JPH09103708A - 集塵システム - Google Patents
集塵システムInfo
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- JPH09103708A JPH09103708A JP26120695A JP26120695A JPH09103708A JP H09103708 A JPH09103708 A JP H09103708A JP 26120695 A JP26120695 A JP 26120695A JP 26120695 A JP26120695 A JP 26120695A JP H09103708 A JPH09103708 A JP H09103708A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高温高圧の排ガス中のダストを除去するサイク
ロンシステムにおいて、サイクロンの閉塞を検知して、
付着物を除去する。 【解決手段】サイクロン本体10と、後流部との間に圧
力差を設定してサイクロン下部に下降流パルスを発生さ
せ、この下降流パルスにサイクロン入口14部より供給
した掻き取り用粒子5を同伴させて付着物を除去する。
ロンシステムにおいて、サイクロンの閉塞を検知して、
付着物を除去する。 【解決手段】サイクロン本体10と、後流部との間に圧
力差を設定してサイクロン下部に下降流パルスを発生さ
せ、この下降流パルスにサイクロン入口14部より供給
した掻き取り用粒子5を同伴させて付着物を除去する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高温高圧の排ガスに
含まれるダストを除去するサイクロンシステムに係わ
り、さらにサイクロン閉塞時に、サイクロン下部に発生
させた下降流パルスにより、サイクロン閉塞部の付着物
を除去するシステムに関する。
含まれるダストを除去するサイクロンシステムに係わ
り、さらにサイクロン閉塞時に、サイクロン下部に発生
させた下降流パルスにより、サイクロン閉塞部の付着物
を除去するシステムに関する。
【0002】
【従来の技術】サイクロンは構造が簡単で稼働部分がな
く、運用の上で大きなコスト負担が伴わないため、ガス
中に含まれるダストを除去するための集塵装置として広
く用いられている。使用される温度及び圧力は、常温常
圧での排ガスの脱塵処理からセメント焼成ガスの脱塵、
さらには石油の接触改質での触媒の回収等の高温高圧領
域まで広い範囲にわたっている。
く、運用の上で大きなコスト負担が伴わないため、ガス
中に含まれるダストを除去するための集塵装置として広
く用いられている。使用される温度及び圧力は、常温常
圧での排ガスの脱塵処理からセメント焼成ガスの脱塵、
さらには石油の接触改質での触媒の回収等の高温高圧領
域まで広い範囲にわたっている。
【0003】サイクロンを連続して運転する場合、集塵
されたダストがサイクロン内に局所的に集積し、サイク
ロン内のガス流路を閉塞し、サイクロンとして作動停止
に至る場合がある。具体的には、管路断面積の変化部あ
るいはベント部のようなガス流路のよどみ点に付着性の
あるダストが堆積して集合体を形成し、これが新たにダ
ストを付着させて成長し管路を閉塞する場合がある。ま
た高温条件で使用される場合には、単純にダスト粒子の
集合体が流路を閉塞するだけでなく、粒子間で固相反応
が進み、より強固な固化物を形成する可能性もある。
されたダストがサイクロン内に局所的に集積し、サイク
ロン内のガス流路を閉塞し、サイクロンとして作動停止
に至る場合がある。具体的には、管路断面積の変化部あ
るいはベント部のようなガス流路のよどみ点に付着性の
あるダストが堆積して集合体を形成し、これが新たにダ
ストを付着させて成長し管路を閉塞する場合がある。ま
た高温条件で使用される場合には、単純にダスト粒子の
集合体が流路を閉塞するだけでなく、粒子間で固相反応
が進み、より強固な固化物を形成する可能性もある。
【0004】サイクロンの閉塞による作動停止を回避す
るための方法は、予備のサイクロンシステムを併設して
おいて、一方が閉塞した場合には他方のサイクロンシス
テムに切り替える方法が広く利用されている。付着物を
除去するための方法は、サイクロン容器の外側から叩い
て付着物を落下させる方法,スチームあるいはガスの配
管を付着の起こりやすい位置に設置して、間歇的にブロ
ーして付着物の成長を防ぐ方法が知られている。あるい
は特開昭64−27656 号公報には閉塞時にサイクロン内に
粒径の大なる粒子を投入して付着物を掻き取る方法が提
示されている。
るための方法は、予備のサイクロンシステムを併設して
おいて、一方が閉塞した場合には他方のサイクロンシス
テムに切り替える方法が広く利用されている。付着物を
除去するための方法は、サイクロン容器の外側から叩い
て付着物を落下させる方法,スチームあるいはガスの配
管を付着の起こりやすい位置に設置して、間歇的にブロ
ーして付着物の成長を防ぐ方法が知られている。あるい
は特開昭64−27656 号公報には閉塞時にサイクロン内に
粒径の大なる粒子を投入して付着物を掻き取る方法が提
示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、サイ
クロン内で捕集されたダスト粒子間の固相反応により、
生成した強固な固化物を除去し流路の閉塞を防止するた
めの手段を提供することにある。
クロン内で捕集されたダスト粒子間の固相反応により、
生成した強固な固化物を除去し流路の閉塞を防止するた
めの手段を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】サイクロン内でのダスト
の付着状況を調べるために、サイクロン本体の外筒の内
径が190mmのアクリル製コールドモデルを作製し、ダ
ストを含むガスを投入してサイクロン内の流動状況及び
サイクロン内壁面へのダストの付着状況を調べた。その
結果図2に示すように、下降旋回流41の反転するサイ
クロン下部に付着物55が発生することがわかった。こ
の位置に付着物が生成すると、粒径の大きな掻き取り用
粒子5を投入しても、付着物の掻き取りはほとんど起こ
らなかった。
の付着状況を調べるために、サイクロン本体の外筒の内
径が190mmのアクリル製コールドモデルを作製し、ダ
ストを含むガスを投入してサイクロン内の流動状況及び
サイクロン内壁面へのダストの付着状況を調べた。その
結果図2に示すように、下降旋回流41の反転するサイ
クロン下部に付着物55が発生することがわかった。こ
の位置に付着物が生成すると、粒径の大きな掻き取り用
粒子5を投入しても、付着物の掻き取りはほとんど起こ
らなかった。
【0007】これは、通常のサイクロン流れに掻き取り
用の粒子を同伴させても、図2に示すように、付着物5
5が発生する位置付近では下降旋回流41は反転して出
口42へ流れ、掻き取り用粒子5は流れから脱落して捕
集されたダストと共に重力により下降するためである。
付着物そのものもその由来をたどれば、流れから脱落し
たダストがなんらかの原因で内壁に付着したもので、サ
イクロン流れに乗せた粒子で付着物を掻き取るには無理
がある。
用の粒子を同伴させても、図2に示すように、付着物5
5が発生する位置付近では下降旋回流41は反転して出
口42へ流れ、掻き取り用粒子5は流れから脱落して捕
集されたダストと共に重力により下降するためである。
付着物そのものもその由来をたどれば、流れから脱落し
たダストがなんらかの原因で内壁に付着したもので、サ
イクロン流れに乗せた粒子で付着物を掻き取るには無理
がある。
【0008】さらに、高温高圧の排ガス中のダストが付
着する場合には強固な付着物が生成すると考えられ、新
たな工夫が必要である。特にダスト中に反応性の高い、
例えば、カルシウム等を含む場合、このダストの集合体
が高温雰囲気中に一定時間保持されると、ダスト粒子間
で反応が進み、強固な付着物を形成する。図3にその例
を示す。この例では加圧流動層燃焼排ガスから回収され
たダストを、直径2mm,高さ2mmに成型したペレット
を、830℃で4時間保持したときのペレットの破壊強
度とダスト粒径の関係を示したもので、粒径が小さくな
るに従って破壊強度は増加し、強固な付着物が生成する
ことを示している。
着する場合には強固な付着物が生成すると考えられ、新
たな工夫が必要である。特にダスト中に反応性の高い、
例えば、カルシウム等を含む場合、このダストの集合体
が高温雰囲気中に一定時間保持されると、ダスト粒子間
で反応が進み、強固な付着物を形成する。図3にその例
を示す。この例では加圧流動層燃焼排ガスから回収され
たダストを、直径2mm,高さ2mmに成型したペレット
を、830℃で4時間保持したときのペレットの破壊強
度とダスト粒径の関係を示したもので、粒径が小さくな
るに従って破壊強度は増加し、強固な付着物が生成する
ことを示している。
【0009】コールドモデルで得られたサイクロン内に
おける粒子の流れに関する知見からは、付着物を掻き取
るためにはサイクロン下部に強い下降流を発生させる方
が効果があることがわかった。単に掻き取り用粒子をサ
イクロン流れに乗せるだけではなく、サイクロン流れに
強力な下降流れを付与するにより図2に示すダスト付着
位置まで強力な下降旋回流を到達させる方法について各
種方法を検討した結果、サイクロン内の流れにブローダ
ウンを付与すると効果があることがわかった。すなわち
サイクロン下部の例えば、ホッパ部とサイクロン本体と
の差圧を大きくして、この差圧によりサイクロン下部に
下降流パルスをさせると、ダスト付着位置まで強い下降
旋回流れが到達し、付着物を掻き取ることができる。こ
の流れに掻き取り用粒子を同伴させることで、これらの
粒子にさらに強い掻き取りに効果を付与することができ
る。
おける粒子の流れに関する知見からは、付着物を掻き取
るためにはサイクロン下部に強い下降流を発生させる方
が効果があることがわかった。単に掻き取り用粒子をサ
イクロン流れに乗せるだけではなく、サイクロン流れに
強力な下降流れを付与するにより図2に示すダスト付着
位置まで強力な下降旋回流を到達させる方法について各
種方法を検討した結果、サイクロン内の流れにブローダ
ウンを付与すると効果があることがわかった。すなわち
サイクロン下部の例えば、ホッパ部とサイクロン本体と
の差圧を大きくして、この差圧によりサイクロン下部に
下降流パルスをさせると、ダスト付着位置まで強い下降
旋回流れが到達し、付着物を掻き取ることができる。こ
の流れに掻き取り用粒子を同伴させることで、これらの
粒子にさらに強い掻き取りに効果を付与することができ
る。
【0010】下降流は継続的に発生させる必要はなく、
付着物を掻き取るだけの時間を継続すれば良い。従って
パルス状の下降流で充分である。またこの方法のメリッ
トは、高温高圧のサイクロンシステムにおいては、後流
側の容器の圧力を調整してサイクロン側と後流側に圧力
差を生成させ、この圧力差を駆動力として、強い下降流
パルスをサイクロン下部に発生させることができ、新た
な設備類の追加をせずにサイクロンの閉塞解除のための
手段を得ることができる。付着物が多い場合、あるいは
強固な付着物が生成した場合、付着物掻き取り用の粒子
を供給することで、より強い掻き取り作用をもたせるこ
とができる。
付着物を掻き取るだけの時間を継続すれば良い。従って
パルス状の下降流で充分である。またこの方法のメリッ
トは、高温高圧のサイクロンシステムにおいては、後流
側の容器の圧力を調整してサイクロン側と後流側に圧力
差を生成させ、この圧力差を駆動力として、強い下降流
パルスをサイクロン下部に発生させることができ、新た
な設備類の追加をせずにサイクロンの閉塞解除のための
手段を得ることができる。付着物が多い場合、あるいは
強固な付着物が生成した場合、付着物掻き取り用の粒子
を供給することで、より強い掻き取り作用をもたせるこ
とができる。
【0011】以下図1に従って本発明の作用について説
明する。図1に示すように、サイクロン入口14とサイ
クロン脚部12の温度差(T1−T2)及びサイクロン脚
部12とチャンバ部13の差圧(P2−P3)によりサイ
クロンの閉塞が検出されると、掻き取り用粒子供給装置
1から掻き取り用粒子5をサイクロン流れに投入し、続
いてチャンバ部13の圧力を圧力調整装置34により低
下させ、サイクロン脚部12に強い下降流45を付与す
る。これにより掻き取り用粒子5は下降旋回流44に乗
ってサイクロン脚部12内の付着物55を掻き取る。具
体的には、圧力調整装置34を別なチャンバとして、チ
ャンバ部13と圧力調整装置34の間にバルブを設けて
おき、このバルブを閉めた状態でこの部分の圧力を低下
させ、続いてこのバルブを開けて下降流を発生させるこ
ともできる。
明する。図1に示すように、サイクロン入口14とサイ
クロン脚部12の温度差(T1−T2)及びサイクロン脚
部12とチャンバ部13の差圧(P2−P3)によりサイ
クロンの閉塞が検出されると、掻き取り用粒子供給装置
1から掻き取り用粒子5をサイクロン流れに投入し、続
いてチャンバ部13の圧力を圧力調整装置34により低
下させ、サイクロン脚部12に強い下降流45を付与す
る。これにより掻き取り用粒子5は下降旋回流44に乗
ってサイクロン脚部12内の付着物55を掻き取る。具
体的には、圧力調整装置34を別なチャンバとして、チ
ャンバ部13と圧力調整装置34の間にバルブを設けて
おき、このバルブを閉めた状態でこの部分の圧力を低下
させ、続いてこのバルブを開けて下降流を発生させるこ
ともできる。
【0012】サイクロン閉塞の検出手段は、温度差ある
いは差圧の他にも別な手段を用いることができる。掻き
取り用粒子は、捕集,付着したダストに比べて充分な大
きさ及び比重を持つものであれば良く、粒径及び性状に
関して制約はない。
いは差圧の他にも別な手段を用いることができる。掻き
取り用粒子は、捕集,付着したダストに比べて充分な大
きさ及び比重を持つものであれば良く、粒径及び性状に
関して制約はない。
【0013】閉塞発生から一定時間経過後、掻き取り用
の粒子の投入を停止し、チャンバ部13の圧力を基準値
に戻して通常のサイクロン運転に復帰する。
の粒子の投入を停止し、チャンバ部13の圧力を基準値
に戻して通常のサイクロン運転に復帰する。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、図に従って本発明の実施例
について説明する。
について説明する。
【0015】(実施例1)本実施例は加圧流動層ボイラ
からの燃焼排ガスを脱塵する、外筒内径が780mmと6
50mmの2段サイクロンに本発明になるシステムを設置
した例である。図4に本実施例の構成を示す。ガス流れ
の主流48に設置した主サイクロン18のブローダウン
ライン49の後流に小型のサイクロン19を設置する。
入口ガス温度は650℃、圧力は8気圧である。正常運
転時には主サイクロン18には2%のブローダウンをか
け、サイクロン19を通してこのガス中のダストを集塵
する。サイクロンで集塵されたダストはチャンバ部13
からスクリューフィーダ31を通って、中継ホッパ32
に集められる。ホッパ32が一杯になると、バルブ62
を開いてロックホッパ33に移して排出される。
からの燃焼排ガスを脱塵する、外筒内径が780mmと6
50mmの2段サイクロンに本発明になるシステムを設置
した例である。図4に本実施例の構成を示す。ガス流れ
の主流48に設置した主サイクロン18のブローダウン
ライン49の後流に小型のサイクロン19を設置する。
入口ガス温度は650℃、圧力は8気圧である。正常運
転時には主サイクロン18には2%のブローダウンをか
け、サイクロン19を通してこのガス中のダストを集塵
する。サイクロンで集塵されたダストはチャンバ部13
からスクリューフィーダ31を通って、中継ホッパ32
に集められる。ホッパ32が一杯になると、バルブ62
を開いてロックホッパ33に移して排出される。
【0016】サイクロンの閉塞の検出にはサイクロン入
口とサイクロン脚部の温度差(T1−T2 )及びサイク
ロン脚部とチャンバ部13の差圧(P2−P3)を用い
る。(T1−T2)が100℃,(P2−P3)が400mm
Aqを越えた場合、閉塞発生として掻き取り用粒子供給
装置1から掻き取り用粒子をサイクロン流れに投入し、
バルブ62が閉の状態でロックホッパ33内を大気圧ま
で減圧する。続いて、バルブ61を閉じてバルブ62を
開き、ロックホッパ33内と主サイクロン本体18内の
差圧によりサイクロンの脚部に掻き取り用粒子を同伴し
たパルス状下降流を発生させる。この下降流により付着
物を掻き取り、掻き取り用粒子と掻き取られた付着物は
ロックホッパ33内により捕集される。
口とサイクロン脚部の温度差(T1−T2 )及びサイク
ロン脚部とチャンバ部13の差圧(P2−P3)を用い
る。(T1−T2)が100℃,(P2−P3)が400mm
Aqを越えた場合、閉塞発生として掻き取り用粒子供給
装置1から掻き取り用粒子をサイクロン流れに投入し、
バルブ62が閉の状態でロックホッパ33内を大気圧ま
で減圧する。続いて、バルブ61を閉じてバルブ62を
開き、ロックホッパ33内と主サイクロン本体18内の
差圧によりサイクロンの脚部に掻き取り用粒子を同伴し
たパルス状下降流を発生させる。この下降流により付着
物を掻き取り、掻き取り用粒子と掻き取られた付着物は
ロックホッパ33内により捕集される。
【0017】(実施例2)本実施例は加圧流動層ボイラ
からの燃焼排ガスを脱塵する、外筒内径が780mmの1
段サイクロンに本発明になるシステムを設置した例であ
る。図5に本実施例の構成を示す。チャンバ下流に気流
搬送ライン46を設置し、正常運転時にはサイクロン1
0には2%のブローダウンをかけ、捕集された灰はブロ
ーダウンされたガスと補助空気47により中継ホッパ3
2に貯蔵される。入口ガス温度は650℃、圧力は8気
圧である。
からの燃焼排ガスを脱塵する、外筒内径が780mmの1
段サイクロンに本発明になるシステムを設置した例であ
る。図5に本実施例の構成を示す。チャンバ下流に気流
搬送ライン46を設置し、正常運転時にはサイクロン1
0には2%のブローダウンをかけ、捕集された灰はブロ
ーダウンされたガスと補助空気47により中継ホッパ3
2に貯蔵される。入口ガス温度は650℃、圧力は8気
圧である。
【0018】サイクロンの閉塞の検出にはサイクロン入
口とサイクロン脚部の温度差(T1−T2 )及びサイク
ロン脚部とチャンバ部13の差圧(P2−P3)を用い
る。(T1−T2)が100℃,(P2−P3)が400mm
Aqを越えた場合、閉塞発生として掻き取り用粒子供給
装置1から掻き取り用粒子をサイクロン流れに投入し、
ロックホッパ33を大気圧まで減圧し、バルブ63を閉
として補助空気を止め、バルブ61を閉じ、バルブ62
を開きロックホッパ33内と主サイクロン本体10内の
差圧によりサイクロンの脚部に掻き取り用粒子を同伴し
た下降流パルスを発生させる。この下降流により付着物
を掻き取り、掻き取り用粒子と掻き取られた付着物はホ
ッパ32により捕集される。
口とサイクロン脚部の温度差(T1−T2 )及びサイク
ロン脚部とチャンバ部13の差圧(P2−P3)を用い
る。(T1−T2)が100℃,(P2−P3)が400mm
Aqを越えた場合、閉塞発生として掻き取り用粒子供給
装置1から掻き取り用粒子をサイクロン流れに投入し、
ロックホッパ33を大気圧まで減圧し、バルブ63を閉
として補助空気を止め、バルブ61を閉じ、バルブ62
を開きロックホッパ33内と主サイクロン本体10内の
差圧によりサイクロンの脚部に掻き取り用粒子を同伴し
た下降流パルスを発生させる。この下降流により付着物
を掻き取り、掻き取り用粒子と掻き取られた付着物はホ
ッパ32により捕集される。
【0019】(実施例3)本実施例は加圧流動層ボイラ
からの燃焼排ガスを脱塵する、外筒内径が780mm,7
80mmと650mmの3段サイクロンに本発明になるシス
テムを設置した例である。図6に本実施例の構成を示
す。ガス流れの主流48に設置したサイクロン18及び
サイクロン19にはそれぞれに2%ずつのブローダウン
をかけ、サイクロン18のブローダウンラインはガス流
れの主流48に合流させ、サイクロン19のブローダウ
ンライン49の後流には小型のサイクロン20を設置す
る。入口ガス温度は650℃、圧力は8気圧である。サ
イクロン18及びサイクロン19で集塵されたダストは
チャンバ部11及び13からスクリューフィーダ30及
び31により、中継ホッパ32及び35を経由してロッ
クホッパ33及び36に移して排出される。
からの燃焼排ガスを脱塵する、外筒内径が780mm,7
80mmと650mmの3段サイクロンに本発明になるシス
テムを設置した例である。図6に本実施例の構成を示
す。ガス流れの主流48に設置したサイクロン18及び
サイクロン19にはそれぞれに2%ずつのブローダウン
をかけ、サイクロン18のブローダウンラインはガス流
れの主流48に合流させ、サイクロン19のブローダウ
ンライン49の後流には小型のサイクロン20を設置す
る。入口ガス温度は650℃、圧力は8気圧である。サ
イクロン18及びサイクロン19で集塵されたダストは
チャンバ部11及び13からスクリューフィーダ30及
び31により、中継ホッパ32及び35を経由してロッ
クホッパ33及び36に移して排出される。
【0020】サイクロンの閉塞の検出にはサイクロン入
口とサイクロン脚部の温度差(T1−T2 )及びサイク
ロン脚部とチャンバ部13の差圧(P2−P3)を用い
る。実施例1と同様の方法によりサイクロン18の閉塞
が検知されると、掻き取り用粒子供給装置1から掻き取
り用粒子をサイクロン流れに投入し、バルブ62が閉の
状態でロックホッパ33内を大気圧まで減圧する。続い
て、バルブ61を閉じてバルブ62を開放し、ロックホ
ッパ33内とサイクロン18内の差圧によりサイクロン
の脚部に掻き取り用粒子を同伴した下降流パルスを発生
させる。この下降流により付着物を掻き取り、掻き取り
用粒子と掻き取られた付着物はロックホッパ33内によ
り捕集される。
口とサイクロン脚部の温度差(T1−T2 )及びサイク
ロン脚部とチャンバ部13の差圧(P2−P3)を用い
る。実施例1と同様の方法によりサイクロン18の閉塞
が検知されると、掻き取り用粒子供給装置1から掻き取
り用粒子をサイクロン流れに投入し、バルブ62が閉の
状態でロックホッパ33内を大気圧まで減圧する。続い
て、バルブ61を閉じてバルブ62を開放し、ロックホ
ッパ33内とサイクロン18内の差圧によりサイクロン
の脚部に掻き取り用粒子を同伴した下降流パルスを発生
させる。この下降流により付着物を掻き取り、掻き取り
用粒子と掻き取られた付着物はロックホッパ33内によ
り捕集される。
【0021】(実施例4)本実施例は加圧流動層ボイラ
からの燃焼排ガスを脱塵する、外筒内径が780mm,7
80mmと650mmの3段サイクロンに本発明になるシス
テムを設置した例である。図6に本実施例の構成を示
す。ガス流れの主流48に設置したサイクロン18及び
サイクロン19にはそれぞれに2%ずつのブローダウン
をかけ、サイクロン18のブローダウンラインはガス流
れの主流48に合流させ、サイクロン19のブローダウ
ンライン49の後流には小型のサイクロン20を設置す
る。入口ガス温度は650℃、圧力は8気圧である。サ
イクロン18及びサイクロン19で集塵されたダストは
チャンバ部11及び13からスクリューフィーダ30及
び31により、中継ホッパ32及び35を経由してロッ
クホッパ33及び36に移して排出される。
からの燃焼排ガスを脱塵する、外筒内径が780mm,7
80mmと650mmの3段サイクロンに本発明になるシス
テムを設置した例である。図6に本実施例の構成を示
す。ガス流れの主流48に設置したサイクロン18及び
サイクロン19にはそれぞれに2%ずつのブローダウン
をかけ、サイクロン18のブローダウンラインはガス流
れの主流48に合流させ、サイクロン19のブローダウ
ンライン49の後流には小型のサイクロン20を設置す
る。入口ガス温度は650℃、圧力は8気圧である。サ
イクロン18及びサイクロン19で集塵されたダストは
チャンバ部11及び13からスクリューフィーダ30及
び31により、中継ホッパ32及び35を経由してロッ
クホッパ33及び36に移して排出される。
【0022】サイクロンの閉塞の検出にはサイクロン入
口とサイクロン脚部の温度差(T1−T2 )及びサイク
ロン脚部とチャンバ部13の差圧(P2−P3)を用い
る。実施例1と同様の方法によりサイクロン19の閉塞
が検知されると、バルブ64が閉の状態でロックホッパ
36内を大気圧まで減圧する。続いて、バルブ65を閉
じてバルブ64を開放し、ロックホッパ36内とサイク
ロン18内の差圧によりサイクロンの脚部に下降流パル
スを発生させる。この下降流により付着物を掻き取り、
掻き取られた付着物はロックホッパ36内により捕集さ
れる。
口とサイクロン脚部の温度差(T1−T2 )及びサイク
ロン脚部とチャンバ部13の差圧(P2−P3)を用い
る。実施例1と同様の方法によりサイクロン19の閉塞
が検知されると、バルブ64が閉の状態でロックホッパ
36内を大気圧まで減圧する。続いて、バルブ65を閉
じてバルブ64を開放し、ロックホッパ36内とサイク
ロン18内の差圧によりサイクロンの脚部に下降流パル
スを発生させる。この下降流により付着物を掻き取り、
掻き取られた付着物はロックホッパ36内により捕集さ
れる。
【0023】
【発明の効果】本発明により、新規な設備の追加を最小
限に押さえて、サイクロン閉塞時に高温での固着により
サイクロン内面に強固に付着したダストを効率的除去す
ることができる。
限に押さえて、サイクロン閉塞時に高温での固着により
サイクロン内面に強固に付着したダストを効率的除去す
ることができる。
【図1】下降流を付与したサイクロン流れに投入した掻
き取り用粒子の運動状態を表す説明図。
き取り用粒子の運動状態を表す説明図。
【図2】サイクロン内におけるダストの付着状況を表す
説明図。
説明図。
【図3】加圧流動層燃焼ダストを熱処理したペレットの
破壊強度に及ぼすダスト粒径の影響を表す特性図。
破壊強度に及ぼすダスト粒径の影響を表す特性図。
【図4】2段サイクロンシステムに本発明を適用した例
を表す系統図。
を表す系統図。
【図5】気流搬送ラインを持つサイクロンシステムに本
発明を適用した例を表す系統図。
発明を適用した例を表す系統図。
【図6】3段サイクロンシステムに本発明を適用した例
を表す系統図。
を表す系統図。
1…掻き取り用粒子供給装置、5…掻き取り用粒子、1
0…サイクロン本体、11,13…チャンバ、12…サ
イクロン脚部、14…サイクロン入口、15…サイクロ
ン出口、21…圧力検出手段、24…温度検出手段、3
4…圧力調整装置、41…下降旋回流、42…出口ガス
流れ、45…下降ダスト流れ。
0…サイクロン本体、11,13…チャンバ、12…サ
イクロン脚部、14…サイクロン入口、15…サイクロ
ン出口、21…圧力検出手段、24…温度検出手段、3
4…圧力調整装置、41…下降旋回流、42…出口ガス
流れ、45…下降ダスト流れ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉井 泰雄 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 稲田 徹 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 池内 和雄 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 町田 雅人 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内
Claims (5)
- 【請求項1】高温高圧の排ガスから微粒子を脱塵するサ
イクロンシステムにおいて、サイクロン閉塞時に前記サ
イクロン下部に下降流のパルスを発生させ、前記下降流
パルスにより閉塞物質を除去することを特徴とする集塵
システム。 - 【請求項2】高温高圧の排ガスから微粒子を脱塵するサ
イクロンシステムにおいて、サイクロン閉塞時に前記サ
イクロンの後流の部位の圧力をサイクロン本体の圧力に
対して低く設定できる手段を持ち、この差圧により生成
した下降流パルスにより閉塞物質を除去することを特徴
とする集塵システム。 - 【請求項3】高温高圧の排ガスから微粒子を脱塵するサ
イクロンシステムにおいて、サイクロン閉塞時に前記サ
イクロン後流の部位の圧力をサイクロン本体の圧力に対
して低く設定できる手段とサイクロン入口部に粒子供給
手段を持ち、この差圧により生成した下降流パルスに前
記粒子供給手段から供給された粒子を同伴させることに
より閉塞物質を除去することを特徴とする集塵システ
ム。 - 【請求項4】請求項3において、サイクロン下部の温度
と、サイクロン下部の圧力によりサイクロンの閉塞を検
知して、前記サイクロンの後流の部位の圧力をサイクロ
ン本体の圧力に対して低く設定してサイクロン入口部に
粒子を供給し、この差圧により生成した下降流パルスに
前記粒子を同伴させることにより閉塞物質を除去する集
塵システム。 - 【請求項5】請求項2において、サイクロン下部の温度
と、前記サイクロン下部の圧力によりサイクロンの閉塞
を検知して、前記サイクロン後流の部位の圧力をサイク
ロン本体の圧力に対して低く設定し、この差圧により生
成した下降流パルスにより閉塞物質を除去する集塵シス
テム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26120695A JPH09103708A (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | 集塵システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26120695A JPH09103708A (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | 集塵システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09103708A true JPH09103708A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17358625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26120695A Pending JPH09103708A (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | 集塵システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09103708A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1397521A2 (de) * | 2001-06-19 | 2004-03-17 | Voest-Alpine Industrieanlagenbau GmbH & Co. | Verfahren und vorrichtung zum behandeln von teilchenförmigem material |
| CN103447260A (zh) * | 2013-09-25 | 2013-12-18 | 深圳市芭田生态工程股份有限公司 | 一种清除旋风分离器内结壁粉尘的方法 |
| JP2014168771A (ja) * | 2013-03-01 | 2014-09-18 | Changshu Huaneng Environmental Protection Projects Co Ltd | 感応式サイクロン分離機 |
| WO2018016118A1 (ja) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 株式会社日立製作所 | 分析システム、クリーニングシステム及びクリーニング方法 |
| WO2019187976A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 株式会社日立製作所 | 微粒子分析装置、微粒子分析システム及び洗浄方法 |
| CN114508749A (zh) * | 2022-02-23 | 2022-05-17 | 龙游县金怡热电有限公司 | 一种灰循环系统 |
-
1995
- 1995-10-09 JP JP26120695A patent/JPH09103708A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2019187976A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 株式会社日立製作所 | 微粒子分析装置、微粒子分析システム及び洗浄方法 |
| JP2019178942A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 株式会社日立製作所 | 微粒子分析装置、微粒子分析システム及び洗浄方法 |
| CN111902710A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-11-06 | 株式会社日立制作所 | 微粒分析装置、微粒分析系统以及清洗方法 |
| CN111902710B (zh) * | 2018-03-30 | 2023-10-24 | 株式会社日立制作所 | 微粒分析装置、微粒分析系统以及清洗方法 |
| CN114508749A (zh) * | 2022-02-23 | 2022-05-17 | 龙游县金怡热电有限公司 | 一种灰循环系统 |
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