JPH087234B2 - 試験プローブ装置 - Google Patents
試験プローブ装置Info
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- JPH087234B2 JPH087234B2 JP4227160A JP22716092A JPH087234B2 JP H087234 B2 JPH087234 B2 JP H087234B2 JP 4227160 A JP4227160 A JP 4227160A JP 22716092 A JP22716092 A JP 22716092A JP H087234 B2 JPH087234 B2 JP H087234B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- dielectric layer
- layer
- thin film
- elastic
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/0735—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card arranged on a flexible frame or film
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Contacts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、試験プローブ装置に関
し、特に隆起したコンタクトを有する回路カードを備え
ている試験プローブ装置に関する。
し、特に隆起したコンタクトを有する回路カードを備え
ている試験プローブ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】印刷回路の応用範囲は拡大しており、特
定の応用に応じて構造を変化させながら開発が進められ
ている。柔軟な回路基板および剛性の回路基板を使用し
た印刷回路は種々のタイプの接続装置により他の回路お
よび構成部品に接続されている。集積回路等の半導体ウ
エハの試験に使用されている試験プローブ装置の多くは
試験薄膜の周囲に複数のコンタクトを備えており、この
コンタクトは試験装置に取付けられた試験プロ−ブカ−
ドに電気的に接続されている。平坦でフレキシブルな接
続ケ−ブルが接続装置を使用してこのような印刷回路ケ
−ブルと回路との間の接続が複数の突出した金属相互接
続部で形成される地点まで延ばされており、この金属相
互接続部は他の回路の構成部分上の同様の部分または結
合金属接続パッドのいずれかに押付けられる。このタイ
プのフレキシブル回路端子または接続ウェ−ハは米国特
許第4,125,310 号明細書(発明者:Patrick A. Reardo
n, II他)、米国特許第4,116,517 号明細書(発明者:G
erald J. Selvin他)、米国特許第4,453,795 号明細書
(発明者:Norbert L. Moulin 他)に記載されている。
これらの米国特許明細書の接続装置は隆起した複数の金
属部分を化学的に加工して形成した回路トレ−スを有す
る基体を使用し、この隆起した複数の金属部分は後に回
路トレ−スの平面から突出するように形成されている。
従って、位置合せされている隆起部分を備えたこのよう
な2つのコネクタが向い合わせに配置され、互いに接触
するとき、エッチングした電気回路の平面は部品の突出
のために互いに適切に分離される。2つの回路は物理的
に互いにクランプされており、互いに圧縮しあってい
る。従って、2つの回路の間に強固で緊密な電気的接続
が形成される。化学的加工なしで電着技術によるこのよ
うな隆起したコンタクトを備えた回路を製造する方法も
提案されている。
定の応用に応じて構造を変化させながら開発が進められ
ている。柔軟な回路基板および剛性の回路基板を使用し
た印刷回路は種々のタイプの接続装置により他の回路お
よび構成部品に接続されている。集積回路等の半導体ウ
エハの試験に使用されている試験プローブ装置の多くは
試験薄膜の周囲に複数のコンタクトを備えており、この
コンタクトは試験装置に取付けられた試験プロ−ブカ−
ドに電気的に接続されている。平坦でフレキシブルな接
続ケ−ブルが接続装置を使用してこのような印刷回路ケ
−ブルと回路との間の接続が複数の突出した金属相互接
続部で形成される地点まで延ばされており、この金属相
互接続部は他の回路の構成部分上の同様の部分または結
合金属接続パッドのいずれかに押付けられる。このタイ
プのフレキシブル回路端子または接続ウェ−ハは米国特
許第4,125,310 号明細書(発明者:Patrick A. Reardo
n, II他)、米国特許第4,116,517 号明細書(発明者:G
erald J. Selvin他)、米国特許第4,453,795 号明細書
(発明者:Norbert L. Moulin 他)に記載されている。
これらの米国特許明細書の接続装置は隆起した複数の金
属部分を化学的に加工して形成した回路トレ−スを有す
る基体を使用し、この隆起した複数の金属部分は後に回
路トレ−スの平面から突出するように形成されている。
従って、位置合せされている隆起部分を備えたこのよう
な2つのコネクタが向い合わせに配置され、互いに接触
するとき、エッチングした電気回路の平面は部品の突出
のために互いに適切に分離される。2つの回路は物理的
に互いにクランプされており、互いに圧縮しあってい
る。従って、2つの回路の間に強固で緊密な電気的接続
が形成される。化学的加工なしで電着技術によるこのよ
うな隆起したコンタクトを備えた回路を製造する方法も
提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような隆起したコ
ンタクト(隆起部の金メッキは「金ドット接続装置」と
も呼ばれる)により接続された回路の使用においては、
1群の隆起した金属ボタン部分が向い合った回路の接続
パッドまたは類似の構造物に対して圧接され、それらが
回路の平面から突出した高さを有するため2つの向い合
った回路は互いに分離される。装置の全ての隆起部にお
ける最適な接続をするためには、両回路上の全ての接続
部またはパッドは共通の平面に位置しなければならな
い。そのようにすれば2つの回路を共に押付けるときに
各接続点において均等な接触圧力を効率的に生じさせる
ことができる。しかしながら、このような接続部を全て
完全に共通の平面を維持することが難しいので、米国特
許第4,125,310 号明細書(発明者:Reardon )のような
変形可能のコンタクトまたは米国特許第4,116,517 号明
細書(発明者:Selvin他)のような弾性材料の連続層の
使用が提案されている。しかし、このような構造は比較
的複雑で組立て困難であり、1つ以上の接続部が共通の
平面から実際にずれた場合の対応を考慮していない。さ
らに、このような装置では2つの回路は互いにきわめて
接近し、クランプされており、コンタクトを構成する隆
起部の高さによってのみ分離されており、隆起部が互い
に接触したとき向い合う回路板の間の間隔はそれによっ
て実効的に定められる。これらの隆起部の中にが十分な
高さを有しないものがあると、回路板がその部分で接触
が不完全となる。弾性体のシ−トが使用されている前記
Selvinによる米国特許明細書で示されている装置では、
弾性体が各隆起部分の中空の後部に入るように正確に位
置づけられている突出部分を有し、したがって、組立て
および複数の層を積層して形成するときに正確な位置に
配置することが極めて困難である。さらに従来技術の装
置の問題は、そのような構造を試験プロ−ブ装置に適合
させることが困難なことである。
ンタクト(隆起部の金メッキは「金ドット接続装置」と
も呼ばれる)により接続された回路の使用においては、
1群の隆起した金属ボタン部分が向い合った回路の接続
パッドまたは類似の構造物に対して圧接され、それらが
回路の平面から突出した高さを有するため2つの向い合
った回路は互いに分離される。装置の全ての隆起部にお
ける最適な接続をするためには、両回路上の全ての接続
部またはパッドは共通の平面に位置しなければならな
い。そのようにすれば2つの回路を共に押付けるときに
各接続点において均等な接触圧力を効率的に生じさせる
ことができる。しかしながら、このような接続部を全て
完全に共通の平面を維持することが難しいので、米国特
許第4,125,310 号明細書(発明者:Reardon )のような
変形可能のコンタクトまたは米国特許第4,116,517 号明
細書(発明者:Selvin他)のような弾性材料の連続層の
使用が提案されている。しかし、このような構造は比較
的複雑で組立て困難であり、1つ以上の接続部が共通の
平面から実際にずれた場合の対応を考慮していない。さ
らに、このような装置では2つの回路は互いにきわめて
接近し、クランプされており、コンタクトを構成する隆
起部の高さによってのみ分離されており、隆起部が互い
に接触したとき向い合う回路板の間の間隔はそれによっ
て実効的に定められる。これらの隆起部の中にが十分な
高さを有しないものがあると、回路板がその部分で接触
が不完全となる。弾性体のシ−トが使用されている前記
Selvinによる米国特許明細書で示されている装置では、
弾性体が各隆起部分の中空の後部に入るように正確に位
置づけられている突出部分を有し、したがって、組立て
および複数の層を積層して形成するときに正確な位置に
配置することが極めて困難である。さらに従来技術の装
置の問題は、そのような構造を試験プロ−ブ装置に適合
させることが困難なことである。
【0004】従って、本発明の目的は、試験プロ−ブの
試験薄膜の接続パッドと接続される回路カードが表面か
ら突出した簡単な構造のコンタクトを具備し、しかもコ
ンタクトと試験薄膜の接続パッドとの接触部の中に共通
の平面からずれたものがあった場合にも確実な接触を可
能にする多層回路カードを備えた試験プローブ装置を提
供することである。
試験薄膜の接続パッドと接続される回路カードが表面か
ら突出した簡単な構造のコンタクトを具備し、しかもコ
ンタクトと試験薄膜の接続パッドとの接触部の中に共通
の平面からずれたものがあった場合にも確実な接触を可
能にする多層回路カードを備えた試験プローブ装置を提
供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の試験プローブ装
置は、複数の薄膜トレ−スを有する試験薄膜と、この薄
膜を支持し、薄膜トレ−スと接続された複数の接続パッ
ドを有する環状薄膜支持体と、試験薄膜に対して分離可
能な接続を行う多層回路カードとを備え、この多層回路
カ−ドは、第1の厚さを有し、弾性体ガスケットの支持
部分を構成する環状の切取られた段部によって形成され
た厚さの薄くされた環状の縁部を有する剛性の誘電体層
と、この剛性の誘電体層の環状の縁部に位置して支持さ
れている弾性体ガスケットと、剛性の誘電体層の表面に
固定され、この剛性の誘電体層の段部を越えて弾性体ガ
スケット上に延在してそれに固定されているフレキシブ
ルな誘電体層と、剛性の誘電体層および弾性体ガスケッ
ト上のフレキシブルな誘電体層に設けられている複数の
回路トレ−スとの積層体として構成され、回路トレ−ス
は弾性体ガスケット上に位置する接続部を有し、この接
続部はその表面から突出するコンタクトを具備し、弾性
体ガスケットの圧力を加えない状態の厚さは剛性の誘電
体層の第1の厚さよりも大きく、フレキシブルな誘電体
層と剛性の誘電体層の環状の縁部との間で弾性的に圧縮
されており、さらに、突出するコンタクトが環状薄膜支
持体の接続パッドに対して圧力を加えるように回路カ−
ドを環状薄膜支持体に対して押し付ける手段を備えてい
ることを特徴とする。
置は、複数の薄膜トレ−スを有する試験薄膜と、この薄
膜を支持し、薄膜トレ−スと接続された複数の接続パッ
ドを有する環状薄膜支持体と、試験薄膜に対して分離可
能な接続を行う多層回路カードとを備え、この多層回路
カ−ドは、第1の厚さを有し、弾性体ガスケットの支持
部分を構成する環状の切取られた段部によって形成され
た厚さの薄くされた環状の縁部を有する剛性の誘電体層
と、この剛性の誘電体層の環状の縁部に位置して支持さ
れている弾性体ガスケットと、剛性の誘電体層の表面に
固定され、この剛性の誘電体層の段部を越えて弾性体ガ
スケット上に延在してそれに固定されているフレキシブ
ルな誘電体層と、剛性の誘電体層および弾性体ガスケッ
ト上のフレキシブルな誘電体層に設けられている複数の
回路トレ−スとの積層体として構成され、回路トレ−ス
は弾性体ガスケット上に位置する接続部を有し、この接
続部はその表面から突出するコンタクトを具備し、弾性
体ガスケットの圧力を加えない状態の厚さは剛性の誘電
体層の第1の厚さよりも大きく、フレキシブルな誘電体
層と剛性の誘電体層の環状の縁部との間で弾性的に圧縮
されており、さらに、突出するコンタクトが環状薄膜支
持体の接続パッドに対して圧力を加えるように回路カ−
ドを環状薄膜支持体に対して押し付ける手段を備えてい
ることを特徴とする。
【0006】
【実施例】以下説明する本発明の実施例は回路ウェ−ハ
試験プロ−ブの特定の形式のものとして示されている
が、他のタイプの試験プローブ装置に対しても本発明が
容易に適用できることが理解されるべきである。
試験プロ−ブの特定の形式のものとして示されている
が、他のタイプの試験プローブ装置に対しても本発明が
容易に適用できることが理解されるべきである。
【0007】簡単な断面図の図1および分解図の図2で
示されているように、ほぼ円形の試験プロ−ブ10は薄く
てフレキシブルで透明な薄膜14を支持する剛性の薄膜環
状支持体12を備えている。薄膜14はその下面(図1で示
されている方向で下方)上に複数の回路トレ−ス80(図
3)を装着しており、この回路トレ−ス80は薄膜の中心
区域16に設けられた接続パッド(図1では図示せず)ま
で延在している。回路トレ−ス80の反対側は薄膜14の下
面に沿って外側へ剛性の薄膜環状支持体12の下面まで延
在し、さらに薄膜環状支持体12を貫通してこの環状支持
体12の上部表面に設けられている接続パッド82(図3参
照)に接続されている。図1に示されている試験される
ウェ−ハ18はその上面に複数の集積回路チップを含んで
おり、これらの各チップは薄膜の中心区域16の下面上の
接続パッドと適合するパタ−ンで形成されている試験さ
れる接続パッドを備えている。試験プロ−ブ10は剛性の
薄膜環状支持体12の上面の内側部分に固定されている薄
膜クランプリング20を備えており、この薄膜クランプリ
ング20の上面にはボルト22を受けるねじを切った複数の
孔が円周方向に間隔を有して設けられている。
示されているように、ほぼ円形の試験プロ−ブ10は薄く
てフレキシブルで透明な薄膜14を支持する剛性の薄膜環
状支持体12を備えている。薄膜14はその下面(図1で示
されている方向で下方)上に複数の回路トレ−ス80(図
3)を装着しており、この回路トレ−ス80は薄膜の中心
区域16に設けられた接続パッド(図1では図示せず)ま
で延在している。回路トレ−ス80の反対側は薄膜14の下
面に沿って外側へ剛性の薄膜環状支持体12の下面まで延
在し、さらに薄膜環状支持体12を貫通してこの環状支持
体12の上部表面に設けられている接続パッド82(図3参
照)に接続されている。図1に示されている試験される
ウェ−ハ18はその上面に複数の集積回路チップを含んで
おり、これらの各チップは薄膜の中心区域16の下面上の
接続パッドと適合するパタ−ンで形成されている試験さ
れる接続パッドを備えている。試験プロ−ブ10は剛性の
薄膜環状支持体12の上面の内側部分に固定されている薄
膜クランプリング20を備えており、この薄膜クランプリ
ング20の上面にはボルト22を受けるねじを切った複数の
孔が円周方向に間隔を有して設けられている。
【0008】ほぼ環状のプロ−ブカ−ド24はその外側部
分でボルト26により試験プローブ装置の固定フレ−ム28
に固定されている。環状のプロ−ブカ−ド24の内側部分
の上面は薄膜クランプリング20上に固定されたプロ−ブ
カ−ドクランプリング30の外側部分の下面に当接して位
置され、このプロ−ブカ−ドクランプリング30はそれを
通ってボルト22を薄膜クランプリング20の孔に螺合する
ことによって薄膜クランプリング20に結合されて一体に
固定され、薄膜環状支持体12とプロ−ブカ−ドクランプ
リング30の間に環状体状プロ−ブカ−ド24の内側端縁部
が分離可能の状態で保持されている。プロ−ブカ−ドク
ランプリング30の薄膜クランプリング20に接触する表面
にはOリング36を収容する環状の溝が設けられてそれに
より薄膜クランプリング20とプロ−ブカ−ドクランプリ
ング30の境界面は気密に封止されている。プロ−ブカ−
ドクランプリング30の内周縁にはガラス窓38が気密状態
で固定され、このガラス窓38を通して透明な薄膜14上の
試験用の接続パッドと試験される回路チップ上の接続パ
ッドとの整合を容易に観察することができる。空気導入
装置40がプロ−ブカ−ドクランプリング30に取付けら
れ、それを通って加圧空気をガラス窓38と薄膜14の間に
形成された密封空間へ導入し、その空気圧力によってフ
レキシブルな透明の薄膜14を試験される回路の接続パッ
ドに押付けてそれらの間の適切な接続を確実にさせてい
る。
分でボルト26により試験プローブ装置の固定フレ−ム28
に固定されている。環状のプロ−ブカ−ド24の内側部分
の上面は薄膜クランプリング20上に固定されたプロ−ブ
カ−ドクランプリング30の外側部分の下面に当接して位
置され、このプロ−ブカ−ドクランプリング30はそれを
通ってボルト22を薄膜クランプリング20の孔に螺合する
ことによって薄膜クランプリング20に結合されて一体に
固定され、薄膜環状支持体12とプロ−ブカ−ドクランプ
リング30の間に環状体状プロ−ブカ−ド24の内側端縁部
が分離可能の状態で保持されている。プロ−ブカ−ドク
ランプリング30の薄膜クランプリング20に接触する表面
にはOリング36を収容する環状の溝が設けられてそれに
より薄膜クランプリング20とプロ−ブカ−ドクランプリ
ング30の境界面は気密に封止されている。プロ−ブカ−
ドクランプリング30の内周縁にはガラス窓38が気密状態
で固定され、このガラス窓38を通して透明な薄膜14上の
試験用の接続パッドと試験される回路チップ上の接続パ
ッドとの整合を容易に観察することができる。空気導入
装置40がプロ−ブカ−ドクランプリング30に取付けら
れ、それを通って加圧空気をガラス窓38と薄膜14の間に
形成された密封空間へ導入し、その空気圧力によってフ
レキシブルな透明の薄膜14を試験される回路の接続パッ
ドに押付けてそれらの間の適切な接続を確実にさせてい
る。
【0009】図3に示すようにプロ−ブカ−ド24の電気
回路トレ−ス52はプロ−ブカ−ド24の下面に沿ってその
内部端付近まで延在し、その端部の薄膜環状支持体12上
の接続パッド82と対向する位置には接続パッド82に対す
る接続部を構成している接続パッド56およびそこから隆
起して突出したコンタクト58が設けられており、突出し
たコンタクト58は薄膜環状支持体12上の接続パッド82と
接触している。プロ−ブカ−ド24の下面上の回路トレ−
ス52はプロ−ブカ−ド24に設けられた接続貫通孔53を経
て、他の試験回路(図示せず)に接続されている。
回路トレ−ス52はプロ−ブカ−ド24の下面に沿ってその
内部端付近まで延在し、その端部の薄膜環状支持体12上
の接続パッド82と対向する位置には接続パッド82に対す
る接続部を構成している接続パッド56およびそこから隆
起して突出したコンタクト58が設けられており、突出し
たコンタクト58は薄膜環状支持体12上の接続パッド82と
接触している。プロ−ブカ−ド24の下面上の回路トレ−
ス52はプロ−ブカ−ド24に設けられた接続貫通孔53を経
て、他の試験回路(図示せず)に接続されている。
【0010】本発明によると、弾性体ガスケット44が多
層のプロ−ブカ−ド24の構成の一部として設けられ、プ
ロ−ブカ−ド24の下面に設けられた隆起したコンタクト
58とプロ−ブカ−ド24の基体を構成している剛性の誘電
体層50の周縁部との間に位置し、これは円周に沿って配
置されている突出したコンタクト58に対応して環状体と
して形成されている。なお、この明細書で「下に位置す
る」「上に位置する」「上に」「下に」という語は示さ
れた図面における相対的な位置を示すために使用される
ものであって、絶対的な方向ではなく、また、プロ−ブ
カ−ド24と薄膜環状支持体12の関係位置は上下が反対の
位置や、水平方向等で並んだ位置等の任意の位置で使用
されることができる。
層のプロ−ブカ−ド24の構成の一部として設けられ、プ
ロ−ブカ−ド24の下面に設けられた隆起したコンタクト
58とプロ−ブカ−ド24の基体を構成している剛性の誘電
体層50の周縁部との間に位置し、これは円周に沿って配
置されている突出したコンタクト58に対応して環状体と
して形成されている。なお、この明細書で「下に位置す
る」「上に位置する」「上に」「下に」という語は示さ
れた図面における相対的な位置を示すために使用される
ものであって、絶対的な方向ではなく、また、プロ−ブ
カ−ド24と薄膜環状支持体12の関係位置は上下が反対の
位置や、水平方向等で並んだ位置等の任意の位置で使用
されることができる。
【0011】図3はプロ−ブカ−ド24の構造および突出
したコンタクト58が薄膜環状支持体12の接続パッド82に
接続される方法を詳細に示している。プロ−ブカ−ド24
は基板として実質上剛性の環状の誘電体層50を具備する
剛性の多層回路板である。誘電体層50はカ−ドの内周端
部分において切取られて環状の段部が形成され、その薄
くなった部分が環状弾性体ガスケット44の支持部70を構
成しており、図3においてその下面に環状弾性体ガスケ
ット44が配置されている。回路トレ−ス52の層は誘電体
層50上に形成されるが、まず、誘電体層50と環状の弾性
体ガスケット44の下方に面した表面にはカプトン、アク
リルのような絶縁体よりなる接着力のある薄手のフレキ
シブルな層(全体を54で示す)が固定され、それに回路
トレ−ス52の層が固定される。回路トレ−ス52は内側端
部近辺において接続パッド56および隆起して突出したコ
ンタクト58が一体に形成されており、これは接続パッド
82に対する接続部を構成している。この突出したコンタ
クト58の1形態では、コンタクト58は中空の導体として
形成されその中空の部分は硬化されて固体の形態のエポ
キシ60で充鎮されて補強されている(図4参照)。回路
トレ−ス52の層および接続パッド56はコンタクト58の自
由端が突出する状態で絶縁体被覆層62によって覆われて
いる。所望に応じてコンタクト58の自由端は金でメッキ
されることができる。
したコンタクト58が薄膜環状支持体12の接続パッド82に
接続される方法を詳細に示している。プロ−ブカ−ド24
は基板として実質上剛性の環状の誘電体層50を具備する
剛性の多層回路板である。誘電体層50はカ−ドの内周端
部分において切取られて環状の段部が形成され、その薄
くなった部分が環状弾性体ガスケット44の支持部70を構
成しており、図3においてその下面に環状弾性体ガスケ
ット44が配置されている。回路トレ−ス52の層は誘電体
層50上に形成されるが、まず、誘電体層50と環状の弾性
体ガスケット44の下方に面した表面にはカプトン、アク
リルのような絶縁体よりなる接着力のある薄手のフレキ
シブルな層(全体を54で示す)が固定され、それに回路
トレ−ス52の層が固定される。回路トレ−ス52は内側端
部近辺において接続パッド56および隆起して突出したコ
ンタクト58が一体に形成されており、これは接続パッド
82に対する接続部を構成している。この突出したコンタ
クト58の1形態では、コンタクト58は中空の導体として
形成されその中空の部分は硬化されて固体の形態のエポ
キシ60で充鎮されて補強されている(図4参照)。回路
トレ−ス52の層および接続パッド56はコンタクト58の自
由端が突出する状態で絶縁体被覆層62によって覆われて
いる。所望に応じてコンタクト58の自由端は金でメッキ
されることができる。
【0012】弾性体ガスケット44の支持部70について説
明すると、剛性の誘電体層50は周辺部分に段部または溝
を形成されて剛性の弾性体ガスケットの支持部70が構成
されており、この弾性体ガスケットの支持部70は弾性体
ガスケット44の端面まで延在してこれを支持している。
弾性体ガスケット44は剛性の誘電体層50の内側の延長部
分として接続パッド56およびコンタクト58を支持してい
る。銅の接地層74は剛性の誘電体層50の反対側の表面
(図3では上面)に形成され、絶縁体層76により被覆さ
れている。
明すると、剛性の誘電体層50は周辺部分に段部または溝
を形成されて剛性の弾性体ガスケットの支持部70が構成
されており、この弾性体ガスケットの支持部70は弾性体
ガスケット44の端面まで延在してこれを支持している。
弾性体ガスケット44は剛性の誘電体層50の内側の延長部
分として接続パッド56およびコンタクト58を支持してい
る。銅の接地層74は剛性の誘電体層50の反対側の表面
(図3では上面)に形成され、絶縁体層76により被覆さ
れている。
【0013】弾性体ガスケット44は圧縮されていない状
態では剛性の誘電体層50より大きい厚みを有し、後述す
るように積層過程中に圧縮される。積層過程の圧縮を緩
めると、弾性体ガスケットは膨脹するが、カプトン/ア
クリル層54の可撓性によって決定される範囲まで膨脹す
る。このような膨脹は回路トレ−スの接続パッド56を回
路トレ−ス52の平面から外方へ向けて押出す力を与え
る。接続パッド56の外方(図3では下方)への変位はコ
ンタクト58が誘電体層50上に位置する回路トレ−ス52の
平面から十分な距離で突出することを確実にする。さら
に、突出したコンタクト58の基体となる接続パッド56の
表面自体が隆起しているため、突出部は回路トレ−ス全
体の高さをたの構造に比較して低くすることができる。
態では剛性の誘電体層50より大きい厚みを有し、後述す
るように積層過程中に圧縮される。積層過程の圧縮を緩
めると、弾性体ガスケットは膨脹するが、カプトン/ア
クリル層54の可撓性によって決定される範囲まで膨脹す
る。このような膨脹は回路トレ−スの接続パッド56を回
路トレ−ス52の平面から外方へ向けて押出す力を与え
る。接続パッド56の外方(図3では下方)への変位はコ
ンタクト58が誘電体層50上に位置する回路トレ−ス52の
平面から十分な距離で突出することを確実にする。さら
に、突出したコンタクト58の基体となる接続パッド56の
表面自体が隆起しているため、突出部は回路トレ−ス全
体の高さをたの構造に比較して低くすることができる。
【0014】図3は薄膜14の最外部面上の回路トレ−ス
80を示しており、この薄膜は環状支持体12の内側面(上
面)上の接続パッド82まで延在する。ボルト22によるク
ランプリング20,30 の結合によりプロ−ブカ−ド24はク
ランプリング30の外側縁部の下面と接続パッド82との間
に挟持され、突出したコンタクト58の自由端が接続パッ
ド82と圧力接触される。ここで示しているタイプの試験
プロ−ブではプロ−ブカ−ド24上の各接続パッド56およ
び突出したコンタクト58は環状薄膜支持体12の外周およ
びプロ−ブカ−ドの内周に近い位置で円形の列として配
置されている。図面を明瞭にするため図3ではこのよう
な列は1つのみを示しているが複数の列として配置され
ることも可能である。接続パッド56と突出したコンタク
ト58の形状は対応する突出したコンタクトのパタ−ンに
整合した接続パッドパタ−ンであれば任意の形状を選択
することができる。
80を示しており、この薄膜は環状支持体12の内側面(上
面)上の接続パッド82まで延在する。ボルト22によるク
ランプリング20,30 の結合によりプロ−ブカ−ド24はク
ランプリング30の外側縁部の下面と接続パッド82との間
に挟持され、突出したコンタクト58の自由端が接続パッ
ド82と圧力接触される。ここで示しているタイプの試験
プロ−ブではプロ−ブカ−ド24上の各接続パッド56およ
び突出したコンタクト58は環状薄膜支持体12の外周およ
びプロ−ブカ−ドの内周に近い位置で円形の列として配
置されている。図面を明瞭にするため図3ではこのよう
な列は1つのみを示しているが複数の列として配置され
ることも可能である。接続パッド56と突出したコンタク
ト58の形状は対応する突出したコンタクトのパタ−ンに
整合した接続パッドパタ−ンであれば任意の形状を選択
することができる。
【0015】隆起した接続パッド56とそれから突出した
コンタクト58を有するプロ−ブカ−ド24は当業者に明白
なように多くの異なった方法で形成される。回路トレ−
スおよび接続部は米国特許第4,125,310 号明細書(発明
者:Reardon IIその他)、米国特許第4,453,795 号明細
書(発明者:Moulin)に示されている過程により形成さ
れ、ここでは化学的に加工された回路トレースはメッキ
された隆起部またはボタンを有する。
コンタクト58を有するプロ−ブカ−ド24は当業者に明白
なように多くの異なった方法で形成される。回路トレ−
スおよび接続部は米国特許第4,125,310 号明細書(発明
者:Reardon IIその他)、米国特許第4,453,795 号明細
書(発明者:Moulin)に示されている過程により形成さ
れ、ここでは化学的に加工された回路トレースはメッキ
された隆起部またはボタンを有する。
【0016】プロ−ブカ−ドを形成する方法の別の例と
して回路トレ−スと突出したコンタクトの形成方法の一
例が図4に段階的に示されている。まず、図4のaに示
されるようにステンレス鋼マンドレル90に凹部92が形成
され、テフロン(図示せず)のような非導電性材料のパ
タ−ンのマスク層で被覆される。パタ−ン化されたテフ
ロン被覆によってステンレス鋼マンドレルの露出した部
分の形状を所望の回路トレ−スの形状に限定し、このマ
ンドレルの露出した部分上に回路トレ−スがメッキによ
り付着される。すなわち、マンドレルは図4のbに示す
ように電気メッキされ、銅52のような導電性材料の層が
テフロンパタ−ンで被覆されていないマンドレル表面の
領域に付着される。銅メッキは凹部92に入り、中空のコ
ンタクト58のための突出部を形成する。その後、この突
出部はエポキシ60で満たされ固化されて補強される。回
路カードは剛性の誘電体層50から形成され、弾性体ガス
ケット44を有し、この弾性体ガスケットは図4のcで示
されているように誘電体層50の端部に形成された段部ま
たは溝に位置している。図4のcで示されているように
圧縮されていない状態の弾性体ガスケット44は例えば約
3.18mm(0.125 インチ)の厚さの誘電体層50より約0.01
27mm(5ミル)厚い。それぞれ1〜2ミルの厚さのカプ
トンのようなポリイミド層とアクリル接着層(集合的に
54で示されている)は剛性の誘電体層50の表面に配置さ
れる。弾性体ガスケット44を支持部70上に位置させ、剛
性の誘電体層と、弾性体ガスケットと、カプトン/アク
リル層とよりなる部分的構造は加熱状態で圧力を加えて
マンドレル上の銅トレ−ス52に対して押付けられて弾性
体ガスケット44が圧縮され、弾性体ガスケット44の表面
55が剛性の誘電体層50の表面51と同一平面になる。それ
から、ポリイミドおよび接着剤は硬化されてフレキシブ
ルな誘電体層54が煙い制される。この積層過程によって
誘電体層50と銅の回路トレ−ス52および接続パッド56が
一体に固定され、誘電体層50の支持部70とマンドレルの
間で弾性体ガスケット44を圧縮する。圧力を緩めると
き、弾性体ガスケット44には或程度の圧縮状態が残り、
弾性体ガスケット44の表面55を剛性の誘電体層50の表面
51と同一平面に近い位置にする。弾性体ガスケットは完
全に圧縮された位置(剛性の誘電体層50と同一平面)か
ら僅かに膨脹しているが、この膨脹は薄くてフレキシブ
ルなカプトン/アクリル層54によりある程度抑制され、
この層は弾性体ガスケット44が完全に圧縮されない状態
に戻ることを防止するが、弾性体ガスケット44の膨脹
は、接続パッド56および突出したコンタクト58を含む回
路トレ−スの部分が剛性の誘電体上に直接存在するトレ
−ス52の平面より突出して図3に示されるように変位さ
せて接続パッド82に確実に接触させる。
して回路トレ−スと突出したコンタクトの形成方法の一
例が図4に段階的に示されている。まず、図4のaに示
されるようにステンレス鋼マンドレル90に凹部92が形成
され、テフロン(図示せず)のような非導電性材料のパ
タ−ンのマスク層で被覆される。パタ−ン化されたテフ
ロン被覆によってステンレス鋼マンドレルの露出した部
分の形状を所望の回路トレ−スの形状に限定し、このマ
ンドレルの露出した部分上に回路トレ−スがメッキによ
り付着される。すなわち、マンドレルは図4のbに示す
ように電気メッキされ、銅52のような導電性材料の層が
テフロンパタ−ンで被覆されていないマンドレル表面の
領域に付着される。銅メッキは凹部92に入り、中空のコ
ンタクト58のための突出部を形成する。その後、この突
出部はエポキシ60で満たされ固化されて補強される。回
路カードは剛性の誘電体層50から形成され、弾性体ガス
ケット44を有し、この弾性体ガスケットは図4のcで示
されているように誘電体層50の端部に形成された段部ま
たは溝に位置している。図4のcで示されているように
圧縮されていない状態の弾性体ガスケット44は例えば約
3.18mm(0.125 インチ)の厚さの誘電体層50より約0.01
27mm(5ミル)厚い。それぞれ1〜2ミルの厚さのカプ
トンのようなポリイミド層とアクリル接着層(集合的に
54で示されている)は剛性の誘電体層50の表面に配置さ
れる。弾性体ガスケット44を支持部70上に位置させ、剛
性の誘電体層と、弾性体ガスケットと、カプトン/アク
リル層とよりなる部分的構造は加熱状態で圧力を加えて
マンドレル上の銅トレ−ス52に対して押付けられて弾性
体ガスケット44が圧縮され、弾性体ガスケット44の表面
55が剛性の誘電体層50の表面51と同一平面になる。それ
から、ポリイミドおよび接着剤は硬化されてフレキシブ
ルな誘電体層54が煙い制される。この積層過程によって
誘電体層50と銅の回路トレ−ス52および接続パッド56が
一体に固定され、誘電体層50の支持部70とマンドレルの
間で弾性体ガスケット44を圧縮する。圧力を緩めると
き、弾性体ガスケット44には或程度の圧縮状態が残り、
弾性体ガスケット44の表面55を剛性の誘電体層50の表面
51と同一平面に近い位置にする。弾性体ガスケットは完
全に圧縮された位置(剛性の誘電体層50と同一平面)か
ら僅かに膨脹しているが、この膨脹は薄くてフレキシブ
ルなカプトン/アクリル層54によりある程度抑制され、
この層は弾性体ガスケット44が完全に圧縮されない状態
に戻ることを防止するが、弾性体ガスケット44の膨脹
は、接続パッド56および突出したコンタクト58を含む回
路トレ−スの部分が剛性の誘電体上に直接存在するトレ
−ス52の平面より突出して図3に示されるように変位さ
せて接続パッド82に確実に接触させる。
【0017】銅接地面74およびカバ−用の絶縁体76はプ
ロ−ブカ−ドの反対側の表面に設けられる。下面に回路
トレ−ス52を有するプロ−ブカ−ド24はマンドレル90か
ら分離され、回路トレ−ス52とコンタクト58を支持する
プロ−ブカ−ドの表面が露出される。回路トレ−ス52と
接続パッド56は絶縁体カバ−層62(図3)によって覆わ
れ、多層回路カ−ド24の組立てが完成する。
ロ−ブカ−ドの反対側の表面に設けられる。下面に回路
トレ−ス52を有するプロ−ブカ−ド24はマンドレル90か
ら分離され、回路トレ−ス52とコンタクト58を支持する
プロ−ブカ−ドの表面が露出される。回路トレ−ス52と
接続パッド56は絶縁体カバ−層62(図3)によって覆わ
れ、多層回路カ−ド24の組立てが完成する。
【0018】完成したプロ−ブカ−ド24は固定フレ−ム
28に固定される。ウェ−ハ18上の所定の集積回路チップ
を試験するための試験コンタクトの適切な構造を有する
試験プローブ10はねじ22によりクランプリング30に固定
され、それによってプロ−ブカ−ド24と試験装置固定フ
レーム28に固定され、接続パッド82が突出したコンタク
ト58の先端に対して圧力を加えさせる。接触圧力は弾性
体ガスケット44の僅かな圧縮により弾性的に吸収され、
したがって、各コンタクト58の異なった高さに適応し、
また薄膜支持体12の各接続パッド82の位置が共通の平面
に位置せず、ずれている場合にも適応することができ
る。
28に固定される。ウェ−ハ18上の所定の集積回路チップ
を試験するための試験コンタクトの適切な構造を有する
試験プローブ10はねじ22によりクランプリング30に固定
され、それによってプロ−ブカ−ド24と試験装置固定フ
レーム28に固定され、接続パッド82が突出したコンタク
ト58の先端に対して圧力を加えさせる。接触圧力は弾性
体ガスケット44の僅かな圧縮により弾性的に吸収され、
したがって、各コンタクト58の異なった高さに適応し、
また薄膜支持体12の各接続パッド82の位置が共通の平面
に位置せず、ずれている場合にも適応することができ
る。
【0019】2つの接続された回路、すなわち薄膜14の
接続パッド82とプロ−ブカ−ド24が異なった平面に位置
し、接続パッド56より高い突出したコンタクト58の高さ
により定められた距離で離れていることが明らかであ
る。図3に示されている実施例ではこの離れた距離は回
路トレ−ス52の平面からの接続パッド56と突出したコン
タクト58の両者の付加的変位により増加される。予め形
成されたモ−ルドされた弾性体ガスケット44はカ−ドの
積層中に、多層回路カ−ド中に統合されて一体構造の多
層回路カ−ドを形成し、剛性の誘電体層50の表面より上
部に十分に高く突出することができる。
接続パッド82とプロ−ブカ−ド24が異なった平面に位置
し、接続パッド56より高い突出したコンタクト58の高さ
により定められた距離で離れていることが明らかであ
る。図3に示されている実施例ではこの離れた距離は回
路トレ−ス52の平面からの接続パッド56と突出したコン
タクト58の両者の付加的変位により増加される。予め形
成されたモ−ルドされた弾性体ガスケット44はカ−ドの
積層中に、多層回路カ−ド中に統合されて一体構造の多
層回路カ−ドを形成し、剛性の誘電体層50の表面より上
部に十分に高く突出することができる。
【図1】本発明を実施した試験プロ−ブの簡単化した断
面図。
面図。
【図2】図1の試験プロ−ブの分解斜視図。
【図3】プロ−ブカ−ドと薄膜の間の電気接続を示して
いる部分的拡大断面図。
いる部分的拡大断面図。
【図4】プロ−ブカ−ド製造の1実施態様の複数の段階
における断面図。
における断面図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ブレイク・エフ・ウォイス アメリカ合衆国、カリフォルニア州 92669、オーレンジ、サウス・カスリー ン・レーン 237 (56)参考文献 特開 平1−4042(JP,A) 特開 昭63−184349(JP,A) 特開 平1−120838(JP,A) 米国特許4116517(US,A)
Claims (9)
- 【請求項1】 複数の薄膜トレ−スを有する試験薄膜
と、 前記薄膜を支持し、前記薄膜トレ−スと接続された複数
の接続パッドを有する環状薄膜支持体と、 前記試験薄膜に対して分離可能な接続を行う多層回路カ
ードとを備え、 前記多層回路カ−ドは、第1の厚さを有し、弾性体ガスケットの支持部分を構成
する環状の切取られた段部によって形成された厚さの薄
くされた環状の縁部を有する 剛性の誘電体層と、この剛性の誘電体層の前記環状の縁部に位置して支持さ
れている弾性体ガスケットと、 前記剛性の誘電体層の表面に固定され、この剛性の誘電
体層の前記段部を越えて前記弾性体ガスケット上に延在
してそれに固定されているフレキシブルな誘電体層と、 前記剛性の誘電体層および弾性体ガスケット上の前記フ
レキシブルな誘電体層に設けられている 複数の回路トレ
−スとの積層体として構成され、 前記回路トレ−スは前記弾性体ガスケット上に位置する
接続部を有し、この接続部はその表面から突出するコン
タクトを具備し、 前記弾性体ガスケットの圧力を加えない状態の厚さは前
記剛性の誘電体層の第1の厚さよりも大きく、前記フレ
キシブルな誘電体層と剛性の誘電体層の環状の縁部との
間で弾性的に圧縮されており、 さらに、 前記突出するコンタクトが前記環状薄膜支持体
の接続パッドに対して圧力を加えるように前記回路カ−
ドを前記環状薄膜支持体に対して押し付ける手段を備え
ていることを特徴とする試験プローブ装置。 - 【請求項2】 前記回路トレ−スが共通平面に位置し、
前記接続部は前記弾性体ガスケットにより前記共通平面
から外方に変位される請求項1記載のプロ−ブ装置。 - 【請求項3】 前記剛性の誘電体層と前記弾性体ガスケ
ットはフレキシブルな誘電体層の下に位置し、前記弾性
体ガスケットは剛性の誘電体層上の回路トレ−スの位置
する共通平面の外方へ前記接続部を押付けている請求項
1記載のプロ−ブ装置。 - 【請求項4】 前記環状薄膜支持体の接続パッドが定め
られた線に沿って相互に間隔を隔てられており、前記突
出したコンタクトは前記線に一致している回路カ−ド上
の線に沿って位置しており、前記弾性体ガスケットは前
記回路カ−ド上の線に沿って延在するモ−ルドされた弾
性体のストリップから構成されている請求項1記載のプ
ロ−ブ装置。 - 【請求項5】 前記多層回路カ−ドがさらに、前記弾性
体ガスケットと前記回路トレ−スとの間に位置されてい
る接着層を備えている請求項1記載のプロ−ブ装置。 - 【請求項6】 前記多層回路カ−ドがさらに前記回路ト
レ−スを覆う誘電体被覆層を備えている請求項5記載の
プロ−ブ装置。 - 【請求項7】 前記多層回路カ−ドがさらに前記剛性の
誘電体層の反対面に形成された導電体層と前記導電体層
上の絶縁体層とを備えている請求項6記載のプロ−ブ装
置。 - 【請求項8】 前記多層回路カ−ド上の接続部は前記回
路トレ−スの端部に近接して前記回路トレ−ス平面上に
延在する線に沿って相互に間隔を隔てられて位置してお
り、前記弾性体ガスケットは前記接続部およびそこから
突出したコンタクトの下の前記線に沿って延在するモ−
ルドされた弾性体材料の狭いストリップから構成されて
いる請求項1記載のプロ−ブ装置。 - 【請求項9】 前記弾性体ガスケットが前記剛性の誘電
体層より大きい厚さを有している請求項8記載のプロ−
ブ装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74977091A | 1991-08-26 | 1991-08-26 | |
| US749770 | 1991-08-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05232142A JPH05232142A (ja) | 1993-09-07 |
| JPH087234B2 true JPH087234B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=25015112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4227160A Expired - Lifetime JPH087234B2 (ja) | 1991-08-26 | 1992-08-26 | 試験プローブ装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5304922A (ja) |
| JP (1) | JPH087234B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5495179A (en) * | 1991-06-04 | 1996-02-27 | Micron Technology, Inc. | Carrier having interchangeable substrate used for testing of semiconductor dies |
| JP2606554Y2 (ja) * | 1992-01-17 | 2000-11-27 | 株式会社東京精密 | プロービング装置 |
| US5550482A (en) * | 1993-07-20 | 1996-08-27 | Tokyo Electron Kabushiki Kaisha | Probe device |
| JP3001182B2 (ja) * | 1995-08-29 | 2000-01-24 | 信越ポリマー株式会社 | 液晶パネル検査装置およびその製造方法 |
| US5762845A (en) * | 1996-11-19 | 1998-06-09 | Packard Hughes Interconnect Company | Method of making circuit with conductive and non-conductive raised features |
| US6393997B1 (en) * | 1999-03-18 | 2002-05-28 | Trn Business Trust | Aerator pad assembly for railway hopper cars |
| US7112983B2 (en) * | 2004-11-10 | 2006-09-26 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for single die backside probing of semiconductor devices |
Citations (1)
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Family Cites Families (9)
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| KR870006645A (ko) * | 1985-12-23 | 1987-07-13 | 로버트 에스 헐스 | 집적회로의 멀티플리드 프로브장치 |
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| US4912399A (en) * | 1987-06-09 | 1990-03-27 | Tektronix, Inc. | Multiple lead probe for integrated circuits in wafer form |
| EP0304868A3 (en) * | 1987-08-28 | 1990-10-10 | Tektronix Inc. | Multiple lead probe for integrated circuits in wafer form |
| JPH055657Y2 (ja) * | 1988-05-10 | 1993-02-15 | ||
| US4899099A (en) * | 1988-05-19 | 1990-02-06 | Augat Inc. | Flex dot wafer probe |
| US5059898A (en) * | 1990-08-09 | 1991-10-22 | Tektronix, Inc. | Wafer probe with transparent loading member |
| US5148103A (en) * | 1990-10-31 | 1992-09-15 | Hughes Aircraft Company | Apparatus for testing integrated circuits |
-
1992
- 1992-06-26 US US07/904,740 patent/US5304922A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-08-26 JP JP4227160A patent/JPH087234B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4116517A (en) | 1976-04-15 | 1978-09-26 | International Telephone And Telegraph Corporation | Flexible printed circuit and electrical connection therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05232142A (ja) | 1993-09-07 |
| US5304922A (en) | 1994-04-19 |
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