JPH0870033A - 半導体製造装置のウェーハ移載機 - Google Patents
半導体製造装置のウェーハ移載機Info
- Publication number
- JPH0870033A JPH0870033A JP22598294A JP22598294A JPH0870033A JP H0870033 A JPH0870033 A JP H0870033A JP 22598294 A JP22598294 A JP 22598294A JP 22598294 A JP22598294 A JP 22598294A JP H0870033 A JPH0870033 A JP H0870033A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 218
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体製造装置に於いて、ウェーハ移載時のス
テップ数を減少させ移載時間の短縮を図る。 【構成】複数枚のウェーハ4を移載するウェーハ移載機
15に於いて、ウェーハを受載する複数のウェーハ載置
ハンド7,8を独立して昇降可能とし、ウェーハ送出側
のウェーハ装填ピッチと受載側のウェーハ載置間隔が異
なっている場合は、ウェーハの授受時にウェーハ載置ハ
ンド上下間隔を調整し、複数のウェーハ載置ハンドに同
時にウェーハを授受し、ウェーハ移載を複数枚一括で行
う。
テップ数を減少させ移載時間の短縮を図る。 【構成】複数枚のウェーハ4を移載するウェーハ移載機
15に於いて、ウェーハを受載する複数のウェーハ載置
ハンド7,8を独立して昇降可能とし、ウェーハ送出側
のウェーハ装填ピッチと受載側のウェーハ載置間隔が異
なっている場合は、ウェーハの授受時にウェーハ載置ハ
ンド上下間隔を調整し、複数のウェーハ載置ハンドに同
時にウェーハを授受し、ウェーハ移載を複数枚一括で行
う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置、特に枚
葉式半導体製造装置に具備されるウェーハ移載機に関す
るものである。
葉式半導体製造装置に具備されるウェーハ移載機に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造装置としては、多数のウェー
ハを処理するバッチ式のものと1枚ずつ処理する枚葉式
のものがある。バッチ式のものは同時に多数のウェーハ
が処理でき生産効率がよいという利点があるが、少量多
品種の半導体素子の製造には向いてなく、枚葉式のもの
は一度に多数のウェーハを処理することはできないが、
少量多品種の半導体素子の製造には適しているという利
点がある。
ハを処理するバッチ式のものと1枚ずつ処理する枚葉式
のものがある。バッチ式のものは同時に多数のウェーハ
が処理でき生産効率がよいという利点があるが、少量多
品種の半導体素子の製造には向いてなく、枚葉式のもの
は一度に多数のウェーハを処理することはできないが、
少量多品種の半導体素子の製造には適しているという利
点がある。
【0003】近年ユーザ要求の多種多様化が進み、枚葉
式半導体製造装置の必要性も増している。而して、枚葉
式半導体製造装置に於いて、生産効率を向上させるもの
として複数枚のウェーハを同時に処理するものが具体化
されている。
式半導体製造装置の必要性も増している。而して、枚葉
式半導体製造装置に於いて、生産効率を向上させるもの
として複数枚のウェーハを同時に処理するものが具体化
されている。
【0004】以下、斯かる複数枚のウェーハを処理する
枚葉式半導体製造装置の従来のウェーハ移載機について
説明する。
枚葉式半導体製造装置の従来のウェーハ移載機について
説明する。
【0005】図3中、1はウェーハ移載機、2は反応
炉、3はウェーハカセット、4はウェーハである。
炉、3はウェーハカセット、4はウェーハである。
【0006】前記ウェーハ移載機1、反応炉2、ウェー
ハカセット3は図示しない真空容器に収納されている。
ハカセット3は図示しない真空容器に収納されている。
【0007】前記反応炉2は図示しないゲートを具備
し、密閉可能な構造となっている。前記反応炉2の内部
には上下2段にウェーハ4を載置し得るウェーハ載置台
13が設けられ、該ウェーハ載置台13にウェーハ4が
載置された状態で前記図示しないゲート弁を閉じ反応炉
2を密閉し、内部を所定の温度に加熱した状態で反応ガ
スを導入し、ウェーハ表面に薄膜を生成し、或はエッチ
ングを行う。
し、密閉可能な構造となっている。前記反応炉2の内部
には上下2段にウェーハ4を載置し得るウェーハ載置台
13が設けられ、該ウェーハ載置台13にウェーハ4が
載置された状態で前記図示しないゲート弁を閉じ反応炉
2を密閉し、内部を所定の温度に加熱した状態で反応ガ
スを導入し、ウェーハ表面に薄膜を生成し、或はエッチ
ングを行う。
【0008】前記ウェーハカセット3はウェーハ4を所
要枚数保持するものであり、前記反応炉2に対向して配
置され、前記ウェーハ移載機1は前記反応炉2と前記ウ
ェーハカセット3との間に設けられている。
要枚数保持するものであり、前記反応炉2に対向して配
置され、前記ウェーハ移載機1は前記反応炉2と前記ウ
ェーハカセット3との間に設けられている。
【0009】ウェーハ移載機1は2組の上ウェーハ移載
アーム5、下ウェーハ移載アーム6を有し、各ウェーハ
移載アームは3節リンクアーム構成であり、末端に設け
られた上下のウェーハ載置ハンド7,8がウェーハ4を
受載する。ウェーハ移載機1の下部には進退・回転駆動
機構部9が設けられ、該進退・回転駆動機構部9により
個々に上ウェーハ移載アーム5、下ウェーハ移載アーム
6を屈伸させ、ウェーハ載置ハンド7,8を同一姿勢を
保持しつつ進退させる。又、前記進退・回転駆動機構部
9は上ウェーハ移載アーム5、下ウェーハ移載アーム6
を鉛直軸線を中心に一体に回転する様になっている。更
に、ウェーハ移載機1は内部に昇降機構部10を有し、
該昇降機構部10により前記上ウェーハ移載アーム5、
下ウェーハ移載アーム6は一体に昇降する様になってい
る。
アーム5、下ウェーハ移載アーム6を有し、各ウェーハ
移載アームは3節リンクアーム構成であり、末端に設け
られた上下のウェーハ載置ハンド7,8がウェーハ4を
受載する。ウェーハ移載機1の下部には進退・回転駆動
機構部9が設けられ、該進退・回転駆動機構部9により
個々に上ウェーハ移載アーム5、下ウェーハ移載アーム
6を屈伸させ、ウェーハ載置ハンド7,8を同一姿勢を
保持しつつ進退させる。又、前記進退・回転駆動機構部
9は上ウェーハ移載アーム5、下ウェーハ移載アーム6
を鉛直軸線を中心に一体に回転する様になっている。更
に、ウェーハ移載機1は内部に昇降機構部10を有し、
該昇降機構部10により前記上ウェーハ移載アーム5、
下ウェーハ移載アーム6は一体に昇降する様になってい
る。
【0010】前記上ウェーハ載置ハンド7と前記下ウェ
ーハ載置ハンド8の上下方向の位置は固定であり、上下
間隔は前記ウェーハ載置台13の上下2段のウェーハ載
置面の上下間隔と一致している。
ーハ載置ハンド8の上下方向の位置は固定であり、上下
間隔は前記ウェーハ載置台13の上下2段のウェーハ載
置面の上下間隔と一致している。
【0011】上記従来のウェーハ移載機1に於けるウェ
ーハ4の移載作動について図4を参照して説明する。
尚、説明はウェーハカセット3から反応炉2への移載作
動についての説明である。
ーハ4の移載作動について図4を参照して説明する。
尚、説明はウェーハカセット3から反応炉2への移載作
動についての説明である。
【0012】前記昇降機構部10を駆動して前記上ウェ
ーハ載置ハンド7の高さを前記ウェーハカセット3のウ
ェーハ4の間に挿入し得る位置に合わせる。進退・回転
駆動機構部9を駆動して上ウェーハ載置ハンド7をウェ
ーハカセット3に向かって前進させ、ウェーハカセット
3内に挿入する。この時、前記下ウェーハ載置ハンド8
は後退させた状態としておく。
ーハ載置ハンド7の高さを前記ウェーハカセット3のウ
ェーハ4の間に挿入し得る位置に合わせる。進退・回転
駆動機構部9を駆動して上ウェーハ載置ハンド7をウェ
ーハカセット3に向かって前進させ、ウェーハカセット
3内に挿入する。この時、前記下ウェーハ載置ハンド8
は後退させた状態としておく。
【0013】前記昇降機構部10が駆動し、上ウェーハ
載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8が一体に上昇
し、上ウェーハ載置ハンド7にウェーハ4を乗載する。
進退・回転駆動機構部9を駆動して前記上ウェーハ載置
ハンド7を後退させる。
載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8が一体に上昇
し、上ウェーハ載置ハンド7にウェーハ4を乗載する。
進退・回転駆動機構部9を駆動して前記上ウェーハ載置
ハンド7を後退させる。
【0014】前記昇降機構部10が駆動して下ウェーハ
載置ハンド8の高さ位置を調整し、前記進退・回転駆動
機構部9を駆動して前記下ウェーハ載置ハンド8をウェ
ーハカセット3に向かって前進させ、ウェーハカセット
3内に挿入する。この時、前記上ウェーハ載置ハンド7
は後退させた状態としておく。
載置ハンド8の高さ位置を調整し、前記進退・回転駆動
機構部9を駆動して前記下ウェーハ載置ハンド8をウェ
ーハカセット3に向かって前進させ、ウェーハカセット
3内に挿入する。この時、前記上ウェーハ載置ハンド7
は後退させた状態としておく。
【0015】前記昇降機構部10が駆動し、下ウェーハ
載置ハンド8、上ウェーハ載置ハンド7が一体に上昇
し、下ウェーハ載置ハンド8にウェーハ4を乗載する。
進退・回転駆動機構部9を駆動して前記下ウェーハ載置
ハンド8を後退させる。
載置ハンド8、上ウェーハ載置ハンド7が一体に上昇
し、下ウェーハ載置ハンド8にウェーハ4を乗載する。
進退・回転駆動機構部9を駆動して前記下ウェーハ載置
ハンド8を後退させる。
【0016】前記上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ
載置ハンド8にそれぞれウェーハ4が乗載されると、前
記進退・回転駆動機構部9により上ウェーハ載置ハンド
7、下ウェーハ載置ハンド8が一体に回転され、前記反
応炉2に対向する。
載置ハンド8にそれぞれウェーハ4が乗載されると、前
記進退・回転駆動機構部9により上ウェーハ載置ハンド
7、下ウェーハ載置ハンド8が一体に回転され、前記反
応炉2に対向する。
【0017】前記昇降機構部10が駆動して前記ウェー
ハ載置台13に対する前記上ウェーハ載置ハンド7、下
ウェーハ載置ハンド8の高さ位置が調整される。前記進
退・回転駆動機構部9が駆動され、上ウェーハ載置ハン
ド7、下ウェーハ載置ハンド8が一体に前進し、ウェー
ハ4を反応炉2内に挿入する。前記昇降機構部10を駆
動して上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド
8を下降させる。前記した様に、上ウェーハ載置ハンド
7と下ウェーハ載置ハンド8と高さ間隔は、前記ウェー
ハ載置台13の上下載置面高さ間隔と同一であるので、
2枚のウェーハ4は同時にウェーハ載置台13に載置さ
れる。
ハ載置台13に対する前記上ウェーハ載置ハンド7、下
ウェーハ載置ハンド8の高さ位置が調整される。前記進
退・回転駆動機構部9が駆動され、上ウェーハ載置ハン
ド7、下ウェーハ載置ハンド8が一体に前進し、ウェー
ハ4を反応炉2内に挿入する。前記昇降機構部10を駆
動して上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド
8を下降させる。前記した様に、上ウェーハ載置ハンド
7と下ウェーハ載置ハンド8と高さ間隔は、前記ウェー
ハ載置台13の上下載置面高さ間隔と同一であるので、
2枚のウェーハ4は同時にウェーハ載置台13に載置さ
れる。
【0018】前記進退・回転駆動機構部9により上ウェ
ーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を同時に後
退させ、更に回転させ、上ウェーハ載置ハンド7、下ウ
ェーハ載置ハンド8をウェーハカセット3に対向させ
る。
ーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を同時に後
退させ、更に回転させ、上ウェーハ載置ハンド7、下ウ
ェーハ載置ハンド8をウェーハカセット3に対向させ
る。
【0019】上記作動を繰返して、ウェーハ4の移載を
行う。
行う。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来のウェー
ハ移載機では、ウェーハ載置台13のウェーハ4乗載面
の高さ間隔と前記ウェーハカセット3のウェーハ収納ピ
ッチとが一致していない為、ウェーハ移載機1がウェー
ハカセット3からウェーハ4を2枚一度に受載できない
為、2度に分けて受載動作を行っている。従って、移載
ステップ数が増え、移載時間が掛かるという問題があ
り、スループット向上の支障の一因となっていた。
ハ移載機では、ウェーハ載置台13のウェーハ4乗載面
の高さ間隔と前記ウェーハカセット3のウェーハ収納ピ
ッチとが一致していない為、ウェーハ移載機1がウェー
ハカセット3からウェーハ4を2枚一度に受載できない
為、2度に分けて受載動作を行っている。従って、移載
ステップ数が増え、移載時間が掛かるという問題があ
り、スループット向上の支障の一因となっていた。
【0021】本発明は斯かる実情に鑑み、ウェーハ移載
時のステップ数を減少させ移載時間の短縮を図るもので
ある。
時のステップ数を減少させ移載時間の短縮を図るもので
ある。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明は、複数枚のウェ
ーハを移載する半導体製造装置のウェーハ移載機に於い
て、ウェーハを受載する複数のウェーハ載置ハンドを独
立して昇降可能としたことを特徴とするものである。
ーハを移載する半導体製造装置のウェーハ移載機に於い
て、ウェーハを受載する複数のウェーハ載置ハンドを独
立して昇降可能としたことを特徴とするものである。
【0023】
【作用】ウェーハ送出側のウェーハ装填ピッチと受載側
のウェーハ載置間隔が異なっている場合は、ウェーハの
授受時にウェーハ載置ハンド上下間隔を調整し、複数の
ウェーハ載置ハンドに同時にウェーハを授受し、ウェー
ハ移載を複数枚一括で行う。
のウェーハ載置間隔が異なっている場合は、ウェーハの
授受時にウェーハ載置ハンド上下間隔を調整し、複数の
ウェーハ載置ハンドに同時にウェーハを授受し、ウェー
ハ移載を複数枚一括で行う。
【0024】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
説明する。
【0025】図1中、図3中で示したものと同様の構成
のものには同符号を付してある。
のものには同符号を付してある。
【0026】ウェーハ移載機15は2組の上ウェーハ移
載アーム5、下ウェーハ移載アーム6を有し、各ウェー
ハ移載アームは3節リンクアーム構成であり、末端に設
けられたウェーハ載置ハンド7,8がウェーハ4を受載
する。ウェーハ移載機15の下部には進退・回転駆動機
構部9が設けられ、該進退・回転駆動機構部9により個
々に上ウェーハ移載アーム5、下ウェーハ移載アーム6
を屈伸させ、ウェーハ載置ハンド7,8を同一姿勢を保
持しつつ進退させる。前記進退・回転駆動機構部9は上
ウェーハ移載アーム5、下ウェーハ移載アーム6を鉛直
軸線を中心に一体に回転する様になっている。
載アーム5、下ウェーハ移載アーム6を有し、各ウェー
ハ移載アームは3節リンクアーム構成であり、末端に設
けられたウェーハ載置ハンド7,8がウェーハ4を受載
する。ウェーハ移載機15の下部には進退・回転駆動機
構部9が設けられ、該進退・回転駆動機構部9により個
々に上ウェーハ移載アーム5、下ウェーハ移載アーム6
を屈伸させ、ウェーハ載置ハンド7,8を同一姿勢を保
持しつつ進退させる。前記進退・回転駆動機構部9は上
ウェーハ移載アーム5、下ウェーハ移載アーム6を鉛直
軸線を中心に一体に回転する様になっている。
【0027】ウェーハ移載機15は内部に昇降機構部1
1,12を有し、該昇降機構部11は前記上ウェーハ移
載アーム5を単独に昇降させ、前記昇降機構部12は前
記下ウェーハ移載アーム6を単独に昇降させる様になっ
ている。
1,12を有し、該昇降機構部11は前記上ウェーハ移
載アーム5を単独に昇降させ、前記昇降機構部12は前
記下ウェーハ移載アーム6を単独に昇降させる様になっ
ている。
【0028】而して、前記上ウェーハ載置ハンド7と前
記下ウェーハ載置ハンド8の上下方向の位置は前記昇降
機構部11、昇降機構部12を適宜駆動することで自在
に調整可能である。
記下ウェーハ載置ハンド8の上下方向の位置は前記昇降
機構部11、昇降機構部12を適宜駆動することで自在
に調整可能である。
【0029】本実施例の以下作動を図2を参照して説明
する。尚、以下の説明はウェーハカセット3から反応炉
2への移載作動についての説明である。
する。尚、以下の説明はウェーハカセット3から反応炉
2への移載作動についての説明である。
【0030】前記昇降機構部11、昇降機構部12を駆
動して前記上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハ
ンド8の高さ間隔を前記ウェーハカセット3のウェーハ
収納ピッチに合致させると共にウェーハ4の間に挿入し
得る位置に合わせる。進退・回転駆動機構部9を駆動し
て上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を
ウェーハカセット3に向かって同時に前進させ、ウェー
ハカセット3内に挿入する。
動して前記上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハ
ンド8の高さ間隔を前記ウェーハカセット3のウェーハ
収納ピッチに合致させると共にウェーハ4の間に挿入し
得る位置に合わせる。進退・回転駆動機構部9を駆動し
て上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を
ウェーハカセット3に向かって同時に前進させ、ウェー
ハカセット3内に挿入する。
【0031】前記昇降機構部11、昇降機構部12が駆
動し、上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド
8が一体に上昇し、上ウェーハ載置ハンド7、下ウェー
ハ載置ハンド8に2枚のウェーハ4を同時に乗載する。
進退・回転駆動機構部9を駆動して前記上ウェーハ載置
ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を一体に後退させ
る。
動し、上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド
8が一体に上昇し、上ウェーハ載置ハンド7、下ウェー
ハ載置ハンド8に2枚のウェーハ4を同時に乗載する。
進退・回転駆動機構部9を駆動して前記上ウェーハ載置
ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を一体に後退させ
る。
【0032】前記上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ
載置ハンド8にそれぞれウェーハ4が乗載されると、前
記進退・回転駆動機構部9により上ウェーハ載置ハンド
7、下ウェーハ載置ハンド8が一体に回転され、前記反
応炉2に対向する。
載置ハンド8にそれぞれウェーハ4が乗載されると、前
記進退・回転駆動機構部9により上ウェーハ載置ハンド
7、下ウェーハ載置ハンド8が一体に回転され、前記反
応炉2に対向する。
【0033】前記昇降機構部11、昇降機構部12が駆
動して前記上ウェーハ載置ハンド7と下ウェーハ載置ハ
ンド8との高さ間隔を前記ウェーハ載置台13のウェー
ハ4載置面の間隔に合致させると共にウェーハ載置台1
3に対する前記上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載
置ハンド8の高さ位置が調整される。
動して前記上ウェーハ載置ハンド7と下ウェーハ載置ハ
ンド8との高さ間隔を前記ウェーハ載置台13のウェー
ハ4載置面の間隔に合致させると共にウェーハ載置台1
3に対する前記上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載
置ハンド8の高さ位置が調整される。
【0034】前記進退・回転駆動機構部9が駆動され、
上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8が一
体に前進し、ウェーハ4を反応炉2内に挿入する。前記
昇降機構部11、昇降機構部12を同時に駆動して上ウ
ェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を下降さ
せ2枚のウェーハ4をウェーハ載置台13に載置する。
上ウェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8が一
体に前進し、ウェーハ4を反応炉2内に挿入する。前記
昇降機構部11、昇降機構部12を同時に駆動して上ウ
ェーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を下降さ
せ2枚のウェーハ4をウェーハ載置台13に載置する。
【0035】前記進退・回転駆動機構部9により上ウェ
ーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を同時に後
退させ、更に回転させ、上ウェーハ載置ハンド7、下ウ
ェーハ載置ハンド8をウェーハカセット3に対向させ
る。
ーハ載置ハンド7、下ウェーハ載置ハンド8を同時に後
退させ、更に回転させ、上ウェーハ載置ハンド7、下ウ
ェーハ載置ハンド8をウェーハカセット3に対向させ
る。
【0036】上記作動を繰返して、ウェーハ4の移載を
行う。
行う。
【0037】尚、上記実施例ではウェーハ載置台13の
ウェーハ載置面が2段であることからウェーハ載置ハン
ドを2組備えたウェーハ移載機について説明したが、前
記ウェーハ載置台13の載置面の段数に合わせてウェー
ハ載置ハンドを設け、各ウェーハ載置ハンドを独立して
昇降可能にすれば、同様のステップ数でウェーハの移載
を行える。
ウェーハ載置面が2段であることからウェーハ載置ハン
ドを2組備えたウェーハ移載機について説明したが、前
記ウェーハ載置台13の載置面の段数に合わせてウェー
ハ載置ハンドを設け、各ウェーハ載置ハンドを独立して
昇降可能にすれば、同様のステップ数でウェーハの移載
を行える。
【0038】又、上記実施例では枚葉式の半導体製造装
置に実施した場合を説明したが、バッチ式の半導体製造
装置のウェーハ移載にも実施可能であることは言う迄も
ない。
置に実施した場合を説明したが、バッチ式の半導体製造
装置のウェーハ移載にも実施可能であることは言う迄も
ない。
【0039】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、複数枚
のウェーハを移載するウェーハ移載機に於いて、ウェー
ハを受載する複数のウェーハ載置ハンドを独立して昇降
可能としたので、ウェーハカセットのウェーハ装填ピッ
チと反応炉内のウェーハ載置間隔等受載側のウェーハ載
置間隔が異なっていても複数のウェーハを同時に移載す
ることができ、ウェーハ移載のステップ数を減少させ
得、総合的なウェーハ所理時間を短縮することができ、
スループットの向上を図ることができる。
のウェーハを移載するウェーハ移載機に於いて、ウェー
ハを受載する複数のウェーハ載置ハンドを独立して昇降
可能としたので、ウェーハカセットのウェーハ装填ピッ
チと反応炉内のウェーハ載置間隔等受載側のウェーハ載
置間隔が異なっていても複数のウェーハを同時に移載す
ることができ、ウェーハ移載のステップ数を減少させ
得、総合的なウェーハ所理時間を短縮することができ、
スループットの向上を図ることができる。
【図1】本発明の一実施例を示す斜視図である。
【図2】本実施例の作動を示すフローチャートである。
【図3】従来例を示す斜視図である。
【図4】該従来例の作動を示すフローチャートである。
2 反応炉 6 下ウェーハ移載アーム 5 上ウェーハ移載アーム 7 上ウェーハ載置ハンド 8 下ウェーハ載置ハンド 9 進退・回転駆動機構部 11 昇降機構部 12 昇降機構部 13 ウェーハ載置台 15 ウェーハ移載機
Claims (1)
- 【請求項1】 複数枚のウェーハを移載する半導体製造
装置のウェーハ移載機に於いて、ウェーハを受載する複
数のウェーハ載置ハンドを独立して昇降可能としたこと
を特徴とする半導体製造装置のウェーハ移載機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22598294A JPH0870033A (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 半導体製造装置のウェーハ移載機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22598294A JPH0870033A (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 半導体製造装置のウェーハ移載機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0870033A true JPH0870033A (ja) | 1996-03-12 |
Family
ID=16837942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22598294A Pending JPH0870033A (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 半導体製造装置のウェーハ移載機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0870033A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002507846A (ja) * | 1998-03-20 | 2002-03-12 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 異なる保持エンドエフェクタによる基板搬送方法 |
| JP2008166370A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送装置、基板載置棚および基板処理装置 |
| JP2010129769A (ja) * | 2008-11-27 | 2010-06-10 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システム |
| KR101115934B1 (ko) * | 2005-07-25 | 2012-02-13 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판의 반송 장치 |
| JP2013197164A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Rexxam Co Ltd | 板状部材移動装置 |
| JP2017085127A (ja) * | 2011-03-11 | 2017-05-18 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 基板処理ツール |
| DE102006055621B4 (de) * | 2006-03-17 | 2018-02-15 | Lg Display Co., Ltd. | System zum Herstellen einer Flüssigkristalldisplaytafel |
| WO2022079875A1 (ja) * | 2020-10-15 | 2022-04-21 | リバーフィールド株式会社 | 作業支援ロボット |
-
1994
- 1994-08-26 JP JP22598294A patent/JPH0870033A/ja active Pending
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| CN116367968A (zh) * | 2020-10-15 | 2023-06-30 | 瑞德医疗机器股份有限公司 | 作业辅助机器人 |
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