JPH0874071A - 溶射層にガラス膜が融着した構造体 - Google Patents
溶射層にガラス膜が融着した構造体Info
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 腐食性の液体、あるいは高温の腐食性ガス、
酸化性ガスが不透過性の溶射被膜構造体に係わる。 【構成】 金属あるいはセラミックの溶射層の上にガラ
ス膜が融着した構造体であって、該ガラス膜はガラス融
着時に加熱生成されたCr2O3、あるいはCr2O3
の複酸化物を含んでなることを特徴とする。
酸化性ガスが不透過性の溶射被膜構造体に係わる。 【構成】 金属あるいはセラミックの溶射層の上にガラ
ス膜が融着した構造体であって、該ガラス膜はガラス融
着時に加熱生成されたCr2O3、あるいはCr2O3
の複酸化物を含んでなることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、溶射層にガラス膜が融
着した構造体に関わり、さらに詳しくは、腐食性の液
体、あるいは高温の腐食性ガス、酸化性ガスが不透過性
の溶射被膜構造体に係わるものである。
着した構造体に関わり、さらに詳しくは、腐食性の液
体、あるいは高温の腐食性ガス、酸化性ガスが不透過性
の溶射被膜構造体に係わるものである。
【0002】
【従来の技術】溶射被膜には本来気孔が存在する。いか
に密度の高い方法でも気孔は存在する。したがってでき
た気孔をいかに封孔するか、これが今までの課題であ
る。封孔の有力な手段としてガラスがけがある。これは
溶射面にガラス粉末を溶射して溶融する方法、あるいは
ホーローの様にガラス粉末を塗布して溶融する方法であ
る。従来の方法の問題点は、溶射膜には本来気孔が存在
するために、このガスが抜けずに残って、ここから被膜
が剥離したり、あるいはピンホールとなったり、あるい
は大きな寸法のものでは熱膨張の調整がうまく行かずに
ガラス膜に割れが発生することである。したがって、こ
の結果、ガラス被膜が腐食、酸化に対して保護被膜とし
て作用し得ず、溶射膜あるいは溶射膜の下の母材が根こ
そぎ腐食して剥離するような事態が発生している。
に密度の高い方法でも気孔は存在する。したがってでき
た気孔をいかに封孔するか、これが今までの課題であ
る。封孔の有力な手段としてガラスがけがある。これは
溶射面にガラス粉末を溶射して溶融する方法、あるいは
ホーローの様にガラス粉末を塗布して溶融する方法であ
る。従来の方法の問題点は、溶射膜には本来気孔が存在
するために、このガスが抜けずに残って、ここから被膜
が剥離したり、あるいはピンホールとなったり、あるい
は大きな寸法のものでは熱膨張の調整がうまく行かずに
ガラス膜に割れが発生することである。したがって、こ
の結果、ガラス被膜が腐食、酸化に対して保護被膜とし
て作用し得ず、溶射膜あるいは溶射膜の下の母材が根こ
そぎ腐食して剥離するような事態が発生している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる状況
に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、溶
射層に対して腐食、酸化に対して十分な保護機能を持
つ、しかも大きな寸法のものにも十分な保護機能を持つ
溶射層とガラスの新しい融着構造体を提供せんとするも
のである。
に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、溶
射層に対して腐食、酸化に対して十分な保護機能を持
つ、しかも大きな寸法のものにも十分な保護機能を持つ
溶射層とガラスの新しい融着構造体を提供せんとするも
のである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記問題点は次の手段に
よって解決できる。すなわち、
よって解決できる。すなわち、
【0005】1.金属あるいはセラミックの溶射層の上
にガラス膜が融着した構造体であって、該ガラス膜はガ
ラス融着時に加熱生成されたCr2O3、あるいはCr
2O3の複酸化物を含んでなることを特徴とする溶射層
にガラス膜が融着した構造体。
にガラス膜が融着した構造体であって、該ガラス膜はガ
ラス融着時に加熱生成されたCr2O3、あるいはCr
2O3の複酸化物を含んでなることを特徴とする溶射層
にガラス膜が融着した構造体。
【0006】
【作用】本来溶射膜には無数の気孔が存在し、ガラスが
溶融するさい、気孔に閉じ込められた空気は完全に抜け
難い。また、凹凸が激しくて表面積が大きいために、被
膜が厚くなる欠点がある。また、溶融ガラスの溶射膜に
対する濡れ性にも問題がある。この結果、被膜の中に気
泡が残り、これが膜の剥離、あるいはピンホールを誘発
し、従来からの溶射膜にガラス掛けするのは難しい問題
である。
溶融するさい、気孔に閉じ込められた空気は完全に抜け
難い。また、凹凸が激しくて表面積が大きいために、被
膜が厚くなる欠点がある。また、溶融ガラスの溶射膜に
対する濡れ性にも問題がある。この結果、被膜の中に気
泡が残り、これが膜の剥離、あるいはピンホールを誘発
し、従来からの溶射膜にガラス掛けするのは難しい問題
である。
【0007】本発明者は、ガラス被膜の中に、ガラス融
着時にCr2O3、あるいはCr2O3の複酸化物を生
成する成分を添加すると、薄くて気泡のない、連続被膜
が形成されることを見出だした。
着時にCr2O3、あるいはCr2O3の複酸化物を生
成する成分を添加すると、薄くて気泡のない、連続被膜
が形成されることを見出だした。
【0008】Cr2O3あるいはCr2O3の複酸化物
を生成する成分は、可溶性クロム化合物が最も好まし
い。つまり上記Cr2O3あるいはCr2O3の複酸化
物の供給源として使用した、クロム酸、クロム塩酸、二
クロム塩酸、クロム塩および可溶性錯体クロム化合物等
であり、これらは水等の溶媒にとかして使用する。例え
ば、CrO3の水溶液、CrO3の水溶液にZnO、M
gO、CaO等の酸化物を溶解した形で、CrCl2、
Cr2(SO4)3等の水溶液の形で使用できる。これ
らの中では、CrO3の水溶液、CrO3の水溶液にZ
nO、MgO、CaO等酸化物を溶解した水溶液が最も
好ましい結果をもたらす。とりわけCrO3の水溶液に
ZnOあるいはCaOを加えたもの、あるいはZnOと
CaOを混合して加えたものが良い。
を生成する成分は、可溶性クロム化合物が最も好まし
い。つまり上記Cr2O3あるいはCr2O3の複酸化
物の供給源として使用した、クロム酸、クロム塩酸、二
クロム塩酸、クロム塩および可溶性錯体クロム化合物等
であり、これらは水等の溶媒にとかして使用する。例え
ば、CrO3の水溶液、CrO3の水溶液にZnO、M
gO、CaO等の酸化物を溶解した形で、CrCl2、
Cr2(SO4)3等の水溶液の形で使用できる。これ
らの中では、CrO3の水溶液、CrO3の水溶液にZ
nO、MgO、CaO等酸化物を溶解した水溶液が最も
好ましい結果をもたらす。とりわけCrO3の水溶液に
ZnOあるいはCaOを加えたもの、あるいはZnOと
CaOを混合して加えたものが良い。
【0009】添加割合は、微量から飽和状態まで適宜添
加してよいが最も好ましいのは、CrO31モルに対し
てZnOを0.2モルから溶解限度まで添加したもの、
あるいはZnOとCaOを混ぜて0.2モルから溶解限
度まで添加したものである。
加してよいが最も好ましいのは、CrO31モルに対し
てZnOを0.2モルから溶解限度まで添加したもの、
あるいはZnOとCaOを混ぜて0.2モルから溶解限
度まで添加したものである。
【0010】上記したような可溶性クロム化合物の添加
により、ガラスは溶射膜の凹凸面に沿って濡れて、極め
て薄い連続膜を形成する。これは微量添加(ガラスに対
して1%程度の添加)でも効果が現れる。濡れがよく、
薄い被膜を形成できることにより、中に気泡の残存もな
く、欠陥のない連続膜が形成されるものと推察される。
により、ガラスは溶射膜の凹凸面に沿って濡れて、極め
て薄い連続膜を形成する。これは微量添加(ガラスに対
して1%程度の添加)でも効果が現れる。濡れがよく、
薄い被膜を形成できることにより、中に気泡の残存もな
く、欠陥のない連続膜が形成されるものと推察される。
【0011】ガラス層は溶射の凹凸面をすべて埋め尽く
す程厚くする必要はない。本発明では、凹凸の谷の一部
が埋まり峰の突起部が一部残っていても、この突起部も
ガラスで濡れて薄い連続被膜で被覆されており十分な耐
蝕性がある。熱疲労、熱応力および大型の寸法のものに
はこの被膜のほうが好ましい。
す程厚くする必要はない。本発明では、凹凸の谷の一部
が埋まり峰の突起部が一部残っていても、この突起部も
ガラスで濡れて薄い連続被膜で被覆されており十分な耐
蝕性がある。熱疲労、熱応力および大型の寸法のものに
はこの被膜のほうが好ましい。
【0012】なお、ここで溶射材料にはセラミック、金
属いずれも使用でき特別な制約はないが、金属を使用す
る場合、本発明の溶射膜は少なくともガラス溶融時の酸
化を防ぐことが目的であり、この目的のためにはAL、
Cr、Si、Y等に代表される耐酸化性元素を含有する
合金が好ましい。Fe、Ni、Co基で、必須成分とし
てAL、Cr、Si、Y等の耐酸化性元素の一種あるい
は二種以上を含む合金が好ましい。本発明のガラス成分
はこれらの元素を含む溶射合金に対して極めて濡れが良
く、緻密で密着性の良いガラス膜の連続膜が形成され
る。
属いずれも使用でき特別な制約はないが、金属を使用す
る場合、本発明の溶射膜は少なくともガラス溶融時の酸
化を防ぐことが目的であり、この目的のためにはAL、
Cr、Si、Y等に代表される耐酸化性元素を含有する
合金が好ましい。Fe、Ni、Co基で、必須成分とし
てAL、Cr、Si、Y等の耐酸化性元素の一種あるい
は二種以上を含む合金が好ましい。本発明のガラス成分
はこれらの元素を含む溶射合金に対して極めて濡れが良
く、緻密で密着性の良いガラス膜の連続膜が形成され
る。
【0013】ガラス膜の形成には目標成分に溶製した粉
末あるいは各成分の粉末を調合して混合したものを結合
剤の溶液と混ぜてスラリーあるいはペースト状にしたも
のを基材に塗布して加熱する。使用するガラスの成分
は、目的用途に応じて適宜色々な成分を選択できるが、
ただ、使用に際して融着させる基材の熱膨張係数と同じ
か、あるいは若干小さめに調整することが好ましい。
末あるいは各成分の粉末を調合して混合したものを結合
剤の溶液と混ぜてスラリーあるいはペースト状にしたも
のを基材に塗布して加熱する。使用するガラスの成分
は、目的用途に応じて適宜色々な成分を選択できるが、
ただ、使用に際して融着させる基材の熱膨張係数と同じ
か、あるいは若干小さめに調整することが好ましい。
【0014】本発明のガラス融着膜は低温から高温まで
の腐食性ガス、および腐食性液体に対して十分な抵抗力
を有するので、これらの雰囲気で使用される部材には特
に威力を発揮する。
の腐食性ガス、および腐食性液体に対して十分な抵抗力
を有するので、これらの雰囲気で使用される部材には特
に威力を発揮する。
【0015】
【実施例】実施例によって本発明を説明する。
【0016】 基材:φ20×50mmの軟鋼の表面をショットブラス
トして粗面化した後、下記成分(wt.%)の合金粉末
を0.3mmの厚さで溶射した。 C : 0.15 Si: 2.0 Mn: 1.0 Ni: 0.5 Cr:27.0 Mo: 3.0 AL: 7.0 Fe:Bal. <ガラス被膜>線膨張係数10.5×10−6、適性焼
成温度が850℃のガラスフリット粉末に下記組成のバ
インダーを混ぜて作ったペーストを溶射膜の上に下地が
透けて見えるほど薄く塗布した。 <バインダーの組成>水4重量部にCrO35重量部を
加えて作ったクロム酸溶液にZnOを飽和状態まで溶か
した溶液。 <ペーストの組成>ガラス粉末1.5重量部、上記バイ
ンダー1.0重量部を混合したもの。常温で乾燥した
後、900℃まで5時間かけて昇温、900℃で30分
保持して炉冷した。溶射の凹凸面は茶褐色の薄いガラス
膜でコートされ、谷の部分が一部ガラスで埋まってい
た。 <評価テスト>ガラスの被覆されたサンプルの両端面に
樹脂を塗布してマスキングしたものを10%塩酸溶液に
浸漬した。10日間放置したが液はまったく着色しなか
った。比較のために上記した溶射のみのサンプルについ
てもテストした。この場合、浸漬と同時に溶解が始ま
り、1日で液が濃い緑色に変色し、5日後は真っ黒くな
った。溶射膜も手でぼろぼろ剥げた。
トして粗面化した後、下記成分(wt.%)の合金粉末
を0.3mmの厚さで溶射した。 C : 0.15 Si: 2.0 Mn: 1.0 Ni: 0.5 Cr:27.0 Mo: 3.0 AL: 7.0 Fe:Bal. <ガラス被膜>線膨張係数10.5×10−6、適性焼
成温度が850℃のガラスフリット粉末に下記組成のバ
インダーを混ぜて作ったペーストを溶射膜の上に下地が
透けて見えるほど薄く塗布した。 <バインダーの組成>水4重量部にCrO35重量部を
加えて作ったクロム酸溶液にZnOを飽和状態まで溶か
した溶液。 <ペーストの組成>ガラス粉末1.5重量部、上記バイ
ンダー1.0重量部を混合したもの。常温で乾燥した
後、900℃まで5時間かけて昇温、900℃で30分
保持して炉冷した。溶射の凹凸面は茶褐色の薄いガラス
膜でコートされ、谷の部分が一部ガラスで埋まってい
た。 <評価テスト>ガラスの被覆されたサンプルの両端面に
樹脂を塗布してマスキングしたものを10%塩酸溶液に
浸漬した。10日間放置したが液はまったく着色しなか
った。比較のために上記した溶射のみのサンプルについ
てもテストした。この場合、浸漬と同時に溶解が始ま
り、1日で液が濃い緑色に変色し、5日後は真っ黒くな
った。溶射膜も手でぼろぼろ剥げた。
【0017】(急速加熱、急速冷却の例) <基材>φ20×50mmの軟鋼の表面をブラストで粗
化し、Ni−7%AL合金を0.3mmの厚さで溶射し
たもの。 <ガラス被覆>実施例のガラスペーストを溶射膜の上
にやや厚め(実施例よりは)に塗布し、乾燥後、90
0℃に加熱した電気炉の中に入れて30分保持し、ただ
ちに炉から外に取り出した。ガラス溶融被膜が形成され
た。ガラス膜に割れはなかった。 <評価テスト>実施例と同じく、サンプルの両端面に
樹脂を塗布してマスキングしたものを濃塩酸の蒸気が充
満した密閉容器の中につるし、3ケ月放置したが、まっ
たく腐食されなかった。
化し、Ni−7%AL合金を0.3mmの厚さで溶射し
たもの。 <ガラス被覆>実施例のガラスペーストを溶射膜の上
にやや厚め(実施例よりは)に塗布し、乾燥後、90
0℃に加熱した電気炉の中に入れて30分保持し、ただ
ちに炉から外に取り出した。ガラス溶融被膜が形成され
た。ガラス膜に割れはなかった。 <評価テスト>実施例と同じく、サンプルの両端面に
樹脂を塗布してマスキングしたものを濃塩酸の蒸気が充
満した密閉容器の中につるし、3ケ月放置したが、まっ
たく腐食されなかった。
【0018】
【発明の効果】以上詳記したように本発明は溶射膜の上
に欠陥のないガラスの溶融膜を形成したものであり、腐
食性ガス、腐食性液体に対して顕著な耐蝕性を発揮す
る。高価な材料を使用しなくても高度な耐蝕性が期待で
き、腐食部材の分野で多大な貢献が期待できるものであ
る。
に欠陥のないガラスの溶融膜を形成したものであり、腐
食性ガス、腐食性液体に対して顕著な耐蝕性を発揮す
る。高価な材料を使用しなくても高度な耐蝕性が期待で
き、腐食部材の分野で多大な貢献が期待できるものであ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】 金属あるいはセラミックの溶射層の上に
ガラス膜が融着した構造体であって、該ガラス膜はガラ
ス融着時に加熱生成されたCr2O3、あるいはCr2
O3の複酸化物を含んでなることを特徴とする溶射層に
ガラス膜が融着した構造体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25265794A JPH0874071A (ja) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | 溶射層にガラス膜が融着した構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25265794A JPH0874071A (ja) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | 溶射層にガラス膜が融着した構造体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0874071A true JPH0874071A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=17240412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25265794A Pending JPH0874071A (ja) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | 溶射層にガラス膜が融着した構造体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0874071A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007242668A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
-
1994
- 1994-09-09 JP JP25265794A patent/JPH0874071A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007242668A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| US8173928B2 (en) | 2006-03-06 | 2012-05-08 | Tokyo Electron Limited | Processing device |
| US8785809B2 (en) | 2006-03-06 | 2014-07-22 | Tokyo Electron Limited | Processing device |
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