JPH0891873A - ガラスセラミック品およびその製造方法、並びにその前駆体ガラス - Google Patents
ガラスセラミック品およびその製造方法、並びにその前駆体ガラスInfo
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- JPH0891873A JPH0891873A JP7033803A JP3380395A JPH0891873A JP H0891873 A JPH0891873 A JP H0891873A JP 7033803 A JP7033803 A JP 7033803A JP 3380395 A JP3380395 A JP 3380395A JP H0891873 A JPH0891873 A JP H0891873A
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- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 239000006064 precursor glass Substances 0.000 title description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 56
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 7
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 abstract description 10
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 abstract description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N nickel(II) oxide Inorganic materials [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 16
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 16
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 11
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 5
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000943 NiAl Inorganic materials 0.000 description 3
- NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N Raney nickel Chemical compound [Al].[Ni] NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 3
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910002059 quaternary alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002642 NiO-MgO Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000006105 batch ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 nickel aluminate Chemical class 0.000 description 2
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 2
- 239000011022 opal Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 229910052566 spinel group Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 241000905957 Channa melasoma Species 0.000 description 1
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020068 MgAl Inorganic materials 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZVVJJIYJKGMFL-UHFFFAOYSA-N almasilate Chemical compound O.[Mg+2].[Al+3].[Al+3].O[Si](O)=O.O[Si](O)=O HZVVJJIYJKGMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000006124 glass-ceramic system Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0036—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B37/00—Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating
- C04B37/04—Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with articles made from glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 堅くて強靭かつ研磨可能なガラスセラミック
を得る。 【構成】 40%−60%のSiO2 、10%−35%のAl2
O3 、5%−35%のNiO、0%−20%のMgO、およ
び合計で0%−15%のTiO2 および/またはZrO2
から実質的になる。主結晶相としてニッケルスピネロイ
ドを含有する。
を得る。 【構成】 40%−60%のSiO2 、10%−35%のAl2
O3 、5%−35%のNiO、0%−20%のMgO、およ
び合計で0%−15%のTiO2 および/またはZrO2
から実質的になる。主結晶相としてニッケルスピネロイ
ドを含有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラスセラミック体お
よびその製造方法、並びにその前駆体ガラスに関するも
のである。
よびその製造方法、並びにその前駆体ガラスに関するも
のである。
【0002】
【従来の技術および発明の背景】米国特許第2,920,971
号以来ガラスセラミックが知られているが、SiO2 −
Al2 O3 −NiO三元系で広域に亘るガラスを形成す
ることが難しいために、この三元系内の組成物からガラ
スセラミック品を調製しようとする試みが実際には成功
していなかった。
号以来ガラスセラミックが知られているが、SiO2 −
Al2 O3 −NiO三元系で広域に亘るガラスを形成す
ることが難しいために、この三元系内の組成物からガラ
スセラミック品を調製しようとする試みが実際には成功
していなかった。
【0003】しかしながら、ニッケル尖晶石に関する鉱
物学および組成についての最近の研究により、相当な濃
度のシリカがニッケルアルミネート尖晶石中に含まれ得
ることが判明した[Ma、C.-B. 、K.Sahl、およびE.Till
manus 、「ニッケルアルミノシリケート、フェイズ
I」、Acta. Cryst.、B31 、2137-2139(1975) およびAk
aogi、M.、S.-I Akimoto、K. Horioka、K.-I. Takahash
i 、およびH. Horiuchi 、「The System NiAl2 O
4 −Ni2 SiO4 at High Pressures and Temperatu
res:Spinelloids with Spinel-Related Structures」、
Journal of Solid State Chemistry、44、257-267(199
2) ]。このニッケルアルミノシリケートはスピネロイ
ド(spinelloid)と称され、NiAl2 O4 3部とNi
2 SiO4 1部の付近に中心が置かれた固溶体である。
この結晶相はリングウッダイト(ringwoodite )に類似
したX線回折パターンを有し、Ma等により[Ni0.5 A
l5.2 Si2.3 ]IV[Ni9.8 Al6.2 ]VIO32という
結晶指定(crystallographic assignments)が与えられ
ている。このスピネロイドと称するニッケルアルミノシ
リケートにおいて、大部分のニッケルは八面体位置(oc
tahedral site )に存在し、全てのケイ素は四面体位置
(tetrahedral position)に存在し、アルミニウムのお
よそ半分ずつが両方の位置に存在する。
物学および組成についての最近の研究により、相当な濃
度のシリカがニッケルアルミネート尖晶石中に含まれ得
ることが判明した[Ma、C.-B. 、K.Sahl、およびE.Till
manus 、「ニッケルアルミノシリケート、フェイズ
I」、Acta. Cryst.、B31 、2137-2139(1975) およびAk
aogi、M.、S.-I Akimoto、K. Horioka、K.-I. Takahash
i 、およびH. Horiuchi 、「The System NiAl2 O
4 −Ni2 SiO4 at High Pressures and Temperatu
res:Spinelloids with Spinel-Related Structures」、
Journal of Solid State Chemistry、44、257-267(199
2) ]。このニッケルアルミノシリケートはスピネロイ
ド(spinelloid)と称され、NiAl2 O4 3部とNi
2 SiO4 1部の付近に中心が置かれた固溶体である。
この結晶相はリングウッダイト(ringwoodite )に類似
したX線回折パターンを有し、Ma等により[Ni0.5 A
l5.2 Si2.3 ]IV[Ni9.8 Al6.2 ]VIO32という
結晶指定(crystallographic assignments)が与えられ
ている。このスピネロイドと称するニッケルアルミノシ
リケートにおいて、大部分のニッケルは八面体位置(oc
tahedral site )に存在し、全てのケイ素は四面体位置
(tetrahedral position)に存在し、アルミニウムのお
よそ半分ずつが両方の位置に存在する。
【0004】尖晶石を含有するガラスセラミックがSi
O2 −Al2 O3 −MgO−ZrO2 組成系およびSi
O2 −Al2 O3 −ZnO−ZrO2 −TiO2 組成系
においてよく知られているの。そこで、上記組成系中に
はシリカ成分が含まれているために結晶化度の百分率が
大きいであろうという予測の基に、ニッケルアルミノシ
リケートガラス中に尖晶石型の結晶が形成される可能性
を調査した。さらに、ニッケルアルミノシリケート組成
系はガラス形成には適していないが、マグネシウムアル
ミノシリケート組成系は優れたガラス形成適性を有する
ものとして認識されている。したがって、SiO2 −A
l2 O3 −NiO三元系にMgOを加え、それによって
SiO2 −Al2 O3 −NiO−MgO四元組成系を構
成することを探求した。
O2 −Al2 O3 −MgO−ZrO2 組成系およびSi
O2 −Al2 O3 −ZnO−ZrO2 −TiO2 組成系
においてよく知られているの。そこで、上記組成系中に
はシリカ成分が含まれているために結晶化度の百分率が
大きいであろうという予測の基に、ニッケルアルミノシ
リケートガラス中に尖晶石型の結晶が形成される可能性
を調査した。さらに、ニッケルアルミノシリケート組成
系はガラス形成には適していないが、マグネシウムアル
ミノシリケート組成系は優れたガラス形成適性を有する
ものとして認識されている。したがって、SiO2 −A
l2 O3 −NiO三元系にMgOを加え、それによって
SiO2 −Al2 O3 −NiO−MgO四元組成系を構
成することを探求した。
【0005】尖晶石は大きな弾性率を有する硬く、高密
度の物質である。核を生成させてニッケル尖晶石を結晶
化し、適度に大きな結晶化度と非常に微細な結晶サイズ
とを組み合わせることができれば、得られるガラスセラ
ミック体は堅くて強靭かつ研磨可能なものとなるであろ
うと推測した。
度の物質である。核を生成させてニッケル尖晶石を結晶
化し、適度に大きな結晶化度と非常に微細な結晶サイズ
とを組み合わせることができれば、得られるガラスセラ
ミック体は堅くて強靭かつ研磨可能なものとなるであろ
うと推測した。
【0006】
【発明の構成】高剛性、高硬度、良好な強度と靭性、優
れた熱耐久性と化学耐久性、並びにSiO2 −Al2 O
3 −NiO−MgO基本組成系において非常に微細なミ
クロ構造を合わせ持つガラスセラミックにその場で結晶
化できる熱結晶性ガラスの新たな群を発見した。使用可
能な広範囲の前駆体ガラスは、酸化物基準の重量パーセ
ントで表して、40%−60%のSiO2 、10%−35%のA
l2 O3 、5%−35%のNiO、および0%−20%のM
gOから実質的になる。従来の核剤は驚くべきことに含
有させる必要がないのであるが、ガラスセラミックの表
面の質を改良する際にこの核剤が有用となる場合もあ
る。この場合、TiO2 および/またはZrO2 を合計
で15重量%まで加えてもよい。
れた熱耐久性と化学耐久性、並びにSiO2 −Al2 O
3 −NiO−MgO基本組成系において非常に微細なミ
クロ構造を合わせ持つガラスセラミックにその場で結晶
化できる熱結晶性ガラスの新たな群を発見した。使用可
能な広範囲の前駆体ガラスは、酸化物基準の重量パーセ
ントで表して、40%−60%のSiO2 、10%−35%のA
l2 O3 、5%−35%のNiO、および0%−20%のM
gOから実質的になる。従来の核剤は驚くべきことに含
有させる必要がないのであるが、ガラスセラミックの表
面の質を改良する際にこの核剤が有用となる場合もあ
る。この場合、TiO2 および/またはZrO2 を合計
で15重量%まで加えてもよい。
【0007】本願では、「実質的になる」という表現を
加えていることにより、本願の請求の範囲では、組成の
基本的かつ新規な特徴に実質的に影響を与えない不特定
成分に限ってその追加含有を許容している。一般的に、
上記成分の合計は約5%以下である。
加えていることにより、本願の請求の範囲では、組成の
基本的かつ新規な特徴に実質的に影響を与えない不特定
成分に限ってその追加含有を許容している。一般的に、
上記成分の合計は約5%以下である。
【0008】上述したように、SiO2 −Al2 O3 −
NiO三元系においてガラスを形成できる範囲はきわめ
て制限されている。さらに、最良のガラス形成範囲にお
いてさえも、大半のガラス品に微細な乳濁化(fine opa
lization)が認められる。この乳濁化のために、ガラス
の形状がある程度歪んでしまい、その結果ガラスの形状
を維持するのが難しくなる。さらに、乳濁化の発生する
度合いは溶融ガラスを所望の形状に形成する際の冷却速
度に依存し、ガラスをガラスセラミックに転化する熱処
理中に生じる結晶化は一般的に不均一である。
NiO三元系においてガラスを形成できる範囲はきわめ
て制限されている。さらに、最良のガラス形成範囲にお
いてさえも、大半のガラス品に微細な乳濁化(fine opa
lization)が認められる。この乳濁化のために、ガラス
の形状がある程度歪んでしまい、その結果ガラスの形状
を維持するのが難しくなる。さらに、乳濁化の発生する
度合いは溶融ガラスを所望の形状に形成する際の冷却速
度に依存し、ガラスをガラスセラミックに転化する熱処
理中に生じる結晶化は一般的に不均一である。
【0009】少なくとも2重量%の量のMgOをSiO
2 −Al2 O3 −NiO三元系に加えるとそれらの欠点
を克服できる。得られたガラスは乳濁化も失透もなく、
黒色である。薄いかけらでは、ガラスの色は暗い茶色に
見える。この色により、三元系ガラスに見られる緑色の
オパールからこれらのガラスがはっきりと区別される。
MgOの含有量を20%より多くすると、前駆体ガラスを
失透させてしまう恐れがある。MgOの好ましい含有量
は約5%−約15%の範囲である。
2 −Al2 O3 −NiO三元系に加えるとそれらの欠点
を克服できる。得られたガラスは乳濁化も失透もなく、
黒色である。薄いかけらでは、ガラスの色は暗い茶色に
見える。この色により、三元系ガラスに見られる緑色の
オパールからこれらのガラスがはっきりと区別される。
MgOの含有量を20%より多くすると、前駆体ガラスを
失透させてしまう恐れがある。MgOの好ましい含有量
は約5%−約15%の範囲である。
【0010】本発明のガラスの最も顕著な特徴のうちの
1つは、従来の核剤の助けを借りることなく行なわれる
非常に効率的な核形成である。単純な三元系ガラスの各
々は、自己核形成性を有し(self-nucleating )、少な
くとも5%のNiOを含有する実質的にすべての四元系
ガラスも同様に自己核形成性を有する。実際、Ni
+2は、広範囲に及ぶアルミノシリケートガラスの核形成
を促進させる、我々の知る限りでは唯一の改質イオン
(modifying ion )である。この特有の効果は、Ni +2
が四面体部位または網状部位(network site)、並びに
八面体部位または改質部位(modifying site)の両方に
進入することによるものと考えられている。これらのガ
ラスにおける通常に結晶化に先立つ緑の乳濁化はまた、
後の熱処理に際して結晶化の中心となる分散した非晶質
のドロップへとニッケルをはっきり分割したことを示唆
している。本発明のガラスに効果的な核形成温度は約80
0 ℃−約850 ℃の範囲にあり、これらの温度はこれらの
ガラスのアニーリング温度または遷移温度より約100 ℃
高い。
1つは、従来の核剤の助けを借りることなく行なわれる
非常に効率的な核形成である。単純な三元系ガラスの各
々は、自己核形成性を有し(self-nucleating )、少な
くとも5%のNiOを含有する実質的にすべての四元系
ガラスも同様に自己核形成性を有する。実際、Ni
+2は、広範囲に及ぶアルミノシリケートガラスの核形成
を促進させる、我々の知る限りでは唯一の改質イオン
(modifying ion )である。この特有の効果は、Ni +2
が四面体部位または網状部位(network site)、並びに
八面体部位または改質部位(modifying site)の両方に
進入することによるものと考えられている。これらのガ
ラスにおける通常に結晶化に先立つ緑の乳濁化はまた、
後の熱処理に際して結晶化の中心となる分散した非晶質
のドロップへとニッケルをはっきり分割したことを示唆
している。本発明のガラスに効果的な核形成温度は約80
0 ℃−約850 ℃の範囲にあり、これらの温度はこれらの
ガラスのアニーリング温度または遷移温度より約100 ℃
高い。
【0011】ニッケルを含有する尖晶石型の相の結晶化
は約850 ℃で始まり、上昇する温度の関数としてある程
度線形で約1200℃まで続く。最高温度における結晶化に
際してのガラス全体の収縮は約5%−10%であり、線収
縮は約2%−3%である。結晶化工程中のガラスの外観
も著しく変化する。暗い茶色(ほとんど黒色)のガラス
は、最初に暗い緑色に、次いで暗い水色に、そして最終
的に不透明の青緑色に変化する。結晶化体の割れ目(fr
acture surface)はろうのような外観を呈する。結晶の
平均サイズは非常に小さい。その直径は、1200℃での4
時間に及ぶ熱処理後でさえも実質的に0.5 μm未満であ
る。
は約850 ℃で始まり、上昇する温度の関数としてある程
度線形で約1200℃まで続く。最高温度における結晶化に
際してのガラス全体の収縮は約5%−10%であり、線収
縮は約2%−3%である。結晶化工程中のガラスの外観
も著しく変化する。暗い茶色(ほとんど黒色)のガラス
は、最初に暗い緑色に、次いで暗い水色に、そして最終
的に不透明の青緑色に変化する。結晶化体の割れ目(fr
acture surface)はろうのような外観を呈する。結晶の
平均サイズは非常に小さい。その直径は、1200℃での4
時間に及ぶ熱処理後でさえも実質的に0.5 μm未満であ
る。
【0012】形成されたときに一般的に緑色のオパール
となる単純な三元組成ガラスにおいて、2つの結晶相が
その場で生じる。主な相は、マグネシウムイオンオルト
シリケート(リングウッダイトとして知られている鉱
物)の高圧尖晶石形態に最も類似したX線回折パターン
を示す尖晶石型(スピネロイド)構造を有する。NiO
は微量の第2相として存在する。尖晶石型の相は明らか
にマグネシウムも鉄も含有していないが、一般的な尖晶
石パターンから結晶パターンが逸脱していることによ
り、シリカが結晶中に含まれていることが示唆される。
となる単純な三元組成ガラスにおいて、2つの結晶相が
その場で生じる。主な相は、マグネシウムイオンオルト
シリケート(リングウッダイトとして知られている鉱
物)の高圧尖晶石形態に最も類似したX線回折パターン
を示す尖晶石型(スピネロイド)構造を有する。NiO
は微量の第2相として存在する。尖晶石型の相は明らか
にマグネシウムも鉄も含有していないが、一般的な尖晶
石パターンから結晶パターンが逸脱していることによ
り、シリカが結晶中に含まれていることが示唆される。
【0013】MgO含有四元組成系においては、ガラス
は完全に非晶質であり、形成されたときには黒色または
暗い茶色を有する。熱処理に際して、生ずる最も一般的
な結晶はX線回折パターンにおいて、比較的低温、すな
わち、約900 ℃−約1100℃での熱処理により得られたニ
ッケルスピネロイドの単一相に類似する単一相である。
これにより、マグネシウム尖晶石とニッケル尖晶石との
間に固溶体が存在するのが分かる。しかしながら、特に
結晶化温度を1200℃まで上昇させたときに、2つまたは
3つの尖晶石相が共存することを示すX線回折パターン
における特徴的な2つまたは3つのピークを有すると思
われる組成もあるので、上記固溶体は無限のものではな
い。また、2つの相が現れていると思われる電子顕微鏡
写真もある。これは、スピネロイド成分のNiAl2 O
4 −NiSiO4 −MgAl2 O4 とMg2 SiO4 と
の間の真の平衡条件下では固溶体が不完全かもしれない
ことを示唆している。
は完全に非晶質であり、形成されたときには黒色または
暗い茶色を有する。熱処理に際して、生ずる最も一般的
な結晶はX線回折パターンにおいて、比較的低温、すな
わち、約900 ℃−約1100℃での熱処理により得られたニ
ッケルスピネロイドの単一相に類似する単一相である。
これにより、マグネシウム尖晶石とニッケル尖晶石との
間に固溶体が存在するのが分かる。しかしながら、特に
結晶化温度を1200℃まで上昇させたときに、2つまたは
3つの尖晶石相が共存することを示すX線回折パターン
における特徴的な2つまたは3つのピークを有すると思
われる組成もあるので、上記固溶体は無限のものではな
い。また、2つの相が現れていると思われる電子顕微鏡
写真もある。これは、スピネロイド成分のNiAl2 O
4 −NiSiO4 −MgAl2 O4 とMg2 SiO4 と
の間の真の平衡条件下では固溶体が不完全かもしれない
ことを示唆している。
【0014】本発明のニッケルスピネロイド含有ガラス
セラミックは事実上非常に細かい微粒であり、一般的な
結晶サイズは、1200℃での熱処理後の約0.25μmから、
その場で低温(例えば、900 ℃−1000℃)で結晶化され
た場合の500 Aより小さいサイズまで様々である。約12
00℃の温度で結晶化されたときに上述したような微粒子
の結晶が生じるその他のガラスセラミック系は知られて
いない。
セラミックは事実上非常に細かい微粒であり、一般的な
結晶サイズは、1200℃での熱処理後の約0.25μmから、
その場で低温(例えば、900 ℃−1000℃)で結晶化され
た場合の500 Aより小さいサイズまで様々である。約12
00℃の温度で結晶化されたときに上述したような微粒子
の結晶が生じるその他のガラスセラミック系は知られて
いない。
【0015】一般的なミクロ構造は単一相、すなわち、
単一スピネロイドを含有する単一相であろう。そのミク
ロ構造は、ニッケルの含有量が多い組成物および/また
は1100℃未満の温度でその場で結晶化されたほとんどの
ガラス組成物に共通である。しかしながら、それ以外に
他のミクロ構造が2つ観察された。最初の場合では、2
つの尖晶石型結晶が共存している。ここで、粒子の発生
が速くてMgOの含有量が多いと推測される尖晶石固溶
体の1つが大きな結晶寸法(例えば0.5 μm−1.0 μ
m)に近い寸法を有している。2番目の場合では、スピ
ネロイドがNiO結晶を伴って発生することもある。
単一スピネロイドを含有する単一相であろう。そのミク
ロ構造は、ニッケルの含有量が多い組成物および/また
は1100℃未満の温度でその場で結晶化されたほとんどの
ガラス組成物に共通である。しかしながら、それ以外に
他のミクロ構造が2つ観察された。最初の場合では、2
つの尖晶石型結晶が共存している。ここで、粒子の発生
が速くてMgOの含有量が多いと推測される尖晶石固溶
体の1つが大きな結晶寸法(例えば0.5 μm−1.0 μ
m)に近い寸法を有している。2番目の場合では、スピ
ネロイドがNiO結晶を伴って発生することもある。
【0016】ニッケル含有スピネロイドは(出発組成に
依存して、一般的に主相または単独相である)、通常、
非晶相の幾何学的外形に似た幾何学的外形を有する下反
角構造(anhedral structure)を示す。これらの不規則
なドロップ形状の結晶には、富ニッケルガラスと富シリ
カガラスとの初期相分離に起源を有するものであったと
考えられる。
依存して、一般的に主相または単独相である)、通常、
非晶相の幾何学的外形に似た幾何学的外形を有する下反
角構造(anhedral structure)を示す。これらの不規則
なドロップ形状の結晶には、富ニッケルガラスと富シリ
カガラスとの初期相分離に起源を有するものであったと
考えられる。
【0017】本発明のガラスセラミックにおける全体の
結晶化度は平均で約50容量%のようである。残存ガラス
の組成は分析されていないが、シリカが多いと推測され
る。
結晶化度は平均で約50容量%のようである。残存ガラス
の組成は分析されていないが、シリカが多いと推測され
る。
【0018】要約すると、本発明は、酸化物基準の重量
パーセントで表して、40%−60%のSiO2 、10%−35
%のAl2 O3 、5%−35%のNiO、0%−20%のM
gO、および合計で0%−15%のTiO2 および/また
はZrO2 から実質的になり、好ましくは少なくとも2
%のMgOを含有する熱結晶性ガラスを提供する。この
ガラスは熱処理によりその場で結晶化でき、ニッケルス
ピネロイドが、単一で存在する場合以外は主結晶相を構
成するガラスセラミック品を形成する。前駆体ガラスを
ガラスセラミックに転化する一般的な方法にしたがって
本発明のガラスセラミック品を製造する方法をいかに記
載する。その方法は、(a) 酸化物基準の重量パーセン
トで表して、40%−60%のSiO2 、10%−35%のAl
2 O3 、5%−35%のNiO、0%−20%のMgO、お
よび合計で0%−15%のTiO2 および/またはZrO
2 から実質的になるガラスのバッチを溶融し、(b) 得
られた溶融物を少なくとも前記ガラスが転移する温度範
囲より低い温度に冷却し、それと同時に冷却している溶
融物から所望の形状のガラス体を形成し、(c) 該ガラ
ス体を、その中に核を発生させるのに十分な時間に亘り
約800 ℃−約850 ℃の範囲の温度にさらし、(d) その
ようにして核が形成されたガラス体を、該核上にその場
でニッケルスピネロイド結晶を成長させるのに十分な時
間に亘り約850 ℃−約1200℃の範囲の温度にさらし、そ
の後(e) 上述のようにして得られたガラスセラミック
体を室温まで冷却する各工程からなる。
パーセントで表して、40%−60%のSiO2 、10%−35
%のAl2 O3 、5%−35%のNiO、0%−20%のM
gO、および合計で0%−15%のTiO2 および/また
はZrO2 から実質的になり、好ましくは少なくとも2
%のMgOを含有する熱結晶性ガラスを提供する。この
ガラスは熱処理によりその場で結晶化でき、ニッケルス
ピネロイドが、単一で存在する場合以外は主結晶相を構
成するガラスセラミック品を形成する。前駆体ガラスを
ガラスセラミックに転化する一般的な方法にしたがって
本発明のガラスセラミック品を製造する方法をいかに記
載する。その方法は、(a) 酸化物基準の重量パーセン
トで表して、40%−60%のSiO2 、10%−35%のAl
2 O3 、5%−35%のNiO、0%−20%のMgO、お
よび合計で0%−15%のTiO2 および/またはZrO
2 から実質的になるガラスのバッチを溶融し、(b) 得
られた溶融物を少なくとも前記ガラスが転移する温度範
囲より低い温度に冷却し、それと同時に冷却している溶
融物から所望の形状のガラス体を形成し、(c) 該ガラ
ス体を、その中に核を発生させるのに十分な時間に亘り
約800 ℃−約850 ℃の範囲の温度にさらし、(d) その
ようにして核が形成されたガラス体を、該核上にその場
でニッケルスピネロイド結晶を成長させるのに十分な時
間に亘り約850 ℃−約1200℃の範囲の温度にさらし、そ
の後(e) 上述のようにして得られたガラスセラミック
体を室温まで冷却する各工程からなる。
【0019】
【実施例】以下、実施例を参照して本発明を詳細に説明
する。
する。
【0020】表Iには、本発明の製品における組成範囲
を示す、重量部で表したいくつかのガラス組成が列記さ
れている。組成成分の合計がほぼ100 となるので、便宜
上、列記されている個々の値は重量パーセントを表すも
のと考えてよい。実際のバッチ成分は、共に溶融される
と、適切な比率の所望の酸化物に転化する酸化物または
他の化合物のいずれの物質であってもよい。例えば、M
gCO3 はMgOの供給源となり得る。
を示す、重量部で表したいくつかのガラス組成が列記さ
れている。組成成分の合計がほぼ100 となるので、便宜
上、列記されている個々の値は重量パーセントを表すも
のと考えてよい。実際のバッチ成分は、共に溶融される
と、適切な比率の所望の酸化物に転化する酸化物または
他の化合物のいずれの物質であってもよい。例えば、M
gCO3 はMgOの供給源となり得る。
【0021】バッチ成分を配合して、ともに自動的にタ
ンブル混合し、次いで白金のるつぼに装填した。通常約
1kgのバッチを含有させたるつぼを約1600℃に設定さ
れた炉に導入し、バッチを約16時間に亘り溶融した。そ
の後、溶融物をスチール型に注ぎ入れ、約20.32 cm×
10.16 cm×1.27cm(8インチ×4インチ×0.5 イン
チ)の寸法を有するガラススラブか、またはある場合に
は、25.4cm(10インチ)の直径および約0.635 cm
(0.25インチ)の厚さを有する自由円形ディスク(free
circular discs )を製造した。この製造物を約650 ℃
−約675 ℃に設定されたアニーラーに直ちに移した。
ンブル混合し、次いで白金のるつぼに装填した。通常約
1kgのバッチを含有させたるつぼを約1600℃に設定さ
れた炉に導入し、バッチを約16時間に亘り溶融した。そ
の後、溶融物をスチール型に注ぎ入れ、約20.32 cm×
10.16 cm×1.27cm(8インチ×4インチ×0.5 イン
チ)の寸法を有するガラススラブか、またはある場合に
は、25.4cm(10インチ)の直径および約0.635 cm
(0.25インチ)の厚さを有する自由円形ディスク(free
circular discs )を製造した。この製造物を約650 ℃
−約675 ℃に設定されたアニーラーに直ちに移した。
【0022】約6.35cm×2.54cm×0.635 cm(約2.
5 インチ×1インチ×0.5 インチ)の寸法を有するタブ
型試料をガラスディスクから切り出し、そのタブ型試料
に対して表IIに示した熱処理スケジュールを施した。得
られた試料を電気加熱した炉中に配置し、炉の温度を約
300 ℃/時間の速度で核形成温度まで上昇させた。表II
に示した期間に亘り炉の温度を核形成温度に維持し、そ
の後、昇温速度を再度約300 ℃/時間として、炉の温度
を結晶化温度まで上昇させた。表IIに示した時間に亘り
炉の温度を結晶化温度に維持した後、炉に通電した電流
を遮断し、試料を中に入れたまま炉を冷却した。「炉が
冷める速度」と称されるこの作業の結果として、冷却速
度は平均で約3−5℃/分となった。
5 インチ×1インチ×0.5 インチ)の寸法を有するタブ
型試料をガラスディスクから切り出し、そのタブ型試料
に対して表IIに示した熱処理スケジュールを施した。得
られた試料を電気加熱した炉中に配置し、炉の温度を約
300 ℃/時間の速度で核形成温度まで上昇させた。表II
に示した期間に亘り炉の温度を核形成温度に維持し、そ
の後、昇温速度を再度約300 ℃/時間として、炉の温度
を結晶化温度まで上昇させた。表IIに示した時間に亘り
炉の温度を結晶化温度に維持した後、炉に通電した電流
を遮断し、試料を中に入れたまま炉を冷却した。「炉が
冷める速度」と称されるこの作業の結果として、冷却速
度は平均で約3−5℃/分となった。
【0023】核形成および結晶化を行なう特定温度での
急速停止時間(express dwell periods )は必要ないこ
とが分かった。好ましく核形成を行なうのに十分な時間
に亘り核形成温度範囲内の温度に前駆体ガラス製品を保
持し、次いで、高度な結晶化を行なうのに十分な時間に
亘り結晶化温度範囲内に上述したように核形成した製品
を保持するだけでよい。ここで結晶化に要する温度は一
般的に少なくとも約1時間であった。より長い核形成時
間および結晶化時間、例えば、8−12時間を用いてもよ
いが、4時間が実際的な最高限度時間であると考えられ
る。
急速停止時間(express dwell periods )は必要ないこ
とが分かった。好ましく核形成を行なうのに十分な時間
に亘り核形成温度範囲内の温度に前駆体ガラス製品を保
持し、次いで、高度な結晶化を行なうのに十分な時間に
亘り結晶化温度範囲内に上述したように核形成した製品
を保持するだけでよい。ここで結晶化に要する温度は一
般的に少なくとも約1時間であった。より長い核形成時
間および結晶化時間、例えば、8−12時間を用いてもよ
いが、4時間が実際的な最高限度時間であると考えられ
る。
【0024】上述した手順は研究所規模での実施に基づ
くものである。例えば、商業的なガラス成形技術および
装置を用いて、本発明の出発ガラスのバッチを大型の商
業用溶融装置中で溶融し、得られた溶融物を所望のガラ
ス形状に造型することができる。均一な溶融物を得るの
に十分な時間に亘り十分な温度にバッチを加熱し、得ら
れた溶融物を冷却すると同時に十分に急速に造型して失
透を避けるだけでよい。
くものである。例えば、商業的なガラス成形技術および
装置を用いて、本発明の出発ガラスのバッチを大型の商
業用溶融装置中で溶融し、得られた溶融物を所望のガラ
ス形状に造型することができる。均一な溶融物を得るの
に十分な時間に亘り十分な温度にバッチを加熱し、得ら
れた溶融物を冷却すると同時に十分に急速に造型して失
透を避けるだけでよい。
【0025】同様に、特定の停止時間を伴う2段階結晶
化工程よりもむしろ、例えば、徐冷窯またはトンネル窯
を用いた連続工程がきわめて現実的である。このため、
上述したように、核が形成するのに十分長い時間に亘り
前駆体ガラス製品を核形成範囲内の温度にさらし、その
後核上に結晶が成長するのに十分な時間に亘り結晶化範
囲内の温度にさらすだけでよい。
化工程よりもむしろ、例えば、徐冷窯またはトンネル窯
を用いた連続工程がきわめて現実的である。このため、
上述したように、核が形成するのに十分長い時間に亘り
前駆体ガラス製品を核形成範囲内の温度にさらし、その
後核上に結晶が成長するのに十分な時間に亘り結晶化範
囲内の温度にさらすだけでよい。
【0026】表IIには、出発ガラスおよびこれを結晶化
したガラスセラミックの目視による外観も列記されてい
る。結晶相はX線回折により確認し、ガラスセラミック
のミクロ構造はレプリカ電子顕微鏡を使用して研究し
た。密度(g/cm3 )、磨耗したものと磨耗していな
いものの破壊係数(Kpsi)、KICで表した破壊靭性
(MPa√m)、ヌープ硬度数として表した硬度[KH
N(g/mm2 )]、およびEとして表した弾性率(×
106 psi)の各測定も行なった。
したガラスセラミックの目視による外観も列記されてい
る。結晶相はX線回折により確認し、ガラスセラミック
のミクロ構造はレプリカ電子顕微鏡を使用して研究し
た。密度(g/cm3 )、磨耗したものと磨耗していな
いものの破壊係数(Kpsi)、KICで表した破壊靭性
(MPa√m)、ヌープ硬度数として表した硬度[KH
N(g/mm2 )]、およびEとして表した弾性率(×
106 psi)の各測定も行なった。
【0027】
【表1】
【0028】
【表2】
【0029】
【表3】
【0030】
【表4】
【0031】上述したように、本発明のガラスセラミッ
クが有する特性のうち最も興味のある2つは、非常に大
きな弾性率および非常に微細なミクロ構造である。この
ミクロ構造のために、磨き面(polished surface)と破
面(fractured surface )の両方がとても滑らかにな
る。
クが有する特性のうち最も興味のある2つは、非常に大
きな弾性率および非常に微細なミクロ構造である。この
ミクロ構造のために、磨き面(polished surface)と破
面(fractured surface )の両方がとても滑らかにな
る。
【0032】このことを説明するために、原子力顕微鏡
(atomic force microscopy :AFM)測定技術を用い
て、実施例4の磨き面の平均Ra(表面粗さ)が24.0A
であることを測定した。AFMにより測定した表面粗さ
のピークから底までの距離は平均で180 Aであった。米
国特許第4,386,162 号に記載されているような、主結晶
相としてカナサイトを含有するガラスセラミックの磨き
面と本発明のガラスセラミックの磨き面とを比較する
と、本発明のガラスセラミックの粗さは、カナサイト含
有ガラスセラミックの粗さのたった約10%であることが
分かった。
(atomic force microscopy :AFM)測定技術を用い
て、実施例4の磨き面の平均Ra(表面粗さ)が24.0A
であることを測定した。AFMにより測定した表面粗さ
のピークから底までの距離は平均で180 Aであった。米
国特許第4,386,162 号に記載されているような、主結晶
相としてカナサイトを含有するガラスセラミックの磨き
面と本発明のガラスセラミックの磨き面とを比較する
と、本発明のガラスセラミックの粗さは、カナサイト含
有ガラスセラミックの粗さのたった約10%であることが
分かった。
【0033】本発明のガラスセラミックの弾性率は約15
−21×106 psiの範囲にあり、21×106 psiの値は
間違いなく、どの他のガラス誘導材料の値よりもかなり
大きいものであった。さらに、本発明の製品は、ガラス
または非常に微細なガラスセラミックにおいて形成でき
るような非常に細かい磨き面を持つ可能性を有してい
る。本発明のガラスセラミックは、50nm未満のサイズ
の結晶を有し、その結晶サイズを厳密に制御することが
できる。さらに、本発明のガラスセラミックの多くは、
単一の結晶相とガラスとを有する。1100℃以下の温度で
熱処理を施すと、本発明のガラスセラミック製品のほと
んどが単一の結晶相とガラスとを有するようになる。そ
のような組合せにより、卓越した制御可能な微細な表面
組織を有する物体が得られる。
−21×106 psiの範囲にあり、21×106 psiの値は
間違いなく、どの他のガラス誘導材料の値よりもかなり
大きいものであった。さらに、本発明の製品は、ガラス
または非常に微細なガラスセラミックにおいて形成でき
るような非常に細かい磨き面を持つ可能性を有してい
る。本発明のガラスセラミックは、50nm未満のサイズ
の結晶を有し、その結晶サイズを厳密に制御することが
できる。さらに、本発明のガラスセラミックの多くは、
単一の結晶相とガラスとを有する。1100℃以下の温度で
熱処理を施すと、本発明のガラスセラミック製品のほと
んどが単一の結晶相とガラスとを有するようになる。そ
のような組合せにより、卓越した制御可能な微細な表面
組織を有する物体が得られる。
【0034】物理的特性の最も好ましいマトリックスと
組み合わせて、溶融能力と形成能力の全体的な釣合いに
基づいて判断すると、実施例12が本発明の最良の実施態
様を示すものと考えられる。
組み合わせて、溶融能力と形成能力の全体的な釣合いに
基づいて判断すると、実施例12が本発明の最良の実施態
様を示すものと考えられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョゼフ ユージン ピアソン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14870 ペインテッド ポスト ピアソン ドラ イヴ 626
Claims (7)
- 【請求項1】 酸化物基準の重量パーセントで表して、
40%−60%のSiO2 、10%−35%のAl2 O3 、5%
−35%のNiO、0%−20%のMgO、および合計で0
%−15%のTiO2 および/またはZrO2 から実質的
になる熱結晶性ガラス。 - 【請求項2】 少なくとも2%のMgOを含有すること
を特徴とする請求項1記載の熱結晶性ガラス。 - 【請求項3】 5%−15%のMgOを含有することを特
徴とする請求項2記載の熱結晶性ガラス。 - 【請求項4】 主結晶相としてニッケルスピネロイドを
含有するガラスセラミック品であって、酸化物基準の重
量パーセントで表して、40%−60%のSiO2 、10%−
35%のAl2 O3 、5%−35%のNiO、0%−20%の
MgO、および合計で0%−15%のTiO2 および/ま
たはZrO2 から実質的になることを特徴とするガラス
セラミック品。 - 【請求項5】 少なくとも2%のMgOを含有すること
を特徴とする請求項4記載のガラスセラミック品。 - 【請求項6】 5%−15%のMgOを含有することを特
徴とする請求項5記載のガラスセラミック品。 - 【請求項7】 請求項1、2、または3のうちいずれか
1項記載の熱結晶性ガラスから主結晶相としてニッケル
スピネロイドを含有するガラスセラミック品を製造する
方法であって、 (a) ガラスのバッチを溶融し、 (b) 得られた溶融物を少なくとも前記ガラスが転移す
る温度範囲未満の温度まで冷却すると同時にこの溶融物
より所望の形状のガラス体を形成し、 (c) 該ガラス体中に核が形成されるのに十分な時間に
亘り約800 ℃−850 ℃の範囲の温度に該ガラス体をさら
し、 (d) 前記核上にその場でニッケルスピネロイド結晶が
成長するのに十分な時間に亘り約850 ℃−1200℃の範囲
の温度に核の形成したガラス体をさらしてガラスセラミ
ック体を形成し、 (e) 該ガラスセラミック体を室温まで冷却する各工程
からなることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/199,753 US5352638A (en) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | Nickel aluminosilicate glass-ceramics |
| US199753 | 1994-02-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0891873A true JPH0891873A (ja) | 1996-04-09 |
Family
ID=22738882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7033803A Pending JPH0891873A (ja) | 1994-02-22 | 1995-02-22 | ガラスセラミック品およびその製造方法、並びにその前駆体ガラス |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5352638A (ja) |
| EP (1) | EP0668250A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0891873A (ja) |
| KR (1) | KR100364229B1 (ja) |
| TW (1) | TW334414B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6376084B1 (en) | 1999-02-25 | 2002-04-23 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass-ceramics, process for producing the same, and substrate for information recording medium, information recording medium and information recording device each using the glass-ceramics |
Families Citing this family (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO1999008670A1 (en) | 1997-08-20 | 1999-02-25 | Guglietta, Antonio | Gaba analogs to prevent and treat gastrointestinal damage |
| JP3782935B2 (ja) | 1997-09-08 | 2006-06-07 | ワーナー−ランバート・カンパニー、リミテッド、ライアビリティ、カンパニー | 抗癲癇化合物を含有する鎮痛剤組成物およびその使用方法 |
| JP4831854B2 (ja) | 1999-07-06 | 2011-12-07 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP4849702B2 (ja) | 1999-07-06 | 2012-01-11 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス |
| JP4337176B2 (ja) | 1999-07-06 | 2009-09-30 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成 |
| JP4158282B2 (ja) | 1999-07-06 | 2008-10-01 | コニカミノルタオプト株式会社 | 磁気ディスク用結晶化ガラス基板 |
| JP4265036B2 (ja) | 1999-07-14 | 2009-05-20 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP2001026458A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4207316B2 (ja) | 1999-07-14 | 2009-01-14 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP2001026446A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4284763B2 (ja) | 1999-07-14 | 2009-06-24 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成 |
| JP2001026456A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026452A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026454A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026451A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4265035B2 (ja) | 1999-07-14 | 2009-05-20 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP2001026445A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026440A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4273624B2 (ja) | 2000-04-03 | 2009-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP2001287934A (ja) | 2000-04-03 | 2001-10-16 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4273625B2 (ja) | 2000-04-03 | 2009-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP2001287931A (ja) | 2000-04-03 | 2001-10-16 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4273623B2 (ja) | 2000-04-03 | 2009-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP4224925B2 (ja) | 2000-04-03 | 2009-02-18 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP2001287967A (ja) | 2000-04-03 | 2001-10-16 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4300676B2 (ja) | 2000-04-03 | 2009-07-22 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP4207358B2 (ja) | 2000-04-03 | 2009-01-14 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成 |
| PL372210A1 (en) * | 2002-02-22 | 2005-07-11 | Warner-Lambert Company Llc | Combinations of an alpha-2-delta ligand with a selective inhibitor of cyclooxygenase-2 |
| US7871950B2 (en) * | 2006-03-20 | 2011-01-18 | Kyocera Corporation | Colored zirconia-based sintered body and manufacturing method thereof and decorative member |
| US20090011925A1 (en) * | 2007-07-06 | 2009-01-08 | Larry Gordon Felix | Method for producing catalytically active glass-ceramic materials, and glass-ceramics produced thereby |
| WO2012033125A1 (ja) * | 2010-09-07 | 2012-03-15 | 住友電気工業株式会社 | 基板、基板の製造方法およびsawデバイス |
| WO2014003532A1 (en) * | 2012-06-27 | 2014-01-03 | Kok Heng Loh | A glass-ceramic composition and manufacturing method thereof |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE557975A (ja) * | 1956-06-04 | 1957-11-30 | ||
| US3962514A (en) * | 1974-01-01 | 1976-06-08 | Corning Glass Works | Exuded transition metal spinel films on glass-ceramic articles |
| DD110646A1 (ja) * | 1974-04-02 | 1975-01-05 | ||
| US4059454A (en) * | 1976-06-16 | 1977-11-22 | Corning Glass Works | Green colored glasses |
| US4198467A (en) * | 1978-09-28 | 1980-04-15 | Corning Glass Works | Glass articles with NiFe2 O4, CoFe2 O4, or (Co,Ni)Fe2 O4 surface layers |
-
1994
- 1994-02-22 US US08/199,753 patent/US5352638A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-01-18 TW TW084100515A patent/TW334414B/zh active
- 1995-02-09 EP EP95101728A patent/EP0668250A1/en not_active Withdrawn
- 1995-02-22 JP JP7033803A patent/JPH0891873A/ja active Pending
- 1995-02-22 KR KR1019950003468A patent/KR100364229B1/ko not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100364229B1 (ko) | 2003-02-07 |
| KR950032003A (ko) | 1995-12-20 |
| EP0668250A1 (en) | 1995-08-23 |
| US5352638A (en) | 1994-10-04 |
| TW334414B (en) | 1998-06-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050906 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20051206 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20051209 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060606 |