JPH0875433A - 表面形状測定装置 - Google Patents
表面形状測定装置Info
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- JPH0875433A JPH0875433A JP21130394A JP21130394A JPH0875433A JP H0875433 A JPH0875433 A JP H0875433A JP 21130394 A JP21130394 A JP 21130394A JP 21130394 A JP21130394 A JP 21130394A JP H0875433 A JPH0875433 A JP H0875433A
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Links
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】表面形状を高精度、高感度に測定することがで
きるコンパクトな表面形状測定装置。 【構成】所定の周期で発振周波数と発光強度が変調され
たレーザ光は光ファイバー16を介して検出器本体11
に導かれ、ビームスプリッタ36によって二つの方向に
分割される。一方は参照ミラー37に照射されて、他方
は可変機構に支持された対物レンズ45で集光され、光
触針として被測定面に照射される。被測定面の反射光は
光路を戻り、その一部はビームスプリッタ41で折り曲
げられ、ホトダイオード48で受光され、対物レンズ4
5の焦点ずれ信号となる。可変機構制御回路15は対物
レンズ45の位置を制御し、光触針の被測定面での合焦
点状態を確保する。ビームスプリッタ41を直進した物
体光は、ビームスプリッタ36において参照光と重畳さ
れる。両者の間に生じるヘテロダイン干渉の干渉信号を
ホトダイオード38によって光電変換し、被測定物の表
面形状を測定する。
きるコンパクトな表面形状測定装置。 【構成】所定の周期で発振周波数と発光強度が変調され
たレーザ光は光ファイバー16を介して検出器本体11
に導かれ、ビームスプリッタ36によって二つの方向に
分割される。一方は参照ミラー37に照射されて、他方
は可変機構に支持された対物レンズ45で集光され、光
触針として被測定面に照射される。被測定面の反射光は
光路を戻り、その一部はビームスプリッタ41で折り曲
げられ、ホトダイオード48で受光され、対物レンズ4
5の焦点ずれ信号となる。可変機構制御回路15は対物
レンズ45の位置を制御し、光触針の被測定面での合焦
点状態を確保する。ビームスプリッタ41を直進した物
体光は、ビームスプリッタ36において参照光と重畳さ
れる。両者の間に生じるヘテロダイン干渉の干渉信号を
ホトダイオード38によって光電変換し、被測定物の表
面形状を測定する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光を被測定物に
照射して、表面形状や表面粗さ等を測定する非接触式表
面形状測定装置に関する。
照射して、表面形状や表面粗さ等を測定する非接触式表
面形状測定装置に関する。
【0002】
【従来技術】従来の光学式粗さ計ピックアップには二種
類あり、一つは非点収差法又は臨界角法と呼ばれ、光ビ
ームを集光して焦点位置で被測定物に照射し、測定面の
凹凸により生じる焦点位置のずれ量を検出するものであ
る。他のひとつは、フォーカスサーボ式と呼ばれ、光ビ
ームを集光して被測定物に照射する際に、光ビームの焦
点が測定面を照射するように、測定面の凹凸に応じて対
物レンズを上下させ、その上下させる制御信号又はこの
対物レンズに同期させた差動変圧器の出力信号を検出信
号としている。
類あり、一つは非点収差法又は臨界角法と呼ばれ、光ビ
ームを集光して焦点位置で被測定物に照射し、測定面の
凹凸により生じる焦点位置のずれ量を検出するものであ
る。他のひとつは、フォーカスサーボ式と呼ばれ、光ビ
ームを集光して被測定物に照射する際に、光ビームの焦
点が測定面を照射するように、測定面の凹凸に応じて対
物レンズを上下させ、その上下させる制御信号又はこの
対物レンズに同期させた差動変圧器の出力信号を検出信
号としている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記した非点収差法又
は臨界角法による光学式ピックアップは、高感度、高速
の測定ができるという利点がある反面、検出素子の線型
範囲が狭く、測定範囲が±1μm程度に限られるという
欠点がある。他方、フォーカスサーボ式のピックアップ
は、測定範囲は±400μm程度と広範囲測定が可能で
ある反面、測定面の凹凸に応じて対物レンズを駆動させ
る為に、高速、高分解能の測定には適さないという欠点
がある。
は臨界角法による光学式ピックアップは、高感度、高速
の測定ができるという利点がある反面、検出素子の線型
範囲が狭く、測定範囲が±1μm程度に限られるという
欠点がある。他方、フォーカスサーボ式のピックアップ
は、測定範囲は±400μm程度と広範囲測定が可能で
ある反面、測定面の凹凸に応じて対物レンズを駆動させ
る為に、高速、高分解能の測定には適さないという欠点
がある。
【0004】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、前記両者を合わせ持った特徴を有し、高精度、
高感度、広範囲の測定ができる表面形状測定装置を提供
することを目的とする。
もので、前記両者を合わせ持った特徴を有し、高精度、
高感度、広範囲の測定ができる表面形状測定装置を提供
することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、周波数変調したレーザビームを発生させる
レーザ光源部と、前記レーザビームの一部を被測定物に
照射する為の対物レンズ系と、該対物レンズ系を被測定
面に対して遠近移動させるレンズ駆動機構と、前記レー
ザ光源部から導入したレーザビームを分割し、分割した
一方のレーザビームを前記対物レンズ系を介して被測定
面に照射して反射光を得ると共に、他方のレーザビーム
を参照反射鏡に照射して反射光を得て、これら両反射光
を干渉させるマイケルソン型干渉光学系と、前記対物レ
ンズ系を介して被測定面からの反射光の一部を取り込
み、被測定面での対物レンズ系の焦点ずれを検出する検
出手段と、前記検出手段が検出した焦点ずれに基づいて
被測定面上で対物レンズ系の焦点が合うようにレンズ駆
動機構を駆動制御するレンズ駆動制御回路と、前記マイ
ケルソン型干渉光学系において生じるヘテロダイン干渉
による干渉光を受光し、受光した光干渉信号を電気信号
に変換する光電変換部と、前記光電変換部の検出信号に
基づいて被測定物の形状の変位量を算出すると共に、前
記レーザ光源の周波数変調を制御する制御部と、から成
ることを特徴とする。
するために、周波数変調したレーザビームを発生させる
レーザ光源部と、前記レーザビームの一部を被測定物に
照射する為の対物レンズ系と、該対物レンズ系を被測定
面に対して遠近移動させるレンズ駆動機構と、前記レー
ザ光源部から導入したレーザビームを分割し、分割した
一方のレーザビームを前記対物レンズ系を介して被測定
面に照射して反射光を得ると共に、他方のレーザビーム
を参照反射鏡に照射して反射光を得て、これら両反射光
を干渉させるマイケルソン型干渉光学系と、前記対物レ
ンズ系を介して被測定面からの反射光の一部を取り込
み、被測定面での対物レンズ系の焦点ずれを検出する検
出手段と、前記検出手段が検出した焦点ずれに基づいて
被測定面上で対物レンズ系の焦点が合うようにレンズ駆
動機構を駆動制御するレンズ駆動制御回路と、前記マイ
ケルソン型干渉光学系において生じるヘテロダイン干渉
による干渉光を受光し、受光した光干渉信号を電気信号
に変換する光電変換部と、前記光電変換部の検出信号に
基づいて被測定物の形状の変位量を算出すると共に、前
記レーザ光源の周波数変調を制御する制御部と、から成
ることを特徴とする。
【0006】
【作用】本発明によれば、周波数変調されたレーザビー
ムの一部は、光触針として対物レンズ系によって集光さ
れ、その合焦点位置で被測定物に照射される。被測定面
の凹凸の為に焦点がずれた場合には、その凹凸に応じて
対物レンズ系が上下に可動制御されるため、レーザビー
ムは常に合焦点状態で被測定物に照射される。対物レン
ズ系を動かしても被測定物までの光路長には変化はな
く、測定値には直接影響しないので、凹凸方向について
広範囲の測定ができる。
ムの一部は、光触針として対物レンズ系によって集光さ
れ、その合焦点位置で被測定物に照射される。被測定面
の凹凸の為に焦点がずれた場合には、その凹凸に応じて
対物レンズ系が上下に可動制御されるため、レーザビー
ムは常に合焦点状態で被測定物に照射される。対物レン
ズ系を動かしても被測定物までの光路長には変化はな
く、測定値には直接影響しないので、凹凸方向について
広範囲の測定ができる。
【0007】変位量の検出は、前記レーザビームの被測
定面での反射光の一部を導いた光干渉計におけるヘテロ
ダイン干渉のドップラー周波数偏移を利用している為
に、電気的ノイズの影響を受けにくいことに加え、検出
光は電気的に変換されて処理される為に、感度校正が不
要で、高精度、高感度測定ができる。
定面での反射光の一部を導いた光干渉計におけるヘテロ
ダイン干渉のドップラー周波数偏移を利用している為
に、電気的ノイズの影響を受けにくいことに加え、検出
光は電気的に変換されて処理される為に、感度校正が不
要で、高精度、高感度測定ができる。
【0008】
【実施例】以下添付図面に従って本発明に係る表面形状
測定装置の好ましい実施例を詳述する。図1は本発明に
係る表面形状測定装置の一実施例が示されており、この
表面形状測定装置は、レーザビームを発生させるレーザ
光源部10と、粗さ検出器本体部11と、レーザ光源の
制御及び検出器からの信号に基づいて被測定物Wの表面
形状変位等を算出する制御部14とを有し、レーザ光源
部10と検出器本体11は両端に着脱自在な光コネクタ
16A、16Bをもつ光ファイバー16によって接続さ
れる。この光ファイバー16はシングルモードファイバ
ーで構成される。
測定装置の好ましい実施例を詳述する。図1は本発明に
係る表面形状測定装置の一実施例が示されており、この
表面形状測定装置は、レーザビームを発生させるレーザ
光源部10と、粗さ検出器本体部11と、レーザ光源の
制御及び検出器からの信号に基づいて被測定物Wの表面
形状変位等を算出する制御部14とを有し、レーザ光源
部10と検出器本体11は両端に着脱自在な光コネクタ
16A、16Bをもつ光ファイバー16によって接続さ
れる。この光ファイバー16はシングルモードファイバ
ーで構成される。
【0009】検出器本体11と制御部14は電気ケーブ
ル20によって接続され、検出器からの検出信号は制御
部14へ送られる。一方、レーザ光源部10は制御部1
4と電気ケーブル21によって接続されることによって
構成される。本実施例におけるレーザ光源部10は、図
1に示すように、レーザダイオード24、ペルチエ素子
25、コリメータレンズ26、光アイソレータ27、対
物レンズ28から構成されている。
ル20によって接続され、検出器からの検出信号は制御
部14へ送られる。一方、レーザ光源部10は制御部1
4と電気ケーブル21によって接続されることによって
構成される。本実施例におけるレーザ光源部10は、図
1に示すように、レーザダイオード24、ペルチエ素子
25、コリメータレンズ26、光アイソレータ27、対
物レンズ28から構成されている。
【0010】発光源のレーザダイオード24はペルチエ
素子(加熱及び/又は冷却素子)25と図示しない温度
センサとが設けられており、後述する制御部14の温度
コントローラによって一定の温度を保つように制御され
る。一方、レーザダイオード24は電気ケーブル21を
介して後述する制御部14からの周波数変調電流を受け
て、周波数変調されたレーザ光を発光する。
素子(加熱及び/又は冷却素子)25と図示しない温度
センサとが設けられており、後述する制御部14の温度
コントローラによって一定の温度を保つように制御され
る。一方、レーザダイオード24は電気ケーブル21を
介して後述する制御部14からの周波数変調電流を受け
て、周波数変調されたレーザ光を発光する。
【0011】変調されたレーザ光は、コリメータレンズ
26によって平行光にされ、反射光を防止する光アイソ
レータ27を経て、対物レンズ28により集光されて、
光ファイバー16に入射する。変調されたレーザ光は、
この光ファイバー16を介して検出器本体11に導かれ
る。次に、検出器本体の構成について説明する。本体ケ
ース12の下面には開口部13が形成され、この開口部
を通して、後述するようにレーザ光の一部が光触針とし
て被測定物Wに照射される。
26によって平行光にされ、反射光を防止する光アイソ
レータ27を経て、対物レンズ28により集光されて、
光ファイバー16に入射する。変調されたレーザ光は、
この光ファイバー16を介して検出器本体11に導かれ
る。次に、検出器本体の構成について説明する。本体ケ
ース12の下面には開口部13が形成され、この開口部
を通して、後述するようにレーザ光の一部が光触針とし
て被測定物Wに照射される。
【0012】検出器本体11に導かれたレーザ光は、コ
リメートレンズ35によって平行光にされ、この光軸L
1 上のビームスプリッタ36で異なる2つの方向に分割
される。即ち、一方のレーザビームは光軸L1 に直交す
る光軸L2 に折り曲げられ、参照ミラー37に照射さ
れ、他方のレーザビームは光軸L1 を直進してビームス
プリッタ41を経て、光路変換ミラー42で光軸L3 に
折り曲げられ、対物レンズ45を介して、前記開口部1
3から被測定物Wに照射される。
リメートレンズ35によって平行光にされ、この光軸L
1 上のビームスプリッタ36で異なる2つの方向に分割
される。即ち、一方のレーザビームは光軸L1 に直交す
る光軸L2 に折り曲げられ、参照ミラー37に照射さ
れ、他方のレーザビームは光軸L1 を直進してビームス
プリッタ41を経て、光路変換ミラー42で光軸L3 に
折り曲げられ、対物レンズ45を介して、前記開口部1
3から被測定物Wに照射される。
【0013】参照ミラー37で反射された光(参照光)
はビームスプリッタ36に戻り、後述する物体光と重畳
されて、ビームスプリッタ36を挟んで参照ミラー37
と対峙して配置されたホトダイオード38によって受光
される。他方、被測定物Wで反射した光(物体光)は、
入射光路を逆に戻り、ビームスプリッタ41で更に異な
る2方向に分割される。その一方は、光軸L1 を直進し
て前記ビームスプリッタ36で光路が折り曲げられると
共に、前記参照光と重畳され、ホトダイオード38によ
って受光される。この干渉信号を基に検出器本体と被測
定面との距離が測定される。他方ビームスプリッタ41
で光軸L4 に折り曲げられた物体光の一部は、シリンド
リカルレンズ46を介して、四分割ホトダイオード48
に受光され、光電変換される。この信号をもとに、被測
定面での対物レンズ45の焦点ずれが検出される。
はビームスプリッタ36に戻り、後述する物体光と重畳
されて、ビームスプリッタ36を挟んで参照ミラー37
と対峙して配置されたホトダイオード38によって受光
される。他方、被測定物Wで反射した光(物体光)は、
入射光路を逆に戻り、ビームスプリッタ41で更に異な
る2方向に分割される。その一方は、光軸L1 を直進し
て前記ビームスプリッタ36で光路が折り曲げられると
共に、前記参照光と重畳され、ホトダイオード38によ
って受光される。この干渉信号を基に検出器本体と被測
定面との距離が測定される。他方ビームスプリッタ41
で光軸L4 に折り曲げられた物体光の一部は、シリンド
リカルレンズ46を介して、四分割ホトダイオード48
に受光され、光電変換される。この信号をもとに、被測
定面での対物レンズ45の焦点ずれが検出される。
【0014】尚、光路変換ミラー42は検出器本体の構
成上必須ではなく、光軸L1 とL3は同軸に配置しても
よい。前記ホトダイオード38は電気ケーブル51を介
して本体ケース12に取り付けた着脱自在なコネクタ5
3と接続されており、電気ケーブル20はコネクタ53
を介して検出器本体11と接続されると共に、着脱自在
なコネクタ54を介して制御部14と接続されている。
ホトダイオード38で光電変換された検出信号を本体ケ
ースの外部に取り出し、後述する制御部14と接続し易
くする為である。
成上必須ではなく、光軸L1 とL3は同軸に配置しても
よい。前記ホトダイオード38は電気ケーブル51を介
して本体ケース12に取り付けた着脱自在なコネクタ5
3と接続されており、電気ケーブル20はコネクタ53
を介して検出器本体11と接続されると共に、着脱自在
なコネクタ54を介して制御部14と接続されている。
ホトダイオード38で光電変換された検出信号を本体ケ
ースの外部に取り出し、後述する制御部14と接続し易
くする為である。
【0015】対物レンズ45は図示しないリニアモータ
とその駆動機構によって可変に支持されており、四分割
ホトダイオード48からの信号に基づいて、被測定面に
おける対物レンズ45の焦点ずれを最小にするように、
前記リニアモータを制御する制御回路15によって駆動
制御される。レンズ駆動制御回路15は検出器本体11
に組み込んでもよいし、後述する制御部14に組み込ん
でもよい。
とその駆動機構によって可変に支持されており、四分割
ホトダイオード48からの信号に基づいて、被測定面に
おける対物レンズ45の焦点ずれを最小にするように、
前記リニアモータを制御する制御回路15によって駆動
制御される。レンズ駆動制御回路15は検出器本体11
に組み込んでもよいし、後述する制御部14に組み込ん
でもよい。
【0016】制御部に組み込む場合は、四分割ホトダイ
オード48と対物レンズ45の駆動機構(リニアモー
タ)はそれぞれ図示しない電気ケーブルによって着脱自
在なコネクタ53に接続され、電気ケーブル20を介し
て制御部14と接続される。一方、制御部14は、前記
レンズ駆動制御回路15の他、図2に示すように、主と
して鋸歯状波又は三角波発生器55、温度コントローラ
51、バンドパスフィルタ57、波形整形器58、5
9、周波数逓倍回路60、61、ゲート回路62、及び
アップダウンカウンタ63から構成されている。
オード48と対物レンズ45の駆動機構(リニアモー
タ)はそれぞれ図示しない電気ケーブルによって着脱自
在なコネクタ53に接続され、電気ケーブル20を介し
て制御部14と接続される。一方、制御部14は、前記
レンズ駆動制御回路15の他、図2に示すように、主と
して鋸歯状波又は三角波発生器55、温度コントローラ
51、バンドパスフィルタ57、波形整形器58、5
9、周波数逓倍回路60、61、ゲート回路62、及び
アップダウンカウンタ63から構成されている。
【0017】前記の如く構成された表面形状測定装置に
おける測定原理を鋸歯状波変調電流を用いた場合につい
て説明する。図2に制御部のブロック図を示す。鋸歯状
波又は三角波発生器55は周期TS (周波数fs 、角周
波数ωs )の鋸歯状波変調電流Sa(図3(A))をレ
ーザダイオード(光源部)及び波形整形器58に出力す
る。尚、この鋸歯状波又は三角波発生器55は、同図
(A)に示すようにバイアス電流に対して変調幅が小さ
い鋸歯状波変調電流Saを出力している。
おける測定原理を鋸歯状波変調電流を用いた場合につい
て説明する。図2に制御部のブロック図を示す。鋸歯状
波又は三角波発生器55は周期TS (周波数fs 、角周
波数ωs )の鋸歯状波変調電流Sa(図3(A))をレ
ーザダイオード(光源部)及び波形整形器58に出力す
る。尚、この鋸歯状波又は三角波発生器55は、同図
(A)に示すようにバイアス電流に対して変調幅が小さ
い鋸歯状波変調電流Saを出力している。
【0018】レーザダイオードは鋸歯状波変調電流Sa
によって発振周波数と発光強度が変調される。尚、レー
ザダイオードには加熱及び/又は冷却素子(ぺルチエ素
子)25及び温度センサが設けられており、温度コント
ローラ56は温度センサによって検出される温度が一定
値になるように加熱及び/又は冷却素子(ペルチエ素
子)25を制御する。これにより、レーザダイオードの
温度変化による波長変化を抑え、測定精度を上げてい
る。
によって発振周波数と発光強度が変調される。尚、レー
ザダイオードには加熱及び/又は冷却素子(ぺルチエ素
子)25及び温度センサが設けられており、温度コント
ローラ56は温度センサによって検出される温度が一定
値になるように加熱及び/又は冷却素子(ペルチエ素
子)25を制御する。これにより、レーザダイオードの
温度変化による波長変化を抑え、測定精度を上げてい
る。
【0019】レーザダイオード24から出力される変調
されたレーザビームは、コリメータレンズ26、光アイ
ソレータ27、及び対物レンズ28を介して光ファイバ
ー16の先端に集光され、光ファイバー16を通して検
出器本体11に導かれる。尚、レーザ光源部10と検出
器本体11とは両端が着脱自在な光コネクタ16A、1
6Bをもつ光ファイバー16によって光学的に接続され
ているため、接続の着脱が容易である。
されたレーザビームは、コリメータレンズ26、光アイ
ソレータ27、及び対物レンズ28を介して光ファイバ
ー16の先端に集光され、光ファイバー16を通して検
出器本体11に導かれる。尚、レーザ光源部10と検出
器本体11とは両端が着脱自在な光コネクタ16A、1
6Bをもつ光ファイバー16によって光学的に接続され
ているため、接続の着脱が容易である。
【0020】検出器本体11に入射したレーザビームは
コリメートレンズ35で平行光にされ、ビームスプリッ
タ36によって分割され、一方は光軸L1 に直交する光
軸L 2 に折り曲げられ、参照ミラー37に照射され、他
方は、光軸L1 を直進しビームスプリッタ41を経て、
光路変換用ミラー42で光軸L3 に折り曲げられて対物
レンズ45を介して被測定物Wに照射される。
コリメートレンズ35で平行光にされ、ビームスプリッ
タ36によって分割され、一方は光軸L1 に直交する光
軸L 2 に折り曲げられ、参照ミラー37に照射され、他
方は、光軸L1 を直進しビームスプリッタ41を経て、
光路変換用ミラー42で光軸L3 に折り曲げられて対物
レンズ45を介して被測定物Wに照射される。
【0021】被測定物Wで反射したレーザ光(物体光)
は同じ光路を逆に戻り、ビームスプリッタ41によって
その一部が光軸L4 に折り曲げられる。光軸L4 に光路
を変えられた物体光の一部はシリンドリカルレンズ46
を経て、四分割ホトダイオード48で受光され、光電変
換される。この信号は図示しない電気ケーブルを介して
レンズ駆動制御回路15に送られ、被測定面における対
物レンズ45の焦点ずれを算出する為の信号となる。
は同じ光路を逆に戻り、ビームスプリッタ41によって
その一部が光軸L4 に折り曲げられる。光軸L4 に光路
を変えられた物体光の一部はシリンドリカルレンズ46
を経て、四分割ホトダイオード48で受光され、光電変
換される。この信号は図示しない電気ケーブルを介して
レンズ駆動制御回路15に送られ、被測定面における対
物レンズ45の焦点ずれを算出する為の信号となる。
【0022】他方、ビームスプリッタ41を直進した物
体光はビームスプリッタ36で光路が折り曲げられると
共に前述した参照光と重畳され、ホトダイオード38に
よって受光され、光電変換される。この信号は、電気ケ
ーブル51、20を介して制御部14へ送られる。制御
部14は該干渉信号を処理し、被測定物Wの表面形状を
算出する。
体光はビームスプリッタ36で光路が折り曲げられると
共に前述した参照光と重畳され、ホトダイオード38に
よって受光され、光電変換される。この信号は、電気ケ
ーブル51、20を介して制御部14へ送られる。制御
部14は該干渉信号を処理し、被測定物Wの表面形状を
算出する。
【0023】被測定物Wの表面の形状が変化すると、被
測定面と対物レンズ45の焦点位置とにずれが生じる
が、そのずれは、被測定面の反射光の一部を導いたシリ
ンドリカルレンズ46の集光に反映される。シリンドリ
カルレンズ46は非点収差をもつ集光の特性を有し、そ
の像は四分割ホトダイオード48で検出される。四分割
ホトダイオード48はその受光面が上下左右に四分割さ
れており、各分割面に入射するレーザビームの光量に応
じた4つの電気信号をレンズ駆動制御回路15制御部に
出力する。レンズ駆動制御回路15制御部は、入力する
4つの電気信号のうち、上下の分割面に対応する電気信
号のレベルと左右の分割面に対応する電気信号のレベル
の差から、焦点のずれ方向とずれ量を算出し、これを最
小にする方向にリニアモータを駆動する制御信号を出力
する。
測定面と対物レンズ45の焦点位置とにずれが生じる
が、そのずれは、被測定面の反射光の一部を導いたシリ
ンドリカルレンズ46の集光に反映される。シリンドリ
カルレンズ46は非点収差をもつ集光の特性を有し、そ
の像は四分割ホトダイオード48で検出される。四分割
ホトダイオード48はその受光面が上下左右に四分割さ
れており、各分割面に入射するレーザビームの光量に応
じた4つの電気信号をレンズ駆動制御回路15制御部に
出力する。レンズ駆動制御回路15制御部は、入力する
4つの電気信号のうち、上下の分割面に対応する電気信
号のレベルと左右の分割面に対応する電気信号のレベル
の差から、焦点のずれ方向とずれ量を算出し、これを最
小にする方向にリニアモータを駆動する制御信号を出力
する。
【0024】対物レンズ45の可変機構はこの制御信号
をもとに、対物レンズ45を上下に駆動する。これによ
り、対物レンズ45は被測定面の凹凸方向に追従して上
下に可動制御され、その結果、レーザビームは常に合焦
点状態で被測定面に照射される。尚、対物レンズ45を
動かしても、被測定物までの光路長の変化は無く、該レ
ンズの移動は後述する被測定物の表面形状測定値には直
接影響しない。
をもとに、対物レンズ45を上下に駆動する。これによ
り、対物レンズ45は被測定面の凹凸方向に追従して上
下に可動制御され、その結果、レーザビームは常に合焦
点状態で被測定面に照射される。尚、対物レンズ45を
動かしても、被測定物までの光路長の変化は無く、該レ
ンズの移動は後述する被測定物の表面形状測定値には直
接影響しない。
【0025】合焦点状態で被測定面に照射されたレーザ
光は、被測定面で反射され、入射光路を逆に戻って、そ
の一部がビームスプリッタ36で参照光と重畳される。
物体光と参照光との間には検出器本体と被測定面との距
離に対応した時間遅れがあり、両者の周波数は異なる。
そのため、参照光と物体光とでヘテロダイン干渉が生じ
る。
光は、被測定面で反射され、入射光路を逆に戻って、そ
の一部がビームスプリッタ36で参照光と重畳される。
物体光と参照光との間には検出器本体と被測定面との距
離に対応した時間遅れがあり、両者の周波数は異なる。
そのため、参照光と物体光とでヘテロダイン干渉が生じ
る。
【0026】この干渉信号はホトダイオード38により
検出される。このホトダイオード38によって検出され
た信号Se(図3(C))の周波数と位相は、参照鏡と
被測定面との光路距離差Dに比例する。尚、信号Seの
レベルは、レーザダイオード24の周波数変調による発
光強度の変化、被測定面の反射率に影響される。本発明
では以下に示す原理により、前記ホトダイオード38に
よって検出された信号からレーザダイオード24の発光
強度の変化の影響を除去している。
検出される。このホトダイオード38によって検出され
た信号Se(図3(C))の周波数と位相は、参照鏡と
被測定面との光路距離差Dに比例する。尚、信号Seの
レベルは、レーザダイオード24の周波数変調による発
光強度の変化、被測定面の反射率に影響される。本発明
では以下に示す原理により、前記ホトダイオード38に
よって検出された信号からレーザダイオード24の発光
強度の変化の影響を除去している。
【0027】先ず、レーザダイオードの発振周波数の変
調と発光強度の変調について説明する。レーザダイオー
ドに、図3(A)に示すような周期Ts 、変調幅Δiの
鋸歯状波変調電流Sa(t) を入力すると、レーザダイオ
ードの発振角周波数ω(t) 、発光強度I(t) も鋸歯状に
変調される( 図3(B)、(C)参照)。
調と発光強度の変調について説明する。レーザダイオー
ドに、図3(A)に示すような周期Ts 、変調幅Δiの
鋸歯状波変調電流Sa(t) を入力すると、レーザダイオ
ードの発振角周波数ω(t) 、発光強度I(t) も鋸歯状に
変調される( 図3(B)、(C)参照)。
【0028】ここで、1変調周期(−Ts /2≦t≦T
s /2)において、鋸歯状波変調電流Sa(t) を、次
式、 Sa(t)=i0+Δi・t/Ts=i0+αi・t …(1) とすると、発振角周波数ω(t) 、及び発光強度I(t)
は、次式、 ω(t)=ω0+Δω・t/Ts=ω0+kwi・αi・t …(2) I(t)=I0+ΔI・t/Ts=I0+kIi・αi・t …(3) のように書くことができる。
s /2)において、鋸歯状波変調電流Sa(t) を、次
式、 Sa(t)=i0+Δi・t/Ts=i0+αi・t …(1) とすると、発振角周波数ω(t) 、及び発光強度I(t)
は、次式、 ω(t)=ω0+Δω・t/Ts=ω0+kwi・αi・t …(2) I(t)=I0+ΔI・t/Ts=I0+kIi・αi・t …(3) のように書くことができる。
【0029】但し、i0 、ω0 、Δi、Δω、ΔIの定
義は、図4に示されている。 また、αi=Δi/Ts(電流変調率) kwi=Δω/Δi(発振角周波数の変調定数) kIi=ΔI/Δi(発光強度の変調定数) である。
義は、図4に示されている。 また、αi=Δi/Ts(電流変調率) kwi=Δω/Δi(発振角周波数の変調定数) kIi=ΔI/Δi(発光強度の変調定数) である。
【0030】次に、ホトダイオード38によって検出さ
れる干渉信号について説明する。ビームスプリッタ36
に到達するレーザダイオード24の発光強度をηI(t)
とする。但し、ηはレーザ光の光ファイバー16へのカ
ップリング率によって決まる定数とする。また、参照鏡
37の反射光(参照光)の強度をIr (t) 、被測定面の
反射光(物体光)をI0 (t) とすると、Ir (t) 、I0
(t) は、次式、 Ir(t)=βr・ηI(t) …(4) I0(t)=β0・ηI(t) …(5) のようになる。但し、βr ,β0 は反射係数である。
れる干渉信号について説明する。ビームスプリッタ36
に到達するレーザダイオード24の発光強度をηI(t)
とする。但し、ηはレーザ光の光ファイバー16へのカ
ップリング率によって決まる定数とする。また、参照鏡
37の反射光(参照光)の強度をIr (t) 、被測定面の
反射光(物体光)をI0 (t) とすると、Ir (t) 、I0
(t) は、次式、 Ir(t)=βr・ηI(t) …(4) I0(t)=β0・ηI(t) …(5) のようになる。但し、βr ,β0 は反射係数である。
【0031】上記参照光と物体光とはヘテロダイン干渉
し、ホトダイオード38により検出される干渉信号Se
(t) は、次式のようになる。 Se(t)=K・ηI(t) ×〔βr+β0+2(βrβ0)1/2cos(ωbt+φb)〕…(6) ここで、Kはホトダイオード38の光電変換率、ωb ,
φb はビート信号の角周波数及び位相であり、それぞれ
次式、 ωb=2Δω/TS τ …(7) φb=ω0 τ …(8) で表される。式(7)、(8)中で、τは図5に示すよ
うに参照光と物体光との時間遅れである。
し、ホトダイオード38により検出される干渉信号Se
(t) は、次式のようになる。 Se(t)=K・ηI(t) ×〔βr+β0+2(βrβ0)1/2cos(ωbt+φb)〕…(6) ここで、Kはホトダイオード38の光電変換率、ωb ,
φb はビート信号の角周波数及び位相であり、それぞれ
次式、 ωb=2Δω/TS τ …(7) φb=ω0 τ …(8) で表される。式(7)、(8)中で、τは図5に示すよ
うに参照光と物体光との時間遅れである。
【0032】式(6)のI(t) は、式(3)によって表
すことができるため、式(3)において、もし(kIi・
αi ・t)が、I0 と比べて小さく、次式、 I0≫|kIi・αi・tmax |=kIi・αi・Ts/2 =kIi(Δi/Ts)(Ts/2)=kIi・Δi/2=ΔI/2 …(9) を満たせば、(kIi・αi ・t)を無視することができ
る。そして、この場合には、上記(6)式は、次式、 Se(t)≒K・ηI0〔βr+β0+2(βrβ0)1/2cos(ωbt+φb)〕…(10) となり、直流成分(βr +β0 )をカットすれば、下記
式(11)を得ることができる。
すことができるため、式(3)において、もし(kIi・
αi ・t)が、I0 と比べて小さく、次式、 I0≫|kIi・αi・tmax |=kIi・αi・Ts/2 =kIi(Δi/Ts)(Ts/2)=kIi・Δi/2=ΔI/2 …(9) を満たせば、(kIi・αi ・t)を無視することができ
る。そして、この場合には、上記(6)式は、次式、 Se(t)≒K・ηI0〔βr+β0+2(βrβ0)1/2cos(ωbt+φb)〕…(10) となり、直流成分(βr +β0 )をカットすれば、下記
式(11)を得ることができる。
【0033】 Se(t)=A・cos( ωbt+φb)…(11) ところで、上記式(9)を満たすためには、以下のよう
にすればよい。 (1) I0 を大きくする。 (2) Δiを小さくする。 (3) kIiを小さくする。
にすればよい。 (1) I0 を大きくする。 (2) Δiを小さくする。 (3) kIiを小さくする。
【0034】上記(1) と(2) は、式(1)に示した変調
電流Sa(t) において、バイアス電流i0 を大きくし、
変調幅Δiを小さくすることを意味する。また、(3) の
kIiはレーザダイオードの固有特性により、この値を自
由に変えることはできないが、kIiが小さく、しかもk
wiが大きいレーザダイオードを選択し、使用すれば良
い。
電流Sa(t) において、バイアス電流i0 を大きくし、
変調幅Δiを小さくすることを意味する。また、(3) の
kIiはレーザダイオードの固有特性により、この値を自
由に変えることはできないが、kIiが小さく、しかもk
wiが大きいレーザダイオードを選択し、使用すれば良
い。
【0035】尚、本実施例では、前述したように鋸歯状
波又は三角波発生器55は、図3(A)に示すようにバ
イアス電流に対して変調幅が小さい鋸歯状波変調電流S
aを出力し、これにより、ホトダイオード38により検
出される干渉信号Seは、図3(C)に示すようにレー
ザダイオード24の周波数変調による発光強度変化の影
響は無視できる程に小さい。
波又は三角波発生器55は、図3(A)に示すようにバ
イアス電流に対して変調幅が小さい鋸歯状波変調電流S
aを出力し、これにより、ホトダイオード38により検
出される干渉信号Seは、図3(C)に示すようにレー
ザダイオード24の周波数変調による発光強度変化の影
響は無視できる程に小さい。
【0036】さて、図2において、ホトダイオード38
によって検出された干渉信号Seはバンドパスフィルタ
57に出力される。バンドパスフィルタ57は中心周波
数fs 、バンド幅Δν(例えばfs /10)を有し、入
力信号Seからfs の成分を取り出し、その取り出した
信号Sf(図3(D))を波形整形器59に出力する。
波形整形器59は入力信号Sfを矩形波の信号Sg(図
3(E))に変換し、周波数逓倍回路61はこの信号S
gの周波数が予め設定された倍率m(図3ではm=2)
になるように逓倍し、その逓倍した信号(パルス信号)
Sg′をゲート回路62の入力G1 に出力する(図3
(G)、(H)参照)。
によって検出された干渉信号Seはバンドパスフィルタ
57に出力される。バンドパスフィルタ57は中心周波
数fs 、バンド幅Δν(例えばfs /10)を有し、入
力信号Seからfs の成分を取り出し、その取り出した
信号Sf(図3(D))を波形整形器59に出力する。
波形整形器59は入力信号Sfを矩形波の信号Sg(図
3(E))に変換し、周波数逓倍回路61はこの信号S
gの周波数が予め設定された倍率m(図3ではm=2)
になるように逓倍し、その逓倍した信号(パルス信号)
Sg′をゲート回路62の入力G1 に出力する(図3
(G)、(H)参照)。
【0037】一方、波形整形器58は鋸歯状波又は三角
波発生器55から入力する鋸歯状波変調電流Saを矩形
波の信号Sb(図3(B))に変換し、周波数逓倍回路
60はこの信号Sbの周波数を前記周波数逓倍回路61
と同じ倍率で逓倍し、その逓倍した信号(パルス信号)
Sb′をゲート回路62の入力G2 に出力する(図3
(F)参照)。
波発生器55から入力する鋸歯状波変調電流Saを矩形
波の信号Sb(図3(B))に変換し、周波数逓倍回路
60はこの信号Sbの周波数を前記周波数逓倍回路61
と同じ倍率で逓倍し、その逓倍した信号(パルス信号)
Sb′をゲート回路62の入力G2 に出力する(図3
(F)参照)。
【0038】ゲート回路62は、入力G1 のパルス信号
Sg′と入力G2 のパルス信号Sb′の周波数差による
新しいパルス信号を作り、アップダウンカウンタ63の
アップ入力U又はダウン入力Dに出力する。従って、ア
ップダウンカウンタ63はパルス信号Sb′とパルス信
号Sg′との周波数の差を積算することになる。ところ
で、被測定物が停止している場合には、周波数逓倍回路
61から出力されるパルス信号Sg′の周波数は、周波
数逓倍回路60から出力される基準のパルス信号Sb′
の周波数と一致し、アップダウンカウンタ60のカウン
ト値は変化しないが、被測定物が移動すると、ドップラ
ー周波数偏移により波形整形器59から出力される信号
Sg(周波数逓倍回路61から出力されるパルス信号S
g′)の周波数は変化する。
Sg′と入力G2 のパルス信号Sb′の周波数差による
新しいパルス信号を作り、アップダウンカウンタ63の
アップ入力U又はダウン入力Dに出力する。従って、ア
ップダウンカウンタ63はパルス信号Sb′とパルス信
号Sg′との周波数の差を積算することになる。ところ
で、被測定物が停止している場合には、周波数逓倍回路
61から出力されるパルス信号Sg′の周波数は、周波
数逓倍回路60から出力される基準のパルス信号Sb′
の周波数と一致し、アップダウンカウンタ60のカウン
ト値は変化しないが、被測定物が移動すると、ドップラ
ー周波数偏移により波形整形器59から出力される信号
Sg(周波数逓倍回路61から出力されるパルス信号S
g′)の周波数は変化する。
【0039】即ち、被測定物が遠ざかる方向に移動する
と、パルス信号Sg′の周波数は大きくなり(図3
(G)参照)、被測定物がに近づく方向に移動すると、
パルス信号Sg′の周波数は小さくなる(図3(H)参
照)。従って、パルス信号Sb′とパルス信号Sg′の
パルス数の差は、被測定物の移動速度及び移動方向に対
応し、そのパルス数の差の積算値は被測定物の移動量に
対応する。これにより、被測定物を或る位置から他の位
置に移動させたときのアップダウンカウンタ63のカウ
ント値の増減量に基づいて、被測定物の移動距離を測定
することができる。
と、パルス信号Sg′の周波数は大きくなり(図3
(G)参照)、被測定物がに近づく方向に移動すると、
パルス信号Sg′の周波数は小さくなる(図3(H)参
照)。従って、パルス信号Sb′とパルス信号Sg′の
パルス数の差は、被測定物の移動速度及び移動方向に対
応し、そのパルス数の差の積算値は被測定物の移動量に
対応する。これにより、被測定物を或る位置から他の位
置に移動させたときのアップダウンカウンタ63のカウ
ント値の増減量に基づいて、被測定物の移動距離を測定
することができる。
【0040】尚、変調電流波形は上記鋸歯状波に限ら
ず、三角波を用いてもよい。また、三角波を用いるとき
には、その折り返しの部分を位相反転させ、前半部分に
加えることにより、2倍の感度を得ることができる。図
6の応用例は、図1の実施例の検出器本体11の代わり
に、接触式の検出器本体71を用いたもので、図1の実
施例の中の同一又は類似の部材には同一の番号を付し、
その説明は省略する。
ず、三角波を用いてもよい。また、三角波を用いるとき
には、その折り返しの部分を位相反転させ、前半部分に
加えることにより、2倍の感度を得ることができる。図
6の応用例は、図1の実施例の検出器本体11の代わり
に、接触式の検出器本体71を用いたもので、図1の実
施例の中の同一又は類似の部材には同一の番号を付し、
その説明は省略する。
【0041】図6に示した検出器本体は、本体ケース7
2の下面には、開口部73が形成されこの開口部73に
は板バネ74を介して上下に可動する探触子75が配置
されている。該探触子の運動線上には反射鏡76が固着
されている。尚、探触子上に構成される反射鏡は、前記
の様に別体のミラーを固着してもよいし、探触子上に直
接鏡面加工してミラーを形成してもよい。
2の下面には、開口部73が形成されこの開口部73に
は板バネ74を介して上下に可動する探触子75が配置
されている。該探触子の運動線上には反射鏡76が固着
されている。尚、探触子上に構成される反射鏡は、前記
の様に別体のミラーを固着してもよいし、探触子上に直
接鏡面加工してミラーを形成してもよい。
【0042】検出器本体71に導かれたレーザ光は、コ
リメートレンズ35によって平行光にされ、この光軸L
1 上のビームスプリッタ36で異なる2方向に分割され
る。そして、一方のレーザビームは、光路変換用ミラー
42で光軸L5 に折り曲げられ、前記反射鏡76に照射
され、他方は光軸L1 に直交する光軸L2 上に配置した
参照ミラー37に照射されるように、光学系を配置す
る。また、ホトダイオード38は光軸L2 上にビームス
プリッタ36を挟んで参照ミラー37と対峙して配置す
る。
リメートレンズ35によって平行光にされ、この光軸L
1 上のビームスプリッタ36で異なる2方向に分割され
る。そして、一方のレーザビームは、光路変換用ミラー
42で光軸L5 に折り曲げられ、前記反射鏡76に照射
され、他方は光軸L1 に直交する光軸L2 上に配置した
参照ミラー37に照射されるように、光学系を配置す
る。また、ホトダイオード38は光軸L2 上にビームス
プリッタ36を挟んで参照ミラー37と対峙して配置す
る。
【0043】尚、光路変換用ミラー42は検出器本体の
構成上必須ではなく、光軸L1 と光軸L5 は同軸に配置
してもよい。被測定物Wの表面に接触させた探触子75
が、該被測定物の凹凸方向に可動し、かつ探触子75の
運動線上に備えた反射鏡76は、探触子の運動を誤差無
く反映している。前記反射鏡76によって反射されるレ
ーザビーム(物体光)と、参照ミラー37によって反射
されるレーザビーム(参照光)との間には、該反射鏡7
6の移動距離に対応した時間遅れがあり、両者の周波数
は異なる。そのため、物体光と参照光とでヘテロダイン
干渉が生じる。ホトダイオード38によって受光され、
光電変換されたこの干渉信号をもとに、制御部14にお
いて被測定面物の表面形状を測定する過程は図1の実施
例と同様である。
構成上必須ではなく、光軸L1 と光軸L5 は同軸に配置
してもよい。被測定物Wの表面に接触させた探触子75
が、該被測定物の凹凸方向に可動し、かつ探触子75の
運動線上に備えた反射鏡76は、探触子の運動を誤差無
く反映している。前記反射鏡76によって反射されるレ
ーザビーム(物体光)と、参照ミラー37によって反射
されるレーザビーム(参照光)との間には、該反射鏡7
6の移動距離に対応した時間遅れがあり、両者の周波数
は異なる。そのため、物体光と参照光とでヘテロダイン
干渉が生じる。ホトダイオード38によって受光され、
光電変換されたこの干渉信号をもとに、制御部14にお
いて被測定面物の表面形状を測定する過程は図1の実施
例と同様である。
【0044】上記の検出器本体71を用いれば、図1の
実施例の非接触式検出器本体11と互換性を有して取り
付けが可能で、同一の制御部(光源部を含む)を用いて
非接触式と接触式の両タイプの検出器を選択的に使用す
ることができる。図1の実施例の電気ケーブル20の代
わりに、シングルモードファイバーで構成された光ファ
イバーを用いることも可能で、この場合、検出器本体の
受光部は、図1のホトダイオード38の代わりに光路変
換用反射鏡と、対物レンズと、で構成され、制御部内に
ホトダイオード38の代わりに光電変換素子を備え、検
出器本体と制御部とが,光コネクタにより着脱可能な光
ファイバーにより接続される構成からなる。
実施例の非接触式検出器本体11と互換性を有して取り
付けが可能で、同一の制御部(光源部を含む)を用いて
非接触式と接触式の両タイプの検出器を選択的に使用す
ることができる。図1の実施例の電気ケーブル20の代
わりに、シングルモードファイバーで構成された光ファ
イバーを用いることも可能で、この場合、検出器本体の
受光部は、図1のホトダイオード38の代わりに光路変
換用反射鏡と、対物レンズと、で構成され、制御部内に
ホトダイオード38の代わりに光電変換素子を備え、検
出器本体と制御部とが,光コネクタにより着脱可能な光
ファイバーにより接続される構成からなる。
【0045】前記の如く構成された、表面形状測定装置
においては、参照ミラー37で反射されたレーザ光(参
照光)と被測定面で反射されたレーザ光(物体光)と
は、ビームスプリッタ36によって重畳され、両者でヘ
テロダイン干渉が生じる。上記の経緯は図1の実施例に
記載と同様である。この干渉による検出光は、前記構成
の光路変換用反射鏡で光路が折り曲げられ、集光レンズ
により集光されて、シングルモードファイバーで構成さ
れた光ファイバーの端面に入射する。尚、光路変換用反
射鏡は構成上必須ではない。
においては、参照ミラー37で反射されたレーザ光(参
照光)と被測定面で反射されたレーザ光(物体光)と
は、ビームスプリッタ36によって重畳され、両者でヘ
テロダイン干渉が生じる。上記の経緯は図1の実施例に
記載と同様である。この干渉による検出光は、前記構成
の光路変換用反射鏡で光路が折り曲げられ、集光レンズ
により集光されて、シングルモードファイバーで構成さ
れた光ファイバーの端面に入射する。尚、光路変換用反
射鏡は構成上必須ではない。
【0046】光ファイバーを介して制御部へ送られた検
出光は、制御部において光電変換されて処理される。制
御部における測定の原理は図1〜図6の実施例と同様で
ある。図1の実施例においては、検出光は検出器本体内
で電気信号に変換され、電気ケーブルを介して制御部へ
送られていたが、上記実施例においては、検出光は光フ
ァイバーを介して制御部へ送られ、制御部において光電
変換されるので、図1の実施例と比較して電気的ノイズ
に対して強く、しかも電気ケーブルによる周波数応答遅
れの問題もなく、高速応答性の面で有利である。
出光は、制御部において光電変換されて処理される。制
御部における測定の原理は図1〜図6の実施例と同様で
ある。図1の実施例においては、検出光は検出器本体内
で電気信号に変換され、電気ケーブルを介して制御部へ
送られていたが、上記実施例においては、検出光は光フ
ァイバーを介して制御部へ送られ、制御部において光電
変換されるので、図1の実施例と比較して電気的ノイズ
に対して強く、しかも電気ケーブルによる周波数応答遅
れの問題もなく、高速応答性の面で有利である。
【0047】図1の実施例及び図6の応用例では、レー
ザ光源部と制御部は独立したものとして説明したが、図
1、図6の想像線で囲んで示したようにレーザ光源部と
制御部とは一体にしてもよい。また、測定の際の走査方
法としては、検出器本体11を固定して被測定物Wを動
かすことによって走査してもよいし、逆に、被測定物W
を固定して検出器本体を動かして走査してもよい。
ザ光源部と制御部は独立したものとして説明したが、図
1、図6の想像線で囲んで示したようにレーザ光源部と
制御部とは一体にしてもよい。また、測定の際の走査方
法としては、検出器本体11を固定して被測定物Wを動
かすことによって走査してもよいし、逆に、被測定物W
を固定して検出器本体を動かして走査してもよい。
【0048】本発明に係る実施例では、レーザビームの
偏光を利用していないので、偏光を利用した干渉計と異
なり、偏光素子、偏光ビームスプリッタ等が不要にな
り、光学系が簡単になる利点がある。また、検出器本体
と、光源部及び制御部とは互いに着脱が容易であり、簡
単な光学系で装置全体をコンパクトにできる。
偏光を利用していないので、偏光を利用した干渉計と異
なり、偏光素子、偏光ビームスプリッタ等が不要にな
り、光学系が簡単になる利点がある。また、検出器本体
と、光源部及び制御部とは互いに着脱が容易であり、簡
単な光学系で装置全体をコンパクトにできる。
【0049】
【発明の効果】以上説明した様に本発明に係る表面形状
測定装置によれば、光触針としてのレーザビームは常に
合焦点状態で被測定面に照射され、その反射光の一部を
導入した光干渉計によって被測定物の表面形状が光学的
に測定される。従って、非接触式でありながら表面の凹
凸方向に関して広範囲な測定が可能となることに加え
て、高感度、高精度の測定ができる。
測定装置によれば、光触針としてのレーザビームは常に
合焦点状態で被測定面に照射され、その反射光の一部を
導入した光干渉計によって被測定物の表面形状が光学的
に測定される。従って、非接触式でありながら表面の凹
凸方向に関して広範囲な測定が可能となることに加え
て、高感度、高精度の測定ができる。
【図1】図1は本発明の一実施例の全体構成を示す説明
図
図
【図2】図2は図1の本発明に係る形状測定装置におけ
る制御部の一実施例を示すブロック図
る制御部の一実施例を示すブロック図
【図3】図3(A)〜(H)は鋸歯状波の変調電流を用
いた場合のそれぞれ図3の各部から出力される信号波形
図
いた場合のそれぞれ図3の各部から出力される信号波形
図
【図4】図4(A)〜(C)はそれぞれレーザダイオー
ドに入力される鋸歯状波の変調電流、該変調電流によっ
て生じたレーザダイオードの発振角周波数及び発光強度
を示す波形図
ドに入力される鋸歯状波の変調電流、該変調電流によっ
て生じたレーザダイオードの発振角周波数及び発光強度
を示す波形図
【図5】図5は鋸歯状波の変調電流を用いた場合の物体
光と参照光の発振角周波数と発光強度変化を示す波形図
光と参照光の発振角周波数と発光強度変化を示す波形図
【図6】図6は本発明の応用例を示す要部概略図
10…レーザ光源 11…検出器本体 12…本体ケース 14…制御部 15…レンズ可変機構制御回路 16…光ファイバー 20…電気ケーブル 36、41…ビームスプリッタ 37…参照ミラー 38…ホトダイオード 45…対物レンズ 46…シリンドリカルレンズ 48…四分割ホトダイオード 53、54…コネクタ
Claims (1)
- 【請求項1】周波数変調したレーザビームを発生させる
レーザ光源部と、 前記レーザビームの一部を被測定物に照射する為の対物
レンズ系と、 該対物レンズ系を被測定面に対して遠近移動させるレン
ズ駆動機構と、 前記レーザ光源部から導入したレーザビームを分割し、
分割した一方のレーザビームを前記対物レンズ系を介し
て被測定面に照射して反射光を得ると共に、他方のレー
ザビームを参照反射鏡に照射して反射光を得て、これら
両反射光を干渉させるマイケルソン型干渉光学系と、 前記対物レンズ系を介して被測定面からの反射光の一部
を取り込み、被測定面での対物レンズ系の焦点ずれを検
出する検出手段と、 前記検出手段が検出した焦点ずれに基づいて被測定面上
で対物レンズ系の焦点が合うようにレンズ駆動機構を駆
動制御するレンズ駆動制御回路と、 前記マイケルソン型干渉光学系において生じるヘテロダ
イン干渉による干渉光を受光し、受光した光干渉信号を
電気信号に変換する光電変換部と、 前記光電変換部の検出信号に基づいて被測定物の形状の
変位量を算出すると共に、前記レーザ光源の周波数変調
を制御する制御部と、 を備えたことを特徴とする表面形状測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21130394A JPH0875433A (ja) | 1994-09-05 | 1994-09-05 | 表面形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21130394A JPH0875433A (ja) | 1994-09-05 | 1994-09-05 | 表面形状測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0875433A true JPH0875433A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16603715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21130394A Pending JPH0875433A (ja) | 1994-09-05 | 1994-09-05 | 表面形状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0875433A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003050199A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-21 | Olympus Optical Co Ltd | 光イメージング装置 |
| WO2004032313A1 (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-15 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | 表面形状測定装置及び該装置に使用される1軸駆動装置 |
| JP2004347521A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 形状計測システム及び方法 |
| JP2013250152A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Mitsutoyo Corp | 形状測定機 |
| CN106796097A (zh) * | 2014-08-25 | 2017-05-31 | 通快激光与系统工程有限公司 | 用于在激光加工工件时进行受温度补偿的干涉仪式间距测量的装置和方法 |
-
1994
- 1994-09-05 JP JP21130394A patent/JPH0875433A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003050199A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-21 | Olympus Optical Co Ltd | 光イメージング装置 |
| WO2004032313A1 (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-15 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | 表面形状測定装置及び該装置に使用される1軸駆動装置 |
| JP2004347521A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 形状計測システム及び方法 |
| JP2013250152A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Mitsutoyo Corp | 形状測定機 |
| CN106796097A (zh) * | 2014-08-25 | 2017-05-31 | 通快激光与系统工程有限公司 | 用于在激光加工工件时进行受温度补偿的干涉仪式间距测量的装置和方法 |
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