JPH0889910A - 洗浄装置及びその方法 - Google Patents
洗浄装置及びその方法Info
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- JPH0889910A JPH0889910A JP25910794A JP25910794A JPH0889910A JP H0889910 A JPH0889910 A JP H0889910A JP 25910794 A JP25910794 A JP 25910794A JP 25910794 A JP25910794 A JP 25910794A JP H0889910 A JPH0889910 A JP H0889910A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 例えばガラス基板に対して塗布・現像する装
置に組み込まれる洗浄装置において、占有面積を小さく
すること、及び洗浄手段の構成を簡素化すること 【構成】 ガラス基板Ｇの両側縁を保持する保持アーム
２１、２１と、ガラス基板Ｇの両面側に配置され、Ｘ方
向に移動可能でかつ互いに接離自在な洗浄部３ａ、３ｂ
を設ける。洗浄部３ａ、３ｂは洗浄ブラシ３１及び洗浄
液供給管３２を備え、洗浄ブラシ３１が回転しながらＸ
方向に移動してガラス基板Ｇの両面を洗浄する。他の例
としては、ガラス基板Ｇを保持部材に保持させ、ガラス
基板Ｇの下面にて洗浄ブラシを固定させ、保持部材を回
転させて前記下面を洗浄する。更に他の例としては、ガ
ラス基板Ｇの一面側に洗浄部材を設け、一面を洗浄した
後反転させて他面を洗浄する。
置に組み込まれる洗浄装置において、占有面積を小さく
すること、及び洗浄手段の構成を簡素化すること 【構成】 ガラス基板Ｇの両側縁を保持する保持アーム
２１、２１と、ガラス基板Ｇの両面側に配置され、Ｘ方
向に移動可能でかつ互いに接離自在な洗浄部３ａ、３ｂ
を設ける。洗浄部３ａ、３ｂは洗浄ブラシ３１及び洗浄
液供給管３２を備え、洗浄ブラシ３１が回転しながらＸ
方向に移動してガラス基板Ｇの両面を洗浄する。他の例
としては、ガラス基板Ｇを保持部材に保持させ、ガラス
基板Ｇの下面にて洗浄ブラシを固定させ、保持部材を回
転させて前記下面を洗浄する。更に他の例としては、ガ
ラス基板Ｇの一面側に洗浄部材を設け、一面を洗浄した
後反転させて他面を洗浄する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被処理基板を洗浄する
洗浄装置及びその方法に関する。
洗浄装置及びその方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）装置の製造工程においては、ＬＣＤ基板（ガラス基
板）上に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉ
ｄｅ）の薄膜や電極パターン等を形成するために、半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォト
レジストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施
される。
Ｄ）装置の製造工程においては、ＬＣＤ基板（ガラス基
板）上に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉ
ｄｅ）の薄膜や電極パターン等を形成するために、半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォト
レジストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施
される。
【０００３】このような処理においては、ガラス基板上
にレジスト液を塗布し、その後露光工程、現像工程が行
われるが、こうした一連の所定の処理を行う前に、回路
パターンの欠陥発生や配線のショートなどを防止するた
めにレジスト液が塗布されるガラス基板の表面を洗浄す
ると共に、露光時の焦点のずれやパーティクルの発生を
防止するためにガラス基板の裏面をも洗浄する必要があ
る。
にレジスト液を塗布し、その後露光工程、現像工程が行
われるが、こうした一連の所定の処理を行う前に、回路
パターンの欠陥発生や配線のショートなどを防止するた
めにレジスト液が塗布されるガラス基板の表面を洗浄す
ると共に、露光時の焦点のずれやパーティクルの発生を
防止するためにガラス基板の裏面をも洗浄する必要があ
る。
【０００４】このため塗布・現像装置の中には、洗浄装
置が設けられている。図１１は従来の洗浄装置の概略を
示す図であり、この装置では、ガラス基板Ｇの両側縁の
例えば端から５〜１０ｍｍの領域を送りローラＲにより
両面側から、挟圧してガラス基板Ｇを一方向に送りなが
ら、図示しないノズルから洗浄水をガラス基板Ｇの両面
に吹き付け、ガラス基板Ｇの幅方向に沿って伸びる回転
ブラシＢによりガラス基板Ｇの両面を洗浄している。
置が設けられている。図１１は従来の洗浄装置の概略を
示す図であり、この装置では、ガラス基板Ｇの両側縁の
例えば端から５〜１０ｍｍの領域を送りローラＲにより
両面側から、挟圧してガラス基板Ｇを一方向に送りなが
ら、図示しないノズルから洗浄水をガラス基板Ｇの両面
に吹き付け、ガラス基板Ｇの幅方向に沿って伸びる回転
ブラシＢによりガラス基板Ｇの両面を洗浄している。
【０００５】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら上述
の洗浄装置ではガラス基板Ｇを移動させながら洗浄を行
っているため、横方向（進行方向）については、ガラス
基板Ｇの長さのおよそ２倍のスペースが少なくとも必要
である。ここでＬＣＤパネルの大型化に伴いガラス基板
Ｇのサイズが大きくなっており、ガラス基板Ｇの２枚分
のスペースを確保すると洗浄装置の占有面積が広くなっ
てしまう。一方塗布・現像装置は、洗浄装置、冷却装
置、塗布装置、現像装置など多くの処理装置が組み込ま
れており、単位面積当りのコストが非常に高価なクリー
ンルーム内に設置するために、冷却装置や加熱装置など
を多段化したり、搬送系の構造を工夫して小型化を図る
ようにしている。従って従来の洗浄装置は塗布・現像の
小型化を阻んでいるという問題がある。
の洗浄装置ではガラス基板Ｇを移動させながら洗浄を行
っているため、横方向（進行方向）については、ガラス
基板Ｇの長さのおよそ２倍のスペースが少なくとも必要
である。ここでＬＣＤパネルの大型化に伴いガラス基板
Ｇのサイズが大きくなっており、ガラス基板Ｇの２枚分
のスペースを確保すると洗浄装置の占有面積が広くなっ
てしまう。一方塗布・現像装置は、洗浄装置、冷却装
置、塗布装置、現像装置など多くの処理装置が組み込ま
れており、単位面積当りのコストが非常に高価なクリー
ンルーム内に設置するために、冷却装置や加熱装置など
を多段化したり、搬送系の構造を工夫して小型化を図る
ようにしている。従って従来の洗浄装置は塗布・現像の
小型化を阻んでいるという問題がある。
【０００６】本発明は、このような事情の下になされた
ものであり、その目的は、占有面積の小さい洗浄装置を
提供することにある。本発明の他の目的は、簡単な構造
の洗浄装置を提供することにある。本発明の更に他の目
的は、被処理基板の両面を洗浄するにあたって洗浄手段
の構成を簡素化できる洗浄装置及びその方法を提供する
ことにある。
ものであり、その目的は、占有面積の小さい洗浄装置を
提供することにある。本発明の他の目的は、簡単な構造
の洗浄装置を提供することにある。本発明の更に他の目
的は、被処理基板の両面を洗浄するにあたって洗浄手段
の構成を簡素化できる洗浄装置及びその方法を提供する
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、被処
理基板を洗浄する洗浄装置において、被処理基板の周縁
部を保持する保持手段と、この保持手段に保持された被
処理基板の少なくとも一面を洗浄しながら被処理基板の
一縁から他縁に向かって移動する洗浄部を有する洗浄手
段と、を備えたことを特徴とする。
理基板を洗浄する洗浄装置において、被処理基板の周縁
部を保持する保持手段と、この保持手段に保持された被
処理基板の少なくとも一面を洗浄しながら被処理基板の
一縁から他縁に向かって移動する洗浄部を有する洗浄手
段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、洗浄手段は、被処理基板の両面を夫々洗浄する一対
の洗浄部と、この一対の洗浄部を被処理基板の一縁から
他縁に向かって移動させる移動手段と、前記一対の洗浄
部を被処理基板に対して接離させる接離手段と、を備え
ていることを特徴とする。請求項３の発明は、請求項１
または２の発明において、洗浄部は、洗浄部材と、被処
理基板における前記洗浄部材の通過跡に乾燥用の気体を
吹き付ける気体吹き付け手段と、を備えていることを特
徴とする。
て、洗浄手段は、被処理基板の両面を夫々洗浄する一対
の洗浄部と、この一対の洗浄部を被処理基板の一縁から
他縁に向かって移動させる移動手段と、前記一対の洗浄
部を被処理基板に対して接離させる接離手段と、を備え
ていることを特徴とする。請求項３の発明は、請求項１
または２の発明において、洗浄部は、洗浄部材と、被処
理基板における前記洗浄部材の通過跡に乾燥用の気体を
吹き付ける気体吹き付け手段と、を備えていることを特
徴とする。
【０００９】請求項４の発明は、被処理基板を洗浄する
洗浄装置において、被処理基板の周縁部を保持する保持
手段と、この保持手段に保持された被処理基板の一面側
に設けられた洗浄部と、前記被処理基板と直交する軸の
まわりに、前記洗浄部に対して相対的に前記保持手段を
回転させる回転手段と、を備えたことを特徴とする。
洗浄装置において、被処理基板の周縁部を保持する保持
手段と、この保持手段に保持された被処理基板の一面側
に設けられた洗浄部と、前記被処理基板と直交する軸の
まわりに、前記洗浄部に対して相対的に前記保持手段を
回転させる回転手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】請求項５の発明は、請求項４の発明におい
て、洗浄部は、保持手段に対して相対的に昇降できるよ
うに構成されていることを特徴とする。請求項６の発明
は、請求項５の発明において、保持手段に保持された被
処理基板の一面に乾燥用の気体を吹き付ける気体吹き付
け手段を設けたことを特徴とする。請求項７の発明は、
請求項６の発明において、気体吹き付け手段は一方向に
気体を吹き付けるように構成されていることを特徴とす
る。
て、洗浄部は、保持手段に対して相対的に昇降できるよ
うに構成されていることを特徴とする。請求項６の発明
は、請求項５の発明において、保持手段に保持された被
処理基板の一面に乾燥用の気体を吹き付ける気体吹き付
け手段を設けたことを特徴とする。請求項７の発明は、
請求項６の発明において、気体吹き付け手段は一方向に
気体を吹き付けるように構成されていることを特徴とす
る。
【００１１】請求項８の発明は、被処理基板を洗浄する
洗浄装置において、被処理基板の一面を洗浄する洗浄手
段と、この洗浄手段で洗浄された被処理基板の他面を当
該洗浄手段で洗浄させるために被処理基板を反転させる
反転手段とを備えていることを特徴とする。
洗浄装置において、被処理基板の一面を洗浄する洗浄手
段と、この洗浄手段で洗浄された被処理基板の他面を当
該洗浄手段で洗浄させるために被処理基板を反転させる
反転手段とを備えていることを特徴とする。
【００１２】請求項９の発明は、被処理基板を洗浄する
洗浄方法において、前記被処理基板の一面を洗浄部によ
り洗浄する工程と、次いで前記被処理基板を反転させ、
被処理基板の他面を前記洗浄部により洗浄する工程と、
を含むことを特徴とする。
洗浄方法において、前記被処理基板の一面を洗浄部によ
り洗浄する工程と、次いで前記被処理基板を反転させ、
被処理基板の他面を前記洗浄部により洗浄する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１３】
【作用】請求項１〜３の発明においては、例えばメイン
アームから処理前の被処理基板が保持手段に受け渡され
る。このとき一対の洗浄部は、被処理基板の受け渡し動
作に支障がないように夫々被処理基板の両面から離れて
いる。その後一対の洗浄部が接近して、被処理基板の一
縁側においてその両面に接触し、例えば洗浄水を吹き付
けながら他縁側に移動して被処理基板の両面を洗浄す
る。従って被処理基板の面方向の移動領域を確保しなく
てよいので洗浄装置の占有面積が小さくて済む。
アームから処理前の被処理基板が保持手段に受け渡され
る。このとき一対の洗浄部は、被処理基板の受け渡し動
作に支障がないように夫々被処理基板の両面から離れて
いる。その後一対の洗浄部が接近して、被処理基板の一
縁側においてその両面に接触し、例えば洗浄水を吹き付
けながら他縁側に移動して被処理基板の両面を洗浄す
る。従って被処理基板の面方向の移動領域を確保しなく
てよいので洗浄装置の占有面積が小さくて済む。
【００１４】請求項４〜７の発明においては、被処理基
板を保持手段で保持すると共に、被処理基板の一面側例
えば下面側に例えば昇降部を設けてこれに洗浄部を取り
付け、保持手段を回転させて被処理基板の一面側を洗浄
し、被処理基板の受け渡し時には昇降部を降下させてお
く。このようにすれば例えば被処理基板の裏面側の洗浄
のみを行う場合に、簡単な装置構成で済む。
板を保持手段で保持すると共に、被処理基板の一面側例
えば下面側に例えば昇降部を設けてこれに洗浄部を取り
付け、保持手段を回転させて被処理基板の一面側を洗浄
し、被処理基板の受け渡し時には昇降部を降下させてお
く。このようにすれば例えば被処理基板の裏面側の洗浄
のみを行う場合に、簡単な装置構成で済む。
【００１５】請求項８、９の発明においては、被処理基
板の一面を洗浄した後その被処理基板を反転させ、他面
を洗浄するようにしているため、洗浄手段を被処理基板
の一面側に配置すればよく、従って洗浄手段を大掛りな
構造としなくてよい。
板の一面を洗浄した後その被処理基板を反転させ、他面
を洗浄するようにしているため、洗浄手段を被処理基板
の一面側に配置すればよく、従って洗浄手段を大掛りな
構造としなくてよい。
【００１６】
【実施例】以下に本発明を、レジスト塗布・現像装置に
用いられる洗浄装置に適用した実施例について説明す
る。先ず本発明の実施例に係る洗浄装置を説明する前に
塗布・現像装置の全体構成について図１を参照しながら
簡単に述べておく。図１中１ａはキャリアステージ、１
ｂは搬送機構であり、被処理基板、例えばＬＣＤパネル
に用いられるガラス基板Ｇを複数枚収納したキャリア１
ｃが載置される。１１、１２は基板搬送用のメインアー
ム、１０は中継部であり、キャリア１ｃ内のガラス基板
Ｇは、搬送機構１ｂ及びメインアーム１１を介して本発
明の実施例に係る洗浄装置１３に搬送され、ブラシによ
り水洗される。その後必要に応じてジェット水洗装置１
４にてガラス基板Ｇは、ジェット水洗され、更にアドヒ
ージョン処理部１５にて疎水化処理が施され、冷却処理
部１６にて冷却された後、塗布装置１７にてフォトレジ
スト膜すなわち感光膜が塗布形成される。そして、この
フォトレジスト膜が加熱処理部１８にて加熱されてプリ
ベーキング処理が施された後、この装置の右側に配置さ
れた図示しない露光装置にて所定のパターンが露光され
る。そして、露光後のガラス基板は現像処理部１９内へ
搬送され、現像液により現像された後、メインアーム１
２、１１及び搬送機構１ｂを通じて例えば元のキャリア
１ｃ内に戻される。
用いられる洗浄装置に適用した実施例について説明す
る。先ず本発明の実施例に係る洗浄装置を説明する前に
塗布・現像装置の全体構成について図１を参照しながら
簡単に述べておく。図１中１ａはキャリアステージ、１
ｂは搬送機構であり、被処理基板、例えばＬＣＤパネル
に用いられるガラス基板Ｇを複数枚収納したキャリア１
ｃが載置される。１１、１２は基板搬送用のメインアー
ム、１０は中継部であり、キャリア１ｃ内のガラス基板
Ｇは、搬送機構１ｂ及びメインアーム１１を介して本発
明の実施例に係る洗浄装置１３に搬送され、ブラシによ
り水洗される。その後必要に応じてジェット水洗装置１
４にてガラス基板Ｇは、ジェット水洗され、更にアドヒ
ージョン処理部１５にて疎水化処理が施され、冷却処理
部１６にて冷却された後、塗布装置１７にてフォトレジ
スト膜すなわち感光膜が塗布形成される。そして、この
フォトレジスト膜が加熱処理部１８にて加熱されてプリ
ベーキング処理が施された後、この装置の右側に配置さ
れた図示しない露光装置にて所定のパターンが露光され
る。そして、露光後のガラス基板は現像処理部１９内へ
搬送され、現像液により現像された後、メインアーム１
２、１１及び搬送機構１ｂを通じて例えば元のキャリア
１ｃ内に戻される。
【００１７】次に本発明の実施例に係る洗浄装置につい
て図２及び図３を参照しながら説明する。この洗浄装置
は、被処理基板として方形状のガラス基板Ｇの周縁部の
相対する両側縁を凹部に嵌込んだ状態で保持する一対の
保持アーム２１、２２と、この保持アーム２１、２２を
Ｘ方向に開閉する駆動部２３、２４と、ガラス基板Ｇの
両面を洗浄するための一対の洗浄部３ａ、３ｂと、ガラ
ス基板Ｇの下方側に昇降機構４１により昇降し、ガラス
基板Ｇを上面に保持する昇降ステージ４２と、を有して
いる。
て図２及び図３を参照しながら説明する。この洗浄装置
は、被処理基板として方形状のガラス基板Ｇの周縁部の
相対する両側縁を凹部に嵌込んだ状態で保持する一対の
保持アーム２１、２２と、この保持アーム２１、２２を
Ｘ方向に開閉する駆動部２３、２４と、ガラス基板Ｇの
両面を洗浄するための一対の洗浄部３ａ、３ｂと、ガラ
ス基板Ｇの下方側に昇降機構４１により昇降し、ガラス
基板Ｇを上面に保持する昇降ステージ４２と、を有して
いる。
【００１８】前記洗浄部３ａ（３ｂ）は、概水平に横設
された回転軸３０により回転し、例えば最小の長さがガ
ラス基板Ｇの端縁から例えば５〜１０ｍｍの部分を除い
た領域の横幅に応じた大きさの円筒状の洗浄部材である
洗浄ブラシ３１と、この洗浄ブラシ３１の洗浄時の進行
方向側（図２中右側）に接近して設けられた洗浄液供給
管３２とを備えている。なお、洗浄液供給管を左側にも
設け洗浄液をガラス基板Ｇと洗浄ブラシ３１との接触部
分に向けて噴射するようにすることもできる。洗浄ブラ
シ３１の両端側には、図３に示すように基台３３に設け
られたガイド部３４に沿って上下に連動して互いにＺ方
向に接離する接離機構３５ａ、３５ｂが配設されてい
る。
された回転軸３０により回転し、例えば最小の長さがガ
ラス基板Ｇの端縁から例えば５〜１０ｍｍの部分を除い
た領域の横幅に応じた大きさの円筒状の洗浄部材である
洗浄ブラシ３１と、この洗浄ブラシ３１の洗浄時の進行
方向側（図２中右側）に接近して設けられた洗浄液供給
管３２とを備えている。なお、洗浄液供給管を左側にも
設け洗浄液をガラス基板Ｇと洗浄ブラシ３１との接触部
分に向けて噴射するようにすることもできる。洗浄ブラ
シ３１の両端側には、図３に示すように基台３３に設け
られたガイド部３４に沿って上下に連動して互いにＺ方
向に接離する接離機構３５ａ、３５ｂが配設されてい
る。
【００１９】そして上側の洗浄ブラシ３１については、
回転軸３０の一端が接離機構３５ａ、３５ａの一方に設
けられた図示しないモータにより駆動されると共に、他
端が接離機構３５ａ、３５ａの他方に回転自在に支承さ
れている。下側の洗浄ブラシ３１に関連する部分に関し
ても同一であり、接離機構３５ｂ、３５ｂの一方及び他
方に夫々回転軸３０のモータ及び軸受けが設けられてい
る。また前記基台３３はＸ方向に伸びるＸ機構３６によ
りＸ方向に移動できるようになっており、従って上下に
配置された一対の洗浄ブラシ３１は、Ｚ方向に接離でき
かつＸ方向に移動できることとなる。
回転軸３０の一端が接離機構３５ａ、３５ａの一方に設
けられた図示しないモータにより駆動されると共に、他
端が接離機構３５ａ、３５ａの他方に回転自在に支承さ
れている。下側の洗浄ブラシ３１に関連する部分に関し
ても同一であり、接離機構３５ｂ、３５ｂの一方及び他
方に夫々回転軸３０のモータ及び軸受けが設けられてい
る。また前記基台３３はＸ方向に伸びるＸ機構３６によ
りＸ方向に移動できるようになっており、従って上下に
配置された一対の洗浄ブラシ３１は、Ｚ方向に接離でき
かつＸ方向に移動できることとなる。
【００２０】更に前記洗浄液供給管３２は、接離機構３
５ａ、３５ａの例えば一方に固定され（両方に固定して
もよい）、その一方の中あるいは外に配管された図示し
ない給水路に接続されると共に、洗浄時における洗浄ブ
ラシ３１の移動路の前方領域のガラス基板Ｇ上に洗浄
液、例えば水を供給するように長さ方向に沿って、図で
は見えないが多数の噴射孔が穿設されている。なおこの
実施例では、洗浄部３ａ、３ｂ、基台３３、接離機構３
５ａ、３５ｂ、Ｘ機構３６などにより洗浄手段が構成さ
れている。以上のように説明した主要部分がドアを備え
たケース内に収納され、図１に示す洗浄装置１３が構成
されている。
５ａ、３５ａの例えば一方に固定され（両方に固定して
もよい）、その一方の中あるいは外に配管された図示し
ない給水路に接続されると共に、洗浄時における洗浄ブ
ラシ３１の移動路の前方領域のガラス基板Ｇ上に洗浄
液、例えば水を供給するように長さ方向に沿って、図で
は見えないが多数の噴射孔が穿設されている。なおこの
実施例では、洗浄部３ａ、３ｂ、基台３３、接離機構３
５ａ、３５ｂ、Ｘ機構３６などにより洗浄手段が構成さ
れている。以上のように説明した主要部分がドアを備え
たケース内に収納され、図１に示す洗浄装置１３が構成
されている。
【００２１】次いで上述の洗浄装置の作用について述べ
る。先ず図１に示すメインアーム１１から保持アーム２
１、２２に被処理基板例えばガラス基板Ｇが受け渡され
る。この受け渡しは、図４（ａ）に示すように保持アー
ム２１、２２を開いた状態にしておき、メインアーム１
１から上昇状態の昇降ステージ４２にガラス基板Ｇを受
け渡し、続いて図４（ｂ）に示すように保持アーム２
１、２２が閉じてガラス基板Ｇの両側縁を保持した後、
昇降ステージ４２が降下することにより行われる。
る。先ず図１に示すメインアーム１１から保持アーム２
１、２２に被処理基板例えばガラス基板Ｇが受け渡され
る。この受け渡しは、図４（ａ）に示すように保持アー
ム２１、２２を開いた状態にしておき、メインアーム１
１から上昇状態の昇降ステージ４２にガラス基板Ｇを受
け渡し、続いて図４（ｂ）に示すように保持アーム２
１、２２が閉じてガラス基板Ｇの両側縁を保持した後、
昇降ステージ４２が降下することにより行われる。
【００２２】この間洗浄部３ａ、３ｂは、ガラス基板Ｇ
の載置領域の一端側において互いに上下に離れた状態で
待機している。そして洗浄部３ａ、３ｂの洗浄ブラシ３
１は、図４（ｃ）に示すように互いに接近して夫々ガラ
ス基板Ｇの両面に接触し、例えば矢印方向に回転しなが
ら図中左から右に移動する。このとき洗浄液供給管３２
より、ガラス基板Ｇの両面における洗浄ブラシ３１の進
行方向に対して前方側に洗浄液例えば水が吹き付けら
れ、洗浄ブラシ３１の擦過作用によりガラス基板Ｇの両
面が洗浄される。洗浄部３ａ、３ｂは図４（ｄ）に示す
ようにガラス基板Ｇの図中右端側で互いに上下に離れ、
その後保持アーム２１、２２から上昇した昇降ステージ
４２にガラス基板Ｇが受け渡され、更にメインアーム１
１により洗浄装置から取り出されて次工程へ送られる。
の載置領域の一端側において互いに上下に離れた状態で
待機している。そして洗浄部３ａ、３ｂの洗浄ブラシ３
１は、図４（ｃ）に示すように互いに接近して夫々ガラ
ス基板Ｇの両面に接触し、例えば矢印方向に回転しなが
ら図中左から右に移動する。このとき洗浄液供給管３２
より、ガラス基板Ｇの両面における洗浄ブラシ３１の進
行方向に対して前方側に洗浄液例えば水が吹き付けら
れ、洗浄ブラシ３１の擦過作用によりガラス基板Ｇの両
面が洗浄される。洗浄部３ａ、３ｂは図４（ｄ）に示す
ようにガラス基板Ｇの図中右端側で互いに上下に離れ、
その後保持アーム２１、２２から上昇した昇降ステージ
４２にガラス基板Ｇが受け渡され、更にメインアーム１
１により洗浄装置から取り出されて次工程へ送られる。
【００２３】このような実施例によれば、ガラス基板Ｇ
を固定して、洗浄部３ａ、３ｂがガラス基板Ｇの両面に
沿って移動するので、ガラス基板Ｇ、及び保持アーム２
１、２２などの機構部分を配置するスペースを確保すれ
ばよく、ガラス基板Ｇを移動しながら洗浄する場合に比
べて格段に占有面積が小さくて済み洗浄装置の小型化、
ひいては塗布現像装置の小型化を図ることができる。
を固定して、洗浄部３ａ、３ｂがガラス基板Ｇの両面に
沿って移動するので、ガラス基板Ｇ、及び保持アーム２
１、２２などの機構部分を配置するスペースを確保すれ
ばよく、ガラス基板Ｇを移動しながら洗浄する場合に比
べて格段に占有面積が小さくて済み洗浄装置の小型化、
ひいては塗布現像装置の小型化を図ることができる。
【００２４】また洗浄部３ａ、３ｂとしては、図５及び
図６に示すようにガラス基板Ｇにおける洗浄ブラシ３１
の通過した直後の領域に、即ち洗浄ブラシの通過跡に、
乾燥用の気体例えばＮ2 ガスやエアーなどを吹き付ける
ための気体吹き付け手段５を設けてもよい。この気体吹
き付け手段５は、この例では例えば前記接離機構３５
ａ、３５ｂから伸び出し、洗浄部３ａ、３ｂの後方側に
多数分岐したノズル部５１により構成される。このよう
に構成すれば、洗浄後にガラス基板Ｇに付着している洗
浄液を例えばＮ2 ガスにより吹き飛ばして概乾燥させる
ことができるので、その後の振り切り乾燥の時間を短縮
でき、スループットが向上する。
図６に示すようにガラス基板Ｇにおける洗浄ブラシ３１
の通過した直後の領域に、即ち洗浄ブラシの通過跡に、
乾燥用の気体例えばＮ2 ガスやエアーなどを吹き付ける
ための気体吹き付け手段５を設けてもよい。この気体吹
き付け手段５は、この例では例えば前記接離機構３５
ａ、３５ｂから伸び出し、洗浄部３ａ、３ｂの後方側に
多数分岐したノズル部５１により構成される。このよう
に構成すれば、洗浄後にガラス基板Ｇに付着している洗
浄液を例えばＮ2 ガスにより吹き飛ばして概乾燥させる
ことができるので、その後の振り切り乾燥の時間を短縮
でき、スループットが向上する。
【００２５】更に洗浄部材としては、水平な軸のまわり
に回転する円筒状の洗浄ブラシ３１に限らず、例えば図
７に示すように垂直な軸のまわりに回転する円柱状の複
数の洗浄ブラシ５２を、洗浄部の移動方向と直交する方
向に配列する構成としてもよい。この場合Ｙ方向におい
て洗浄漏れ（未洗浄部分）が生じないように、洗浄ブラ
シ５２を千鳥状に配列しかつＸ方向において各洗浄領域
が多少重なり合うように配置することが望ましい。なお
図中５３は洗浄ブラシ５２を保持しかつ駆動する部分を
備えたブラシ保持部材である。
に回転する円筒状の洗浄ブラシ３１に限らず、例えば図
７に示すように垂直な軸のまわりに回転する円柱状の複
数の洗浄ブラシ５２を、洗浄部の移動方向と直交する方
向に配列する構成としてもよい。この場合Ｙ方向におい
て洗浄漏れ（未洗浄部分）が生じないように、洗浄ブラ
シ５２を千鳥状に配列しかつＸ方向において各洗浄領域
が多少重なり合うように配置することが望ましい。なお
図中５３は洗浄ブラシ５２を保持しかつ駆動する部分を
備えたブラシ保持部材である。
【００２６】ここでガラス基板Ｇの裏面側を洗浄する場
合に便利な洗浄装置の実施例について図８及び図９を参
照しながら述べる。この洗浄装置は、ガラス基板Ｇの周
縁部例えば四隅部分を保持する保持手段６と、この保持
手段６に保持されたガラス基板Ｇの下面側に設けられた
洗浄部７とを備えている。保持手段６は、回転カップ６
１と、この回転カップ６１からガラス基板Ｇの四隅部分
に対応する部位まで放射状に伸びるように設けられ、各
四隅部分の直角に交差する２辺が係合して保持される段
部６２を備えた保持部材６３と、回転カップ６１の底部
から下方に伸び、固定部６４ａに軸受け部６４ｂを介し
て軸受けされている小径の筒部６４とを有しており、前
記筒部６４にプーリ６５を介して掛けられたベルト６６
により鉛直軸のまわりに回転できるように構成されてい
る。６７はモータであり、これらモータ６７及びベルト
６６などにより保持手段６を回転させる回転手段が構成
される。
合に便利な洗浄装置の実施例について図８及び図９を参
照しながら述べる。この洗浄装置は、ガラス基板Ｇの周
縁部例えば四隅部分を保持する保持手段６と、この保持
手段６に保持されたガラス基板Ｇの下面側に設けられた
洗浄部７とを備えている。保持手段６は、回転カップ６
１と、この回転カップ６１からガラス基板Ｇの四隅部分
に対応する部位まで放射状に伸びるように設けられ、各
四隅部分の直角に交差する２辺が係合して保持される段
部６２を備えた保持部材６３と、回転カップ６１の底部
から下方に伸び、固定部６４ａに軸受け部６４ｂを介し
て軸受けされている小径の筒部６４とを有しており、前
記筒部６４にプーリ６５を介して掛けられたベルト６６
により鉛直軸のまわりに回転できるように構成されてい
る。６７はモータであり、これらモータ６７及びベルト
６６などにより保持手段６を回転させる回転手段が構成
される。
【００２７】洗浄部７は、前記筒部６４の中を貫通し、
ガラス基板Ｇの中心軸に重なる昇降軸７１上に設けられ
た昇降ステージ７２と、この昇降ステージ７２上に設け
られた洗浄部材例えば鉛直方向に植毛された洗浄ブラシ
７３、洗浄液供給管７４（図９参照）及び気体吹き付け
手段７５とを備えている。７１ａは昇降機構である。洗
浄ブラシ７３及び洗浄液供給管７４は、各々昇降ステー
ジ７２の半径方向に沿って伸びるように、かつ周方向に
並んで設けられており、洗浄液供給管７４は上方に向け
て洗浄水を噴射する噴射孔７４ａが長さ方向に配列され
ている。前記気体吹き付け手段７５は、昇降ステージ７
２の中心部から偏移した位置から例えば保持手段６上の
ガラス基板Ｇの中心部に向けて乾燥用の気体例えばＮ2
ガスを吹き付けるためのノズルよりなり、このノズル
は、昇降軸７１内を通るガス流路を介して外部のＮ2 ガ
ス供給管７６に接続されている。
ガラス基板Ｇの中心軸に重なる昇降軸７１上に設けられ
た昇降ステージ７２と、この昇降ステージ７２上に設け
られた洗浄部材例えば鉛直方向に植毛された洗浄ブラシ
７３、洗浄液供給管７４（図９参照）及び気体吹き付け
手段７５とを備えている。７１ａは昇降機構である。洗
浄ブラシ７３及び洗浄液供給管７４は、各々昇降ステー
ジ７２の半径方向に沿って伸びるように、かつ周方向に
並んで設けられており、洗浄液供給管７４は上方に向け
て洗浄水を噴射する噴射孔７４ａが長さ方向に配列され
ている。前記気体吹き付け手段７５は、昇降ステージ７
２の中心部から偏移した位置から例えば保持手段６上の
ガラス基板Ｇの中心部に向けて乾燥用の気体例えばＮ2
ガスを吹き付けるためのノズルよりなり、このノズル
は、昇降軸７１内を通るガス流路を介して外部のＮ2 ガ
ス供給管７６に接続されている。
【００２８】図８及び図９に示す洗浄装置では、次のよ
うな作用、効果がある。即ち昇降ステージ７２を降下さ
せておいてメインアーム１１から保持手段６にガラス基
板Ｇが受け渡され、続いて洗浄ブラシ７３がガラス基板
Ｇの裏面に接触する位置まで昇降ステージ７２が上昇
し、モータ６７により保持手段６が図９中反時計まわり
に回転する。このとき洗浄液供給管７４から洗浄水がガ
ラス基板Ｇの裏面に噴射され、洗浄水で濡れたガラス基
板Ｇが洗浄ブラシ７３により擦過されるのでガラス基板
Ｇの裏面が洗浄される。この洗浄工程が終った後、保持
手段６を回転させながら気体吹き付け手段７５からＮ2
ガスをガラス基板Ｇの裏面に吹き付けて洗浄水を吹き飛
ばす。
うな作用、効果がある。即ち昇降ステージ７２を降下さ
せておいてメインアーム１１から保持手段６にガラス基
板Ｇが受け渡され、続いて洗浄ブラシ７３がガラス基板
Ｇの裏面に接触する位置まで昇降ステージ７２が上昇
し、モータ６７により保持手段６が図９中反時計まわり
に回転する。このとき洗浄液供給管７４から洗浄水がガ
ラス基板Ｇの裏面に噴射され、洗浄水で濡れたガラス基
板Ｇが洗浄ブラシ７３により擦過されるのでガラス基板
Ｇの裏面が洗浄される。この洗浄工程が終った後、保持
手段６を回転させながら気体吹き付け手段７５からＮ2
ガスをガラス基板Ｇの裏面に吹き付けて洗浄水を吹き飛
ばす。
【００２９】ガラス基板Ｇの洗浄工程では、ガラス基板
Ｇの裏面側の中央部分のみを洗浄すれば足りる場合があ
り、この場合上述の装置を用いれば、保持手段６を昇降
ステージ７２に対して回転させることにより洗浄を行っ
ているので占有スペースが小さくて済むし、装置構成も
簡単であり、非常に有利である。ただし保持手段６を固
定して昇降ステージ７２側を回転させるようにしてもよ
いし、保持手段６側を昇降させるようにしてもよい。両
者を回転させるようにしてもよい。またガラス基板Ｇの
被洗浄面にＮ2 ガスをノズル７５から一方向に吹き付け
ているため、被洗浄面に付着している水滴がスムーズに
周縁部に向かって移動するので液切りを早く行うことが
できる。なお、ガラス基板Ｇの裏面側部分をなるべく広
く洗浄する場合には、洗浄ブラシ７３及び洗浄液供給管
７４を長く形成し、ガラス基板Ｇの四隅部分の保持手段
６の段部６２付近まで洗浄可能なように構成する。ま
た、洗浄ブラシ７３及び洗浄液供給管７４は、ガラス基
板Ｇの対角線の長さ程度まで長く形成することもでき
る。
Ｇの裏面側の中央部分のみを洗浄すれば足りる場合があ
り、この場合上述の装置を用いれば、保持手段６を昇降
ステージ７２に対して回転させることにより洗浄を行っ
ているので占有スペースが小さくて済むし、装置構成も
簡単であり、非常に有利である。ただし保持手段６を固
定して昇降ステージ７２側を回転させるようにしてもよ
いし、保持手段６側を昇降させるようにしてもよい。両
者を回転させるようにしてもよい。またガラス基板Ｇの
被洗浄面にＮ2 ガスをノズル７５から一方向に吹き付け
ているため、被洗浄面に付着している水滴がスムーズに
周縁部に向かって移動するので液切りを早く行うことが
できる。なお、ガラス基板Ｇの裏面側部分をなるべく広
く洗浄する場合には、洗浄ブラシ７３及び洗浄液供給管
７４を長く形成し、ガラス基板Ｇの四隅部分の保持手段
６の段部６２付近まで洗浄可能なように構成する。ま
た、洗浄ブラシ７３及び洗浄液供給管７４は、ガラス基
板Ｇの対角線の長さ程度まで長く形成することもでき
る。
【００３０】ここで図１０を参照しながら本発明の他の
実施例について述べる。この実施例に係る洗浄装置は、
ガラス基板Ｇの両側縁を保持する一対の保持アーム２
１、２２と、この保持アーム２１、２２を開閉する駆動
部２３、２４と、これら駆動部２３、２４を水平な軸の
まわりに回転させるために駆動部２３を回転自在に支承
する軸支部８１及び駆動部２４を回転させる回転機構８
２と、ガラス基板Ｇの一面側に設けられ、ガラス基板Ｇ
に対して接離自在かつ保持アーム２１、２２間を移動で
きるように構成された洗浄部例えば洗浄ブラシ９１と、
この洗浄ブラシ９１の近傍に設けられた洗浄液供給管９
２と、を有している。洗浄ブラシ９１及び洗浄液供給管
９２は、洗浄部をなすものであり、これらは図２及び図
３で述べた機構と類似の機構を組み合わせることができ
る。なお軸支部８１及び回転機構８２は、反転機構を構
成するものである。
実施例について述べる。この実施例に係る洗浄装置は、
ガラス基板Ｇの両側縁を保持する一対の保持アーム２
１、２２と、この保持アーム２１、２２を開閉する駆動
部２３、２４と、これら駆動部２３、２４を水平な軸の
まわりに回転させるために駆動部２３を回転自在に支承
する軸支部８１及び駆動部２４を回転させる回転機構８
２と、ガラス基板Ｇの一面側に設けられ、ガラス基板Ｇ
に対して接離自在かつ保持アーム２１、２２間を移動で
きるように構成された洗浄部例えば洗浄ブラシ９１と、
この洗浄ブラシ９１の近傍に設けられた洗浄液供給管９
２と、を有している。洗浄ブラシ９１及び洗浄液供給管
９２は、洗浄部をなすものであり、これらは図２及び図
３で述べた機構と類似の機構を組み合わせることができ
る。なお軸支部８１及び回転機構８２は、反転機構を構
成するものである。
【００３１】このような構成によれば、図１０（ａ）に
示すようにガラス基板Ｇを保持アーム２１、２２で保持
してガラス基板Ｇの一面側を洗浄ブラシ９１により洗浄
した後、図１０（ｂ）に示すように反転機構により保持
アーム２１、２２を回転させてガラス基板Ｇを反転させ
ると共に洗浄ブラシ９１を、反転前または反転後に図中
左側の鎖線位置まで戻しておき、同様にガラス基板Ｇの
他面側を洗浄する。
示すようにガラス基板Ｇを保持アーム２１、２２で保持
してガラス基板Ｇの一面側を洗浄ブラシ９１により洗浄
した後、図１０（ｂ）に示すように反転機構により保持
アーム２１、２２を回転させてガラス基板Ｇを反転させ
ると共に洗浄ブラシ９１を、反転前または反転後に図中
左側の鎖線位置まで戻しておき、同様にガラス基板Ｇの
他面側を洗浄する。
【００３２】従ってガラス基板Ｇの両面側に洗浄部を設
けることなく片面側に設ければよいので、洗浄手段の構
成を簡素化できる。なおガラス基板Ｇを反転させる工程
は、保持アーム２１、２２で行わなくとも、洗浄装置の
外で例えばメインアームに吸着部を設けておき、このメ
インアームにより反転させるようにしてもよい。またこ
のようなガラス基板Ｇを反転させる発明では、洗浄部を
固定してガラス基板Ｇを移動させることにより洗浄を行
ってもよい。
けることなく片面側に設ければよいので、洗浄手段の構
成を簡素化できる。なおガラス基板Ｇを反転させる工程
は、保持アーム２１、２２で行わなくとも、洗浄装置の
外で例えばメインアームに吸着部を設けておき、このメ
インアームにより反転させるようにしてもよい。またこ
のようなガラス基板Ｇを反転させる発明では、洗浄部を
固定してガラス基板Ｇを移動させることにより洗浄を行
ってもよい。
【００３３】以上において洗浄ブラシの移動方向は、保
持アームの一方から他方に向かう方向でなくとも、保持
アームを結ぶラインと直交する方向であってもよい。ま
た被処理基板としては、ガラス基板に限らず、プリント
基板、ガラスマスク、半導体ウエハなどであってもよ
い。
持アームの一方から他方に向かう方向でなくとも、保持
アームを結ぶラインと直交する方向であってもよい。ま
た被処理基板としては、ガラス基板に限らず、プリント
基板、ガラスマスク、半導体ウエハなどであってもよ
い。
【００３４】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば次の効
果がある。即ち被処理基板を固定して洗浄部を移動させ
るようにしている発明では、被処理基板の面方向におけ
る移動領域を確保しなくてよいので、洗浄装置の占有面
積が少なくて済む。また保持手段に被処理基板を保持さ
せ、保持手段と洗浄部とを、相対的に回転させている発
明では洗浄装置の構成が簡単である。そして被処理基板
を反転させる発明では被処理基板の一面側に洗浄部を設
ければよいため、洗浄手段の構造を大掛かりなものにし
なくて済む。
果がある。即ち被処理基板を固定して洗浄部を移動させ
るようにしている発明では、被処理基板の面方向におけ
る移動領域を確保しなくてよいので、洗浄装置の占有面
積が少なくて済む。また保持手段に被処理基板を保持さ
せ、保持手段と洗浄部とを、相対的に回転させている発
明では洗浄装置の構成が簡単である。そして被処理基板
を反転させる発明では被処理基板の一面側に洗浄部を設
ければよいため、洗浄手段の構造を大掛かりなものにし
なくて済む。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係る洗浄装置を含む塗布・現
像装置の全体構成を示す斜視図である。
像装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施例に係る洗浄装置を示す斜視図で
ある。
ある。
【図３】洗浄手段を示す斜視図である。
【図４】本発明の実施例の作用を示す説明図である。
【図５】図２の実施例に用いた洗浄部に気体吹き付け手
段を付加した実施例を示す側面図である。
段を付加した実施例を示す側面図である。
【図６】図５の洗浄部を示す斜視図である。
【図７】洗浄部の他の例を示す斜視図である。
【図８】本発明の他の実施例を示す断面図である。
【図９】本発明の他の実施例を示す平面図である。
【図１０】本発明の洗浄方法の実施例を示す説明図であ
る。
る。
【図１１】従来の洗浄装置の要部を示す側面図である。
２１、２２ 保持アーム ３ａ、３ｂ 洗浄部 ３１ 洗浄ブラシ ３２ 洗浄液供給管 Ｇ ガラス基板 ３５ａ、３５ｂ 接離機構 ３６ Ｘ機構 ５ 気体吹き付け手段 ５１ ノズル ５２ 洗浄ブラシ ６ 保持手段 ６３ 保持部材 ７ 洗浄部 ７２ 昇降ステージ ７３ 洗浄ブラシ ７５ 気体吹き付け手段 ９１ 洗浄ブラシ ９２ 洗浄液供給管 ８１ モータ ８２ 軸支部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３６１ Ｈ
Claims (9)
- 【請求項１】 被処理基板を洗浄する洗浄装置におい
て、 被処理基板の周縁部を保持する保持手段と、 この保持手段に保持された被処理基板の少なくとも一面
を洗浄しながら被処理基板の一縁から他縁に向かって移
動する洗浄部を有する洗浄手段と、を備えたことを特徴
とする洗浄装置。 - 【請求項２】 洗浄手段は、被処理基板の両面を夫々洗
浄する一対の洗浄部と、この一対の洗浄部を被処理基板
の一縁から他縁に向かって移動させる移動手段と、前記
一対の洗浄部を被処理基板に対して接離させる接離手段
と、を備えていることを特徴とする請求項１記載の洗浄
装置。 - 【請求項３】 洗浄部は、洗浄部材と、被処理基板にお
ける前記洗浄部材の通過跡に乾燥用の気体を吹き付ける
気体吹き付け手段と、を備えていることを特徴とする請
求項１または２記載の洗浄装置。 - 【請求項４】 被処理基板を洗浄する洗浄装置におい
て、 被処理基板の周縁部を保持する保持手段と、 この保持手段に保持された被処理基板の一面側に設けら
れた洗浄部と、 前記被処理基板と直交する軸のまわりに、前記洗浄部に
対して相対的に前記保持手段を回転させる回転手段と、
を備えたことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項５】 洗浄部は、保持手段に対して相対的に昇
降できるように構成されていることを特徴とする請求項
４記載の洗浄装置。 - 【請求項６】 保持手段に保持された被処理基板の一面
に乾燥用の気体を吹き付ける気体吹き付け手段を設けた
ことを特徴とする請求項５記載の洗浄装置。 - 【請求項７】 気体吹き付け手段は一方向に気体を吹き
付けるように構成されていることを特徴とする請求項６
記載の洗浄装置。 - 【請求項８】 被処理基板を洗浄する洗浄装置におい
て、 被処理基板の一面を洗浄する洗浄手段と、 この洗浄手段で洗浄された被処理基板の他面を当該洗浄
手段で洗浄させるために被処理基板を反転させる反転手
段とを備えていることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項９】 被処理基板を洗浄する洗浄装置におい
て、 前記被処理基板の一面を洗浄部により洗浄する工程と、 次いで前記被処理基板を反転させ、被処理基板の他面を
前記洗浄部により洗浄する工程と、を含むことを特徴と
する洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25910794A JP3236742B2 (ja) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25910794A JP3236742B2 (ja) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0889910A true JPH0889910A (ja) | 1996-04-09 |
| JP3236742B2 JP3236742B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=17329425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25910794A Expired - Fee Related JP3236742B2 (ja) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3236742B2 (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100324012B1 (ko) * | 1997-02-19 | 2002-03-08 | 히가시 데쓰로 | 세정장치및세정방법 |
| KR100661160B1 (ko) * | 2005-04-15 | 2006-12-26 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 습식처리된 기판의 비활성 영역 제거 장치 |
| JP2008072140A (ja) * | 2007-11-21 | 2008-03-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2012075998A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Avanstrate Inc | シートガラスの製造方法 |
| JP2014042873A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | Hoya Corp | 基板の製造方法及び基板洗浄装置 |
| US8851092B2 (en) | 2008-02-12 | 2014-10-07 | Tokyo Electron Limited | Cleaning apparatus and cleaning method, coater/developer and coating and developing method, and computer readable storing medium |
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| KR20170137242A (ko) * | 2016-06-02 | 2017-12-13 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
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| CN111774392A (zh) * | 2020-08-08 | 2020-10-16 | 湖南衡波特种玻璃科技有限公司 | 一种特种玻璃生产用清洗机 |
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| CN118237323A (zh) * | 2024-05-24 | 2024-06-25 | 山东泰东新材料有限公司 | 一种全自动磁芯清洁系统及清洁方法 |
-
1994
- 1994-09-28 JP JP25910794A patent/JP3236742B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| JP2014042873A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | Hoya Corp | 基板の製造方法及び基板洗浄装置 |
| KR20150015370A (ko) | 2013-07-31 | 2015-02-10 | 가부시키가이샤 하리즈 | 박판 이송 장치 및 박판 청소 시스템 |
| CN110369433A (zh) * | 2015-01-30 | 2019-10-25 | 哈里斯股份有限公司 | 清扫装置及工件清扫系统 |
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| CN111774392A (zh) * | 2020-08-08 | 2020-10-16 | 湖南衡波特种玻璃科技有限公司 | 一种特种玻璃生产用清洗机 |
| JP2023183730A (ja) * | 2022-06-16 | 2023-12-28 | Ｎｘキャッシュ・ロジスティクス株式会社 | 硬貨選別機及び硬貨選別方法 |
| CN118237323A (zh) * | 2024-05-24 | 2024-06-25 | 山东泰东新材料有限公司 | 一种全自动磁芯清洁系统及清洁方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3236742B2 (ja) | 2001-12-10 |
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