JPH0891873A - ガラスセラミック品およびその製造方法、並びにその前駆体ガラス - Google Patents

ガラスセラミック品およびその製造方法、並びにその前駆体ガラス

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JPH0891873A
JPH0891873A JP7033803A JP3380395A JPH0891873A JP H0891873 A JPH0891873 A JP H0891873A JP 7033803 A JP7033803 A JP 7033803A JP 3380395 A JP3380395 A JP 3380395A JP H0891873 A JPH0891873 A JP H0891873A
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mgo
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ceramic
nio
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JP7033803A
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George H Beall
ハルシー ビオール ジョージ
Joseph E Pierson
ユージン ピアソン ジョゼフ
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Corning Inc
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0036Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B37/00Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 堅くて強靭かつ研磨可能なガラスセラミック
を得る。 【構成】 40%−60%のSiO2 、10%−35%のAl2
3 、5%−35%のNiO、0%−20%のMgO、およ
び合計で0%−15%のTiO2 および/またはZrO2
から実質的になる。主結晶相としてニッケルスピネロイ
ドを含有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラスセラミック体お
よびその製造方法、並びにその前駆体ガラスに関するも
のである。
【0002】
【従来の技術および発明の背景】米国特許第2,920,971
号以来ガラスセラミックが知られているが、SiO2
Al2 3 −NiO三元系で広域に亘るガラスを形成す
ることが難しいために、この三元系内の組成物からガラ
スセラミック品を調製しようとする試みが実際には成功
していなかった。
【0003】しかしながら、ニッケル尖晶石に関する鉱
物学および組成についての最近の研究により、相当な濃
度のシリカがニッケルアルミネート尖晶石中に含まれ得
ることが判明した[Ma、C.-B. 、K.Sahl、およびE.Till
manus 、「ニッケルアルミノシリケート、フェイズ
I」、Acta. Cryst.、B31 、2137-2139(1975) およびAk
aogi、M.、S.-I Akimoto、K. Horioka、K.-I. Takahash
i 、およびH. Horiuchi 、「The System NiAl2
4 −Ni2 SiO4 at High Pressures and Temperatu
res:Spinelloids with Spinel-Related Structures」、
Journal of Solid State Chemistry、44、257-267(199
2) ]。このニッケルアルミノシリケートはスピネロイ
ド(spinelloid)と称され、NiAl2 4 3部とNi
2 SiO4 1部の付近に中心が置かれた固溶体である。
この結晶相はリングウッダイト(ringwoodite )に類似
したX線回折パターンを有し、Ma等により[Ni0.5
5.2 Si2.3 IV[Ni9.8 Al6.2 VI32という
結晶指定(crystallographic assignments)が与えられ
ている。このスピネロイドと称するニッケルアルミノシ
リケートにおいて、大部分のニッケルは八面体位置(oc
tahedral site )に存在し、全てのケイ素は四面体位置
(tetrahedral position)に存在し、アルミニウムのお
よそ半分ずつが両方の位置に存在する。
【0004】尖晶石を含有するガラスセラミックがSi
2 −Al2 3 −MgO−ZrO2 組成系およびSi
2 −Al2 3 −ZnO−ZrO2 −TiO2 組成系
においてよく知られているの。そこで、上記組成系中に
はシリカ成分が含まれているために結晶化度の百分率が
大きいであろうという予測の基に、ニッケルアルミノシ
リケートガラス中に尖晶石型の結晶が形成される可能性
を調査した。さらに、ニッケルアルミノシリケート組成
系はガラス形成には適していないが、マグネシウムアル
ミノシリケート組成系は優れたガラス形成適性を有する
ものとして認識されている。したがって、SiO2 −A
2 3 −NiO三元系にMgOを加え、それによって
SiO2 −Al2 3 −NiO−MgO四元組成系を構
成することを探求した。
【0005】尖晶石は大きな弾性率を有する硬く、高密
度の物質である。核を生成させてニッケル尖晶石を結晶
化し、適度に大きな結晶化度と非常に微細な結晶サイズ
とを組み合わせることができれば、得られるガラスセラ
ミック体は堅くて強靭かつ研磨可能なものとなるであろ
うと推測した。
【0006】
【発明の構成】高剛性、高硬度、良好な強度と靭性、優
れた熱耐久性と化学耐久性、並びにSiO2 −Al2
3 −NiO−MgO基本組成系において非常に微細なミ
クロ構造を合わせ持つガラスセラミックにその場で結晶
化できる熱結晶性ガラスの新たな群を発見した。使用可
能な広範囲の前駆体ガラスは、酸化物基準の重量パーセ
ントで表して、40%−60%のSiO2 、10%−35%のA
2 3 、5%−35%のNiO、および0%−20%のM
gOから実質的になる。従来の核剤は驚くべきことに含
有させる必要がないのであるが、ガラスセラミックの表
面の質を改良する際にこの核剤が有用となる場合もあ
る。この場合、TiO2 および/またはZrO2 を合計
で15重量%まで加えてもよい。
【0007】本願では、「実質的になる」という表現を
加えていることにより、本願の請求の範囲では、組成の
基本的かつ新規な特徴に実質的に影響を与えない不特定
成分に限ってその追加含有を許容している。一般的に、
上記成分の合計は約5%以下である。
【0008】上述したように、SiO2 −Al2 3
NiO三元系においてガラスを形成できる範囲はきわめ
て制限されている。さらに、最良のガラス形成範囲にお
いてさえも、大半のガラス品に微細な乳濁化(fine opa
lization)が認められる。この乳濁化のために、ガラス
の形状がある程度歪んでしまい、その結果ガラスの形状
を維持するのが難しくなる。さらに、乳濁化の発生する
度合いは溶融ガラスを所望の形状に形成する際の冷却速
度に依存し、ガラスをガラスセラミックに転化する熱処
理中に生じる結晶化は一般的に不均一である。
【0009】少なくとも2重量%の量のMgOをSiO
2 −Al2 3 −NiO三元系に加えるとそれらの欠点
を克服できる。得られたガラスは乳濁化も失透もなく、
黒色である。薄いかけらでは、ガラスの色は暗い茶色に
見える。この色により、三元系ガラスに見られる緑色の
オパールからこれらのガラスがはっきりと区別される。
MgOの含有量を20%より多くすると、前駆体ガラスを
失透させてしまう恐れがある。MgOの好ましい含有量
は約5%−約15%の範囲である。
【0010】本発明のガラスの最も顕著な特徴のうちの
1つは、従来の核剤の助けを借りることなく行なわれる
非常に効率的な核形成である。単純な三元系ガラスの各
々は、自己核形成性を有し(self-nucleating )、少な
くとも5%のNiOを含有する実質的にすべての四元系
ガラスも同様に自己核形成性を有する。実際、Ni
+2は、広範囲に及ぶアルミノシリケートガラスの核形成
を促進させる、我々の知る限りでは唯一の改質イオン
(modifying ion )である。この特有の効果は、Ni +2
が四面体部位または網状部位(network site)、並びに
八面体部位または改質部位(modifying site)の両方に
進入することによるものと考えられている。これらのガ
ラスにおける通常に結晶化に先立つ緑の乳濁化はまた、
後の熱処理に際して結晶化の中心となる分散した非晶質
のドロップへとニッケルをはっきり分割したことを示唆
している。本発明のガラスに効果的な核形成温度は約80
0 ℃−約850 ℃の範囲にあり、これらの温度はこれらの
ガラスのアニーリング温度または遷移温度より約100 ℃
高い。
【0011】ニッケルを含有する尖晶石型の相の結晶化
は約850 ℃で始まり、上昇する温度の関数としてある程
度線形で約1200℃まで続く。最高温度における結晶化に
際してのガラス全体の収縮は約5%−10%であり、線収
縮は約2%−3%である。結晶化工程中のガラスの外観
も著しく変化する。暗い茶色(ほとんど黒色)のガラス
は、最初に暗い緑色に、次いで暗い水色に、そして最終
的に不透明の青緑色に変化する。結晶化体の割れ目(fr
acture surface)はろうのような外観を呈する。結晶の
平均サイズは非常に小さい。その直径は、1200℃での4
時間に及ぶ熱処理後でさえも実質的に0.5 μm未満であ
る。
【0012】形成されたときに一般的に緑色のオパール
となる単純な三元組成ガラスにおいて、2つの結晶相が
その場で生じる。主な相は、マグネシウムイオンオルト
シリケート(リングウッダイトとして知られている鉱
物)の高圧尖晶石形態に最も類似したX線回折パターン
を示す尖晶石型(スピネロイド)構造を有する。NiO
は微量の第2相として存在する。尖晶石型の相は明らか
にマグネシウムも鉄も含有していないが、一般的な尖晶
石パターンから結晶パターンが逸脱していることによ
り、シリカが結晶中に含まれていることが示唆される。
【0013】MgO含有四元組成系においては、ガラス
は完全に非晶質であり、形成されたときには黒色または
暗い茶色を有する。熱処理に際して、生ずる最も一般的
な結晶はX線回折パターンにおいて、比較的低温、すな
わち、約900 ℃−約1100℃での熱処理により得られたニ
ッケルスピネロイドの単一相に類似する単一相である。
これにより、マグネシウム尖晶石とニッケル尖晶石との
間に固溶体が存在するのが分かる。しかしながら、特に
結晶化温度を1200℃まで上昇させたときに、2つまたは
3つの尖晶石相が共存することを示すX線回折パターン
における特徴的な2つまたは3つのピークを有すると思
われる組成もあるので、上記固溶体は無限のものではな
い。また、2つの相が現れていると思われる電子顕微鏡
写真もある。これは、スピネロイド成分のNiAl2
4 −NiSiO4 −MgAl2 4 とMg2 SiO4
の間の真の平衡条件下では固溶体が不完全かもしれない
ことを示唆している。
【0014】本発明のニッケルスピネロイド含有ガラス
セラミックは事実上非常に細かい微粒であり、一般的な
結晶サイズは、1200℃での熱処理後の約0.25μmから、
その場で低温(例えば、900 ℃−1000℃)で結晶化され
た場合の500 Aより小さいサイズまで様々である。約12
00℃の温度で結晶化されたときに上述したような微粒子
の結晶が生じるその他のガラスセラミック系は知られて
いない。
【0015】一般的なミクロ構造は単一相、すなわち、
単一スピネロイドを含有する単一相であろう。そのミク
ロ構造は、ニッケルの含有量が多い組成物および/また
は1100℃未満の温度でその場で結晶化されたほとんどの
ガラス組成物に共通である。しかしながら、それ以外に
他のミクロ構造が2つ観察された。最初の場合では、2
つの尖晶石型結晶が共存している。ここで、粒子の発生
が速くてMgOの含有量が多いと推測される尖晶石固溶
体の1つが大きな結晶寸法(例えば0.5 μm−1.0 μ
m)に近い寸法を有している。2番目の場合では、スピ
ネロイドがNiO結晶を伴って発生することもある。
【0016】ニッケル含有スピネロイドは(出発組成に
依存して、一般的に主相または単独相である)、通常、
非晶相の幾何学的外形に似た幾何学的外形を有する下反
角構造(anhedral structure)を示す。これらの不規則
なドロップ形状の結晶には、富ニッケルガラスと富シリ
カガラスとの初期相分離に起源を有するものであったと
考えられる。
【0017】本発明のガラスセラミックにおける全体の
結晶化度は平均で約50容量%のようである。残存ガラス
の組成は分析されていないが、シリカが多いと推測され
る。
【0018】要約すると、本発明は、酸化物基準の重量
パーセントで表して、40%−60%のSiO2 、10%−35
%のAl2 3 、5%−35%のNiO、0%−20%のM
gO、および合計で0%−15%のTiO2 および/また
はZrO2 から実質的になり、好ましくは少なくとも2
%のMgOを含有する熱結晶性ガラスを提供する。この
ガラスは熱処理によりその場で結晶化でき、ニッケルス
ピネロイドが、単一で存在する場合以外は主結晶相を構
成するガラスセラミック品を形成する。前駆体ガラスを
ガラスセラミックに転化する一般的な方法にしたがって
本発明のガラスセラミック品を製造する方法をいかに記
載する。その方法は、(a) 酸化物基準の重量パーセン
トで表して、40%−60%のSiO2 、10%−35%のAl
2 3 、5%−35%のNiO、0%−20%のMgO、お
よび合計で0%−15%のTiO2 および/またはZrO
2 から実質的になるガラスのバッチを溶融し、(b) 得
られた溶融物を少なくとも前記ガラスが転移する温度範
囲より低い温度に冷却し、それと同時に冷却している溶
融物から所望の形状のガラス体を形成し、(c) 該ガラ
ス体を、その中に核を発生させるのに十分な時間に亘り
約800 ℃−約850 ℃の範囲の温度にさらし、(d) その
ようにして核が形成されたガラス体を、該核上にその場
でニッケルスピネロイド結晶を成長させるのに十分な時
間に亘り約850 ℃−約1200℃の範囲の温度にさらし、そ
の後(e) 上述のようにして得られたガラスセラミック
体を室温まで冷却する各工程からなる。
【0019】
【実施例】以下、実施例を参照して本発明を詳細に説明
する。
【0020】表Iには、本発明の製品における組成範囲
を示す、重量部で表したいくつかのガラス組成が列記さ
れている。組成成分の合計がほぼ100 となるので、便宜
上、列記されている個々の値は重量パーセントを表すも
のと考えてよい。実際のバッチ成分は、共に溶融される
と、適切な比率の所望の酸化物に転化する酸化物または
他の化合物のいずれの物質であってもよい。例えば、M
gCO3 はMgOの供給源となり得る。
【0021】バッチ成分を配合して、ともに自動的にタ
ンブル混合し、次いで白金のるつぼに装填した。通常約
1kgのバッチを含有させたるつぼを約1600℃に設定さ
れた炉に導入し、バッチを約16時間に亘り溶融した。そ
の後、溶融物をスチール型に注ぎ入れ、約20.32 cm×
10.16 cm×1.27cm(8インチ×4インチ×0.5 イン
チ)の寸法を有するガラススラブか、またはある場合に
は、25.4cm(10インチ)の直径および約0.635 cm
(0.25インチ)の厚さを有する自由円形ディスク(free
circular discs )を製造した。この製造物を約650 ℃
−約675 ℃に設定されたアニーラーに直ちに移した。
【0022】約6.35cm×2.54cm×0.635 cm(約2.
5 インチ×1インチ×0.5 インチ)の寸法を有するタブ
型試料をガラスディスクから切り出し、そのタブ型試料
に対して表IIに示した熱処理スケジュールを施した。得
られた試料を電気加熱した炉中に配置し、炉の温度を約
300 ℃/時間の速度で核形成温度まで上昇させた。表II
に示した期間に亘り炉の温度を核形成温度に維持し、そ
の後、昇温速度を再度約300 ℃/時間として、炉の温度
を結晶化温度まで上昇させた。表IIに示した時間に亘り
炉の温度を結晶化温度に維持した後、炉に通電した電流
を遮断し、試料を中に入れたまま炉を冷却した。「炉が
冷める速度」と称されるこの作業の結果として、冷却速
度は平均で約3−5℃/分となった。
【0023】核形成および結晶化を行なう特定温度での
急速停止時間(express dwell periods )は必要ないこ
とが分かった。好ましく核形成を行なうのに十分な時間
に亘り核形成温度範囲内の温度に前駆体ガラス製品を保
持し、次いで、高度な結晶化を行なうのに十分な時間に
亘り結晶化温度範囲内に上述したように核形成した製品
を保持するだけでよい。ここで結晶化に要する温度は一
般的に少なくとも約1時間であった。より長い核形成時
間および結晶化時間、例えば、8−12時間を用いてもよ
いが、4時間が実際的な最高限度時間であると考えられ
る。
【0024】上述した手順は研究所規模での実施に基づ
くものである。例えば、商業的なガラス成形技術および
装置を用いて、本発明の出発ガラスのバッチを大型の商
業用溶融装置中で溶融し、得られた溶融物を所望のガラ
ス形状に造型することができる。均一な溶融物を得るの
に十分な時間に亘り十分な温度にバッチを加熱し、得ら
れた溶融物を冷却すると同時に十分に急速に造型して失
透を避けるだけでよい。
【0025】同様に、特定の停止時間を伴う2段階結晶
化工程よりもむしろ、例えば、徐冷窯またはトンネル窯
を用いた連続工程がきわめて現実的である。このため、
上述したように、核が形成するのに十分長い時間に亘り
前駆体ガラス製品を核形成範囲内の温度にさらし、その
後核上に結晶が成長するのに十分な時間に亘り結晶化範
囲内の温度にさらすだけでよい。
【0026】表IIには、出発ガラスおよびこれを結晶化
したガラスセラミックの目視による外観も列記されてい
る。結晶相はX線回折により確認し、ガラスセラミック
のミクロ構造はレプリカ電子顕微鏡を使用して研究し
た。密度(g/cm3 )、磨耗したものと磨耗していな
いものの破壊係数(Kpsi)、KICで表した破壊靭性
(MPa√m)、ヌープ硬度数として表した硬度[KH
N(g/mm2 )]、およびEとして表した弾性率(×
106 psi)の各測定も行なった。
【0027】
【表1】
【0028】
【表2】
【0029】
【表3】
【0030】
【表4】
【0031】上述したように、本発明のガラスセラミッ
クが有する特性のうち最も興味のある2つは、非常に大
きな弾性率および非常に微細なミクロ構造である。この
ミクロ構造のために、磨き面(polished surface)と破
面(fractured surface )の両方がとても滑らかにな
る。
【0032】このことを説明するために、原子力顕微鏡
(atomic force microscopy :AFM)測定技術を用い
て、実施例4の磨き面の平均Ra(表面粗さ)が24.0A
であることを測定した。AFMにより測定した表面粗さ
のピークから底までの距離は平均で180 Aであった。米
国特許第4,386,162 号に記載されているような、主結晶
相としてカナサイトを含有するガラスセラミックの磨き
面と本発明のガラスセラミックの磨き面とを比較する
と、本発明のガラスセラミックの粗さは、カナサイト含
有ガラスセラミックの粗さのたった約10%であることが
分かった。
【0033】本発明のガラスセラミックの弾性率は約15
−21×106 psiの範囲にあり、21×106 psiの値は
間違いなく、どの他のガラス誘導材料の値よりもかなり
大きいものであった。さらに、本発明の製品は、ガラス
または非常に微細なガラスセラミックにおいて形成でき
るような非常に細かい磨き面を持つ可能性を有してい
る。本発明のガラスセラミックは、50nm未満のサイズ
の結晶を有し、その結晶サイズを厳密に制御することが
できる。さらに、本発明のガラスセラミックの多くは、
単一の結晶相とガラスとを有する。1100℃以下の温度で
熱処理を施すと、本発明のガラスセラミック製品のほと
んどが単一の結晶相とガラスとを有するようになる。そ
のような組合せにより、卓越した制御可能な微細な表面
組織を有する物体が得られる。
【0034】物理的特性の最も好ましいマトリックスと
組み合わせて、溶融能力と形成能力の全体的な釣合いに
基づいて判断すると、実施例12が本発明の最良の実施態
様を示すものと考えられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョゼフ ユージン ピアソン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14870 ペインテッド ポスト ピアソン ドラ イヴ 626

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 酸化物基準の重量パーセントで表して、
    40%−60%のSiO2 、10%−35%のAl2 3 、5%
    −35%のNiO、0%−20%のMgO、および合計で0
    %−15%のTiO2 および/またはZrO2 から実質的
    になる熱結晶性ガラス。
  2. 【請求項2】 少なくとも2%のMgOを含有すること
    を特徴とする請求項1記載の熱結晶性ガラス。
  3. 【請求項3】 5%−15%のMgOを含有することを特
    徴とする請求項2記載の熱結晶性ガラス。
  4. 【請求項4】 主結晶相としてニッケルスピネロイドを
    含有するガラスセラミック品であって、酸化物基準の重
    量パーセントで表して、40%−60%のSiO2 、10%−
    35%のAl2 3 、5%−35%のNiO、0%−20%の
    MgO、および合計で0%−15%のTiO2 および/ま
    たはZrO2 から実質的になることを特徴とするガラス
    セラミック品。
  5. 【請求項5】 少なくとも2%のMgOを含有すること
    を特徴とする請求項4記載のガラスセラミック品。
  6. 【請求項6】 5%−15%のMgOを含有することを特
    徴とする請求項5記載のガラスセラミック品。
  7. 【請求項7】 請求項1、2、または3のうちいずれか
    1項記載の熱結晶性ガラスから主結晶相としてニッケル
    スピネロイドを含有するガラスセラミック品を製造する
    方法であって、 (a) ガラスのバッチを溶融し、 (b) 得られた溶融物を少なくとも前記ガラスが転移す
    る温度範囲未満の温度まで冷却すると同時にこの溶融物
    より所望の形状のガラス体を形成し、 (c) 該ガラス体中に核が形成されるのに十分な時間に
    亘り約800 ℃−850 ℃の範囲の温度に該ガラス体をさら
    し、 (d) 前記核上にその場でニッケルスピネロイド結晶が
    成長するのに十分な時間に亘り約850 ℃−1200℃の範囲
    の温度に核の形成したガラス体をさらしてガラスセラミ
    ック体を形成し、 (e) 該ガラスセラミック体を室温まで冷却する各工程
    からなることを特徴とする方法。
JP7033803A 1994-02-22 1995-02-22 ガラスセラミック品およびその製造方法、並びにその前駆体ガラス Pending JPH0891873A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/199,753 US5352638A (en) 1994-02-22 1994-02-22 Nickel aluminosilicate glass-ceramics
US199753 1994-02-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0891873A true JPH0891873A (ja) 1996-04-09

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ID=22738882

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7033803A Pending JPH0891873A (ja) 1994-02-22 1995-02-22 ガラスセラミック品およびその製造方法、並びにその前駆体ガラス

Country Status (5)

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US (1) US5352638A (ja)
EP (1) EP0668250A1 (ja)
JP (1) JPH0891873A (ja)
KR (1) KR100364229B1 (ja)
TW (1) TW334414B (ja)

Cited By (1)

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