α−フェニルエチル
アミンから出発して形成されれば、別のジアステレオマ
ー6bがそれらから得られ、その構造はX−線解析によ
ると図2に示す通りである。
【0011】触媒成分としての6bは、触媒活性に関し
て6aについて示した上記のような効果を示すが、その
触媒活性の程度は100分の1、すなわち同じ条件にお
いて20000サイクルではなく200サイクルが達成
される。そして得られた産生物は、(+)回転を示し、4
0%e.e.の(+)−エキソ−ビニルノルボルネンであ
る。6aと6bの分子模型について観察してみると、6
aについてはある結合のまわりの、例えば中央のC−C
結合(C1−C30)のまわりの回転はほとんど制限される
が、6bについてはそうではない。6aからは、酵素中
における2次的構造に相当する上記堅固な配列が得られ
る。
て6aについて示した上記のような効果を示すが、その
触媒活性の程度は100分の1、すなわち同じ条件にお
いて20000サイクルではなく200サイクルが達成
される。そして得られた産生物は、(+)回転を示し、4
0%e.e.の(+)−エキソ−ビニルノルボルネンであ
る。6aと6bの分子模型について観察してみると、6
aについてはある結合のまわりの、例えば中央のC−C
結合(C1−C30)のまわりの回転はほとんど制限される
が、6bについてはそうではない。6aからは、酵素中
における2次的構造に相当する上記堅固な配列が得られ
る。
【0012】アザホスホレンの合成 (1R,5S)−6,6−ジメチル−2−[(1R)−1−N
−フェニルエチルアザメチノ]ビシクロ[3.1.1]ヘプ
タ−2−エン 3 (+)−(1R)−フェニルエチルアミン(2)34.37g
(0.284mol)を250mlフラスコに入れ、70〜80
℃に加熱した。この温度において、(−)−(1R,5S)
−ミルテナール(1)42.94g(0.286mol)を1時間
かかって滴加した。形成された2相の混合物を1時間撹
拌した。室温まで冷却した後にエーテル50mlを添加
し、水相を分離(4ml)し、有機相をKOH/Na2SO4
で乾燥した。続いてエーテルを濃縮除去し、得られた粗
生成物3を高真空下で蒸留した。 収量:62.3g(理論値の86.7%) 沸点108〜112℃
−フェニルエチルアザメチノ]ビシクロ[3.1.1]ヘプ
タ−2−エン 3 (+)−(1R)−フェニルエチルアミン(2)34.37g
(0.284mol)を250mlフラスコに入れ、70〜80
℃に加熱した。この温度において、(−)−(1R,5S)
−ミルテナール(1)42.94g(0.286mol)を1時間
かかって滴加した。形成された2相の混合物を1時間撹
拌した。室温まで冷却した後にエーテル50mlを添加
し、水相を分離(4ml)し、有機相をKOH/Na2SO4
で乾燥した。続いてエーテルを濃縮除去し、得られた粗
生成物3を高真空下で蒸留した。 収量:62.3g(理論値の86.7%) 沸点108〜112℃
【0013】5−ブロモ−5,9,9−トリメチル−4−
[(1R)−1−フェニルエチル]−4−アザ−5−λ4−
ホスホニアトリシクロ−[6.1.11.8.02.6]−デカ−
2(3)−エン・ブロミド 4a、5−ブロモ−5,9,9
−トリメチル−4−[(1R)−1−フェニルエチル]−4
−アザ−5−λ4−ホスホニアトリシクロ−[6.1.1
1.8.02.6]−デカ−2(6)−エン・ブロミド 4b n−ペンタン700ml中にアザジエン(3)49.40g
(0.195mol)を添加し、MePBr240.14g(0.1
95mol)のペンタン200ml溶液を滴加した。黄色の沈
澱物が直ちに形成された。MePBr2を添加した後、反
応混合液を4日間撹拌した。その後黄色固体(粗ホスホ
ニウム塩4)を濾過し、n−ペンタン100mlで3回洗
浄し、真空乾燥した。 粗生成物収量:75.1g(理論値の84.0%) (δ) 31P−NMR:4a 77.2ppm(CD2Cl2)4b 67.1ppm(CD2Cl2)
[(1R)−1−フェニルエチル]−4−アザ−5−λ4−
ホスホニアトリシクロ−[6.1.11.8.02.6]−デカ−
2(3)−エン・ブロミド 4a、5−ブロモ−5,9,9
−トリメチル−4−[(1R)−1−フェニルエチル]−4
−アザ−5−λ4−ホスホニアトリシクロ−[6.1.1
1.8.02.6]−デカ−2(6)−エン・ブロミド 4b n−ペンタン700ml中にアザジエン(3)49.40g
(0.195mol)を添加し、MePBr240.14g(0.1
95mol)のペンタン200ml溶液を滴加した。黄色の沈
澱物が直ちに形成された。MePBr2を添加した後、反
応混合液を4日間撹拌した。その後黄色固体(粗ホスホ
ニウム塩4)を濾過し、n−ペンタン100mlで3回洗
浄し、真空乾燥した。 粗生成物収量:75.1g(理論値の84.0%) (δ) 31P−NMR:4a 77.2ppm(CD2Cl2)4b 67.1ppm(CD2Cl2)
【0014】ビス−(3R)−3−{(1R,5R,8R)−
5,9,9−トリメチル−4−[(1R)−1−フェニルエ
チル]−4−アザ−5−ホスファトリシクロ−[6.1.1
1.8.02.6]−デカ−2(6)−エニル} 6a 粗生成物(4)10.05g(21.9mol)をフリット上でT
HF100ml中に懸濁させた。濾液をフラスコ中に集
め、残渣は破棄した。オレンジ色の濾液に、−10℃で
活性マグネシウム0.66g(272mmol)を激しく撹拌し
ながら少量づつ加えた。添加終了後、バッチをゆっくり
と室温まで昇温し、終夜撹拌した。溶媒を濃縮除去した
後、残渣にエーテル200mlを加え、混合物を濾過し
た。黄色濾液からエーテルを濃縮除去して粘稠残渣1
0.62gを得た。この残渣を、4〜5倍容量のメタノ
ールに約60℃に加熱しつつ溶解した。水浴中(約60
℃)で混合物を撹拌した後、室温まで冷却し、一夜放置
した。6aの無色の沈澱物が形成された。 収量:0.84g(理論値の12.9%) 融点134〜135℃(エタノールから再結晶) (δ) 31P−NMR:49.9ppm(トルエン) [δ]589=−64.69゜ (0.64g/CH2Cl2100m
l)
5,9,9−トリメチル−4−[(1R)−1−フェニルエ
チル]−4−アザ−5−ホスファトリシクロ−[6.1.1
1.8.02.6]−デカ−2(6)−エニル} 6a 粗生成物(4)10.05g(21.9mol)をフリット上でT
HF100ml中に懸濁させた。濾液をフラスコ中に集
め、残渣は破棄した。オレンジ色の濾液に、−10℃で
活性マグネシウム0.66g(272mmol)を激しく撹拌し
ながら少量づつ加えた。添加終了後、バッチをゆっくり
と室温まで昇温し、終夜撹拌した。溶媒を濃縮除去した
後、残渣にエーテル200mlを加え、混合物を濾過し
た。黄色濾液からエーテルを濃縮除去して粘稠残渣1
0.62gを得た。この残渣を、4〜5倍容量のメタノ
ールに約60℃に加熱しつつ溶解した。水浴中(約60
℃)で混合物を撹拌した後、室温まで冷却し、一夜放置
した。6aの無色の沈澱物が形成された。 収量:0.84g(理論値の12.9%) 融点134〜135℃(エタノールから再結晶) (δ) 31P−NMR:49.9ppm(トルエン) [δ]589=−64.69゜ (0.64g/CH2Cl2100m
l)
【0015】6aのアザホスホレンは、不飽和炭化水素
を光学活性化合物に変換させることのできる高選択活性
触媒の調製に適している。このようにしてビシクロヘプ
テンとエチレンとから、光学活性ビニルビシクロヘプタ
ンが、従来には得られなかった高い時間空間収率で得ら
れる。該光学活性ビニルビシクロヘプタンは、エチレン
やプロピレンと共に、ポリマー、特に光学活性ポリマー
を提供する、ターポリマー化の出発物質となりうる。光
学活性ポリマーは、その高立体規則性の故に、向上した
物理的及び機械的特性を有する。このように光学活性ポ
リマーは、エナンチオマーの分離のための吸着剤として
好適である。同様の方法により、光学活性3−フェニル
ブテン−1がスチレンとエチレンの共2量化により選択
的に高収率で得られ、同じく置換スチレンとエチレンか
ら置換3−フェニルブテン−1が得られる。このα−オ
レフィン生成物をポリマー化して光学活性ポリマーを得
る方法は、前述ターポリマー化と同様に実施できる。有
機アルミニウム化合物との前記複合錯体形式のアザホス
ホレンの、別の用途は、構造の選択的変化、例えばヘプ
タジエン−1,6を1−メチル−2−メチリデン−シク
ロペンテンに変化させること、同様に1,3−シクロペ
ンタジエンとエチレンを共2量化して光学活性3−ビニ
ルシクロペンテン−1を導くことである。
を光学活性化合物に変換させることのできる高選択活性
触媒の調製に適している。このようにしてビシクロヘプ
テンとエチレンとから、光学活性ビニルビシクロヘプタ
ンが、従来には得られなかった高い時間空間収率で得ら
れる。該光学活性ビニルビシクロヘプタンは、エチレン
やプロピレンと共に、ポリマー、特に光学活性ポリマー
を提供する、ターポリマー化の出発物質となりうる。光
学活性ポリマーは、その高立体規則性の故に、向上した
物理的及び機械的特性を有する。このように光学活性ポ
リマーは、エナンチオマーの分離のための吸着剤として
好適である。同様の方法により、光学活性3−フェニル
ブテン−1がスチレンとエチレンの共2量化により選択
的に高収率で得られ、同じく置換スチレンとエチレンか
ら置換3−フェニルブテン−1が得られる。このα−オ
レフィン生成物をポリマー化して光学活性ポリマーを得
る方法は、前述ターポリマー化と同様に実施できる。有
機アルミニウム化合物との前記複合錯体形式のアザホス
ホレンの、別の用途は、構造の選択的変化、例えばヘプ
タジエン−1,6を1−メチル−2−メチリデン−シク
ロペンテンに変化させること、同様に1,3−シクロペ
ンタジエンとエチレンを共2量化して光学活性3−ビニ
ルシクロペンテン−1を導くことである。
【0016】ビニル−ビシクロヘプタンの接触合成 実施例1 スターラー、滴下漏斗および温度計付クライゼンヘッド
を備えた2lの4つ口フラスコを、加熱しながら減圧
し、アルゴンで満たした。フラスコにはCH2Cl260
0mlを仕込み、滴下漏斗にはビシクロ[2.2.1]ヘプテ
ン400g(4.25mol)のCH2Cl2600ml溶液を満
たした。内容物を撹拌しながらフラスコを−65℃に冷
却し、冷CH2Cl2約10ml中に溶解したπ−アリルニ
ッケルクロライド/ホスファン6a錯体(Ni:P=1:
1)0.047g(0.108mmol)とEt3Al2Cl3(P:
Ni:Al=1:1:20)0.239ml(1mmol)とを添加し
たところ、混合溶液は紫色に変わった。オイルポンプで
短時間脱気した後、減圧部に乾燥エチレンを入れ、ビシ
クロヘプテン溶液を撹拌しながら60分で滴加した。こ
の工程中に高発熱が観察された。反応時間(90分)中、
エチレンが装置に導入され、それによって反応温度は−
58℃に上がった。気体アンモニアの導入により反応を
停止し、生成物を真空濃縮した。このようにして得られ
た濃縮物から、溶媒を常圧で留去し、残渣をビグロー
(Vigreux)カラムを通して蒸留した。 収量:384g(理論値の74%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(54%e.e.) 変換数(Umsatzzahl):29140 [α]max 22=(±)51゜; 沸点54℃/30mbar D20=0.8726g/cm3
を備えた2lの4つ口フラスコを、加熱しながら減圧
し、アルゴンで満たした。フラスコにはCH2Cl260
0mlを仕込み、滴下漏斗にはビシクロ[2.2.1]ヘプテ
ン400g(4.25mol)のCH2Cl2600ml溶液を満
たした。内容物を撹拌しながらフラスコを−65℃に冷
却し、冷CH2Cl2約10ml中に溶解したπ−アリルニ
ッケルクロライド/ホスファン6a錯体(Ni:P=1:
1)0.047g(0.108mmol)とEt3Al2Cl3(P:
Ni:Al=1:1:20)0.239ml(1mmol)とを添加し
たところ、混合溶液は紫色に変わった。オイルポンプで
短時間脱気した後、減圧部に乾燥エチレンを入れ、ビシ
クロヘプテン溶液を撹拌しながら60分で滴加した。こ
の工程中に高発熱が観察された。反応時間(90分)中、
エチレンが装置に導入され、それによって反応温度は−
58℃に上がった。気体アンモニアの導入により反応を
停止し、生成物を真空濃縮した。このようにして得られ
た濃縮物から、溶媒を常圧で留去し、残渣をビグロー
(Vigreux)カラムを通して蒸留した。 収量:384g(理論値の74%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(54%e.e.) 変換数(Umsatzzahl):29140 [α]max 22=(±)51゜; 沸点54℃/30mbar D20=0.8726g/cm3
【0017】実施例2 0.5lの4つ口フラスコを用いて、実施例1と同様の
手順を行った。フラスコにCH2Cl2150mlを仕込
み、滴下漏斗をビシクロ[2.2.1]ヘプテン30ml(0.
32mol)のCH2Cl250ml溶液で満たした。この溶媒
を−70℃まで冷却し、ビスシクロオクタジエンニッケ
ル0.0961g(0.352mmol)およびホスファン(6
a)0.105g(0.352mmol)を添加した。反応混合
液をゆっくりと−15℃まで昇温すると、濃黄色の透明
溶液が形成され、続いて再び−70℃まで冷却し、Et3
Al2Cl3(P:Ni:Al=1:1:2)0.080ml(0.35
2mmol)を加えた。再度−20℃まで昇温した後、溶液
をエチレンで飽和し、ビシクロヘプテン溶液を15分間
で滴加した。反応混合液をエチレンで飽和したまま、6
0分間激しく撹拌した。反応は、気体アンモニアによっ
て停止した。生成物を濃縮して溶媒を除去し、残渣は長
さ30cmのビグローカラムを通して蒸留した。 収量:35g(理論値の90%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(8.2%e.e.) 変換数:815
手順を行った。フラスコにCH2Cl2150mlを仕込
み、滴下漏斗をビシクロ[2.2.1]ヘプテン30ml(0.
32mol)のCH2Cl250ml溶液で満たした。この溶媒
を−70℃まで冷却し、ビスシクロオクタジエンニッケ
ル0.0961g(0.352mmol)およびホスファン(6
a)0.105g(0.352mmol)を添加した。反応混合
液をゆっくりと−15℃まで昇温すると、濃黄色の透明
溶液が形成され、続いて再び−70℃まで冷却し、Et3
Al2Cl3(P:Ni:Al=1:1:2)0.080ml(0.35
2mmol)を加えた。再度−20℃まで昇温した後、溶液
をエチレンで飽和し、ビシクロヘプテン溶液を15分間
で滴加した。反応混合液をエチレンで飽和したまま、6
0分間激しく撹拌した。反応は、気体アンモニアによっ
て停止した。生成物を濃縮して溶媒を除去し、残渣は長
さ30cmのビグローカラムを通して蒸留した。 収量:35g(理論値の90%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(8.2%e.e.) 変換数:815
【0018】実施例3 手順は実施例1と同様にした。1lフラスコにクロロベ
ンゼン500mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプテン
30g(0.32mol)のクロロベンゼン50ml溶液を満た
した。クロロベンゼンを撹拌して−40℃まで冷却し、
そこに、π−アリルニッケル/ホスファン−6a錯体
0.090g(0.186mmol)の約15ml冷クロロベンゼ
ン溶液と、Et2AlCl(P:Ni:Al=1:1:6)0.1
35g(1.12mmol)とを添加した。そこにビシクロ
ヘプテン溶液を約15分間で滴加し、エチレンを装置に
導入した。2時間かかって反応混合物を+40℃にまで
加熱した。触媒作用を気体アンモニアを導入することに
より停止し、生成物を真空濃縮した。このように得られ
た濃縮物から溶媒を常圧下に留去し、残渣はビグローカ
ラムを通して蒸留した。 収量:34g(理論値の87.5%) (+)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(10.8%e.e.) 変換数:1498 このように、クロロベンゼン中では(+)体の形成が優先
する。
ンゼン500mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプテン
30g(0.32mol)のクロロベンゼン50ml溶液を満た
した。クロロベンゼンを撹拌して−40℃まで冷却し、
そこに、π−アリルニッケル/ホスファン−6a錯体
0.090g(0.186mmol)の約15ml冷クロロベンゼ
ン溶液と、Et2AlCl(P:Ni:Al=1:1:6)0.1
35g(1.12mmol)とを添加した。そこにビシクロ
ヘプテン溶液を約15分間で滴加し、エチレンを装置に
導入した。2時間かかって反応混合物を+40℃にまで
加熱した。触媒作用を気体アンモニアを導入することに
より停止し、生成物を真空濃縮した。このように得られ
た濃縮物から溶媒を常圧下に留去し、残渣はビグローカ
ラムを通して蒸留した。 収量:34g(理論値の87.5%) (+)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(10.8%e.e.) 変換数:1498 このように、クロロベンゼン中では(+)体の形成が優先
する。
【0019】実施例4 手順は実施例1と同様にした。0.5lフラスコにクロ
ロホルム150mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプテ
ン30g(0.32mmol)のクロロホルム50ml溶液を満
たした。溶媒を−30℃まで冷却し、酢酸ニッケル0.
020g(0.114mmol)とホスファン6a0.0678g
(0.228mmol)を加えた。反応混合物を−30℃にて
30分間撹拌し、AgBF4(P:Ni:BF4=2:1:6)
0.133g(0.684mmol)を添加した。さらに30分
間撹拌した後、ビシクロヘプテン溶液を10分間で滴加
し、エチレンを同時に装置に導入した。60分経過後、
気体アンモニアを導入することにより反応を停止した。
生成物を濃縮し、溶媒を除去し、残渣を蒸留した。 収量:32g(理論値の85%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(29%e.e.) 変換数:2300
ロホルム150mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプテ
ン30g(0.32mmol)のクロロホルム50ml溶液を満
たした。溶媒を−30℃まで冷却し、酢酸ニッケル0.
020g(0.114mmol)とホスファン6a0.0678g
(0.228mmol)を加えた。反応混合物を−30℃にて
30分間撹拌し、AgBF4(P:Ni:BF4=2:1:6)
0.133g(0.684mmol)を添加した。さらに30分
間撹拌した後、ビシクロヘプテン溶液を10分間で滴加
し、エチレンを同時に装置に導入した。60分経過後、
気体アンモニアを導入することにより反応を停止した。
生成物を濃縮し、溶媒を除去し、残渣を蒸留した。 収量:32g(理論値の85%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(29%e.e.) 変換数:2300
【0020】実施例5 手順は、実施例1と同様である。0.5lフラスコに、
CH2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプ
テン15g(0.16mol)を満たした。溶媒を撹拌し−
72℃まで冷却し、そこに、π−アリルニッケル/ホス
ファン6b錯体0.287g(0.66mmol)の冷CH2Cl
2約20ml溶液と、Et3Al2Cl3(P:Ni:Al=1:1:
2)0.150ml(0.66mmol)とを添加したところ混合
溶液は紫色に変わった。続いてビシクロヘプテン溶液を
−72℃で30分かかって滴加し、エチレンを同時に装
置に導入した。ビシクロヘプテンの添加が終了してから
も、エチレンの導入をさらに30分間続けた。反応を気
体アンモニアを導入することにより停止し、生成物を真
空濃縮し、溶媒を除去し、残渣を蒸留した。 収量:18g(理論値の92%) (+)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(38%e.e.) 変換数:224
CH2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプ
テン15g(0.16mol)を満たした。溶媒を撹拌し−
72℃まで冷却し、そこに、π−アリルニッケル/ホス
ファン6b錯体0.287g(0.66mmol)の冷CH2Cl
2約20ml溶液と、Et3Al2Cl3(P:Ni:Al=1:1:
2)0.150ml(0.66mmol)とを添加したところ混合
溶液は紫色に変わった。続いてビシクロヘプテン溶液を
−72℃で30分かかって滴加し、エチレンを同時に装
置に導入した。ビシクロヘプテンの添加が終了してから
も、エチレンの導入をさらに30分間続けた。反応を気
体アンモニアを導入することにより停止し、生成物を真
空濃縮し、溶媒を除去し、残渣を蒸留した。 収量:18g(理論値の92%) (+)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(38%e.e.) 変換数:224
【0021】実施例6 手順は実施例1と同様にした。0.5lフラスコにCH2
Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプテン1
8g(0.19mol)のCH2Cl220ml溶液を満たした。
溶媒を撹拌し−30℃まで冷却し、そこに、ホスファン
異性体5a及び5bの混合物0.283g(0.946mmo
l)と、ビス−π−アリルニッケルクロライド0.128
g(0.473mmol)とを添加した。反応混合液を30分
間撹拌してから−70℃まで冷却し、そこにEt3Al2C
l3(P:Ni:Al=1:1:4)0.454ml(1.892mmol)
を添加した。オイルポンプで短時間脱気した後、減圧部
に乾燥エチレンを導入し、ビシクロヘプタン溶液を15
分間で滴加した。そして更に15分間エチレンを装置に
導入し続けた。反応を気体アンモニアを導入することに
より停止し、生成物を真空乾燥させ、溶媒を留去し、残
渣を蒸留した。 収量:6g(理論値の26%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(3.4%e.e.) 変換数:52
Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプテン1
8g(0.19mol)のCH2Cl220ml溶液を満たした。
溶媒を撹拌し−30℃まで冷却し、そこに、ホスファン
異性体5a及び5bの混合物0.283g(0.946mmo
l)と、ビス−π−アリルニッケルクロライド0.128
g(0.473mmol)とを添加した。反応混合液を30分
間撹拌してから−70℃まで冷却し、そこにEt3Al2C
l3(P:Ni:Al=1:1:4)0.454ml(1.892mmol)
を添加した。オイルポンプで短時間脱気した後、減圧部
に乾燥エチレンを導入し、ビシクロヘプタン溶液を15
分間で滴加した。そして更に15分間エチレンを装置に
導入し続けた。反応を気体アンモニアを導入することに
より停止し、生成物を真空乾燥させ、溶媒を留去し、残
渣を蒸留した。 収量:6g(理論値の26%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(3.4%e.e.) 変換数:52
【0022】実施例7 手順は実施例1と同様にした。0.5lフラスコにCH2
Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプテン3
0g(0.32mol)のCH2Cl250ml溶液を満たした。
溶媒を−65℃まで冷却し、π−アリルニッケルクロラ
イド/ホスファン−6a錯体0.086g(0.197mo
l)の冷CH2Cl210ml溶液と、Et3Al2Cl30.227
mlとを添加した。反応混合液を−65℃で15分間撹拌
した。そしてホスファン6a(P:Ni:Al=3:1:10)
0.118g(0.394mmol)を添加し、溶液を更に10
分間撹拌した。続いてビシクロヘプテン溶液を15分か
かって滴加し、同時にエチレンを装置に導入した。反応
を気体アンモニアの導入により停止し、生成物を真空濃
縮し、溶媒を留去し、残渣を蒸留した。 収量:34g(理論値の87%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(57%e.e.) 変換数:1413
Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にビシクロヘプテン3
0g(0.32mol)のCH2Cl250ml溶液を満たした。
溶媒を−65℃まで冷却し、π−アリルニッケルクロラ
イド/ホスファン−6a錯体0.086g(0.197mo
l)の冷CH2Cl210ml溶液と、Et3Al2Cl30.227
mlとを添加した。反応混合液を−65℃で15分間撹拌
した。そしてホスファン6a(P:Ni:Al=3:1:10)
0.118g(0.394mmol)を添加し、溶液を更に10
分間撹拌した。続いてビシクロヘプテン溶液を15分か
かって滴加し、同時にエチレンを装置に導入した。反応
を気体アンモニアの導入により停止し、生成物を真空濃
縮し、溶媒を留去し、残渣を蒸留した。 収量:34g(理論値の87%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(57%e.e.) 変換数:1413
【0023】実施例8 撹拌機、25lのフィードタンク(feed tank)、および
内部温度計を備えた100lガラス製反応容器を、アル
ゴン雰囲気とした。反応容器にCH2Cl250lを仕込
み、フィードタンクにはビシクロヘプテン10.13kg
(107.7mol)のCH2Cl210l溶液を満たした。仕
込んだ溶媒を冷却機により−40℃に冷却し、ビシクロ
ヘプテン溶液を−13℃に冷却した。続いてエチレンを
導入し、Et3Al2Cl323ml(0.102mol)と、π−ア
リルニッケルクロライド/ホスファン−6a錯体4.4
48g(0.0127mol)のCH2Cl2(P:Ni:Al=
1:1:20)50ml溶液を、添加した。そして、エチレ
ンを同時に導入しつつ、ビシクロヘプテン溶液を6時間
流入させた。装備の冷却機をフル稼動させて、反応温度
を−31℃にした。6.5時間後に反応を気体アンモニ
アの導入により停止した。続いて溶媒を常圧で留去し、
残渣をカラムを用いて分別した。 収量:8.0kg(65.6mol;理論値の60.9%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(32.6%e.e.) 変換数:6388
内部温度計を備えた100lガラス製反応容器を、アル
ゴン雰囲気とした。反応容器にCH2Cl250lを仕込
み、フィードタンクにはビシクロヘプテン10.13kg
(107.7mol)のCH2Cl210l溶液を満たした。仕
込んだ溶媒を冷却機により−40℃に冷却し、ビシクロ
ヘプテン溶液を−13℃に冷却した。続いてエチレンを
導入し、Et3Al2Cl323ml(0.102mol)と、π−ア
リルニッケルクロライド/ホスファン−6a錯体4.4
48g(0.0127mol)のCH2Cl2(P:Ni:Al=
1:1:20)50ml溶液を、添加した。そして、エチレ
ンを同時に導入しつつ、ビシクロヘプテン溶液を6時間
流入させた。装備の冷却機をフル稼動させて、反応温度
を−31℃にした。6.5時間後に反応を気体アンモニ
アの導入により停止した。続いて溶媒を常圧で留去し、
残渣をカラムを用いて分別した。 収量:8.0kg(65.6mol;理論値の60.9%) (−)−エキソ−2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(32.6%e.e.) 変換数:6388
【0024】光学活性3−フェニル−ブテン−1の接触
合成 実施例9 撹拌機、滴下漏斗、および温度計を有するクライセンヘ
ッドを備えた2l四つ口フラスコを、加熱しつつ減圧
し、アルゴンで満たした。フラスコにCH2Cl2700m
lを仕込み、滴下漏斗にはスチレン275g(2.65mo
l)の−30℃冷CH2Cl2460ml溶液を満たした。フ
ラスコをその内容物を撹拌しながら−70℃に冷却し、
π−アリルニッケルクロライド/ホスファン6a錯体
(Ni:P=1:1)0.590g(1.36mmol)の冷CH2C
l2約15ml溶液と、Et3Al2Cl3(P:Ni:Al=1:1:
3)0.70ml(3.0mmol)とを添加した。オイルポンプ
で短時間脱気した後、減圧部にエチレンを導入し、スチ
レン溶液を45分かかって撹拌しながら滴加した。その
工程中に溶液は−60℃まで昇温した。反応時間(15
0分)中、エチレンを装置に導入した。触媒作用を気体
アンモニアの導入により停止し、生成物は真空濃縮させ
た。このように得られた濃縮物から溶媒を常圧で留去
し、残渣をビグローカラムを通して蒸留した。 収量:340g(理論値の97%) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1(93.4%e.
e.) 変換数:1890
合成 実施例9 撹拌機、滴下漏斗、および温度計を有するクライセンヘ
ッドを備えた2l四つ口フラスコを、加熱しつつ減圧
し、アルゴンで満たした。フラスコにCH2Cl2700m
lを仕込み、滴下漏斗にはスチレン275g(2.65mo
l)の−30℃冷CH2Cl2460ml溶液を満たした。フ
ラスコをその内容物を撹拌しながら−70℃に冷却し、
π−アリルニッケルクロライド/ホスファン6a錯体
(Ni:P=1:1)0.590g(1.36mmol)の冷CH2C
l2約15ml溶液と、Et3Al2Cl3(P:Ni:Al=1:1:
3)0.70ml(3.0mmol)とを添加した。オイルポンプ
で短時間脱気した後、減圧部にエチレンを導入し、スチ
レン溶液を45分かかって撹拌しながら滴加した。その
工程中に溶液は−60℃まで昇温した。反応時間(15
0分)中、エチレンを装置に導入した。触媒作用を気体
アンモニアの導入により停止し、生成物は真空濃縮させ
た。このように得られた濃縮物から溶媒を常圧で留去
し、残渣をビグローカラムを通して蒸留した。 収量:340g(理論値の97%) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1(93.4%e.
e.) 変換数:1890
【0025】実施例10 0.5lの四つ口フラスコを用いて、実施例1と同様の
手順を行った。フラスコにはCH2Cl2150mlを仕込
み、滴下漏斗にはスチレン18g(0.17mol)のCH2
Cl230ml溶液を満たした。溶媒を−70℃まで冷却
し、π−アリルニッケルクロライド/ホスファン6a錯
体0.0553g(0.13mmol)の冷CH2Cl2約15ml
溶液と、Et3Al2Cl30.030ml(0.13mmol)とを添
加した。その後反応混合液を60分かかって0℃に昇温
した。0℃においてスチレン溶液を15分かかって滴加
し、エチレンを装置に導入した。反応は気体アンモニア
を導入することにより停止し、産生物は真空濃縮させ
た。そして溶媒を除去し、残渣を蒸留させた。 収量:20.9g(理論値の93%) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1(76%e.e.) 変換数:1216
手順を行った。フラスコにはCH2Cl2150mlを仕込
み、滴下漏斗にはスチレン18g(0.17mol)のCH2
Cl230ml溶液を満たした。溶媒を−70℃まで冷却
し、π−アリルニッケルクロライド/ホスファン6a錯
体0.0553g(0.13mmol)の冷CH2Cl2約15ml
溶液と、Et3Al2Cl30.030ml(0.13mmol)とを添
加した。その後反応混合液を60分かかって0℃に昇温
した。0℃においてスチレン溶液を15分かかって滴加
し、エチレンを装置に導入した。反応は気体アンモニア
を導入することにより停止し、産生物は真空濃縮させ
た。そして溶媒を除去し、残渣を蒸留させた。 収量:20.9g(理論値の93%) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1(76%e.e.) 変換数:1216
【0026】実施例11 0.5l四つ口フラスコを用いて、実施例1と同様の手
順を行った。フラスコにはトルエン150mlを仕込み、
滴下漏斗にはスチレン20g(0.19mol)のトルエン4
0ml溶液を満たした。室温において、ビスシクロオクタ
ジエンニッケル0.120g(0.44mmol)とホスファン
6a0.131g(0.44mmol)とを添加した。反応混合
物を30分間撹拌し、Et2AlCl(P:Ni:Al=1:1:
4)0.106g(0.88mmol)を加えた。続いてスチレ
ン溶液を30分間かかって滴加し、エチレンを装置に導
入した。激しく撹拌しつつ、反応混合液をエチレンを用
いて4時間飽和状態に保った。触媒作用をエタノールの
導入により停止し、生成物を真空濃縮した。常圧でビグ
ローカラムに通すことにより濃縮物から溶媒を留去し、
残渣を減圧下で分別した。 収量:15.1g(理論値の60.2%) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1(53%e.e.) 変換数:260
順を行った。フラスコにはトルエン150mlを仕込み、
滴下漏斗にはスチレン20g(0.19mol)のトルエン4
0ml溶液を満たした。室温において、ビスシクロオクタ
ジエンニッケル0.120g(0.44mmol)とホスファン
6a0.131g(0.44mmol)とを添加した。反応混合
物を30分間撹拌し、Et2AlCl(P:Ni:Al=1:1:
4)0.106g(0.88mmol)を加えた。続いてスチレ
ン溶液を30分間かかって滴加し、エチレンを装置に導
入した。激しく撹拌しつつ、反応混合液をエチレンを用
いて4時間飽和状態に保った。触媒作用をエタノールの
導入により停止し、生成物を真空濃縮した。常圧でビグ
ローカラムに通すことにより濃縮物から溶媒を留去し、
残渣を減圧下で分別した。 収量:15.1g(理論値の60.2%) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1(53%e.e.) 変換数:260
【0027】実施例12 実施例1と同様の手順を行った。0.5lフラスコにC
H2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にスチレン20.3
g(0.195mol)のCH2Cl220ml溶液を満たした。
溶媒を撹拌しつつ−60℃に冷却し、π−アリルニッケ
ルブロミド/ホスファン6a錯体0.0529g(0.1
22mmol)の冷CH2Cl220ml溶液と、Et3Al2Cl
3(P:Ni:Al=1:1:2)0.028ml(0.122mmo
l)とを添加した。室温(22℃)まで昇温した後、触媒溶
液をエチレンで飽和させ、スチレン溶液を15分かかっ
て滴加した。激しく撹拌させることにより反応混合液と
エチレンとの接触を30分間保った。そして反応を気体
アンモニアの導入により停止し、生成物を真空濃縮し
た。このように得られた濃縮物から、溶媒を除去し、残
渣を蒸留した。 収量:24.7g(理論値の96%) (+)−(S)−3−フェニルブテン−1(70%e.e.) 変換数:1533
H2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にスチレン20.3
g(0.195mol)のCH2Cl220ml溶液を満たした。
溶媒を撹拌しつつ−60℃に冷却し、π−アリルニッケ
ルブロミド/ホスファン6a錯体0.0529g(0.1
22mmol)の冷CH2Cl220ml溶液と、Et3Al2Cl
3(P:Ni:Al=1:1:2)0.028ml(0.122mmo
l)とを添加した。室温(22℃)まで昇温した後、触媒溶
液をエチレンで飽和させ、スチレン溶液を15分かかっ
て滴加した。激しく撹拌させることにより反応混合液と
エチレンとの接触を30分間保った。そして反応を気体
アンモニアの導入により停止し、生成物を真空濃縮し
た。このように得られた濃縮物から、溶媒を除去し、残
渣を蒸留した。 収量:24.7g(理論値の96%) (+)−(S)−3−フェニルブテン−1(70%e.e.) 変換数:1533
【0028】実施例13 実施例1と同様の手順を行った。0.5lフラスコにC
H2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にはスチレン20
g(0.196mol)のCH2Cl2約30ml溶液を満たし
た。溶媒を−30℃まで冷却し、酢酸ニッケル0.05
0g(0.286mmol)と、ホスファン6a0.086g
(0.286mmol)とを添加した。反応混合液を−30℃
にて60分間撹拌し、続いてAgBF40.222g(1.
144mmol)を加えた(P:Ni:BF4=1:1:4)。更に
30分間撹拌した後、スチレン溶液を20分かかって滴
加し、同時にエチレンを装置に導入した。60分後、反
応を気体アンモニアを導入することにより停止した。生
成物は真空濃縮し、溶媒は除去し、残渣はビグローカラ
ムを通して蒸留した。 収量:12g(理論値の46%) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1(75%e.e.) 変換数:317
H2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗にはスチレン20
g(0.196mol)のCH2Cl2約30ml溶液を満たし
た。溶媒を−30℃まで冷却し、酢酸ニッケル0.05
0g(0.286mmol)と、ホスファン6a0.086g
(0.286mmol)とを添加した。反応混合液を−30℃
にて60分間撹拌し、続いてAgBF40.222g(1.
144mmol)を加えた(P:Ni:BF4=1:1:4)。更に
30分間撹拌した後、スチレン溶液を20分かかって滴
加し、同時にエチレンを装置に導入した。60分後、反
応を気体アンモニアを導入することにより停止した。生
成物は真空濃縮し、溶媒は除去し、残渣はビグローカラ
ムを通して蒸留した。 収量:12g(理論値の46%) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1(75%e.e.) 変換数:317
【0029】光学活性1−メチル−2−メチリデンシク
ロペンテンの接触合成 実施例14 0.5lの四つ口フラスコを用いて、実施例1と同様の
手順を行った。フラスコにはCH2Cl2約150mlを仕
込み、滴下漏斗にはヘプタジエン−1,6、10g(0.
104mol)のCH2Cl220ml溶液を満たした。溶媒を
−30℃まで冷却し、π−アリルニッケルクロライド/
ホスファン6a錯体0.079g(0.182mmol)の冷C
H2Cl215ml溶液と、Et3Al2Cl30.045ml(0.1
97mmol)とを添加した。溶液の色はオレンジ色に変わ
った。触媒混合液を−30℃で30分間撹拌し、続いて
ヘプタジエン−1,6溶液を15分間で滴加した。−3
0℃で3時間経過した後に気体アンモニアによって反応
を停止した。粗生成物を真空濃縮し、溶媒を除去し、残
渣はビグローカラムを通して蒸留した。 収量:9.4g(理論値の94%) 1−(S)−(+)−1−メチル−2−メチリデンシクロペ
ンテン、沸点96℃ [α]D 22+61.6°(非希釈)(93%e.e.) 変換数:1540
ロペンテンの接触合成 実施例14 0.5lの四つ口フラスコを用いて、実施例1と同様の
手順を行った。フラスコにはCH2Cl2約150mlを仕
込み、滴下漏斗にはヘプタジエン−1,6、10g(0.
104mol)のCH2Cl220ml溶液を満たした。溶媒を
−30℃まで冷却し、π−アリルニッケルクロライド/
ホスファン6a錯体0.079g(0.182mmol)の冷C
H2Cl215ml溶液と、Et3Al2Cl30.045ml(0.1
97mmol)とを添加した。溶液の色はオレンジ色に変わ
った。触媒混合液を−30℃で30分間撹拌し、続いて
ヘプタジエン−1,6溶液を15分間で滴加した。−3
0℃で3時間経過した後に気体アンモニアによって反応
を停止した。粗生成物を真空濃縮し、溶媒を除去し、残
渣はビグローカラムを通して蒸留した。 収量:9.4g(理論値の94%) 1−(S)−(+)−1−メチル−2−メチリデンシクロペ
ンテン、沸点96℃ [α]D 22+61.6°(非希釈)(93%e.e.) 変換数:1540
【0030】実施例15 撹拌機、25lのフィードタンク(feed tank)、および
内部温度計を備えた100lガラス製反応容器を、アル
ゴン雰囲気とした。反応容器にCH2Cl240lを仕込
み、フィードタンクにはスチレン8.26kg(79.5mo
l)の−20℃冷CH2Cl216l溶液を満たした。仕込
んだ溶媒を冷却機により−62℃に冷却した。液体を撹
拌しつつ、π−アリルニッケルクロライド/ホスファン
−6a錯体20.3g(0.047mol)の−60℃冷CH2
Cl2100ml溶液と、Et3Al2Cl3(P:Ni:Al=1:
1:4.6)25ml(0.109mol)とを添加した。そし
て、エチレンを導入し、第2の冷却機によって−20℃
冷スチレン溶液を6時間流入させた。反応温度を−65
℃から−60℃に維持した。7時間後に、反応を気体ア
ンモニアの導入により停止した。溶媒を常圧で留去し、
残渣をカラムを通して分別した。 収量:4.3kg(32.5mol;理論値の41%;87.4%
e.e.) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1; 変換数:691
内部温度計を備えた100lガラス製反応容器を、アル
ゴン雰囲気とした。反応容器にCH2Cl240lを仕込
み、フィードタンクにはスチレン8.26kg(79.5mo
l)の−20℃冷CH2Cl216l溶液を満たした。仕込
んだ溶媒を冷却機により−62℃に冷却した。液体を撹
拌しつつ、π−アリルニッケルクロライド/ホスファン
−6a錯体20.3g(0.047mol)の−60℃冷CH2
Cl2100ml溶液と、Et3Al2Cl3(P:Ni:Al=1:
1:4.6)25ml(0.109mol)とを添加した。そし
て、エチレンを導入し、第2の冷却機によって−20℃
冷スチレン溶液を6時間流入させた。反応温度を−65
℃から−60℃に維持した。7時間後に、反応を気体ア
ンモニアの導入により停止した。溶媒を常圧で留去し、
残渣をカラムを通して分別した。 収量:4.3kg(32.5mol;理論値の41%;87.4%
e.e.) (−)−(R)−3−フェニルブテン−1; 変換数:691
【0031】実施例16 実施例1と同様の手順を行った。0.5lフラスコにC
H2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗に4−メチル−ス
チレン10g(0.085mol)のCH2Cl240ml溶液を
満たした。溶媒を撹拌しつつ−70℃に冷却し、π−ア
リルニッケル/ホスファン6a錯体0.109g(0.2
5mmol)のCH2Cl220ml溶液と、Et3Al2Cl3(P:N
i:Al=1:1:4)0.115ml(0.50mmol)とを添加し
た。−70℃において、4−メチルスチレン溶液を15
分間で滴加し、同時にエチレンを溶液中に導入した。反
応は気体アンモニアを導入することにより停止し、反応
混合物は真空濃縮した。溶媒を除去し、残渣を減圧蒸留
した。 収量:11.7g(理論値の94.4%) (−)−(R)−p−トリルブテン−1; 変換数:320; [α]D 22−9.89°実質上(95.2%e.e.)
H2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗に4−メチル−ス
チレン10g(0.085mol)のCH2Cl240ml溶液を
満たした。溶媒を撹拌しつつ−70℃に冷却し、π−ア
リルニッケル/ホスファン6a錯体0.109g(0.2
5mmol)のCH2Cl220ml溶液と、Et3Al2Cl3(P:N
i:Al=1:1:4)0.115ml(0.50mmol)とを添加し
た。−70℃において、4−メチルスチレン溶液を15
分間で滴加し、同時にエチレンを溶液中に導入した。反
応は気体アンモニアを導入することにより停止し、反応
混合物は真空濃縮した。溶媒を除去し、残渣を減圧蒸留
した。 収量:11.7g(理論値の94.4%) (−)−(R)−p−トリルブテン−1; 変換数:320; [α]D 22−9.89°実質上(95.2%e.e.)
【0032】実施例17 実施例1と同様の手順を行った。0.5lフラスコにC
H2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗に単量体のシクロ
ペンタジエン−1,3の16g(0.242mol)の冷CH2
Cl215ml溶液を満たした。溶媒を−70℃に冷却し、
π−アリルニッケル/ホスファン6a錯体1.22g
(2.81mmol)の冷CH2Cl225ml溶液と、Et2AlCl
(P:Ni:Al=1:1:1)0.353ml(2.81mmol)とを
添加した。反応混合液を−70℃において30分間撹拌
した。続いてエチレンを装置に1分間導入し、シクロペ
ンタジエン−1,3溶液をエチレンを同時に導入しつつ
ゆっくりと添加した。シクロペンタジエン−1,3の添
加には1時間かかった。そして更に1時間反応混合液を
撹拌した。反応は気体アンモニアの導入によって停止
し、生成物は減圧濃縮した。溶媒を除去し、残渣を蒸留
した。 収量:8g(0.084mol、理論値の35%) (−)−(R)−3−ビニルペンテン−1;(92%e.e.) 変換数:30
H2Cl2150mlを仕込み、滴下漏斗に単量体のシクロ
ペンタジエン−1,3の16g(0.242mol)の冷CH2
Cl215ml溶液を満たした。溶媒を−70℃に冷却し、
π−アリルニッケル/ホスファン6a錯体1.22g
(2.81mmol)の冷CH2Cl225ml溶液と、Et2AlCl
(P:Ni:Al=1:1:1)0.353ml(2.81mmol)とを
添加した。反応混合液を−70℃において30分間撹拌
した。続いてエチレンを装置に1分間導入し、シクロペ
ンタジエン−1,3溶液をエチレンを同時に導入しつつ
ゆっくりと添加した。シクロペンタジエン−1,3の添
加には1時間かかった。そして更に1時間反応混合液を
撹拌した。反応は気体アンモニアの導入によって停止
し、生成物は減圧濃縮した。溶媒を除去し、残渣を蒸留
した。 収量:8g(0.084mol、理論値の35%) (−)−(R)−3−ビニルペンテン−1;(92%e.e.) 変換数:30
【図1】 ジアステレオマー6aの構造を示す図であ
る。
る。
【図2】 ジアステレオマー6bの構造を示す図であ
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 15/44 C07F 9/6584 9155−4H // C07B 61/00 300 (72)発明者 ギュンター・ヴィルケ ドイツ連邦共和国ミュールハイム/ルー ル、カイゼル−ビルヘルム−プラッツ1番 (72)発明者 ヤロスラヴ・モンキエヴィチ ドイツ連邦共和国ミュールハイム/ルー ル、カイゼル−ビルヘルム−プラッツ1番 (72)発明者 ヘルベルト・クーン ドイツ連邦共和国ラオメルシャイム、ハオ プトシュトラアセ5番
Claims (4)
- 【請求項1】 π−アリルニッケルハライド/アザホス
ホレン錯体を、例えば有機基がアルキル又はアリール基
である有機アルミニウム又は有機ボロンのハライドのよ
うなルイス酸を添加した後に、エチレンとビシクロヘプ
テンの混合物又はエチレンとスチレンの混合物と反応さ
せ、光学活性ビニルビシクロヘプタン又は光学活性3−
フェニルブテン−1を製造する方法であって、該アザホ
スホレンとして、一般式: 【化1】 [式中、R1及びR2は、アルキル基、アリール基または
アラルキル基を表す。]で示されるアザホスホレンを用
いることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 錯体アニオンとして、例えばEtAlC
l3、Et3Al2Cl4、Et2AlCl2のような、式:RAl
X3、R3Al2X4、R2AlX2(式中、Rはアルキル又は
アリール、XはCl、Br、Iを表す。)で示される化合
物、あるいはBF4を用いる請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 π−アリルニッケルハライド/アザホス
ホレン錯体を、例えば有機基がアルキル又はアリール基
である有機アルミニウム又は有機ボロンのハライドのよ
うなルイス酸を添加した後に、ヘプタジエン−1,6に
作用させて選択的に再配列させて1−メチル−2−メチ
リデンシクロペンテンを製造する方法であって、該アザ
ホスホレンとして、一般式: 【化2】 [式中、R1及びR2は、アルキル基、アリール基また
はアラルキル基を表す。]で示されるアザホスホレンを
用いることを特徴とする方法。 - 【請求項4】 錯体アニオンとして、例えば、EtAlC
l3、Et3Al2Cl4、Et2AlCl2のような、式:RAl
X3、R3Al2X4、R2AlX2(式中、Rはアルキル又は
アリール、XはCl、Br、Iを表す。)で示される化合
物、あるいはBF4を用いる請求項3記載の方法。
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|---|---|---|---|
| DE19863618169 DE3618169A1 (de) | 1986-05-30 | 1986-05-30 | Neue azaphospholene und ihre verwendung |
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|---|---|---|---|
| JP62137602A Division JPH0822867B2 (ja) | 1986-05-30 | 1987-05-29 | 新規アザホスホレンおよびその製法と用途 |
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|---|---|
| JPH0867642A true JPH0867642A (ja) | 1996-03-12 |
| JP2686427B2 JP2686427B2 (ja) | 1997-12-08 |
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|---|---|---|---|
| JP62137602A Expired - Lifetime JPH0822867B2 (ja) | 1986-05-30 | 1987-05-29 | 新規アザホスホレンおよびその製法と用途 |
| JP7221577A Expired - Lifetime JP2686427B2 (ja) | 1986-05-30 | 1995-08-30 | オレフィンの二量化方法 |
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| JP (2) | JPH0822867B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US4827067A (en) | 1989-05-02 |
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