JPH09104839A - 電着用ポリイミド組成物及び塗膜物 - Google Patents
電着用ポリイミド組成物及び塗膜物Info
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- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 80
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract 2
- UENRXLSRMCSUSN-UHFFFAOYSA-N 3,5-diaminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC(N)=CC(C(O)=O)=C1 UENRXLSRMCSUSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- IVHKZGYFKJRXBD-UHFFFAOYSA-N amino carbamate Chemical compound NOC(N)=O IVHKZGYFKJRXBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,6-diamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=N1 VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- KKTUQAYCCLMNOA-UHFFFAOYSA-N 2,3-diaminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=CC(C(O)=O)=C1N KKTUQAYCCLMNOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 abstract description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 description 20
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 16
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- -1 imide compound Chemical class 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- CMQCNTNASCDNGR-UHFFFAOYSA-N toluene;hydrate Chemical compound O.CC1=CC=CC=C1 CMQCNTNASCDNGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 4
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical group O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- GOGZBMRXLADNEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diamine Chemical compound C1=C(N)C=CC2=CC(N)=CC=C21 GOGZBMRXLADNEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDGNUHKKJPLRG-UHFFFAOYSA-N 1,4-diaminonaphthalene-2-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC(C(O)=O)=C(N)C2=C1 BBDGNUHKKJPLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPDMOOCRWQNXAI-UHFFFAOYSA-N 1,5-diaminocyclohexa-2,4-diene-1-carboxylic acid Chemical compound NC1=CC=CC(N)(C(O)=O)C1 KPDMOOCRWQNXAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCZNKVPCIFMXEQ-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetramethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=C(C)C(N)=C(C)C(C)=C1N WCZNKVPCIFMXEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIOZZYWDYUOMAY-UHFFFAOYSA-N 2,5-diaminoterephthalic acid Chemical compound NC1=CC(C(O)=O)=C(N)C=C1C(O)=O WIOZZYWDYUOMAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075142 2,5-diaminotoluene Drugs 0.000 description 1
- GNIGIOGRFVPWCJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-diamino-4-methylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(N)=C(C(O)=O)C(N)=C1 GNIGIOGRFVPWCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHZHJGIOIIUHOO-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-diaminophenyl)acetic acid Chemical compound NC1=CC=C(CC(O)=O)C(N)=C1 KHZHJGIOIIUHOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1N OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEMGYNNCNNODNX-UHFFFAOYSA-N 3,4-diaminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1N HEMGYNNCNNODNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDSPLIQKGRTNCG-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylcyclohexa-1,5-diene-1,3-diamine Chemical group CC1C=CC(N)=CC1(C)N BDSPLIQKGRTNCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNJWXYRVQVNUQC-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)-3-(2-phenylphenyl)aniline Chemical group C1(=C(C=CC=C1)C1=C(C=CC(=C1)N)C1=CC=C(N)C=C1)C1=CC=CC=C1 QNJWXYRVQVNUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOIBXBUXWRVJCF-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)-3-phenylaniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C1=CC=CC=C1 LOIBXBUXWRVJCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 6-phosphonohexylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCP(O)(O)=O WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011825 aerospace material Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 239000012223 aqueous fraction Substances 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- NOUUUQMKVOUUNR-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethane-1,2-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NCCNC1=CC=CC=C1 NOUUUQMKVOUUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N phenylmethanediamine Chemical compound NC(N)C1=CC=CC=C1 DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
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- C09D179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
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Abstract
性、電気絶縁性、耐薬品性など、物理的、化学的諸特性
にすぐれたポリイミド塗膜を形成する、保存安定性のよ
い電着用ポリイミド組成物及びそれを電着することによ
って得られる塗膜物を提供する。 【解決手段】 有機極性溶媒中、カルボン酸基を有する
芳香族ジアミン及び各種ジアミンと芳香族テトラカルボ
ン酸ジ無水物とを反応させて得たポリイミドの中和塩、
水、ポリイミドに対する貧溶媒よりなる電着用ポリイミ
ド組成物、これを被導電体の上に電着することによっ
て、平滑で緻密性のよい電着塗膜が形成される。
Description
にすぐれたポリイミド電着製品に係るものであり、電子
−電気部品、車輛部品、建材及び機器の塗膜として使用
される。
耐熱性、耐薬品性にすぐれ、さらに機械的特性もすぐれ
ていて、宇宙・航空材料から、電気・電子部品にいたる
まで、広く利用されている。このポリイミド樹脂は、そ
の前駆体であるポリアミド酸を加工し、ついで加熱、脱
水して、ポリイミドにする方法が広く採用されている。
金属製品の塗装方法として、エアスプレー法、ロールコ
ーター法、刷毛法、デイップ塗装法等、各種の方法があ
るが、形状のこみ入った金属製品を均一に塗装すること
は困難である。しかるに電着塗装方法はこれらの課題を
解決し、更に塗膜原料の損失が少く、公害対策上も優利
であり、ポリイミド電着塗装技術の確立が望まれてい
る。
ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を溶解した有機
極性溶媒に、貧溶媒及び水を添加した水分散系電着液を
用いて電着した後、電着膜を240〜260℃に加熱し
てイミド膜とする方法が知られている(特開昭49−5
2252、特開昭52−32943、特開昭63−11
1199)。ポリアミド酸の電着用水分散液は、ポリア
ミド酸が容易に分解するために保存安定性が悪く、更に
は電着した塗膜は、イミド化するために高温処理をする
必要がある。これらの改良方法として、イミド化合物に
よる電着方法が求められていた。
フレキシブルプリント基板の需要が増大している。従
来、銅板とポリイミドフィルムとをエポキシ系又はポリ
イミド系接着剤を用いて加熱接着してポリイミドプリン
ト基板が作られている。接着剤の開発、接着方法の改良
が求められている。この一つの方法としては、ポリイミ
ドフィルム面を加工し、電解によって金属銅をフィルム
面に析出させる方法がある。電解銅は圧延銅に比べて屈
曲性、機械的強度に劣ることも知られている。圧延銅に
直接電着によってポリイミド膜を作る技術の確立が望ま
れている。
性、緻密性がすぐれ、また耐熱性、電気絶縁性、耐薬品
性など、物理的、化学的諸特性にすぐれたポリイミド塗
膜を形成する、保存安定性のよい電着ポリイミド組成物
及びそれを電着することによつて得られる塗膜物を提供
するにある。
めに、電着溶液をポリイミドの前駆体でなく、ポリイミ
ドにすることによって、塗膜の高温度の加熱処理が不必
要になる。電着用ポリイミドとして、ポリイミドにカル
ボン酸基を導入することによって、水に対する親和性を
増し、中和することによって電気泳動する事実を見出し
て、この発明を完成した。この方法によって導電性物質
の塗膜ができ、特に従来と違った新らしい方法によっ
て、フレキシブル銅−ポリイミド基板が容易に製造でき
る。
発明で使用するポリイミドの製法は、芳香族テトラカル
ボン酸ジ無水物と芳香族ジアミンとをほぼ等量用い、有
機極性溶媒中で加熱、重縮合する。必要に応じて触媒を
添加して、140〜200℃に加熱し、生成する水を共
沸によって除去する方法が用いられる。接着性や水に対
する溶解性をますために、必要に応じて分子量を制御す
る。その方法として、酸ジ無水物とジアミンの化学量論
を変えたり、マレイン酸等の末端停止剤を加えて反応さ
せる。
限がないが、通常、次に示す化合物が用いられる。ピロ
メリット酸ジ無水物、3,4,3’,4’−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸ジ無水物、3,4,3’,4’−
ジフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、ビス−(3,4
−ジカルボキシフェニル)エーテル無水物、2,2−ビ
ス−(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン二無水物等である。ポリイミドに使用される芳
香族ジアミンとしては、は芳香族ジアミノカルボン酸の
共存が必要である。芳香族ジアミノカルボン酸として
は、3,5−ジアミノ安息香酸、2,4−ジアミノフェ
ニル酢酸、2,5−ジアミノテレフタル酸、3,5−ジ
アミノパラトルイル酸、3,5−ジアミノ−2−ナフタ
リンカルボン酸、1,4−ジアミノ−2−ナフタリンカ
ルボン酸等があるが、特に好ましくは1,3−ジアミノ
安息香酸が用いられる。
リジンを併用することもできる。3,5−ジアミノ安息
香酸と2,6−ジアミノピリジンを含むポリイミドは、
分子内に酸基と塩基とをもち、ポリマー相互の作用によ
って、良好な膜を形成する。更には、水に対する親和性
を増し、水電着組成液として安定となり、えられた電着
膜が平滑で緻密になる利点がある。ポリイミドの接着
性、剛性、耐熱性、機械的強度を保つために、他の芳香
族ジアミンを併用する。このジアミンは特に制限がない
が、一般には次のジアミンが用いられる。
−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,
4−ジアミノキシレン、ジアミノジュレン、1,5−ジ
アミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン、ベン
ジジン、4,4’−ジアミノターフェニル、4,4’−
ジアミノクォーターフェニル、4,4’−ジアミノジフ
ェニルメタン、1,2−ビス(アニリノ)エタン、4,
4’−ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニ
ルスルホン、2,2−ビス(p−アミノフェニル)プロ
パン、2,6−ジアミノナフタレン、3,3’−ジメチ
ルベンジジン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3,3’−ジメチル−4,4’
−ジアミノジフェニルメタン、ジアミノトルエン、1,
4−ビス(p−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’
−ビス−(p−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2
−ビス{4−(p−アミノフェノキシ)フェニル}プロ
パン、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシフェニ
ル)ジフェニルスルホン、2,2−ビス[4−(p−ア
ミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンな
どの芳香族ジアミン類がある。
ンとをほぼ等量用いて、有機極性溶媒中で、加熱、脱水
して、有機極性溶媒可溶のポリイミドにする。有機極性
溶媒はN−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルアセ
トアミド、N,N’−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、テトラメチル尿素、テトラヒドロチオフ
ェン−1,1−オキシド等が用いられる。好ましくは毒
性の少ないN−メチルピロリドン、テトラヒドロチオフ
ェン−1,1−オキシド(スルホランともいう)が用い
られる。
エン、キシレン、テトラヒドロナフタリン等と共沸して
除かれる。触媒としては、酸又は塩基が用いられる。多
成分系のポリイミドは、数種の酸ジ無水とジアミンとを
同時に混合して、反応縮合してランダム共重合体がえら
れる。このランダム重合体は、その特性が平均化するよ
りも悪い特性に左右される欠点がある。従って、ランダ
ム共重合体よりもブロック共重合体によって性能が改善
される。ブロック共重合体は逐次添加反応によって、製
造される。第一段階で、酸とジアミンからポリイミドオ
リゴマーとし、第二段階で酸及び/又はジアミンを添加
して、重縮合してブロックポリイミドとする。
る電着用ポリイミド組成物を塩基性化合物で中和し、ポ
リイミドに対する貧溶媒及び水を加えて電着液とする。
ポリイミドに対する貧溶媒としては種々知られている
が、特にベンジルアルコール、置換ベンジルアルコー
ル、フルフリルアルコール等を用いることによって、平
滑性の良い緻密なポリイミド電着膜がえられる。中和剤
として、N−ジメチルエタノール、トリエチルアミン、
トリエタノールアミン、N−ジメチルベンジルアミン、
N−メチルモルホリンが用いられるが、N−ジメチルエ
タノールやN−メチルモルホリンが好適である。
液中で溶解または安定に分散する程度であって、通常は
理論中和量の30モル%以上である。電着組成物の電着
液は、ポリイミドの固形分濃度が5〜15重量%に調節
する。電着塗装方法は、従来知られた方法をそのまま採
用することができる。即ち本発明のポリイミド電着用溶
液を用いて、温度15〜35℃にして導電性被塗物を浸
漬し、電圧20〜400V、好ましくは20〜200
V、通電時間30秒〜10分間、好ましくは1〜5分間
の通電条件の下で、導電性被塗物の表面に電着膜が形成
する。ついで、水洗、風乾して140〜200℃に30
分〜1時間加熱、焼付をする。水洗の代りに、メタノー
ル、エタノール、ジオキサン、酢酸エチルやそれらの混
合液で洗浄しても良い。
あるため、焼付は溶媒や水を飛散させるに足る温度であ
り、赤外線加熱では120〜150℃、30分〜1時間
でよいこともある。従来のポリアミド酸電着塗膜はイミ
ド化するために240〜260℃の加熱、乾燥が必要で
ある。導電性被塗物として鉄、鉄鋼、アルミニウム、
銅、ステンレス等の金属材料が用いられる。これらの被
塗物表面に金属メッキや陽極酸化塗膜を施して用いるこ
とができるが、金属は特に制限がなく導電性被塗物であ
ればよい。特に本発明で有用な被塗物は銅箔又は銅板で
あって、フレキシブルプリント基板用の銅−ポリイミド
基板がえられる。従来の銅箔とポリイミドフィルムとを
接着剤をはさんで加熱、圧着する方法と異なって、より
安価で、組成の多様なポリイミド基板をうることができ
る。
説明する。実施中の「部」および「%」は重量を基準と
して示す。
機、チッ素導入管及び冷却管の下部にストップコックの
ついた水分受容器をとりつける。チッ素を通しながら、
さらに撹拌しながら反応器をシリコン油中につけて加熱
して反応させる。反応温度はシリコンオイル温度で示
す。
ラカルボン酸ジ無水物64.44g(0.2モル)、ビ
ス−[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン42.72g(0.1モル)、バレロラクトン3g
(0.03モル)、ピリジン4.8g(0.006モ
ル)、NMP(N−メチルピロリドンの略)400g、
トルエン90gを加えて、室温で30分間、撹拌、つい
で、昇温して180゜、1時間、200rpm.に撹拌
しながら反応させる。反応後、トルエン−水留出分30
mlを除く。空冷して、3,4,3’,4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸ジ無水物32.22g(0.1
モル)、3,5−ジアミノ安息香酸15.22g(0.
1モル)、2,6−ジアミノピリジン11.01g
(0.1モル)、NMP222g、トルエン45gを添
加し、室温で1時間撹拌(200rpm)、次いで昇温
して180℃に1時間、加熱撹拌する。トルエン−水留
出分15mlを除き、以後は留出分を系外に除きなが
ら、180℃、3時間、加熱、撹拌して反応を終了し
た。20%ポリイミドワニスを得た。酸当量(1個のC
OOH当りのポリマー量1554)は36である。
ドロチオフェン−1,1−ジオキシド=1:3(重量)
の混合溶液)100g、ベンジルアルコール50g、メ
チルモルホリン2.60g(中和率200モル%)、水
1gを撹拌して水性電着液を調製する。得られた水性電
着液は、ブロックポリイミド7.6%、pH7.2、導
電度89(μS/cm)、29.8℃、暗赤褐色透明液
である。
に前記の水性電着液を入れ、陰極に銅板、陽極に被着金
属板を置き、電流を通じて電着を行った。 1) 初期電着液に更にメチルモルホリン1.3gを添
加した。ポリイミド含量6.4%、pH7.8、電導度
95(KμS/cm)、29.2℃であった。被電着金
属板として圧延銅板(150×70×0.5mm、アセ
トン洗浄)を用いた。液温29.2℃、板間距離60m
m、電圧100V、通電時間90秒(初期電流0.07
A、終期電流6.04A)、通電量4.2q(クーロ
ン)であった。電着板を取り出し、水洗後、焼付:12
0℃×30分(赤外線加熱)、200℃×30分(電熱
加熱)ポリイミド膜は美しい、均一な外観で赤銅色の光
沢を示す。ポリイミド膜圧11±2.9μm、裏側は
9.0±1.1μmで、密着性がよく屈曲テストに合格
であった。
ポリイミド含量6.4%、pH8.1、電導度142
(KμS/cm)、32.2℃、液組成は、ポリイミド
5.7%、NMP33.7%、スルホラン32.2%、
ベンジルアルコール14.3%、水11.6g、メチル
モルホリン2.5%であり、暗赤色透明液である。銅板
(150×70×0.5mm、アセトン洗浄)を被電着
金属板として通電した。100V、120秒(初期電流
0.15A、最終電流0.08A)通電量12.4q
(クーロン)であった。水洗後、120゜×30分(赤
外線加熱)、200゜×30分(電熱加熱)で赤銅色光
沢のポリイミドが付着した金属板となった。ポリイミド
の厚みは13±4.5μm、裏側は12±1.5μmで
ある。屈曲テストに合格、密着性のよい緻密なポリイミ
ド膜である。
05mm、アセトン洗浄)を用いて同様に通電した。1
00V、120秒(初期電流0.11A、終期電流0.
04A)通電量7.5q(クーロン)であった。水洗
後、120℃×30分(赤外線加熱)、200℃×30
分(電熱加熱)によってコゲ茶色の光沢をした緻密な密
着性のよいポリイミド被膜が生じた。屈曲試験に合格、
厚みは16±3.8μm、裏面は20±5μmであっ
た。
ンレススチール;150×70×0.5mm、アセトン
洗浄)を用いた。電解液は20%ポリイミドワニス10
0g、3SN150g、ベンジルアルコール50g、メ
チルモルホリン5.20g(400%中和率)水27.
5gを撹拌して暗赤色透明液をえた。100V、60秒
(初期電流0.05A、終期電流0.04A)通電量
2.9q(クーロン)である。水洗し、120℃×30
分、200℃×30分熱処理して、うす緑の金色光沢の
緻密な均一な膜を得た。ポリイミド厚は15±1.5μ
mである。裏側は中央部の薄い膜であった。屈曲試験に
合格した。
ジ無水物32.22g(0.1モル)、ビス−[4−
(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン21.6
3g(0.05モル)、バレロラクトン1.5g(0.
015モル)、ピリジン2.4g(0.03モル)、N
MP200g、トルエン30gを室温にて撹拌(200
rpm)30分、ついで昇温し180℃×1時間加熱、
撹拌する。トルエン−水の留分15mlを除去し、空冷
後、3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸ジ無水物6.11g(0.05モル)、3,4−ジ
アミノ安息香酸15.216g(0.1モル)、NMP
119g、トルエン30gを加え、室温に30分撹拌し
た後、180゜×1時間後、水−トルエン留分15ml
を除去する。その後は留分を除きながら180℃×2時
間30分加熱撹拌して、反応を終了する。NMP液中濃
度20%ポリイミドを得た。
0である。20%濃度ワニス100g、3SN150
g、ベンジルアルコール75g、メチルモルホリン5.
0g、水30gで電着液(ポリイミド含量7.4%、p
H7.8)を作成し、実施例1と同様に電着実験を行っ
た。 1) 銅板(150×70×50mm、アセトン洗浄)
を被電着体として用いた。100V、180秒(初期
0.22A、終期0.09A)通電量22.7q(クー
ロン)。電着板をエチルアルコール−ヘキサン1:1
(容量比)に浸漬し、次いでジオキサンに浸漬した後、
120℃×30分、200℃×30分加熱乾燥して、赤
銅色で均一で滑らかな塗膜をえた。17μmの厚さ、裏
側は14μm屈曲試験に合格した。
m、アセトン洗浄)を用いて電着した。100V、93
秒(初期0.21A、終期0.11A)通電量13.3
qクーロンであった。電着後、エタノール:ヘキサン
1:1(容量比)の液に浸漬後、ジオキサン液に浸漬し
て120℃×30分、200℃×30分処理して、金色
光沢の電着膜をえた。11μmの厚み、裏側は9μmで
あった。
ジ無水物48.33g(0.15モル)、3,5−ジア
ミノ安息香酸7.608g(0.05モル)、2,6−
ジアミノピリジン5.507g(0.05モル)、ビス
−[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン
21.63g(0.05モル)、バレロラクトン1.5
g(0.015モル)、ピリジン2.4g(0.03モ
ル)、NMP311g、トルエン50gを混合し、チッ
ソ気流中、1時間撹拌する。ついで昇温し180゜×1
時間で留出した水−トルエン15gを除去し、ついで留
出物を除きながら2時間180℃に加熱して、反応を終
了した。20%ワニスをえた。酸当量(1個のCOOH
当りのポリマー量1554)は36である。
アルコール50g、N−メチルモルホリン6.0g、水
30gを混合、撹拌して暗赤褐色透明液をえた。ポリイ
ミド6.0%、pH8.2、電導度115(Kμ/c
m)27.7℃であった。 1) 被電着板として、銅板を用いて実施例1と同様に
電着した。120V、120秒(初期0.13A、終期
0.06A)通電量9.9q(クーロン)、水洗後12
0℃×30分、200℃×30分加熱して赤銅色均一の
電着膜をえた。膜厚は11μm、裏側8.1μmであっ
た。屈曲試験は合成した。 2) 銅箔を用いて同様に電着を行った。120V、1
20分(初期0.13A、終期0.08A)、通電量1
1.0q(クーロン)、水洗後、120℃×30分、2
00℃×30分熱処理をして赤銅色の光沢のある均一で
緻密なポリイミド膜をえた。膜厚6.7μm、裏側5.
4μmで中央部が少し薄い。
Claims (6)
- 【請求項1】 芳香族テトラカルボン酸ジ無水物と芳香
族ジアミンとの反応生成物であるポリイミドの中和塩、
前記ポリイミドを溶解する極性溶媒、水、およびポリイ
ミドに対する貧溶媒からなる電着用ポリイミド組成物で
あって、前記芳香族ジアミンの一部として、芳香族ジア
ミノカルボン酸を用いたポリイミドから成ることを特徴
とする、電着用ポリイミド組成物。 - 【請求項2】 ポリイミドが、ブロックポリイミドであ
る、請求項1に記載の電着用ポリイミド組成物。 - 【請求項3】 芳香族ジアミノカルボン酸が、3,5−
ジアミノ安息香酸である、請求項1に記載の電着用ポリ
イミド組成物。 - 【請求項4】 芳香族ジアミンが、3,5−ジアミノ安
息香酸と2,6−ジアミノピリジンからなる、請求項1
に記載の電着用ポリイミド組成物。 - 【請求項5】 請求項1に記載した電着用ポリイミド組
成物を用いて、導電性材料に電着した塗膜物。 - 【請求項6】 フレキシブル銅−ポリイミド基板からな
る、請求項5に記載の塗膜物。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07264353A JP3089195B2 (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 電着用ポリイミド組成物 |
| US08/728,477 US5741599A (en) | 1995-10-12 | 1996-10-10 | Polyimide compositions for electrodeposition and coatings formed of the same |
| CN96112740A CN1068621C (zh) | 1995-10-12 | 1996-10-11 | 电沉积用聚酰亚胺组合物及由其形成的涂层 |
| EP96116449A EP0770638B1 (en) | 1995-10-12 | 1996-10-14 | Polyimide compositions for electrodeposition and coatings formed of the same |
| DE69602705T DE69602705T2 (de) | 1995-10-12 | 1996-10-14 | Polyimidzusammensetzungen für die Elektroabscheidungsbeschichtung sowie daraus hergestellte Beschichtungen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07264353A JP3089195B2 (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 電着用ポリイミド組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09104839A true JPH09104839A (ja) | 1997-04-22 |
| JP3089195B2 JP3089195B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=17401982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07264353A Expired - Fee Related JP3089195B2 (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 電着用ポリイミド組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5741599A (ja) |
| EP (1) | EP0770638B1 (ja) |
| JP (1) | JP3089195B2 (ja) |
| CN (1) | CN1068621C (ja) |
| DE (1) | DE69602705T2 (ja) |
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- 1996-10-11 CN CN96112740A patent/CN1068621C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-14 EP EP96116449A patent/EP0770638B1/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0770638A1 (en) | 1997-05-02 |
| CN1154988A (zh) | 1997-07-23 |
| EP0770638B1 (en) | 1999-06-02 |
| JP3089195B2 (ja) | 2000-09-18 |
| DE69602705T2 (de) | 2000-02-10 |
| DE69602705D1 (de) | 1999-07-08 |
| CN1068621C (zh) | 2001-07-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000609 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090714 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100714 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110714 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110714 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120714 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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