JPH088480Y2 - 電子線照射装置用コンベア - Google Patents
電子線照射装置用コンベアInfo
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- JPH088480Y2 JPH088480Y2 JP1988012336U JP1233688U JPH088480Y2 JP H088480 Y2 JPH088480 Y2 JP H088480Y2 JP 1988012336 U JP1988012336 U JP 1988012336U JP 1233688 U JP1233688 U JP 1233688U JP H088480 Y2 JPH088480 Y2 JP H088480Y2
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Landscapes
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Description
【考案の詳細な説明】 (ア)技術分野 この考案は非走査型の電子線照射装置に於ける搬送コ
ンベアの改造構造に関する。
ンベアの改造構造に関する。
電子線照射装置は、真空中で電子線を発生し加速し、
これを大気圧中にとり出して不活性気体雰囲気で被処理
物に照射するものである。
これを大気圧中にとり出して不活性気体雰囲気で被処理
物に照射するものである。
その目的は高分子重合反応を促進することなど多様で
ある。
ある。
電線被覆の架橋、塗膜の硬化、滅菌などにたとえば用
いる事ができる。
いる事ができる。
電子ビームを水平方向に走査する走査型のものと、ビ
ームを走査しない非走査型のものがある。非走査型のも
のは加速エネルギーが300kV以下である。
ームを走査しない非走査型のものがある。非走査型のも
のは加速エネルギーが300kV以下である。
本考案は非走査型の電子線照射装置に於ける搬送コン
ベアの改造に関する。
ベアの改造に関する。
(イ)従来技術 第3図によつて、従来例に係る非走査型電子線照射装
置の概略を説明する。
置の概略を説明する。
横向き円筒形の加速チヤンバ1の真空にカソードフイ
ラメント部2が設けられる。これの上半部はカソードシ
ールド3で覆われる。加速チヤンバ1の下底は照射窓4
になつている。ここには、窓箔5が張つてある。
ラメント部2が設けられる。これの上半部はカソードシ
ールド3で覆われる。加速チヤンバ1の下底は照射窓4
になつている。ここには、窓箔5が張つてある。
これらの機構は、直方体形状の筐体6の中央上部に載
置されている。
置されている。
被処理物をのせて運ぶための一連コンベア31が筐体6
の中に設置される。これはローラ32、32、…によつて案
内される。
の中に設置される。これはローラ32、32、…によつて案
内される。
窒素ガスなどを被処理物のある空間に吹きこむための
不活性ガス吹出し口33がある。また、不活性ガスと空気
を排除するための排気口34が設けられる。
不活性ガス吹出し口33がある。また、不活性ガスと空気
を排除するための排気口34が設けられる。
筐体6の中には、いくつかのX線遮蔽体35が設けられ
る。
る。
第3図のコンベアは、連続しており柔軟なウエブなど
を処理する場合に用いられる。
を処理する場合に用いられる。
コンベアの曲率にそつてウエブが曲りうるので、一連
コンベア31で都合よく搬送できる。
コンベア31で都合よく搬送できる。
第4図のコンベアは、上下に段差がある。これは、非
連続の板状の被処理物を対象とする。連続体でないの
で、このように、折曲点があつてもよい。
連続の板状の被処理物を対象とする。連続体でないの
で、このように、折曲点があつてもよい。
コンベアに対して要求される事は、2つある。
ひとつは外部からのもちこみ空気量がないという事で
ある。酸素があると、電子線照射の効果が著しく損われ
る。また有害なオゾンが発生する。
ある。酸素があると、電子線照射の効果が著しく損われ
る。また有害なオゾンが発生する。
持ちこみ空気を少なくするため、コンベアの通る空間
はX線遮蔽板35などで狭く区切られている。また、不活
性ガスを強制的に吹き込んでいる。
はX線遮蔽板35などで狭く区切られている。また、不活
性ガスを強制的に吹き込んでいる。
それよりも重要な事は、二次X線が外部に漏れないよ
うにするという事である。電子線が被処理物に当たるか
ら、強い二次X線が発生する。これは直進するが、反
射、散乱もする。
うにするという事である。電子線が被処理物に当たるか
ら、強い二次X線が発生する。これは直進するが、反
射、散乱もする。
これが外部に漏ないように、全体を筐体6で囲んでい
る。コンベアの出口と入口とは被処理物を通すために開
いている。
る。コンベアの出口と入口とは被処理物を通すために開
いている。
そこで、コンベアの径路を曲げて、X線遮蔽板を何枚
も置いて、二次X線が直接に、又は1回反射して外部に
出るのを防ぐのである。
も置いて、二次X線が直接に、又は1回反射して外部に
出るのを防ぐのである。
これらは、一連コンベアを用いているから、コンベア
構造が単純である。また、被処理物を移し替えたりする
必要がない、というような利点がある。
構造が単純である。また、被処理物を移し替えたりする
必要がない、というような利点がある。
(ウ)考案が解決すべき問題点 従来の搬送コンベアは一連コンベアであつたために、
上下に折曲つた形状になつている。ここを被処理物が通
るのである。このため、コンベアとX線遮蔽板のスリツ
トや筐体壁との間隔が広くなる傾向にあつた。
上下に折曲つた形状になつている。ここを被処理物が通
るのである。このため、コンベアとX線遮蔽板のスリツ
トや筐体壁との間隔が広くなる傾向にあつた。
コンベアと他の部材との間隔が広いと、外部からの空
気持ちこみ量が増える。すると、これを防ぎ酸素濃度を
下げるための窒素ガスがよけいに必要だという事にな
る。
気持ちこみ量が増える。すると、これを防ぎ酸素濃度を
下げるための窒素ガスがよけいに必要だという事にな
る。
また、第3図に示すものは、X線を完全に遮断する事
が難しい。X線が漏れる惧れがある。
が難しい。X線が漏れる惧れがある。
(エ)目的 酸素濃度をより低減させる事が本考案の目的のひとつ
である。これはもちこみ空気量を減らすという事であ
る。
である。これはもちこみ空気量を減らすという事であ
る。
X線遮蔽をより完全にするという事が本考案のもうひ
とつの目的である。
とつの目的である。
(オ)構成 従来の搬送コンベアの両側に、補助コンベアを設け、
3連のコンベアにしたところが本考案の特徴である。
3連のコンベアにしたところが本考案の特徴である。
従来の一連コンベアを主コンベアと呼ぶことにする。
主コンベアと補助コンベアとは、ほぼ密封された遮蔽箱
体の中で接続される。
主コンベアと補助コンベアとは、ほぼ密封された遮蔽箱
体の中で接続される。
このため、X線遮蔽、酸素濃度低下という目的にそう
事ができる。
事ができる。
第1図は本考案の非走査型電子線照射装置の全体構成
図である。第2図は補助コンベアと主コンベアの接続部
分の一部縦断斜視図である。
図である。第2図は補助コンベアと主コンベアの接続部
分の一部縦断斜視図である。
中央の部分は従来のものと同じである。第3図に示す
ものであつても、第4図に示すものであつてもよい。
ものであつても、第4図に示すものであつてもよい。
ここでは第4図に示すものを例とする。
横向き円筒形の加速チヤンバ1の真中に、カソードフ
イラメント部2がある。これは熱電子を生ずる。横方向
に伸びるフイラメントである。
イラメント部2がある。これは熱電子を生ずる。横方向
に伸びるフイラメントである。
フイラメント部2を囲んでカソードシールド3があ
る。これは加速チヤンバ壁との間にコロナ放電などが生
ずるのを防ぐ。フイラメント部2から出た熱電子は下向
きに加速される。下方には照射窓4がある。ここには、
Ti、Alなどの窓箔5が張つてある。
る。これは加速チヤンバ壁との間にコロナ放電などが生
ずるのを防ぐ。フイラメント部2から出た熱電子は下向
きに加速される。下方には照射窓4がある。ここには、
Ti、Alなどの窓箔5が張つてある。
照射窓4の上は真空、下は大気圧である。大気圧であ
るが酸素が含まれてはいけない。そこで、照射窓4側方
の不活性ガス吹き出し口33から窒素ガス、不活性ガスな
どを吹きこむ、これは、筐体6の内部に充満する。余分
の不活性気体は排気口34から排気される。
るが酸素が含まれてはいけない。そこで、照射窓4側方
の不活性ガス吹き出し口33から窒素ガス、不活性ガスな
どを吹きこむ、これは、筐体6の内部に充満する。余分
の不活性気体は排気口34から排気される。
主コンベア31は一連のコンベアであるが、ローラ32に
よつて案内され上下に折れ曲がつた運動軌跡を描く。
よつて案内され上下に折れ曲がつた運動軌跡を描く。
従来は、主コンベア31の端37が露出していた。
ところが本考案に於ては、主コンベア31の端37へ、さ
らに補助コンベア8を接続する。
らに補助コンベア8を接続する。
接続部分は、遮蔽箱体7によつて囲まれている。
遮蔽箱体7は、空気のもちこみを防ぎ、X線の漏洩を
防ぐ、というふたつの機能をもつている。
防ぐ、というふたつの機能をもつている。
まず、遮蔽箱体7は、ほぼ直方体の空間で、独自の排
気口9を持つている。これは、被照射物に伴つて入つて
くる空気を吹い込んで排除する。
気口9を持つている。これは、被照射物に伴つて入つて
くる空気を吹い込んで排除する。
また、補助コンベアは平ベルトコンベアで、自在に曲
ることができる。コンベアは上から下へと曲るが、上方
のコンベアの下面と、下方のコンベアの上下面をブラシ
10が擦つてゆく。これはコンベアに伴う空気、ガスの移
動を阻止しているのである。
ることができる。コンベアは上から下へと曲るが、上方
のコンベアの下面と、下方のコンベアの上下面をブラシ
10が擦つてゆく。これはコンベアに伴う空気、ガスの移
動を阻止しているのである。
遮蔽箱体7は、水平の底板11、上板12、前仕切板13、
側板14、中板15、後仕切板16などよりなる。
側板14、中板15、後仕切板16などよりなる。
コンベアの上片を通すために、後仕切板16、前仕切板
13は上板12と離隔している。補助コンベアと上板12との
距離が狭いほど持ちこみ空気量を減すことができる。
13は上板12と離隔している。補助コンベアと上板12との
距離が狭いほど持ちこみ空気量を減すことができる。
本考案では補助コンベア8と上板12の距離を20mm又は
それ以下とすることができる。これは被処理物が数mm厚
のプラスチツクの板などの場合である。
それ以下とすることができる。これは被処理物が数mm厚
のプラスチツクの板などの場合である。
このように、距離を少くできるのは、補助コンベアが
ほぼ水平に動き、折曲つた動きをしないからである。
ほぼ水平に動き、折曲つた動きをしないからである。
中板15はコンベア8を支持するという機能の他に、遮
蔽箱体7の内部での気体の動きを不活発にし、しかも外
部からのもちこみ空気を排気口9へ案内し、排除しやす
くしている。
蔽箱体7の内部での気体の動きを不活発にし、しかも外
部からのもちこみ空気を排気口9へ案内し、排除しやす
くしている。
より具体的には、中板15の機能は次のようである。
ベルト上空間を小さく限定(例えば、20mm以下)し、
持込みエアを低減すること、及び図中矢印に示す通りの
流体流れを作り持ち込みエアを排出することである。
持込みエアを低減すること、及び図中矢印に示す通りの
流体流れを作り持ち込みエアを排出することである。
補助コンベア8の下片は、後仕切板16のスリツト17を
通つてゆく。ここにはブラシ10があるので、気体が殆ん
ど通り抜けることができない。
通つてゆく。ここにはブラシ10があるので、気体が殆ん
ど通り抜けることができない。
また補助コンベア8の前端は小ローラ18で支持され
る。
る。
一方、主コンベア31はたとえばステンレスのメツシユ
コンベアであり、大ローラ19によつて端部37が支持され
ている。
コンベアであり、大ローラ19によつて端部37が支持され
ている。
被処理物は補助コンベア8から主コンベア31へと転送
される。
される。
補助コンベア8と主コンベア31の境界にある前仕切板
13は鉛板とするか、或は鉛板を貼る事にするとよい。こ
こから、二次X線が漏れるのを防ぐためである。
13は鉛板とするか、或は鉛板を貼る事にするとよい。こ
こから、二次X線が漏れるのを防ぐためである。
(カ)作用 被処理物は、補助コンベア8、主コンベア31、補助コ
ンベア8というように、3つのコンベアによつて搬送さ
れる。
ンベア8というように、3つのコンベアによつて搬送さ
れる。
空気のもちこみは、補助コンベア8の遮蔽箱体7でい
ちど阻止される。排気口9により空気が除かれる。この
後従来の筐体6に入る。ここでも排気口34からもちこみ
空気が除かれる。窒素ガスが吹出口33から筐体の内部空
間に送給される。
ちど阻止される。排気口9により空気が除かれる。この
後従来の筐体6に入る。ここでも排気口34からもちこみ
空気が除かれる。窒素ガスが吹出口33から筐体の内部空
間に送給される。
また二次X線の方も、筐体6の中で、いくつかのX線
遮蔽板35によつて除去される。開口にそつて反射される
X線もある。
遮蔽板35によつて除去される。開口にそつて反射される
X線もある。
いちど反射されたX線は著しく弱くなる。
従来の筐体、コンベア構造では、2開反射された微弱
なX線が外部へ出る惧れがあつた。
なX線が外部へ出る惧れがあつた。
しかし、本考案では、補助コンベアの遮蔽箱体17を通
り抜けるのにもういちど反射しなければならない。した
がつて、3回反射されなければ外部へX線が出ない。
り抜けるのにもういちど反射しなければならない。した
がつて、3回反射されなければ外部へX線が出ない。
これは3回反射されたもの全てが外部に出るという事
ではない。適当な入射、反射角で3回反射された特別の
ビームのみが外部に出るという事である。
ではない。適当な入射、反射角で3回反射された特別の
ビームのみが外部に出るという事である。
2回反射で外部へ洩れる惧れのあつたものが、少なく
とも3回反射しなければ外部へ出ないのである。X線漏
洩はより完全に防止できる。
とも3回反射しなければ外部へ出ないのである。X線漏
洩はより完全に防止できる。
(キ)効果 筐体の内部に持ちこまれる酸素の濃度を著しく減少さ
せる事ができる。外部から被処理物に付いて進入する空
気は、狭い間隙を通る時に減少し、さらに補助コンベア
の部分で排出される。
せる事ができる。外部から被処理物に付いて進入する空
気は、狭い間隙を通る時に減少し、さらに補助コンベア
の部分で排出される。
このため、逆に窒素ガスの吹き込み量を節減すること
も可能になる。
も可能になる。
また、二次X線は3回反射しなければ外部に出ないよ
うになる。このため外部へのX線の漏洩が著しく僅かに
なる。
うになる。このため外部へのX線の漏洩が著しく僅かに
なる。
第1図は本考案の非走査型電子線照射装置の全体構成
図。 第2図は補助コンベアと主コンベアの接続部分の一部縦
断斜視図。 第3図は非走査型電子線照射装置の一例を示す全体構成
図。 第4図は非走査型電子線照射装置の他の例を示す全体構
成図。 1……加速チヤンバ 2……カソードフイラメント部 3……カソードシールド 4……照射窓 5……窓箔 6……筐体 7……遮蔽箱体 8……補助コンベア 9……排気口 10……ブラシ 11……底板 12……上板 13……前仕切板 14……側板 15……中板 16……後仕切板 17……スリツト 18……小ローラ 19……大ローラ 31……主(一連)コンベア 32……ローラ 33……不活性ガス吹出し口 34……排気口 35、36……X線遮蔽板 37……主コンベアの端
図。 第2図は補助コンベアと主コンベアの接続部分の一部縦
断斜視図。 第3図は非走査型電子線照射装置の一例を示す全体構成
図。 第4図は非走査型電子線照射装置の他の例を示す全体構
成図。 1……加速チヤンバ 2……カソードフイラメント部 3……カソードシールド 4……照射窓 5……窓箔 6……筐体 7……遮蔽箱体 8……補助コンベア 9……排気口 10……ブラシ 11……底板 12……上板 13……前仕切板 14……側板 15……中板 16……後仕切板 17……スリツト 18……小ローラ 19……大ローラ 31……主(一連)コンベア 32……ローラ 33……不活性ガス吹出し口 34……排気口 35、36……X線遮蔽板 37……主コンベアの端
Claims (1)
- 【請求項1】真空中において電子線を発生し加速して照
射窓4の窓箔5を通して飛出させ不活性気体大気圧雰囲
気にある被処理物に照射する事とした電子線照射装置に
おいて、被処理物を外部から照射窓4の直下へ運びさら
に外部へとり出す搬送コンベアが主コンベア31と、主コ
ンベア31の両側に設けられたふたつの補助コンベア8、
8とよりなり、主コンベア31は直方体形状の筐体6の中
を上下に折曲つた軌跡にそつて適数枚のX線遮蔽板35、
36の狭い開口を通つて周回運動しており、主コンベア31
と補助コンベア8の接続部は、内部に補助コンベア8を
支持する中板15を有する遮蔽箱体7によつて囲まれてお
り、遮蔽箱体7は内部の気体を強制排気するための排気
口9を備え、遮蔽箱体7の主コンベア31と補助コンベア
8とを仕切る前仕切板13が鉛であるか或は鉛板が貼付け
てある事を特徴とする電子線照射装置用コンベア。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988012336U JPH088480Y2 (ja) | 1988-02-01 | 1988-02-01 | 電子線照射装置用コンベア |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988012336U JPH088480Y2 (ja) | 1988-02-01 | 1988-02-01 | 電子線照射装置用コンベア |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01118400U JPH01118400U (ja) | 1989-08-10 |
| JPH088480Y2 true JPH088480Y2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=31221691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988012336U Expired - Lifetime JPH088480Y2 (ja) | 1988-02-01 | 1988-02-01 | 電子線照射装置用コンベア |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH088480Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003083913A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-19 | Ishida Co Ltd | X線検査装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6127687A (en) * | 1998-06-23 | 2000-10-03 | Titan Corp | Article irradiation system having intermediate wall of radiation shielding material within loop of conveyor system that transports the articles |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS513358Y2 (ja) * | 1972-11-25 | 1976-01-30 | ||
| JPS504498A (ja) * | 1973-03-13 | 1975-01-17 | ||
| JPS5051100U (ja) * | 1973-09-11 | 1975-05-17 | ||
| JPS5322240A (en) * | 1976-08-10 | 1978-03-01 | Eizou Aoki | Device for freely regulating saddle position of bicycle |
-
1988
- 1988-02-01 JP JP1988012336U patent/JPH088480Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003083913A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-19 | Ishida Co Ltd | X線検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01118400U (ja) | 1989-08-10 |
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