JPH0871421A - 金属担持触媒、金属担持触媒の作製方法及び金属担持触媒を用いた合成ガスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】高活性を有しかつこの活性を長時間にわたって
維持できるとともに、ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応においてカー
ボン析出を低減する。 【構成】触媒金属を含んだ酸化物固溶体を担体とし、こ
の担体表面に前記触媒金属を析出させた活性部位を有す
る金属担持触媒であって、前記酸化物固溶体は酸化マグ
ネシウム及び酸化ニッケルを主としてなり、この酸化物
固溶体におけるニッケルとマグネシウムのモル比（ニッ
ケル：マグネシウム）が、１：９〜７：３である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、金属担持触媒とその
製造方法及び金属担持触媒を用いた合成ガスの製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＣＯ₂ は、地球温暖化の主原因とされて
おり、大気中のＣＯ₂ を低減する技術の開発が進められ
いる。一方、世界的に分布する天然ガスを有効に工業的
に利用する方法も模索されている。ここに、ＣＯ₂ と天
然ガスの主成分たるメタンをニッケル系触媒下で、一酸
化炭素と水素を合成する反応( 例えば、ＣＯ₂ ＋ＣＨ₄
→２ＣＯ＋２Ｈ₂ の反応をいい、以下ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反
応という。）がある。したがって、この反応を高能率で
行うことができれば、ＣＯ₂ 濃度の低減と天然ガスの有
効利用、さらには、工業用原料の供給源を開発すること
ができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、使用さ
れる金属担持触媒としてのニッケル系触媒には、金属担
持触媒としての一般的な問題点とＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応に
おける特有の問題点を有していた。 １．より高活性なニッケル触媒の確保が困難であるこ
と。 ２．反応中におけるニッケルのシンタリングのために長
期間の活性安定性を確保できないこと。 ３．ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応において、副反応であるＣＨ₄
等の炭化水素の分解などによるカーボン析出及びカーボ
ン析出による触媒活性の低下があること。

【０００４】そこで、本発明は、高活性を有しかつこの
活性を長時間にわたって維持できるとともに、ＣＯ₂ −
ＣＨ₄ 反応においてカーボン析出を低減できる金属担持
触媒を提供することを目的とする。また、本発明は、か
かる金属担持触媒の提供に適した触媒の作製方法を提供
することを目的とする。さらに、本発明は、この金属担
持触媒を用いて、ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応において効率的に
合成ガスを製造する方法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記した技術的課題を解
決するために、本発明者らは、触媒金属を含む酸化物固
溶体から、触媒金属を析出させることにより、高活性で
しかもシンタリングが防止されて長時間活性を維持で
き、ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応においてカーボン析出を低減す
ることができる触媒を提供できることを見いだし、本発
明を完成した。すなわち、請求項１に記載の発明は、触
媒金属を含む酸化物固溶体を担体とし、この担体表面に
前記触媒金属を析出させた活性部位を有する金属担持触
媒であって、前記酸化物固溶体は酸化マグネシウム及び
酸化ニッケルを主としてなり、この酸化物固溶体におけ
るニッケルとマグネシウムのモル比（ニッケル：マグネ
シウム）が、１：９〜７：３であることを特徴とする。
請求項２に記載の発明は、請求項１において、前記酸化
物固溶体表面に粒径０．１μｍ以下のニッケル粒子が析
出したことを特徴とする。請求項３に記載の発明は、金
属担持触媒の作製方法であって、触媒金属を含んだ酸化
物固溶体を調製する工程と、この酸化物固溶体を還元処
理して酸化物固溶体表面に触媒金属粒子を析出させる工
程とからなることを特徴とする。請求項４に記載の発明
は、請求項３において、ニッケルとマグネシウムのモル
比（ニッケル：マグネシウム）が１：９〜７：３である
酸化ニッケルと酸化マグネシウムとの酸化物固溶体を調
製することを特徴とする。請求項５に記載の発明は、請
求項１に記載の金属担持触媒の存在下で、ＣＨ₄を主成
分とする低級炭化水素を含むガスとＣＯ₂ を含むガスと
を反応させることを特徴とする合成ガスの製造方法であ
る。

【０００６】以下、この発明を詳細に説明する。本発明
における酸化物固溶体とは、触媒金属原子と、それ以外
の原子であって、担体を構成しうる原子（以下、「担体
構成原子」という。）と酸素原子とが原子オーダーで互
いに均一に溶け合って形成された固相をいう。例えば、
ニッケル原子（Ｎｉ）とマグネシウム原子（Ｍｇ）及び
酸素原子（Ｏ）が原子オーダーで互いに均一に溶け合っ
て形成された固相が該当する。本発明においては、これ
らの原子が固溶体を形成していることが重要であり、こ
の酸化物固溶体を還元処理することにより、微細な触媒
金属粒子（ニッケル粒子）を析出させることができ、か
つ触媒金属粒子（ニッケル粒子）のシンタリングを防止
させ、強固に担体たる固溶体表面に担持させることがで
きるのである。

【０００７】酸化物固溶体を得る方法としては、触媒金
属等（担体構成原子を含む、以下同じ）の酢酸塩あるい
は硝酸塩水溶液を熱分解して酸化物の混合体とした後に
仮焼する方法、又は、触媒金属等の酸化物粉末あるいは
塩化物粉末を混合して仮焼する方法などの通常の方法を
用いることができ、仮焼条件は固溶体を形成できるよう
に設定されることが必要である。例えば、酸化ニッケル
−酸化マグネシウムの固溶体化のための仮焼温度は８０
０〜１１００℃であるが、９００℃より低温では固溶体
化に時間がかかるため、９００℃以上が好ましく、還元
時のニッケル析出状態を良好にするためには、１０００
°以上がさらに好ましい。

【０００８】また、酸化物固溶体から金属担持触媒を得
るためには、水素ガス雰囲気中で、還元処理することが
必要であるが、本発明では、触媒金属粒子を析出させる
程度の温度及び時間条件で行うことが必要である。した
がって、例えばニッケル−マグネシウム酸化物固溶体で
は、１０００℃以上の高温で１時間以上行うことが好ま
しい。

【０００９】なお、酸化物固溶体を調製する場合には固
溶体を構成する触媒金属と担体構成金属とのモル比が重
要である。このモル比により、酸化物固溶体調製後の還
元処理における触媒金属の還元量（析出量）や、析出粒
子の粒径、触媒の比表面積及び形態、さらには触媒自体
の活性にも影響が及ぶからである。

【００１０】例えば、ニッケル−マグネシウム固溶体か
らなるニッケル担持触媒の場合には、モル比（Ｎｉ：Ｍ
ｇ）が１：９〜７：３であることが重要であり、好まし
くは２：８〜５：５である。

【００１１】すなわち、ニッケル担持触媒の場合には、
モル比が１：９〜７：３の範囲では、固溶体の粒子表面
に０．１μｍ以下の微細ニッケルが析出して固溶体表面
が維持された触媒構造となる。

【００１２】このモル比範囲の固溶体から調製されるニ
ッケル担持触媒は、例えばモル比が３：７の場合には、
図５（ａ）の電子顕微鏡写真（倍率１００００倍）及び
さらに高倍率（倍率５００００倍）の電子顕微鏡写真
（ｂ）に現される形態を有する。具体的には、比表面積
が小さく、ニッケル析出量は少ないが、ニッケル粒子が
微細なため、高活性、すなわち、十分なＨ₂ 吸着量が確
保されたものとなる。さらに、固溶体の担体効果により
ニッケル粒子のシンタリングが防止され、長時間にわた
る活性維持が可能となる。また、かかる触媒形態におい
ては、十分量の酸化マグネシウムの担体効果により、Ｃ
Ｏ₂ −ＣＨ₄ 反応においてＣＨ₄ の吸着性が変化されて
カーボン析出が著しく抑制される。

【００１３】このように、かかるモル比の範囲で微細な
ニッケル粒子が析出されるのは、均一な固溶体が形成さ
れ、かつ析出したニッケル原子が大きな粒子を形成しな
い程度に酸化マグネシウムにより隔てられて存在するか
らである。

【００１４】一方、モル比（Ｎｉ：Ｍｇ）７：３よりも
Ｍｇが少なければ、図６に示す電子顕微鏡写真（モル比
２：８、倍率１００００倍））のように、０．１μｍ前
後の大きなニッケル粒子が多数析出して、その隙間に酸
化マグネシウムが存在するという多孔化した触媒構造と
なる。したがって、比表面積が大きく、ニッケル析出量
も多いが、ニッケル粒径が大きいため、図５（ａ）及び
（ｂ）の触媒と同等のＨ₂ 吸着量を有する。しかし、酸
化マグネシウムの量が少なすぎるため、担体効果を発揮
できずカーボン析出を抑制しにくいものとなっている。

【００１５】さらに、モル比（Ｎｉ：Ｍｇ）５：５より
マグネシウムが少なければ、ＣＯ₂−ＣＨ₄ 反応におけ
る著しいカーボン析出抑制の効果が得られなくなり、モ
ル比（Ｎｉ：Ｍｇ）２：８よりマグネシウムが多けれ
ば、ニッケル量が少ないため、ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応にお
いて、熱力学的平衡値からずれる傾向にある。

【００１６】このように、本発明では、比表面積の大き
い担体に微粒子の触媒金属を含浸させる従来の金属担持
触媒の作製法と異なり、酸化物固溶体から金属担持触媒
を作製するため、固溶体の調製により触媒金属原子の高
度な分散が実現できる。また固溶体のモル比により、触
媒金属粒子の粒径、存在形態を制御することができる。
さらに、ニッケルと−マグネシウム酸化物固溶体におい
て所定のモル比では、微細粒径の触媒金属を析出可能で
あり、比表面積が小さくても、高活性を有する触媒を作
製することができる。加えて、酸化物固溶体調製のため
の仮焼時に、顆粒、多孔体、板状体等の所望の形状に成
形が可能である。かかる作製方法により提供できる金属
担持触媒としては、ニッケル−アルミニウム酸化物固溶
体、コバルト−マグネシウム酸化物固溶体、あるいはニ
ッケル−コバルト酸化物固溶体等からのそれぞれニッケ
ル担持触媒、コバルト担持触媒、ニッケル担持触媒等が
挙げられる。

【００１７】なお、この作製方法では、固溶体の調製を
経て、担持と還元とを同時に行うものであり、モル比の
みならず、仮焼条件、還元条件により担持される触媒金
属粒子径や析出量の制御が可能である。すなわち、前述
のように、ニッケル−マグネシウム酸化物固溶体の場合
には、仮焼温度が１０００℃以上であると、還元時のニ
ッケル粒子の析出が良好である。また、還元温度が高い
と析出量及び析出するニッケル粒子の粒径は大きくなる
が、十分にニッケルを析出させると同時に、微細なニッ
ケル粒子を析出させるのには、還元温度が１０００℃で
あることが好ましい。

【００１８】このように作製したニッケル担持触媒を、
通常のガス流通式の小型リアクター内に充填し、ＣＯ₂
−ＣＨ₄ 反応を実施すると、微細なニッケル粒子が高活
性を呈し、熱力学的平衡値にほぼ匹敵する転換率で一酸
化炭素と水素とを得ることができる。これは、このニッ
ケル担持触媒が高活性であることの他、固溶体の担持効
果によるニッケル粒子のシンタリングが防止され、ま
た、副反応であるカーボン析出が抑制されるためであ
る。このため、カーボン生成による活性の低下もなく、
触媒部の目詰まりも生じない。なお、この際の反応温度
は３００〜９００℃であり、好ましくは、６００〜８０
０℃である。３００℃より低温では、ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反
応はほどんど進行しないからであり、また、９００℃で
は、ほとんど全てのＣＯ₂ 、ＣＨ₄ が反応するからであ
る。また、６００〜８００℃においては、良好な反応平
衡値とそれに近い合成ガスの生成率が得られるからであ
る。

【００１９】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、ニッケ
ルとマグネシウムの所定のモル比における酸化物固溶体
から作製したニッケル担持触媒では、有効に酸化物固溶
体による担体効果が発揮され、高活性でかつ長時間のそ
の活性を維持することができるとともに、特に、ＣＯ₂
−ＣＨ₄ 反応においてカーボンの生成を抑制して、高効
率かつ長時間の反応が可能となる。請求項２に記載の発
明によれば、０．１μｍ以下の微細なニッケル粒子をニ
ッケル−マグネシウム酸化物固溶体表面に析出させたた
め、より一層の高活性を確保できるとともに、また、酸
化物固溶体による担体効果がより有効に発揮される。請
求項３に記載の発明によれば、酸化物固溶体を調製し
て、還元処理により酸化物固溶体上に触媒金属の粒子を
析出させて、担持と還元とを同時に行うとともに、触媒
金属が高度に分散された金属担持触媒を作製することが
できる。請求項４に記載の発明によれば、ニッケル−マ
グネシウム酸化物固溶体の酸化ニッケルを還元すること
により、酸化物固溶体を担体とするニッケル担持触媒を
作製することができ、酸化物固溶体を所定のモル比で調
製することにより、ニッケル粒子径及びニッケル析出量
等を制御でき、所望のニッケル担持触媒を作製すること
ができる。請求項５に記載の発明によれば、ＣＨ₄ −Ｃ
Ｏ₂ 反応において、高活性かつ、活性の長時間維持によ
り、熱力学的平衡に近い状態で効率的に反応を進めるこ
とができる。また、副反応であるカーボンの生成を抑制
することができ、カーボン生成による反応器の目詰まり
や、触媒の活性低下をも排除して、円滑かつ効率よく合
成ガスを製造することができる。

【００２０】

【実施例】以下に、本発明を具現化した実施例につき、
説明する。以下の実施例では、ニッケル−マグネシウム
酸化物固溶体を調製し、この酸化物固溶体を還元処理し
て得たニッケル担持触媒につき、一定の触媒特性とＣＯ
₂−ＣＨ₄ 反応における転換率、合成ガス生成率及びカ
ーボン析出率について試験した。

【００２１】Ｉ．ニッケル担持触媒の調製 １．酸化物固溶体の調製 酸化物固溶体は、原料として酢酸ニッケル４水和物（Ｊ
ＩＳ試薬特級）、酢酸マグネシウム４水和物（ＪＩＳ試
薬特級）を用い、表１のモル比に基づいて調製した水溶
液を、図１に従って滴下熱分解して各酸化物の混合粉末
とし、さらに、仮焼により固溶体化することにより調製
した。また、対照として表１のモル比に基づいて、実施
例と同様の方法により比較例の固溶体を調製した。

【００２２】

【表１】

【００２３】なお、滴下熱分解は、全ての実施例及び比
較例において、図２に示す装置により、分解温度７５０
℃で行った。滴下熱分解は、酢酸塩水溶液をマイクロフ
ィーダーで７５０℃に加熱された電気炉に移送し滴下し
て、熱分解するものである。また、固溶体調製の際の仮
焼は、実施例１〜４については、仮焼温度１０００℃、
１０時間、で行った。比較例１については、仮焼温度１
０００℃、２４時間で行った。このようにして得られた
各種モル比の酸化物固溶体は、粉末状態とされ、図３に
示す電気炉の石英ウール内部に充填した。

【００２４】２．ニッケル粒子析出のための還元処理 こうして得られた各種モル比の酸化物固溶体を、図３に
示すように、水素ガスを流して水素ガス雰囲気下で、還
元温度１０００℃で２時間還元処理を行い、ニッケル粒
子析出させた。

【００２５】II．ニッケル担持触媒の特性試験 １．還元ニッケル量の測定 還元ニッケル量は、上記還元処理後の実施例１〜４及び
比較例１の酸化物固溶体において、還元処理によりニッ
ケルのみが析出したものとして、以下の式から求めた。 還元ニッケル量（％）＝析出Ｎｉ量／（析出Ｎｉ量＋残
存（Ｎｉ，Ｍｇ）Ｏ）×100 但し、上記析出Ｎｉ量は還元前後の重量差（Ｏ₂ の脱
離）からＮｉ量に換算して算出した重量である。また、
上記（析出Ｎｉ量＋残存（Ｎｉ，Ｍｇ）Ｏ）は、還元後
の酸化物固溶体の重量である。

【００２６】２．Ｈ₂ 吸着量の測定 実施例１〜４及び比較例１について、触媒反応に関与す
る活性表面積の評価を行うため、各触媒をパルス吸着法
により、触媒表面にＨ₂ ガスを吸着させて、全Ｈ₂ ガス
の吸着量を測定した。なお、本測定は、４００℃にて実
施した。

【００２７】３．析出Ｎｉ粒子径の測定 上記２．Ｈ₂ 吸着量の測定により、金属部分、すなわ
ち、Ｎｉ粒子の粒径を以下の式に基づいて算出した。 粒子径（Å）＝60000 ／｛比重×最大面積×（金属分散
度／100 ）｝ 但し、6000 ；球状粒子とした場合の定数 最大面積 ；100 ％分散時の面積 [ｍ²/g] 金属分散度；Ｈ₂ 吸着量／１ｇ当たりの析出Ｎｉモル数
×100 なお、最大面積とは、金属がとりうる最大の有効面積を
いい、例えばニッケルの場合は、667 m²/g である。

【００２８】４．ＢＥＴ比表面積の測定 実施例１〜４及び比較例１の触媒につき、通常の方法に
基づき、ＢＥＴ比表面積を測定した。

【００２９】III 触媒性能の評価 １．ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応における評価 実施例１〜４及び比較例１の各触媒について、図３に示
すガス流通式の小型リアクターにて、以下の反応条件で
ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応を実施してガスクロマトグラフによ
る出口ガスの組成分析とガス流量の測定を行った。

【００３０】ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応の反応条件 反応ガス組成：ＣＯ₂ ／ＣＨ₄ ＝１又は２ 反応温度 ：６００、８００℃ ＳＶ値 ：約６００００ｈ^-1

【００３１】反応結果の評価は、以下の計算式により、
ＣＯ₂ 転換率、ＣＨ₄ 転換率、ＣＯ生成率、Ｈ₂ 生成率
を算出して行った。 ＣＯ₂ 転換率＝（入口ＣＯ₂ 量−出口ＣＯ₂ 量）／入口
ＣＯ₂ 量×100 ＣＨ₄ 転換率＝( 入口ＣＨ₄ 量−入口ＣＨ₄ 量）／入口
ＣＯ₂ 量×100 ＣＯ生成率＝出口ＣＯ量／入口ＣＨ₄ 量×100 Ｈ₂ 生成率＝出口Ｈ₂ 量／入口ＣＨ₄ 量×100

【００３２】２．ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応におけるカーボン
析出率の測定 実施例１〜４及び比較例１の各触媒について、上記２．
と同様の小型リアクターを用いて、以下の反応条件でＣ
Ｏ₂ −ＣＨ₄ 反応を実施して、触媒に付着したカーボン
量を測定した。カーボン析出率測定のためのＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応条件 反応ガス組成：ＣＯ₂ ／ＣＨ₄ ＝１ 反応温度 ：８００℃ ＳＶ値 ：約６００００ｈ^-1 反応時間 ：７〜２７時間 なお、カーボン量の測定は、反応後の触媒をトータルカ
ーボン分析装置（（株）堀場製作所製）にて行い、カー
ボン析出率（％／total ＣＨ₄)は、以下の計算式により
総メタン量に対するカーボン量の比率として算出した。
なお、総ＣＨ₄ 量は、ＣＨ₄ 流量と反応時間とから算出
した。 カーボン析出率( ％／ＣＨ₄ ) ＝カーボン量（ｍｏｌ）
／総ＣＨ₄ 量（ｍｏｌ）×100

【００３３】実施例１〜４及び比較例１で得た触媒につ
いて、上記IIの触媒特性の評価結果及び上記III の触媒
の性能評価結果を表２ないし表５に示す。

【００３４】

【表２】

【００３５】

【表３】 ＊ＣＯ₂ ＋ＣＨ₄ →２ＣＯ＋２Ｈ₂ 反応の平衡値であ
る。

【００３６】

【表４】 ＊ＣＯ₂ ＋ＣＨ₄ →２ＣＯ＋２Ｈ₂ とＣＯ₂ ＋Ｈ₂ →Ｃ
Ｏ＋Ｈ₂ Ｏとの併発反応の平衡値である。

【００３７】

【表５】

【００３８】表２の結果から明らかなように、実施例１
〜４及び比較例１においてマグネシウムが多いほど、ニ
ッケル還元量が少なく、また、Ｎｉ粒子径が小さかっ
た。この結果は、図５及び図６に示すＳＥＭ観察結果に
対応するものであった。ＢＥＴ比表面積は、実施例４
（Ni:Mg ＝7:3 ）を最低とし、実施例１、２、３及び比
較例１において、それより大きな値をとっている。これ
は、モル比によって触媒の形状が変化するためである。
すなわち、実施例１〜４ではニッケル粒子が固溶体表面
に析出した構造を有し、実施例４では、Ｎｉ粒子径が最
も大きくなるためであり、比較例１では固溶体自身が多
孔構造をとるためである。なお、図５（ａ）及び（ｂ）
では、粒形状を維持した固溶体粒子表面に０．１μｍ以
下の微細Ｎｉ粒子が析出した触媒構造が観察されてお
り、図６では固溶体粒子が０．１μｍ前後のニッケル粒
子の析出により多孔構造化した触媒となっていることが
観察されている。

【００３９】また、Ｈ₂ 吸着量は、実施例１〜４及び比
較例１の他の特性値にかかわらず、ほぼ一定である。こ
れは、Ｈ₂ 吸着量は、比表面積の他、Ｎｉ還元量に比例
するものでもあるからである。したがって、実施例１〜
４ならびに比較例１は、いずれも高活性を有しているこ
とが確認できた。

【００４０】さらに、ＣＯ₂ ／ＣＨ₄ ＝１の場合、表３
の転換率及び生成率の結果から、８００℃の反応温度に
おいては実施例１〜４及び比較例１の触媒により、ＣＯ
₂ −ＣＨ₄ 反応においてほぼ平衡値が達成されており、
作製された触媒のＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応における高活性を
確認できた。反応温度６００℃では、実施例２及び比較
例１について、高活性を確認できた。ただし、比較例１
について、転換率が大きいのは、ＣＨ₄ の分解による寄
与があると考えられる。

【００４１】ＣＯ₂ ／ＣＨ₄ ＝２の場合、表４に示す結
果から、６００℃及び８００℃の反応温度のいずれにお
いても、実施例１〜４及び比較例１の触媒の高活性を確
認することができた。

【００４２】次に、表５及び図４に示す結果から、これ
らの触媒のＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応のカーボン析出抑制効果
を確認することができた。すなわち、実施例１〜４にお
いて、カーボン析出率はＭｇＯ含量の増加とともに減少
され、実施例３（Ni:Mg ＝5:5)で、カーボン析出率０．
１％／ＣＨ₄ を達成できることが確認でき、実施例１〜
４の触媒においては、高活性を有すると同時に、カーボ
ン析出抑制効果の高いことを確認できた。したがって、
実施例１〜４においては、触媒層の閉塞を起こすことな
く、長期間にわたり高活性を維持してＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反
応を実施することができる。これに対し、比較例１で
は、２％を超えるカーボン析出率が観察され、高活性を
有するものの、ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応には、他の実施例１
〜４よりも不適当であった。

【図面の簡単な説明】

【図１】酸化物固溶体からニッケル担持触媒を作製する
ための工程図である。

【図２】滴下熱分解装置の概念図である。

【図３】ＣＯ₂ −ＣＨ₄ 反応のためのリアクターの概念
図及び触媒部の拡大図である。

【図４】固溶体のＮｉ−Ｍｇモル比とカーボン析出率と
の関係を示したグラフ図である。

【図５】ニッケル−マグネシウム酸化物固溶体（Ｎｉ：
Ｍｇ＝３：７）から作製される触媒の微細構造を示す図
であり、（ａ）は、１００００倍観察下での電子顕微鏡
写真であり、（ｂ）は，５００００倍観察下での電子顕
微鏡写真である。

【図６】ニッケル−マグネシウム酸化物固溶体（Ｎｉ：
Ｍｇ＝８：２）から作製される触媒の微細構造を示す図
であり、１００００倍観察下での電子顕微鏡写真であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福井 武久 愛知県名古屋市熱田区六野二丁目４番１号 財団法人ファインセラミックスセンター 内 (72)発明者 佐久間 かおり 愛知県名古屋市熱田区六野二丁目４番１号 財団法人ファインセラミックスセンター 内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 触媒金属を含んだ酸化物固溶体を担体と
   し、この担体表面に前記触媒金属を析出させた活性部位
   を有する金属担持触媒であって、 前記酸化物固溶体は酸化マグネシウム及び酸化ニッケル
   を主としてなり、この酸化物固溶体におけるニッケルと
   マグネシウムのモル比（ニッケル：マグネシウム）が、
   １：９〜７：３であることを特徴とする金属担持触媒。
2. 【請求項２】 請求項１において、前記酸化物固溶体表
   面に粒径０．１μｍ以下のニッケル粒子が析出したこと
   を特徴とする金属担持触媒。
3. 【請求項３】 金属担持触媒の作製方法であって、 触媒金属を含んだ酸化物固溶体を調製する工程と、 この酸化物固溶体を還元処理して酸化物固溶体表面に触
   媒金属粒子を析出させる工程、 とからなることを特徴とする金属担持触媒の作製方法。
4. 【請求項４】 請求項３において、 ニッケルとマグネシウムのモル比（ニッケル：マグネシ
   ウム）が１：９〜７：３である酸化ニッケルと酸化マグ
   ネシウムとの酸化物固溶体を調製することを特徴とする
   金属担持触媒の作製方法。
5. 【請求項５】 請求項１に記載の金属担持触媒の存在下
   で、ＣＨ₄ を主成分とする低級炭化水素を含むガスとＣ
   Ｏ₂ を含むガスとを反応させることを特徴とする合成ガ
   スの製造方法。