JPH0874097A - 錫系合金めっき浴の再生方法 - Google Patents
錫系合金めっき浴の再生方法Info
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- JPH0874097A JPH0874097A JP6248239A JP24823994A JPH0874097A JP H0874097 A JPH0874097 A JP H0874097A JP 6248239 A JP6248239 A JP 6248239A JP 24823994 A JP24823994 A JP 24823994A JP H0874097 A JPH0874097 A JP H0874097A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/16—Regeneration of process solutions
- C25D21/18—Regeneration of process solutions of electrolytes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 錫系合金めっき浴の再生方法を提供する。
【構成】 優れた錫系合金めっきを得るための有機酸ま
たはほうふっ化電気めっき浴において、水溶性ポリマー
からなる凝結剤及び高分子凝集剤を添加してスラッジを
除去することによるめっき液を再生する方法。
たはほうふっ化電気めっき浴において、水溶性ポリマー
からなる凝結剤及び高分子凝集剤を添加してスラッジを
除去することによるめっき液を再生する方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は錫系合金めっき浴の再生
方法に関する。
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】錫−鉛合金めっき浴等の錫系合金めっき
浴によるめっきは電気部品端子やプリント配線基板のは
んだ付け性を向上させるのに有効であるため需要が増大
している。
浴によるめっきは電気部品端子やプリント配線基板のは
んだ付け性を向上させるのに有効であるため需要が増大
している。
【０００３】特に最近この用途のため錫系合金めっき浴
としてアルカンスルホン酸又はアルカノールスルホン酸
などを用いた有機酸浴やほうふっ化水素酸などを用いた
ほうふっ化めっき浴に浴可溶性の錫塩または（および）
鉛塩を加え、さらに界面活性剤等の助剤を適宜添加した
ものが多く利用されている。しかしながらこの錫−鉛合
金めっき浴は数ヶ月連続運転にて操業されると、次第に
浴中の第１錫イオンが、空気中の酸素と化合したり、電
極反応あるいは銅又は鉄イオンの触媒作用によって第２
錫イオンの水和酸化物や水酸化物を形成する。このよう
な酸化物及び水酸化物は浴中にわずかしか溶解せず、実
際には浴中の不溶性有機物を包含した形のスラッジとし
て徐々に浴中に沈澱する。このようなスラッジは操業
上、電極反応における錫効率の低下、コブ状物の析出、
めっき浴からのスラッジ処理のための連続濾過の必要
性、更には浴更新頻度の増大等の問題を発生させる。
としてアルカンスルホン酸又はアルカノールスルホン酸
などを用いた有機酸浴やほうふっ化水素酸などを用いた
ほうふっ化めっき浴に浴可溶性の錫塩または（および）
鉛塩を加え、さらに界面活性剤等の助剤を適宜添加した
ものが多く利用されている。しかしながらこの錫−鉛合
金めっき浴は数ヶ月連続運転にて操業されると、次第に
浴中の第１錫イオンが、空気中の酸素と化合したり、電
極反応あるいは銅又は鉄イオンの触媒作用によって第２
錫イオンの水和酸化物や水酸化物を形成する。このよう
な酸化物及び水酸化物は浴中にわずかしか溶解せず、実
際には浴中の不溶性有機物を包含した形のスラッジとし
て徐々に浴中に沈澱する。このようなスラッジは操業
上、電極反応における錫効率の低下、コブ状物の析出、
めっき浴からのスラッジ処理のための連続濾過の必要
性、更には浴更新頻度の増大等の問題を発生させる。
【０００４】このためスラッジ発生の抑制を目的として
有機酸などの高濃度化、めっき浴温の低下又は鉄及び銅
イオン濃度の低下あるいは連続濾過による沈澱物の除
去、さらには高分子凝集剤によるスラッジ除去等が実施
されてきたがこれらの方法の効果には限界がある。
有機酸などの高濃度化、めっき浴温の低下又は鉄及び銅
イオン濃度の低下あるいは連続濾過による沈澱物の除
去、さらには高分子凝集剤によるスラッジ除去等が実施
されてきたがこれらの方法の効果には限界がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑み、優れた錫系合金めっきを得るための電気めっ
き浴における、スラッジ除去によるめっき液を再生する
方法を提供することを目的とする。
点に鑑み、優れた錫系合金めっきを得るための電気めっ
き浴における、スラッジ除去によるめっき液を再生する
方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は老化
した錫系合金めっき浴に水溶性ポリマーからなる凝結剤
及び高分子凝集剤をそれぞれ添加攪拌してスラッジを沈
降させ分離することを特徴とする錫系合金めっき浴の再
生方法である。
した錫系合金めっき浴に水溶性ポリマーからなる凝結剤
及び高分子凝集剤をそれぞれ添加攪拌してスラッジを沈
降させ分離することを特徴とする錫系合金めっき浴の再
生方法である。
【０００７】以下、本発明について詳しく説明する。
【０００８】本発明で対象とするめっき浴の典型例は錫
系合金有機酸のめっき浴であり、有機酸としては通常ア
ルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸又はフェノ
ールスルホン酸が用いられる。浴組成の一例を挙げると
次のような組成がある。
系合金有機酸のめっき浴であり、有機酸としては通常ア
ルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸又はフェノ
ールスルホン酸が用いられる。浴組成の一例を挙げると
次のような組成がある。
【０００９】 メタンスルホン酸錫、Ｓｎ２＋として３０ｇ／ｌ メタンスルホン酸鉛、Ｐｂ として１５ｇ／ｌ メタンスルホン酸、遊離酸として１４０ｇ／ｌ
【００１０】有機酸以外のめっき浴の例は錫系合金ほう
ふっ素酸めっき浴であり、浴組成の一例を挙げると次の
ような組成がある。 ほうふっ化第一錫、Ｓｎ２＋として ２０ｇ／ｌ ほうふっ化鉛、 Ｐｂ として １０ｇ／ｌ ほうふっ化水素酸、遊離酸として１５０ｇ／ｌ
ふっ素酸めっき浴であり、浴組成の一例を挙げると次の
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【００１１】これらの浴に光沢剤及び必要に応じて安定
剤等の添加剤が適宜加えられる。これらの浴でのスラッ
ジ発生の機構は一般に次のように考えられる。
剤等の添加剤が適宜加えられる。これらの浴でのスラッ
ジ発生の機構は一般に次のように考えられる。
【００１２】 Ｓｎ２＋ ＋ １／２Ｏ２ ＋ ２Ｈ＋ → Ｓｎ４＋ ＋ Ｈ２Ｏ （１）
【００１３】この（１）が主反応でＳｎ２＋の空気酸化
及び陽極酸化が起こる。しかし、更に次のような反応も
考えられる。
及び陽極酸化が起こる。しかし、更に次のような反応も
考えられる。
【００１４】 ２Ｆｅ２＋ ＋ １／２Ｏ２ ＋ ２Ｈ＋ → ２Ｆｅ３＋ ＋ Ｈ２Ｏ（２） ２Ｃｕ＋ ＋ １／２Ｏ２ ＋ ２Ｈ＋ → ２Ｃｕ２＋ ＋ Ｈ２Ｏ （３） Ｓｎ２＋ ＋ ２Ｆｅ３＋ → Ｓｎ４＋ ＋ ２Ｆｅ２＋ （４） Ｓｎ２＋ ＋ ２Ｃｕ２＋ → Ｓｎ４＋ ＋ ２Ｃｕ＋ （５）
【００１５】すなわち、上記（２）及び（３）式に示す
ようにＦｅ２＋およびＣｕ＋は浴中に溶解している酸素
により酸化されＦｅ３＋およびＣｕ２＋となる。このＦ
ｅ３＋およびＣｕ２＋が（４）及び（５）式に示すよう
に浴中において還元されてＦｅ２＋とＣｕ＋となる。こ
のときＳｎ２＋はＳｎ４＋へ酸化されて錫の水和酸化物
又は水酸化物のスラッジが発生するものと考えられる。
ようにＦｅ２＋およびＣｕ＋は浴中に溶解している酸素
により酸化されＦｅ３＋およびＣｕ２＋となる。このＦ
ｅ３＋およびＣｕ２＋が（４）及び（５）式に示すよう
に浴中において還元されてＦｅ２＋とＣｕ＋となる。こ
のときＳｎ２＋はＳｎ４＋へ酸化されて錫の水和酸化物
又は水酸化物のスラッジが発生するものと考えられる。
【００１６】本発明ではこれらの錫系合金有機酸めっき
浴が老化しスラッジを発生し有機汚染及び無機汚染が極
限に達し、通常浴の建替をすべき段階において水溶性ポ
リマーからなる凝結剤及び高分子凝集剤をそれぞれ添加
することを特徴としている。
浴が老化しスラッジを発生し有機汚染及び無機汚染が極
限に達し、通常浴の建替をすべき段階において水溶性ポ
リマーからなる凝結剤及び高分子凝集剤をそれぞれ添加
することを特徴としている。
【００１７】凝結剤として用いる水溶性ポリマーとして
はカルボキシメチルセルロース等も用いうるが、低分子
量でアニオン性の水溶性ポリマーが好ましく、具体例と
してはポリ（スチレンスルホン酸アルカリ金属塩）、ス
チレンスルホン酸とアクリル酸、メタクリル酸もしくは
無水マレイン酸との共重合物のアルカリ金属塩、ポリア
クリル酸、その水溶性アルカリ金属塩、ポリメタクリル
酸、その水溶性アルカリ金属塩、アルギン酸アルカリ金
属塩等がある。
はカルボキシメチルセルロース等も用いうるが、低分子
量でアニオン性の水溶性ポリマーが好ましく、具体例と
してはポリ（スチレンスルホン酸アルカリ金属塩）、ス
チレンスルホン酸とアクリル酸、メタクリル酸もしくは
無水マレイン酸との共重合物のアルカリ金属塩、ポリア
クリル酸、その水溶性アルカリ金属塩、ポリメタクリル
酸、その水溶性アルカリ金属塩、アルギン酸アルカリ金
属塩等がある。
【００１８】これら水溶性ポリマーの分子量は通常１，
０００から１，２００，０００の範囲である。より好ま
しい具体例としては、アルギン酸ナトリウム、ポリアク
リル酸ナトリウム（分子量１０，０００〜３００，００
０）、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム（分子量１
０，０００〜１，２００，０００）、無水マレイン酸−
スチレン共重合体のスルホン化物のナトリウム塩（分子
量１，０００〜１０，０００）、ポリスチレンスルホン
化物のナトリウム塩（分子量１，０００〜１００，００
０）、Ｃ５留分を主成分とするポリカルボン酸のナトリ
ウム塩（分子量５，０００〜１０，０００）等がある。
０００から１，２００，０００の範囲である。より好ま
しい具体例としては、アルギン酸ナトリウム、ポリアク
リル酸ナトリウム（分子量１０，０００〜３００，００
０）、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム（分子量１
０，０００〜１，２００，０００）、無水マレイン酸−
スチレン共重合体のスルホン化物のナトリウム塩（分子
量１，０００〜１０，０００）、ポリスチレンスルホン
化物のナトリウム塩（分子量１，０００〜１００，００
０）、Ｃ５留分を主成分とするポリカルボン酸のナトリ
ウム塩（分子量５，０００〜１０，０００）等がある。
【００１９】これら凝結剤としての水溶性ポリマーはそ
の一部又は全部を高分子凝集剤の添加に先立って添加す
ることが好ましく、通常水溶液の形で添加される。その
添加量は浴中のスラッジ形成性成分の量等に応じ適宜決
定しうるが、通常５０から２，０００ｐｐｍ程度であ
る。
の一部又は全部を高分子凝集剤の添加に先立って添加す
ることが好ましく、通常水溶液の形で添加される。その
添加量は浴中のスラッジ形成性成分の量等に応じ適宜決
定しうるが、通常５０から２，０００ｐｐｍ程度であ
る。
【００２０】これらの水溶性ポリマーの添加、攪拌によ
り、スラッジ成分の表面電位の低下、親水層の破壊等を
通してその凝結を促すことができる。
り、スラッジ成分の表面電位の低下、親水層の破壊等を
通してその凝結を促すことができる。
【００２１】高分子凝集剤としては適宜市販の高分子凝
集剤を用いうるが、特にアニオン性又は非イオン性の高
分子凝集剤が好ましい。具体例としては、アクリルアミ
ドとアクリル酸アルカリ金属塩もしくはメタクリル酸ア
ルカリ金属塩の共重合体またはポリアクリルアミドで分
子量が５００万から１５００万のものがある。より好ま
しい具体例としてはアクリルアミドとアクリル酸ナトリ
ウムの共重合体等がある。またアクリル酸ナトリウムと
異なるアニオン官能基を有するもので一般にはポリアク
リルアミドと総称されているものも好ましく用いられ
る。
集剤を用いうるが、特にアニオン性又は非イオン性の高
分子凝集剤が好ましい。具体例としては、アクリルアミ
ドとアクリル酸アルカリ金属塩もしくはメタクリル酸ア
ルカリ金属塩の共重合体またはポリアクリルアミドで分
子量が５００万から１５００万のものがある。より好ま
しい具体例としてはアクリルアミドとアクリル酸ナトリ
ウムの共重合体等がある。またアクリル酸ナトリウムと
異なるアニオン官能基を有するもので一般にはポリアク
リルアミドと総称されているものも好ましく用いられ
る。
【００２２】これらの高分子凝集剤の添加量は常法に従
って適宜しうるが、通常１から１００ｐｐｍ程度である
高分子凝集剤の添加攪拌により凝結粒子間架橋吸着作用
でフロックが形成され急速に沈降する。沈降後は濾過等
の適宜の手段で固形分を分離する。濾過することなく単
に上澄液を再利用に供することも可能である。
って適宜しうるが、通常１から１００ｐｐｍ程度である
高分子凝集剤の添加攪拌により凝結粒子間架橋吸着作用
でフロックが形成され急速に沈降する。沈降後は濾過等
の適宜の手段で固形分を分離する。濾過することなく単
に上澄液を再利用に供することも可能である。
【００２３】本発明方法により老化した錫系合金有機酸
めっき浴からのスラッジの除去が効率的に行うことがで
きる。凝結剤として用いる水溶性ポリマーは無機塩にみ
られるようにめっき浴中のイオン量を増加させたり水酸
化ゲルを生成することはなく、そのためスラッジ量は本
質的に増加させずにその分離と浴の再利用を行うことが
できる。また水溶性ポリマーは分散剤としての機能も有
しており、再利用時のめっき浴の清澄性をより長期間保
持するという効果も有している。
めっき浴からのスラッジの除去が効率的に行うことがで
きる。凝結剤として用いる水溶性ポリマーは無機塩にみ
られるようにめっき浴中のイオン量を増加させたり水酸
化ゲルを生成することはなく、そのためスラッジ量は本
質的に増加させずにその分離と浴の再利用を行うことが
できる。また水溶性ポリマーは分散剤としての機能も有
しており、再利用時のめっき浴の清澄性をより長期間保
持するという効果も有している。
【００２４】
実施例１：建浴後約９ヶ月経過した光沢はんだメタンス
ルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４０）は褐色懸濁状態
で、めっき浴組成の分析値は以下のとおりである。
ルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４０）は褐色懸濁状態
で、めっき浴組成の分析値は以下のとおりである。
【００２５】 Ｓｎ２＋ ２５．０ｇ／ｌ Ｐｂ １３．１ｇ／ｌ 遊離酸 １０２．５ｇ／ｌ
【００２６】この液に凝結剤としてポリスチレンスルホ
ン酸ナトリウム分子量（５〜１０）×１０４を３６０ｐ
ｐｍ添加攪拌して凝結せしめ、更にポリアクリルアミド
系の高分子凝集剤（弱アニオン性）を２００ｐｐｍ添
加、撹拌してフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させ
た。上澄液の分析値は以下のとおりである。
ン酸ナトリウム分子量（５〜１０）×１０４を３６０ｐ
ｐｍ添加攪拌して凝結せしめ、更にポリアクリルアミド
系の高分子凝集剤（弱アニオン性）を２００ｐｐｍ添
加、撹拌してフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させ
た。上澄液の分析値は以下のとおりである。
【００２７】 Ｓｎ２＋ １７．９ｇ／ｌ Ｐｂ １２．１ｇ／ｌ 遊離酸 ９３．３ｇ／ｌ
【００２８】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正し光沢剤を補充した結果良好なハルセルが得られ
た。このフロックはＳｎ４＋の水和酸化物が主成分であ
るが、光沢剤の分解生成物やめっきレジスト成分も含ん
でいるため光沢剤の補充により容易に良好なハルセル補
正が行えたものである。
で補正し光沢剤を補充した結果良好なハルセルが得られ
た。このフロックはＳｎ４＋の水和酸化物が主成分であ
るが、光沢剤の分解生成物やめっきレジスト成分も含ん
でいるため光沢剤の補充により容易に良好なハルセル補
正が行えたものである。
【００２９】尚、ハルセルテストは実施例１から６まで
すべて下記条件で行った。 電 流 ２Ａ 時 間 ３分 温 度 ２３℃ 攪 拌 ２ｍ／分
すべて下記条件で行った。 電 流 ２Ａ 時 間 ３分 温 度 ２３℃ 攪 拌 ２ｍ／分
【００３０】実施例２：建浴後約６ヶ月経過した光沢は
んだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４０）は
褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下のとおり
である。
んだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４０）は
褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下のとおり
である。
【００３１】 Ｓｎ２＋ １５．６ｇ／ｌ Ｐｂ １１．５ｇ／ｌ 遊離酸 １２９．６ｇ／ｌ
【００３２】この液に凝結剤とし実施例１で用いたと同
じポリスチレンスルホン酸ナトリウム（ＰＳ−１、分子
量１〜３×１０４）を３５０ｐｐｍ添加、撹拌して凝結
せしめ、更に実施例１で用いたと同じポリアクリルアミ
ド系の高分子凝集剤を１０ｐｐｍ添加、攪拌してフロッ
クを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。上澄液の分析値
は以下のとおりである。
じポリスチレンスルホン酸ナトリウム（ＰＳ−１、分子
量１〜３×１０４）を３５０ｐｐｍ添加、撹拌して凝結
せしめ、更に実施例１で用いたと同じポリアクリルアミ
ド系の高分子凝集剤を１０ｐｐｍ添加、攪拌してフロッ
クを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。上澄液の分析値
は以下のとおりである。
【００３３】 Ｓｎ２＋ １５．０ｇ／ｌ Ｐｂ １１．５ｇ／ｌ 遊離酸 １２７．２ｇ／ｌ
【００３４】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
【００３５】実施例３：建浴後約１年継続使用された光
沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４
０）は褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下の
とおりである。
沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４
０）は褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下の
とおりである。
【００３６】 Ｓｎ２＋ ２４．８ｇ／ｌ Ｐｂ １３．５ｇ／ｌ 遊離酸 １４５．９ｇ／ｌ
【００３７】この液に凝結剤として実施例１で用いたと
同じポリスチレンスルホン酸ナトリウムを１０００ｐｐ
ｍ添加、攪拌し、更に実施例１で用いたと同じポリアク
リルアミド系の高分子凝集剤を８０ｐｐｍ添加、攪拌し
てフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。この場
合凝結剤１０００ｐｐｍを２回に分割し、最初６００ｐ
ｐｍ、高分子凝集剤添加後残りの４００ｐｐｍを加えて
も十分効果を発揮することが認められた。上澄液の分析
値は以下のとおりである。
同じポリスチレンスルホン酸ナトリウムを１０００ｐｐ
ｍ添加、攪拌し、更に実施例１で用いたと同じポリアク
リルアミド系の高分子凝集剤を８０ｐｐｍ添加、攪拌し
てフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。この場
合凝結剤１０００ｐｐｍを２回に分割し、最初６００ｐ
ｐｍ、高分子凝集剤添加後残りの４００ｐｐｍを加えて
も十分効果を発揮することが認められた。上澄液の分析
値は以下のとおりである。
【００３８】 Ｓｎ２＋ ２１．１ｇ／ｌ Ｐｂ １３．０ｇ／ｌ 遊離酸 １３８．０ｇ／ｌ
【００３９】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
【００４０】尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方
法で７０容量％であった。高分子凝集剤はスラッジ側に
吸収されるが、凝結剤は１，０００ｐｐｍも添加すると
回収めっき液に無視できない量残留すると推定される。
この水溶性ポリマーはめっきに対して有害な作用を及ぼ
さないばかりか、無機塩の分散剤として本来使用されて
いるもので、めっき液に残留した場合発生する錫の水和
酸化物の粒成長を抑制しめっき液の濁りを抑制する効果
をも発揮する。
法で７０容量％であった。高分子凝集剤はスラッジ側に
吸収されるが、凝結剤は１，０００ｐｐｍも添加すると
回収めっき液に無視できない量残留すると推定される。
この水溶性ポリマーはめっきに対して有害な作用を及ぼ
さないばかりか、無機塩の分散剤として本来使用されて
いるもので、めっき液に残留した場合発生する錫の水和
酸化物の粒成長を抑制しめっき液の濁りを抑制する効果
をも発揮する。
【００４１】実施例４：建浴後約１０ヶ月継続使用され
た半光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝９５
／５）は褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下
のとおりである。
た半光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝９５
／５）は褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下
のとおりである。
【００４２】 Ｓｎ２＋ １７．６ｇ／ｌ Ｐｂ ０．９ｇ／ｌ 遊離酸 １３９．０ｇ／ｌ
【００４３】この液に凝結剤として実施例１で用いたと
同じポリスチレンスルホン酸ナトリウムを５００ｐｐｍ
添加攪拌し、更に実施例１で用いたと同じポリアクリル
アミド系の高分子凝集剤を４０ｐｐｍ添加、攪拌してフ
ロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱せしめた。この場
合、凝結剤５００ｐｐｍを２回に分割し、最初４００ｐ
ｐｍ、高分子凝集剤添加後残りの１００ｐｐｍを加えて
も十分効果を発揮することが認められた。上澄液の分析
値は以下のとおりである。
同じポリスチレンスルホン酸ナトリウムを５００ｐｐｍ
添加攪拌し、更に実施例１で用いたと同じポリアクリル
アミド系の高分子凝集剤を４０ｐｐｍ添加、攪拌してフ
ロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱せしめた。この場
合、凝結剤５００ｐｐｍを２回に分割し、最初４００ｐ
ｐｍ、高分子凝集剤添加後残りの１００ｐｐｍを加えて
も十分効果を発揮することが認められた。上澄液の分析
値は以下のとおりである。
【００４４】 Ｓｎ２＋ １６．２ｇ／ｌ Ｐｂ ０．９ｇ／ｌ 遊離酸 １３８．１ｇ／ｌ
【００４５】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
【００４６】実施例５：建浴後約９ヶ月継続使用された
光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４
０）は褐色懸濁状態で、めっき浴の組成の分析値は以下
のとおりである。
光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４
０）は褐色懸濁状態で、めっき浴の組成の分析値は以下
のとおりである。
【００４７】 Ｓｎ２＋ ２５．２ｇ／ｌ Ｐｂ １１．５ｇ／ｌ 遊離酸 １４２．１ｇ／ｌ
【００４８】この液に凝結剤としてポリアクリル酸ナト
リウム（分子量５，０００〜１００，０００）を１０ｐ
ｐｍ添加、攪拌して凝結せしめ、更にポリアクリルアミ
ド系の高分子凝集剤（弱アニオン性）を８０ｐｐｍ添加
攪拌してフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。
一晩放置後の上澄み液は透明でその分析値は以下のとお
りである。
リウム（分子量５，０００〜１００，０００）を１０ｐ
ｐｍ添加、攪拌して凝結せしめ、更にポリアクリルアミ
ド系の高分子凝集剤（弱アニオン性）を８０ｐｐｍ添加
攪拌してフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。
一晩放置後の上澄み液は透明でその分析値は以下のとお
りである。
【００４９】 Ｓｎ２＋ ２３．３ｇ／ｌ Ｐｂ １１．３ｇ／ｌ 遊離酸 １３９．２ｇ／ｌ
【００５０】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正し光沢剤を補充した結果良好なハルセルが得られ
た。尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方法で７０
容量％であった。
で補正し光沢剤を補充した結果良好なハルセルが得られ
た。尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方法で７０
容量％であった。
【００５１】実施例６：建浴後約１２ヶ月継続使用され
た光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／
４０）は褐色懸濁状態でめっき浴の組成の分析値は以下
のとおりである。
た光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／
４０）は褐色懸濁状態でめっき浴の組成の分析値は以下
のとおりである。
【００５２】 Ｓｎ２＋ １７．３ｇ／ｌ Ｐｂ ７．３ｇ／ｌ 遊離酸 １１８．１ｇ／ｌ
【００５３】この液に凝結剤として無水マレイン酸スチ
レン共重合体のスルホン酸ナトリウム（分子量１，００
０〜１０，０００）を８００ｐｐｍ添加・攪拌して凝結
せしめ、更にポリアクリルアミド系の高分子凝集剤（弱
アニオン性）を６０ｐｐｍ添加攪拌してフロックを形成
せしめ懸濁物質を沈澱させた。一晩放置後の上澄み液は
透明でその分析値は以下のとおりである。
レン共重合体のスルホン酸ナトリウム（分子量１，００
０〜１０，０００）を８００ｐｐｍ添加・攪拌して凝結
せしめ、更にポリアクリルアミド系の高分子凝集剤（弱
アニオン性）を６０ｐｐｍ添加攪拌してフロックを形成
せしめ懸濁物質を沈澱させた。一晩放置後の上澄み液は
透明でその分析値は以下のとおりである。
【００５４】 Ｓｎ２＋ １６．０ｇ／ｌ Ｐｂ ７．１ｇ／ｌ 遊離酸 １０９．４ｇ／ｌ
【００５５】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方法で７
０容量％であった。
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方法で７
０容量％であった。
Claims (8)
- 【請求項１】 老化した錫系合金めっき浴に水溶性ポリ
マーからなる凝結剤及び高分子凝集剤をそれぞれ添加、
撹拌してスラッジを沈降させ分離することを特徴とする
錫系合金めっき浴の再生方法。 - 【請求項２】 めっき浴が有機酸めっき浴である請求項
１記載の方法。 - 【請求項３】 有機酸めっき浴の有機酸がアルカンスル
ホン酸、アルカノールスルホン酸又はフェノールスルホ
ン酸である請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 めっき浴がほうふっ化めっき浴である請
求項１記載の方法。 - 【請求項５】 凝結剤がアニオン性で分子量が１，００
０から１，２００，０００の水溶性ポリマーである請求
項１〜４のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項６】 凝結剤がポリ（スチレンスルホン酸アル
カリ金属塩）、スチレンスルホン酸とアクリル酸、メタ
クリル酸もしくは無水マレイン酸との共重合物のアルカ
リ金属塩、ポリアクリル酸、その水溶性アルカリ金属
塩、ポリメタクリル酸、その水溶性アルカリ金属塩及び
アルギン酸アルカリ金属塩よりなる群から選択した少な
くとも１種からなる水溶性ポリマーである請求項１〜５
のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項７】 高分子凝集剤がアニオン性又は非イオン
性の高分子凝集剤である請求項１〜６のいずれか１項記
載の方法。 - 【請求項８】 高分子凝集剤がアクリルアミドとアクリ
ル酸ナトリウムもしくはメタクリル酸ナトリウムの共重
合体またはポリアクリルアミドで分子量が５００万から
１５００万である請求項１〜７のいずれか１項記載の錫
系合金有機酸めっき浴の再生方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6248239A JP3030534B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 錫系合金めっき浴の再生方法 |
| US08/522,972 US5510014A (en) | 1994-09-07 | 1995-09-01 | Method for regenerating tin or tin alloy electroplating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6248239A JP3030534B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 錫系合金めっき浴の再生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0874097A true JPH0874097A (ja) | 1996-03-19 |
| JP3030534B2 JP3030534B2 (ja) | 2000-04-10 |
Family
ID=17175234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6248239A Expired - Fee Related JP3030534B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 錫系合金めっき浴の再生方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5510014A (ja) |
| JP (1) | JP3030534B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5980677B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2016-08-31 | 東洋製罐株式会社 | 表面処理浴、この表面処理浴を用いた表面処理鋼板の製造方法及びこの製造方法から成る表面処理鋼板 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4462851B2 (ja) * | 2003-06-13 | 2010-05-12 | 三洋電機株式会社 | 導電部材の製造方法 |
| US7557049B2 (en) * | 2006-10-30 | 2009-07-07 | Nitto Denko Corporation | Producing method of wired circuit board |
| JP5715411B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-05-07 | ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 | めっき液中から不純物を除去する方法 |
| JP5830242B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-12-09 | ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 | めっき液中から不純物を除去する方法 |
| US20140083322A1 (en) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Method of removing impurities from plating liquid |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3623962A (en) * | 1968-07-31 | 1971-11-30 | Nat Steel Corp | Reducing electrolytic sludge formation |
| US4052276A (en) * | 1976-04-14 | 1977-10-04 | Nippon Steel Corporation | Treatment process for electrolytic purifying of used solution for electrolytic tin plating |
| JPS5536079A (en) * | 1978-09-07 | 1980-03-13 | Honda Motor Co Ltd | Casting device |
| US4432844A (en) * | 1982-01-28 | 1984-02-21 | Fujisash Company | Process for regeneration of electrolyte containing tin salts by reducing the same |
| US5128046A (en) * | 1990-04-16 | 1992-07-07 | Nalco Chemical Company | Water clarification through chelation |
-
1994
- 1994-09-07 JP JP6248239A patent/JP3030534B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-09-01 US US08/522,972 patent/US5510014A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5980677B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2016-08-31 | 東洋製罐株式会社 | 表面処理浴、この表面処理浴を用いた表面処理鋼板の製造方法及びこの製造方法から成る表面処理鋼板 |
| US10000858B2 (en) | 2010-05-28 | 2018-06-19 | Toyo Seikan Group Holdings, Ltd. | Bath for surface treatment, method of producing surface-treated steel plate by using the bath for surface treatment, and surface treated steel plate produced by the same method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3030534B2 (ja) | 2000-04-10 |
| US5510014A (en) | 1996-04-23 |
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