JPH088224A

JPH088224A - 洗浄装置及び洗浄方法

Info

Publication number: JPH088224A
Application number: JP16596794A
Authority: JP
Inventors: Toyokazu Kimura; 豊和木村
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-06-23
Filing date: 1994-06-23
Publication date: 1996-01-12

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は洗浄装置において、二重管構造でなる
炉心管の内壁の洗浄効率を従来に比して高める。【構成】洗浄液供給口から供給される洗浄液を管状部材
を介して炉心管のプロセスガス導入管に直接供給する。
これにより炉心管の内壁に沿つて洗浄液が循環するよう
になる。この結果、従来の洗浄装置では十分に洗浄する
のに時間がかかつたり、洗浄できなかつた炉心管の内壁
部分を効率よく洗浄することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は洗浄装置及び洗浄方法に
関し、例えば縦型拡散炉に用いられる石英製プロセスチ
ユーブの洗浄装置及び洗浄方法に適用して好適なもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来、縦型拡散炉では図５に示す構造の
プロセスチユーブ１が不純物の拡散に用いられている。
このプロセスチユーブ１はアウタチユーブ２とインナチ
ユーブ３との二重管構造でなり、ガス導入管１Ａから導
入されたプロセスガスをアウタチユーブ２とインナチユ
ーブ３との隙間を介してインナチユーブ３の内管に導く
ようになされている。

【０００３】ところでこの構造のプロセスチユーブ１に
はガス導入管１Ａがアウタチユーブ２の軸方向と直交す
る方向に伸びているためプロセスチユーブ１の軸を回転
軸として回転させながら洗浄するとガス導入管１Ａが洗
浄槽の内壁と干渉して破損するおそれがある。このため
プロセスチユーブ１を回転させながら洗浄する方法は適
していない。そこで一般には図６に示すように薬液中に
プロセスチユーブ１を沈めたままの状態で薬液を循環さ
せる方式の洗浄装置４がこの種の石英治具を洗浄するの
に用いられている。

【０００４】この洗浄装置４は大きく分けて洗浄槽５
と、薬液を循環させる循環経路６と、純水置換のために
純水を導入する純水導入路７との３つの部分でなる。こ
の洗浄装置４は洗浄槽５の下部に形成された流入口Ｐ１
から吸い込んだ薬液を循環ポンプ８によつて洗浄槽５の
上部に形成された流出口Ｐ２に帰還することにより薬液
を循環させている。因に薬液にはフツ酸（ＨＦ）と純水
（Ｈ₂Ｏ）との混合薬液が用いられる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところがこのような薬
液の循環方法ではある程度一定の流れを生成することは
できるもののアウタチユーブ２とインナチユーブ３とで
囲まれた二重管部分に薬液をほとんど循環させることが
できないためこの部分の洗浄効果が薄くなる問題があつ
た。このため付着汚染物や堆積物の除去率が劣化し易
い。また薬液洗浄後に純水導入路７より純水を洗浄槽５
に流入して薬液と純水とを置換させる場合にも同様にア
ウタチユーブ２とインナチユーブ３とで囲まれた二重管
部分の置換が進み難いため薬液残りや置換時間が長くな
るといつた問題があつた。

【０００６】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、従来に比して洗浄効果や純水置換効率を高めること
ができる洗浄装置及び洗浄方法を提案しようとするもの
である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、二重管構造の炉心管（１）の洗浄
に用いられる洗浄装置において、炉心管（１）のプロセ
スガス導入管（１Ａ）に洗浄液を供給するために設けら
れた洗浄液供給口（１１Ａ）と、一端が洗浄液供給口
（１１Ａ）に取り付けられ、他端がプロセスガス導入管
（１Ａ）に接続される管状部材（１２）と、管状部材
（１２）とプロセスガス導入管（１Ａ）とを接続する取
付具（１３）とを設けるようにする。

【０００８】また本発明においては、二重管構造の炉心
管（１）の洗浄に用いられる洗浄方法において、炉心管
（１）のプロセスガス導入管（１Ａ）から洗浄液を流し
込み、炉心管（１）の内壁に沿つて洗浄液を循環させる
ようにする。

【０００９】

【作用】従来、洗浄液が循環し難かつた炉心管（１）の
内壁に積極的に洗浄液を供給して循環させるようにした
ことにより、洗浄効率を従来に比して一段と高めること
ができる。

【００１０】

【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。

【００１１】図６との対応部分に同一符号を付して示す
図１において、１０は全体としてプロセスチユーブ１の
洗浄装置を示し、薬液循環経路の出口がプロセスチユー
ブ１の外壁循環用と内壁循環用との２系統について用意
されていることを除いて同様の構成を有している。

【００１２】このように外壁及び内壁に対応する２系統
を用意したことによりプロセスチユーブ１の外管につい
ても内管についても薬液を効率良く循環でき、洗浄効果
を高めることができるようになされている。

【００１３】またこの洗浄装置１０はこの２系統の薬液
循環経路の出口を２系統の純水循環経路の出口としても
共用できるようになされている。そして純水置換の際に
はこの２系統から純水を循環させることにより、洗浄時
の場合と同様に、純水の循環効率を高めて置換効率を向
上させることができるようになされている。

【００１４】続いてこれら２系統の循環経路の詳細につ
いて説明する。まずプロセスチユーブ１の内壁循環用に
設けられている流出口１１Ａには図２（Ａ）に示すよう
な蛇腹状の配管１２が取り付けられている。この蛇腹状
の配管１２はポリプロピレン又は塩化ビニール製でな
る。配管１２の開口部１２Ａとガス導入管１Ａの開口部
１Ａ１との結合にはクランプ部材１３が用いられる。

【００１５】このクランプ部材１３は馬蹄形状の２つの
取付金具１３Ａ及び１３Ｂでなる。取付時には２つの取
付金具１３Ａ及び１３Ｂによつて開口部１２Ａと開口部
１Ａ１を対面させた状態に配置する。そして２つの取付
金具１３Ａ及び１３Ｂを３つのネジ１３Ｃによつて型締
めすることにより開口部１２Ａと開口部１Ａ１とを両側
から挟み付けた状態で固定するようになされている。

【００１６】これにより配管出口１１Ａから排出された
薬液はアウタチユーブ２とインナチユーブ３との隙間部
分（内壁）を介した後、インナチユーブ３の内壁に沿つ
て流されることになる。このように内壁に沿つて強制的
に薬液を流すことができることにより洗浄効率を高める
ことができるようになされている。

【００１７】またプロセスチユーブ１の外壁循環用に設
けられている流出口１１Ｂは槽内で底部に向けて折れ曲
がつておりプロセスチユーブ１の外壁に沿つた流れがで
きるようになされている。因にこれら内壁循環用及び外
壁循環用の流出口１１Ａ及び１１Ｂの根本部分は１本の
配管に合流しており、電磁弁１４及び１５の開閉によつ
て薬液を循環させるか純水を循環させるか切り換えるこ
とができるようになされている。すなわち電磁弁１４を
開いて電磁弁１５を閉じれば薬液を循環させることがで
き、電磁弁１４を閉じて電磁弁１５を開けば純水を循環
させることができるようになされている。

【００１８】以上の構成において、洗浄装置１０による
洗浄工程を説明する。まず洗浄槽内にプロセスチユーブ
１を搬入し、ガス導入管１Ａの開口部１Ａ１と蛇腹状配
管１２の開口部１２Ａとをクランプ部材１３を用いて接
合する。この状態で純水循環用の電磁弁１５のみを開
き、洗浄槽５中に純水を注水することによりプロセスチ
ユーブ１を予備洗浄する。このとき純水はインナチユー
ブ１の内壁についても外壁についても一様に流れ、ダス
ト等が除去される。

【００１９】予備洗浄が終了すると、次は薬液洗浄用の
電磁弁１４のみが開き、薬液が洗浄槽５に注入される。
この薬液は循環ポンプ８によつて繰り返し循環され純水
では除去できなかつた金属汚染物やダスト等が除去され
ることになる。この作業の後は、電磁弁１５のみを再度
開き、プロセスチユーブ１に付着した薬液を純水置換す
る。

【００２０】以上の構成によれば、プロセスチユーブ１
の内管及び外管に沿つて薬液及び純水が循環できるよう
に循環経路を２系統用意し、内管も外管も一様に循環で
きるようにしたことにより従来に比して洗浄効果や置換
効果を一段と高めることができる。特に従来の場合には
純水導入路７から供給される純水を洗浄槽５からオーバ
ーフローさせることによつて薬液を純水に置換させる構
成であつたため、実施例のように純水をプロセスチユー
ブ１の内側を強制循環させることによつて置換効率を一
段と向上させることができる。これに伴い純水の供給時
間を短縮できる。また薬液残りによるトラブルも防止す
ることができる。

【００２１】なお上述の実施例のおいては、薬液洗浄時
における薬液の循環方向を１方向に限定する場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、逆向きに循環でき
るようにしても良い。このようにすれば洗浄効果を一段
と向上させることができる。この場合には図３に示すよ
うに、２つの配管１６及び１７を循環ポンプ８の周りに
新たに接続し、また４つの電磁弁１８〜２１を新たに取
り付ければ良い。

【００２２】すなわち電磁弁１８及び１９を開き、残る
電磁弁２０及び２１を閉じると、図４（Ａ）に示すよう
に、流出口１１Ａ、１１Ｂから循環ポンプ８側に薬液を
循環させることができる。この反対に、電磁弁１８及び
１９を閉じ、残る電磁弁２０及び２１を開くと、図４
（Ｂ）に示すように、循環ポンプ８から流出口１１Ａ、
１１Ｂ側に薬液を循環させることができる。さらにこの
電磁弁１８〜２１の開閉動作をタイマと連動させて薬液
循環方向を定期的に変更するようにすれば洗浄効果を一
段と向上させることができる。

【００２３】さらに上述の実施例においては、薬液や純
水の循環だけによつてダストや金属汚染物を除去させる
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、洗浄槽
の下部に振動子を設置して超音波を発生させることで洗
浄効果を向上させるようにしても良い。

【００２４】さらに上述の実施例においては、拡散処理
に用いられる炉心管について述べたが、本発明はこれに
限らず、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ）等の薄
膜形成処理に用いられる炉心管の洗浄装置にも適用し得
る。また炉心管は縦型であつても横型であつても良い。

【００２５】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、二重管構
造の炉心管のプロセスガス導入管から洗浄液を供給し、
洗浄液が炉心管の内壁に沿つて循環するようにしたこと
により、従来に比して洗浄効率の高い洗浄装置及び洗浄
方法を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による洗浄装置の一実施例を示す略線的
断面図である。

【図２】クランプ部材の構成を示す側面図及び平面図で
ある。

【図３】両方向循環型を実現する配管の接続例を示す略
線的接続図である。

【図４】電磁弁の開閉による循環方向の反転を示す略線
図である。

【図５】二重管構造を有する炉心管の断面構造を示す断
面図である。

【図６】従来用いられている洗浄装置を示す略線的断面
図である。

【符号の説明】

１……プロセスチユーブ、２……アウタチユーブ、３…
…インナチユーブ、４、１０……洗浄装置、５……洗浄
槽、６……循環経路、７……純水導入路、８……循環ポ
ンプ、１１Ａ、１１Ｂ……流出口、１２、１６、１７…
…配管、１３……クランプ部材、１４、１５、１８、１
９、２０、２１……電磁弁。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】二重管構造の炉心管の洗浄に用いられる洗
浄装置において、上記炉心管のプロセスガス導入管に洗浄液を供給するた
めに設けられた洗浄液供給口と、一端が上記洗浄液供給口に取り付けられ、他端が上記プ
ロセスガス導入管に接続される管状部材と、上記管状部材と上記プロセスガス導入管とを接続する取
付具とを具えることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】上記洗浄液を上記炉心管の外壁に沿つて循
環させる洗浄液供給口を具えることを特徴とする請求項
１に記載の洗浄装置。
【請求項３】上記洗浄液として純水又は薬液のいずれか
を切り換えて供給する開閉弁を具えることを特徴とする
請求項１又は請求項２に洗浄装置。
【請求項４】上記洗浄液の洗浄槽内における循環方向を
反転させる循環方向切換手段を具えることを特徴とする
請求項１、請求項２又は請求項３に記載の洗浄装置。
【請求項５】上記洗浄液によつて浸漬されている上記炉
心管に超音波を照射し、上記炉心管を超音波洗浄する振
動手段を具えることを特徴とする請求項１、請求項２、
請求項３、請求項４に記載の洗浄装置。
【請求項６】二重管構造の炉心管の洗浄に用いられる洗
浄方法において、上記炉心管のプロセスガス導入管から洗浄液を流し込
み、上記炉心管の内壁に沿つて洗浄液を循環させること
を特徴とする洗浄方法。
【請求項７】上記洗浄液を上記炉心管の外壁に沿つても
循環させることを特徴とする請求項６に記載の洗浄方
法。
【請求項８】上記洗浄液として純水又は薬液のいずれか
を切り換えて供給することを特徴とする請求項６又は請
求項７に洗浄方法。
【請求項９】上記洗浄液の洗浄槽内における循環方向を
反転させて洗浄することを特徴とする請求項６、請求項
７又は請求項８に記載の洗浄方法。
【請求項１０】上記洗浄液によつて浸漬されている上記
炉心管に超音波を照射し、上記炉心管を超音波洗浄する
ことを特徴とする請求項６、請求項７、請求項８、請求
項９に記載の洗浄方法。