JPH09106532A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH09106532A JPH09106532A JP28684795A JP28684795A JPH09106532A JP H09106532 A JPH09106532 A JP H09106532A JP 28684795 A JP28684795 A JP 28684795A JP 28684795 A JP28684795 A JP 28684795A JP H09106532 A JPH09106532 A JP H09106532A
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- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 塗布型の磁性層が薄層化された磁気記録媒体
において、電磁変換特性、耐久性を向上させつつ、より
安価に磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】 非磁性支持体1上に、下層非磁性層4
と、磁性粉及び結合剤を主体とする上層磁性層2とが重
層塗布によって形成され、上層磁性層2の厚みが1μm
以下であり、かつ、下層非磁性層4が主として結合剤か
らなっていて上層磁性層2との間に平滑な界面を有して
いる磁気記録媒体。非磁性支持体1上に主として結合剤
からなる下層非磁性層4を塗布し、この下層非磁性層4
が湿潤状態のうちに、強磁性粉末と結合剤を含む上層磁
性層2を下層非磁性層4上に塗布する、磁気記録媒体の
製造方法。
において、電磁変換特性、耐久性を向上させつつ、より
安価に磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】 非磁性支持体1上に、下層非磁性層4
と、磁性粉及び結合剤を主体とする上層磁性層2とが重
層塗布によって形成され、上層磁性層2の厚みが1μm
以下であり、かつ、下層非磁性層4が主として結合剤か
らなっていて上層磁性層2との間に平滑な界面を有して
いる磁気記録媒体。非磁性支持体1上に主として結合剤
からなる下層非磁性層4を塗布し、この下層非磁性層4
が湿潤状態のうちに、強磁性粉末と結合剤を含む上層磁
性層2を下層非磁性層4上に塗布する、磁気記録媒体の
製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体上
に、下層非磁性層と、磁性粉及び結合剤を主体とする上
層磁性層とが重層塗布によって形成されている、磁気テ
ープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体、及びその製造方
法に関するものである。
に、下層非磁性層と、磁性粉及び結合剤を主体とする上
層磁性層とが重層塗布によって形成されている、磁気テ
ープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体、及びその製造方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューター用テープ、ディスク等として広
く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され、
記録方式もアナログ方式からデジタル方式まで実用化さ
れている。
テープ、コンピューター用テープ、ディスク等として広
く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され、
記録方式もアナログ方式からデジタル方式まで実用化さ
れている。
【0003】この高密度化の要求に対して、磁性層に金
属薄膜を用いた磁気記録媒体が電磁変換特性の点で最適
である。しかし、金属薄膜媒体は生産性や耐久性等の点
で磁性粉末を結合剤中に分散して支持体上に塗布したい
わゆる塗布型の磁気記録媒体にその優位性を譲らざるを
得ない。
属薄膜を用いた磁気記録媒体が電磁変換特性の点で最適
である。しかし、金属薄膜媒体は生産性や耐久性等の点
で磁性粉末を結合剤中に分散して支持体上に塗布したい
わゆる塗布型の磁気記録媒体にその優位性を譲らざるを
得ない。
【0004】塗布型の磁気記録媒体の電磁変換特性の向
上には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化等
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては充分なものではない。
上には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化等
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては充分なものではない。
【0005】また、デジタル用の媒体の性能向上に対し
ては、磁性層の薄層化が知られている。しかし、磁性層
の薄層化は原理的には有効であるが、塗布型媒体の薄層
化には生産上の問題点がある。それは、磁性層の薄層化
によってピンホール、すじといった塗布欠陥が発生し易
く、充分な歩留りが得られないからである。
ては、磁性層の薄層化が知られている。しかし、磁性層
の薄層化は原理的には有効であるが、塗布型媒体の薄層
化には生産上の問題点がある。それは、磁性層の薄層化
によってピンホール、すじといった塗布欠陥が発生し易
く、充分な歩留りが得られないからである。
【0006】そこで、本発明者は、非磁性支持体に非磁
性層を下層として設け、この下層非磁性層が湿潤状態の
うちに磁性層を上層として設けることにより、磁性層の
薄層化が可能であることを見出した。
性層を下層として設け、この下層非磁性層が湿潤状態の
うちに磁性層を上層として設けることにより、磁性層の
薄層化が可能であることを見出した。
【0007】しかし、下層非磁性層として、特開平5−
347017号公報等に見られるように非磁性粉末を分
散した下層を用いた場合、非磁性粉末にかかるコストと
共に、非磁性粉末を分散する工程が必要となり、コスト
の上昇につながる。また、この場合、下層非磁性層と上
層磁性層との界面は乱れを生じ易く、電磁変換特性、特
にS/N特性の低下を招く恐れがある。
347017号公報等に見られるように非磁性粉末を分
散した下層を用いた場合、非磁性粉末にかかるコストと
共に、非磁性粉末を分散する工程が必要となり、コスト
の上昇につながる。また、この場合、下層非磁性層と上
層磁性層との界面は乱れを生じ易く、電磁変換特性、特
にS/N特性の低下を招く恐れがある。
【0008】一方、従来、上記の如き非磁性粉末を含ま
ない下層非磁性層に対応する層として下塗層が公知であ
る。例えば、特開昭58−125231号公報には、ジ
オレフィン単量体と一種以上のビニル単量体とからなる
共重合体を含有する下地層を非磁性支持体と磁性層との
間に設けた例が開示されている。しかし、これは単に、
磁性層と非磁性支持体との密着性向上を主眼としたもの
であり、耐久性の高い磁気記録媒体を提供しようとする
ための下層非磁性層とはその機能を異にするものであ
る。
ない下層非磁性層に対応する層として下塗層が公知であ
る。例えば、特開昭58−125231号公報には、ジ
オレフィン単量体と一種以上のビニル単量体とからなる
共重合体を含有する下地層を非磁性支持体と磁性層との
間に設けた例が開示されている。しかし、これは単に、
磁性層と非磁性支持体との密着性向上を主眼としたもの
であり、耐久性の高い磁気記録媒体を提供しようとする
ための下層非磁性層とはその機能を異にするものであ
る。
【0009】また、特開平5−28464号公報には、
下層非磁性層が結合剤と半固体状又は液体状の潤滑剤の
みからなる例が開示されている。しかし、これは、薄層
化磁性層を生産性よく提供することを主眼としたもので
あり、安価でかつ耐久性の良い磁気記録媒体を提供しよ
うとするための下層非磁性層とは材料的にも機能的にも
目的を異にするものである。
下層非磁性層が結合剤と半固体状又は液体状の潤滑剤の
みからなる例が開示されている。しかし、これは、薄層
化磁性層を生産性よく提供することを主眼としたもので
あり、安価でかつ耐久性の良い磁気記録媒体を提供しよ
うとするための下層非磁性層とは材料的にも機能的にも
目的を異にするものである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、塗布
型の磁性層が薄層化された磁気記録媒体において、電磁
変換特性、耐久性を向上させつつ、より安価に磁気記録
媒体を提供することにある。
型の磁性層が薄層化された磁気記録媒体において、電磁
変換特性、耐久性を向上させつつ、より安価に磁気記録
媒体を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上述の目的
を達成するために鋭意検討を重ねた結果、非磁性支持体
上に下層非磁性層を塗布し、この下層非磁性層が湿潤状
態のうちに、少なくとも強磁性粉末と結合剤を含む上層
磁性層を塗布した磁気記録媒体において、前記下層非磁
性層と前記上層磁性層との間の界面状態を改良し、本発
明に到達したものである。
を達成するために鋭意検討を重ねた結果、非磁性支持体
上に下層非磁性層を塗布し、この下層非磁性層が湿潤状
態のうちに、少なくとも強磁性粉末と結合剤を含む上層
磁性層を塗布した磁気記録媒体において、前記下層非磁
性層と前記上層磁性層との間の界面状態を改良し、本発
明に到達したものである。
【0012】即ち、本発明は、非磁性支持体上に、下層
非磁性層と、磁性粉及び結合剤を主体とする上層磁性層
とが重層塗布によって形成され、前記上層磁性層の厚み
が1μm以下であり、かつ、前記下層非磁性層が主とし
て結合剤からなっていて前記上層磁性層との間に平滑な
界面を有している磁気記録媒体に係るものである。
非磁性層と、磁性粉及び結合剤を主体とする上層磁性層
とが重層塗布によって形成され、前記上層磁性層の厚み
が1μm以下であり、かつ、前記下層非磁性層が主とし
て結合剤からなっていて前記上層磁性層との間に平滑な
界面を有している磁気記録媒体に係るものである。
【0013】本発明はまた、非磁性支持体上に、下層非
磁性層と、磁性粉及び結合剤を主体とする上層磁性層と
が重層塗布によって形成され、前記上層磁性層の厚みが
1μm以下であり、かつ、前記下層非磁性層が主として
結合剤からなっていて前記上層磁性層との間に平滑な界
面を有している磁気記録媒体を製造するに際し、前記非
磁性支持体上に主として結合剤からなる前記下層非磁性
層を塗布し、この下層非磁性層が湿潤状態のうちに、強
磁性粉末と結合剤を含む前記上層磁性層を前記下層非磁
性層上に塗布する、磁気記録媒体の製造方法も提供する
ものである。
磁性層と、磁性粉及び結合剤を主体とする上層磁性層と
が重層塗布によって形成され、前記上層磁性層の厚みが
1μm以下であり、かつ、前記下層非磁性層が主として
結合剤からなっていて前記上層磁性層との間に平滑な界
面を有している磁気記録媒体を製造するに際し、前記非
磁性支持体上に主として結合剤からなる前記下層非磁性
層を塗布し、この下層非磁性層が湿潤状態のうちに、強
磁性粉末と結合剤を含む前記上層磁性層を前記下層非磁
性層上に塗布する、磁気記録媒体の製造方法も提供する
ものである。
【0014】本発明の磁気記録媒体とその製造方法によ
れば、下層非磁性層と上層磁性層との界面が平滑(ほぼ
平坦)であるため、それら両層間は乱れがなく、従って
上層磁性層の表面性が良好となり、S/N比等の電磁変
換特性が向上する。しかも、下層非磁性層と上層磁性層
とが重層塗布(即ち、下層非磁性層が湿潤状態のうちに
上層磁性層を塗布すること)によって形成されているの
で、磁性層を薄層化してもその均一な塗布が可能であ
り、また、両層間の密着性が充分となって媒体の耐久性
が向上する。
れば、下層非磁性層と上層磁性層との界面が平滑(ほぼ
平坦)であるため、それら両層間は乱れがなく、従って
上層磁性層の表面性が良好となり、S/N比等の電磁変
換特性が向上する。しかも、下層非磁性層と上層磁性層
とが重層塗布(即ち、下層非磁性層が湿潤状態のうちに
上層磁性層を塗布すること)によって形成されているの
で、磁性層を薄層化してもその均一な塗布が可能であ
り、また、両層間の密着性が充分となって媒体の耐久性
が向上する。
【0015】下層非磁性層が主として結合剤からなって
いて上述したような非磁性粉末を含有しないことによ
り、上記した両層間の平滑な(ほぼ平坦な)界面を実現
できると共に、コストダウンも併せて可能となる。
いて上述したような非磁性粉末を含有しないことによ
り、上記した両層間の平滑な(ほぼ平坦な)界面を実現
できると共に、コストダウンも併せて可能となる。
【0016】そして、下層非磁性層が実質的に結合剤、
特にブタジエンを含むゴム状重合体を主体とした結合剤
からなり、かつ上層磁性層の乾燥厚みが1μm以下であ
ることが本発明の目的に充分に合致する。即ち、磁性層
の薄層化(特に1μm以下の厚みに形成すること)は、
磁気記録媒体の性能の向上にとって重要であるが、この
ように薄層化することによる耐久性の劣化や塗布不良
は、上記したように下層非磁性層が実質的に結合剤(特
に上記ゴム状重合体)からなり、下層非磁性層が湿潤状
態のうちに上層磁性層を塗布しているために、効果的に
防止することができる。
特にブタジエンを含むゴム状重合体を主体とした結合剤
からなり、かつ上層磁性層の乾燥厚みが1μm以下であ
ることが本発明の目的に充分に合致する。即ち、磁性層
の薄層化(特に1μm以下の厚みに形成すること)は、
磁気記録媒体の性能の向上にとって重要であるが、この
ように薄層化することによる耐久性の劣化や塗布不良
は、上記したように下層非磁性層が実質的に結合剤(特
に上記ゴム状重合体)からなり、下層非磁性層が湿潤状
態のうちに上層磁性層を塗布しているために、効果的に
防止することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】ここで、仮に、下層非磁性層に従
来のように粉体(顔料)が存在すると、そのフローカー
ブ(粘度変化曲線)は図2のように、剪断速度の上昇と
共に粘度が低下する。即ち、下層非磁性層が湿潤状態で
上層磁性層を塗布すると言うことは、少なからず上層磁
性層塗布時に下層非磁性層に剪断応力がかかり、下層非
磁性層の粘度低下を引き起こし、ひいては上層磁性層と
下層非磁性層の界面の乱れが生じてしまう。
来のように粉体(顔料)が存在すると、そのフローカー
ブ(粘度変化曲線)は図2のように、剪断速度の上昇と
共に粘度が低下する。即ち、下層非磁性層が湿潤状態で
上層磁性層を塗布すると言うことは、少なからず上層磁
性層塗布時に下層非磁性層に剪断応力がかかり、下層非
磁性層の粘度低下を引き起こし、ひいては上層磁性層と
下層非磁性層の界面の乱れが生じてしまう。
【0018】しかし、本発明によれば、下層非磁性層か
ら粉体を除き、実質的に結合剤のみとすることによっ
て、図1に見られるニュートン流体のように剪断速度に
よる粘度変化が殆どなくなり、その結果、界面の乱れが
発生しにくくなり、良好な電磁変換特性を得ることがで
きる。
ら粉体を除き、実質的に結合剤のみとすることによっ
て、図1に見られるニュートン流体のように剪断速度に
よる粘度変化が殆どなくなり、その結果、界面の乱れが
発生しにくくなり、良好な電磁変換特性を得ることがで
きる。
【0019】これを模式的に示したのが図1(A)、
(B)であり、図1(A)は本発明に基づく磁気記録媒
体20の断面を、図1(B)は従来の磁気記録媒体30の断
面をそれぞれ示す。
(B)であり、図1(A)は本発明に基づく磁気記録媒
体20の断面を、図1(B)は従来の磁気記録媒体30の断
面をそれぞれ示す。
【0020】従来の磁気記録媒体30では、非磁性支持体
1上に下層非磁性層14、上層磁性層12(図中の7は結合
剤中に分散した磁性粉末等の粉体)を夫々積層し、下層
非磁性層14は結合剤中に粉体10が存在したものであるた
め、これが上層磁性層12との界面15に存在すると、界面
は乱れ、上層磁性層12の面荒れ11の原因となる。
1上に下層非磁性層14、上層磁性層12(図中の7は結合
剤中に分散した磁性粉末等の粉体)を夫々積層し、下層
非磁性層14は結合剤中に粉体10が存在したものであるた
め、これが上層磁性層12との界面15に存在すると、界面
は乱れ、上層磁性層12の面荒れ11の原因となる。
【0021】一方、本発明に基づく磁気記録媒体20は、
非磁性支持体1上に下層非磁性層4、上層磁性層2を夫
々積層し、下層非磁性層4は、従来の下層非磁性層14と
異なって粉体10を除いたため、上層磁性層2と下層非磁
性層4との界面5に乱れがなく、平滑であり、そのため
に、上層磁性層2の表面は平滑な面6を有する。
非磁性支持体1上に下層非磁性層4、上層磁性層2を夫
々積層し、下層非磁性層4は、従来の下層非磁性層14と
異なって粉体10を除いたため、上層磁性層2と下層非磁
性層4との界面5に乱れがなく、平滑であり、そのため
に、上層磁性層2の表面は平滑な面6を有する。
【0022】また、磁性層を薄層化することによって磁
性層中に含まれる潤滑剤の総量が少なくなり、スチル耐
久性が低下する傾向があった。しかし、本発明に基づく
磁気記録媒体20では、下層非磁性層に上記ゴム状重合体
を用いることによって、塗膜に柔軟性が付与されるの
で、上層磁性層2は潤滑剤を添加しなくても薄層化が可
能となり、良好な電磁変換特性と耐久性を達成すること
が可能になった。
性層中に含まれる潤滑剤の総量が少なくなり、スチル耐
久性が低下する傾向があった。しかし、本発明に基づく
磁気記録媒体20では、下層非磁性層に上記ゴム状重合体
を用いることによって、塗膜に柔軟性が付与されるの
で、上層磁性層2は潤滑剤を添加しなくても薄層化が可
能となり、良好な電磁変換特性と耐久性を達成すること
が可能になった。
【0023】このように、走行耐久性と電磁変換特性の
両者が改善されるという効果は、基本的には下層非磁性
層が湿潤状態のうちに上層磁性層を塗布する方法を採用
したこと、および下層非磁性層に表面性を阻害するよう
な粉体(フィラー)を含まず、かつ結合剤としてブタジ
エンを含むゴム状重合体を用いた点にある。
両者が改善されるという効果は、基本的には下層非磁性
層が湿潤状態のうちに上層磁性層を塗布する方法を採用
したこと、および下層非磁性層に表面性を阻害するよう
な粉体(フィラー)を含まず、かつ結合剤としてブタジ
エンを含むゴム状重合体を用いた点にある。
【0024】下層非磁性層材料に適するゴム状重合体
(合成ゴムを含む。)としては、公知の材料を適宜選択
して使用することができ、そして溶剤に対する溶解性の
あることが望まれる。例示すれば、スチレン−ブタジエ
ン・ゴム、ブタジエン・ゴム、イソプレン・ゴム、ウレ
タン・ゴム、アクリル・ゴム、ノルボルネン・ゴム等が
挙げられる。
(合成ゴムを含む。)としては、公知の材料を適宜選択
して使用することができ、そして溶剤に対する溶解性の
あることが望まれる。例示すれば、スチレン−ブタジエ
ン・ゴム、ブタジエン・ゴム、イソプレン・ゴム、ウレ
タン・ゴム、アクリル・ゴム、ノルボルネン・ゴム等が
挙げられる。
【0025】また、下層非磁性材料は、上記した材料を
主体とするが、非磁性支持体と下層非磁性層との界面、
及び下層非磁性層と上層磁性層との界面での各々の接着
性を向上させるための粘着性付与剤や接着剤、上層磁性
層の電気抵抗を下げるための帯電防止剤、上層磁性層の
架橋性を向上するための硬化剤或いは硬化触媒、等を目
的に応じて添加することができる。
主体とするが、非磁性支持体と下層非磁性層との界面、
及び下層非磁性層と上層磁性層との界面での各々の接着
性を向上させるための粘着性付与剤や接着剤、上層磁性
層の電気抵抗を下げるための帯電防止剤、上層磁性層の
架橋性を向上するための硬化剤或いは硬化触媒、等を目
的に応じて添加することができる。
【0026】下層非磁性材料に使用する結合剤として
は、上記の合成ゴムが好適であるが、これ以外にも、ブ
タジエンを含むブタジエンブロックポリマー等のゴム状
重合体であれば使用可能である。但し、本発明で使用可
能な下層非磁性材料の結合剤は、ガラス転移点が低いこ
とがよく、特に単一のピークを持つときには常温以下で
あることが望ましい。
は、上記の合成ゴムが好適であるが、これ以外にも、ブ
タジエンを含むブタジエンブロックポリマー等のゴム状
重合体であれば使用可能である。但し、本発明で使用可
能な下層非磁性材料の結合剤は、ガラス転移点が低いこ
とがよく、特に単一のピークを持つときには常温以下で
あることが望ましい。
【0027】本発明の磁気記録媒体において、上層磁性
層に用いられる磁性粉としては、Fe、Co、Ni、等
の金属、Fe−Co、Fe−Ni、Fe−Al、Fe−
Ni−Al、Fe−Al−P、Fe−Ni−Si−A
l、Fe−Ni−Si−Al−Mn、Fe−Mn−Z
n、Fe−Ni−Zn、Co−Ni、Co−P、Fe−
Co−Ni、Fe−Co−Ni−Cr、Fe−Co−N
i−P、Fe−Co−B、Fe−Co−Cr−B、Mn
−Bi、Mn−Al、Fe−Co−V等の合金、窒化
鉄、炭化鉄等が挙げられる。磁性粉には、還元時の焼結
防止又は形状維持等の目的で添加されるAl、Si、
P、B等の軽金属元素が適当量含有されていても、本発
明の効果を妨げるものではない。
層に用いられる磁性粉としては、Fe、Co、Ni、等
の金属、Fe−Co、Fe−Ni、Fe−Al、Fe−
Ni−Al、Fe−Al−P、Fe−Ni−Si−A
l、Fe−Ni−Si−Al−Mn、Fe−Mn−Z
n、Fe−Ni−Zn、Co−Ni、Co−P、Fe−
Co−Ni、Fe−Co−Ni−Cr、Fe−Co−N
i−P、Fe−Co−B、Fe−Co−Cr−B、Mn
−Bi、Mn−Al、Fe−Co−V等の合金、窒化
鉄、炭化鉄等が挙げられる。磁性粉には、還元時の焼結
防止又は形状維持等の目的で添加されるAl、Si、
P、B等の軽金属元素が適当量含有されていても、本発
明の効果を妨げるものではない。
【0028】更に、γ−Fe2 O3 、Fe3 O4 、γ−
Fe2 O3 とFe3 O4 とのベルトライド化合物、Co
含有γ−Fe2 O3 、Co含有Fe3 O4 、Coを含有
するγ−Fe2 O3 とFe3 O4 とのベルトライド化合
物、CrO2 に1種又はそれ以上の金属元素(例えば、
Te、Sb、Fe、Bi等)を含有させた酸化物等があ
る。
Fe2 O3 とFe3 O4 とのベルトライド化合物、Co
含有γ−Fe2 O3 、Co含有Fe3 O4 、Coを含有
するγ−Fe2 O3 とFe3 O4 とのベルトライド化合
物、CrO2 に1種又はそれ以上の金属元素(例えば、
Te、Sb、Fe、Bi等)を含有させた酸化物等があ
る。
【0029】これらの磁性粉は、それぞれ1種を用いる
ことができるが、2種以上を併用することができる。
ことができるが、2種以上を併用することができる。
【0030】また、本発明に用いる磁性粉の比表面積
は、BET値で20〜90m2/gであってよく、25〜70m2/gで
あることが望ましい。比表面積が、上記範囲にあると、
磁性粉を微粒子化して高密度記録が可能となり、ノイズ
特性の優れた磁気記録媒体を得ることができる。
は、BET値で20〜90m2/gであってよく、25〜70m2/gで
あることが望ましい。比表面積が、上記範囲にあると、
磁性粉を微粒子化して高密度記録が可能となり、ノイズ
特性の優れた磁気記録媒体を得ることができる。
【0031】更に、本発明に用いられる磁性粉は、長軸
長が0.05〜0.50μm、軸比が5〜15であることが好まし
い。長軸長が0.05μm未満であると、磁性塗料中の分散
が困難となり、長軸長が0.50μmを超えるとノイズ特性
が劣化するおそれがある。軸比が5未満であると、磁性
粉の配向性が低下して出力が低下し易くなり、軸比が15
を超えると短波長の信号出力が低下するおそれがある。
長が0.05〜0.50μm、軸比が5〜15であることが好まし
い。長軸長が0.05μm未満であると、磁性塗料中の分散
が困難となり、長軸長が0.50μmを超えるとノイズ特性
が劣化するおそれがある。軸比が5未満であると、磁性
粉の配向性が低下して出力が低下し易くなり、軸比が15
を超えると短波長の信号出力が低下するおそれがある。
【0032】本発明の磁気記録媒体では、上層磁性層に
使用する結合剤としては、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリエステル樹脂を用いることが好まし
い。
使用する結合剤としては、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリエステル樹脂を用いることが好まし
い。
【0033】また、結合剤には極性官能基を導入するの
がよく、こうした極性官能基としては、−SO3 M、−
OSO3 M、−COOM、−(O=)P(OM1 )(O
M2)等がある。ここにおいて、式中Mは、水素原子あ
るいは、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ
金属であり、M1 とM2 はそれぞれ水素原子、或いはリ
チウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属であ
り、M1 とM2 は同一であっても異なっていてもよい。
がよく、こうした極性官能基としては、−SO3 M、−
OSO3 M、−COOM、−(O=)P(OM1 )(O
M2)等がある。ここにおいて、式中Mは、水素原子あ
るいは、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ
金属であり、M1 とM2 はそれぞれ水素原子、或いはリ
チウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属であ
り、M1 とM2 は同一であっても異なっていてもよい。
【0034】このような極性官能基を有する結合剤は、
磁性粉や顔料の表面への吸着性が良く、磁性粉及び顔料
の凝集防止効果があり、塗料中の分散性が改善される。
そして、塗膜の耐久性も向上し、電磁変換特性も向上す
る。これらの結合剤は、1種のみが単独で用いられるこ
とができるが、2種以上を併用することもできる。
磁性粉や顔料の表面への吸着性が良く、磁性粉及び顔料
の凝集防止効果があり、塗料中の分散性が改善される。
そして、塗膜の耐久性も向上し、電磁変換特性も向上す
る。これらの結合剤は、1種のみが単独で用いられるこ
とができるが、2種以上を併用することもできる。
【0035】上記の極性官能基の量は結合剤1g当たり
0.03〜0.3mmol が好ましい。結合剤1g当たり0.03mmol
より少ないと、分散性に対する効果が小さくなり、結合
剤1g当たり 0.3mmolより多い場合には、吸湿性が高く
なり、耐候性が悪くなるばかりでなく、かえって分散性
が悪化してしまう場合がある。また、この極性官能基は
1種類でも2種類以上含まれても構わない。
0.03〜0.3mmol が好ましい。結合剤1g当たり0.03mmol
より少ないと、分散性に対する効果が小さくなり、結合
剤1g当たり 0.3mmolより多い場合には、吸湿性が高く
なり、耐候性が悪くなるばかりでなく、かえって分散性
が悪化してしまう場合がある。また、この極性官能基は
1種類でも2種類以上含まれても構わない。
【0036】更に、本発明では、上記に例示した結合剤
を用いる以外に、従来公知の結合剤を用いることがで
き、或いは、併用することも可能である。この従来公知
の結合剤として熱可塑性樹脂があるが、これには、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル
酸エステル−塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステ
ル−エチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデ
ン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブ
タジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラ
ール、セルロース誘導体(セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセ
テート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロー
ス)、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹
脂、アミノ樹脂、合成ゴム等の熱可塑性樹脂がある。
を用いる以外に、従来公知の結合剤を用いることがで
き、或いは、併用することも可能である。この従来公知
の結合剤として熱可塑性樹脂があるが、これには、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル
酸エステル−塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステ
ル−エチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデ
ン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブ
タジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラ
ール、セルロース誘導体(セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセ
テート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロー
ス)、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹
脂、アミノ樹脂、合成ゴム等の熱可塑性樹脂がある。
【0037】また、使用可能な他の従来公知の結合剤と
して熱硬化性樹脂があるが、これには、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミ
ン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等がある。
して熱硬化性樹脂があるが、これには、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミ
ン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等がある。
【0038】塗膜におけるこれらの結合剤の含有量は、
上記磁性粉 100重量部に対して、1〜200 重量部として
よく、好ましくは1〜50重量部である。結合剤の使用量
が多すぎると、磁性粉の磁性層(上層)に占める割合が
相対的に低下して出力の低下を生じ易くなり、また、少
なすぎると、塗膜の力学的強度が低下し、磁気記録媒体
の走行耐久性が低下し易い。
上記磁性粉 100重量部に対して、1〜200 重量部として
よく、好ましくは1〜50重量部である。結合剤の使用量
が多すぎると、磁性粉の磁性層(上層)に占める割合が
相対的に低下して出力の低下を生じ易くなり、また、少
なすぎると、塗膜の力学的強度が低下し、磁気記録媒体
の走行耐久性が低下し易い。
【0039】本発明では、上記結合剤を架橋硬化させる
ポリイソシアネートを併用することができる。このポリ
イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート又
はこれらの付加体、アルキレンジイソシアネート又はこ
れらの付加体等がある。これらのポリイソシアネートの
上記結合剤への配合量は、上記結合剤 100重量部に対し
て、5〜80重量部であってよく、好ましくは10〜50重量
部である。
ポリイソシアネートを併用することができる。このポリ
イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート又
はこれらの付加体、アルキレンジイソシアネート又はこ
れらの付加体等がある。これらのポリイソシアネートの
上記結合剤への配合量は、上記結合剤 100重量部に対し
て、5〜80重量部であってよく、好ましくは10〜50重量
部である。
【0040】本発明の磁気記録媒体においては、必要に
応じて、帯電防止剤、潤滑剤、非磁性補強粒子、界面活
性剤等を上記磁性層に含有させることができる。
応じて、帯電防止剤、潤滑剤、非磁性補強粒子、界面活
性剤等を上記磁性層に含有させることができる。
【0041】上記帯電防止剤としては、カーボンブラッ
ク等があるが、これは必ずしも上層磁性層に含有させな
くてもよく、また下層非磁性層に含有させてもよい。
ク等があるが、これは必ずしも上層磁性層に含有させな
くてもよく、また下層非磁性層に含有させてもよい。
【0042】上記潤滑剤としては、黒鉛、二硫化モリブ
デン、シリコーンオイル、炭素数10〜22までの脂肪酸、
この脂肪酸と炭素数2〜26までのアルコールとから得ら
れる脂肪酸エステル、テルペン系化合物、これらのオリ
ゴマー等がある。上記潤滑剤は、上層にのみ添加するこ
ともできるし、上下両層に添加することもできる。
デン、シリコーンオイル、炭素数10〜22までの脂肪酸、
この脂肪酸と炭素数2〜26までのアルコールとから得ら
れる脂肪酸エステル、テルペン系化合物、これらのオリ
ゴマー等がある。上記潤滑剤は、上層にのみ添加するこ
ともできるし、上下両層に添加することもできる。
【0043】上記非磁性補強粒子としては、酸化アルミ
ニウム、酸化クロム、炭化珪素、ダイヤモンド、ガーネ
ット、エメリー、窒化ホウ素等がある。この粒子の含有
量は、磁性粉 100重量部に対して、20重量部以下であっ
てよく、好ましくは10重量部以下であり、また、平均粒
径は 1.0μm以下であってよく、好ましくは 0.5μm以
下である。上記非磁性補強粒子も、上層にのみ添加する
こともできるし、上下両層に添加することもできる。
ニウム、酸化クロム、炭化珪素、ダイヤモンド、ガーネ
ット、エメリー、窒化ホウ素等がある。この粒子の含有
量は、磁性粉 100重量部に対して、20重量部以下であっ
てよく、好ましくは10重量部以下であり、また、平均粒
径は 1.0μm以下であってよく、好ましくは 0.5μm以
下である。上記非磁性補強粒子も、上層にのみ添加する
こともできるし、上下両層に添加することもできる。
【0044】上記界面活性剤としては、ノニオン系、ア
ニオン系、カチオン系、両性の界面活性剤がある。
ニオン系、カチオン系、両性の界面活性剤がある。
【0045】上層磁性層の厚みは、塗布装置の条件によ
って制約を受けるが、薄層化による利点と薄層化自体が
本発明によって実現可能である点から、1μm以下とす
べきであり、好ましくは、 0.5μm以下、 0.1μm以上
である。通常、上層磁性層、下層非磁性層の全塗膜厚は
10μm以下に設定されるが、上層磁性層/下層非磁性層
の厚み比率は1/1〜1/50がよい。
って制約を受けるが、薄層化による利点と薄層化自体が
本発明によって実現可能である点から、1μm以下とす
べきであり、好ましくは、 0.5μm以下、 0.1μm以上
である。通常、上層磁性層、下層非磁性層の全塗膜厚は
10μm以下に設定されるが、上層磁性層/下層非磁性層
の厚み比率は1/1〜1/50がよい。
【0046】本発明の磁気記録媒体においては、上層磁
性層の表面の比抵抗が小さいことが好ましく、具体的に
は1×106 Ω/cm2 〜5×108 Ω/cm2 であることが望
ましい。比抵抗が5×108 Ω/cm2 を超えると、ドロッ
プアウトが生じる可能性がある。また、比抵抗を1×10
6 Ω/cm2 未満にするには、通常は、磁性層中のカーボ
ンブラックの含有量を多くしなければならず、電磁変換
特性を低下させることになる。
性層の表面の比抵抗が小さいことが好ましく、具体的に
は1×106 Ω/cm2 〜5×108 Ω/cm2 であることが望
ましい。比抵抗が5×108 Ω/cm2 を超えると、ドロッ
プアウトが生じる可能性がある。また、比抵抗を1×10
6 Ω/cm2 未満にするには、通常は、磁性層中のカーボ
ンブラックの含有量を多くしなければならず、電磁変換
特性を低下させることになる。
【0047】本発明の磁気記録媒体の非磁性支持体とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
2,6−ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート等のセルロース類、ビニル
系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート類に代表さ
れるような高分子材料、或いは、金属、ガラス、セラミ
ックス等により形成される支持体等がある。非磁性基体
は、テープ状、ディスク状、カード状等の種々の形状を
有していてよい。
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
2,6−ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート等のセルロース類、ビニル
系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート類に代表さ
れるような高分子材料、或いは、金属、ガラス、セラミ
ックス等により形成される支持体等がある。非磁性基体
は、テープ状、ディスク状、カード状等の種々の形状を
有していてよい。
【0048】以上が本発明の磁気記録媒体の基本的な構
成であるが、磁気記録媒体の構成はこれに限られず、例
えば非磁性基体において、磁性層が形成されていない側
の面(裏面)には磁気記録媒体の走行性の向上や帯電防
止及び転写防止等を目的として、非磁性又は磁性の粉末
と結合剤とを主体としたバックコート層を形成してもよ
い。また、磁性層自体を重層とし、各層で異なる磁気特
性(例えば保磁力Hc)を有するようにしてもよい。
成であるが、磁気記録媒体の構成はこれに限られず、例
えば非磁性基体において、磁性層が形成されていない側
の面(裏面)には磁気記録媒体の走行性の向上や帯電防
止及び転写防止等を目的として、非磁性又は磁性の粉末
と結合剤とを主体としたバックコート層を形成してもよ
い。また、磁性層自体を重層とし、各層で異なる磁気特
性(例えば保磁力Hc)を有するようにしてもよい。
【0049】バックコート層に用いる非磁性粉末として
は、カーボンブラックを主体とするものが一般的である
が、これ以外にも、炭酸カルシウム、アルミナ、酸化チ
タン、α−酸化鉄等が挙げられる。また、磁性粉末とし
ては、磁性層に用いるものとして上述したもののいずれ
も使用可能である。それらを単独又は組み合わせて用い
てもよい。結合剤及びその他の添加剤としては、磁性層
に用いるものとして上述したもののいずれも使用可能で
あり、それらを単独又は組み合わせて用いてもよい。
は、カーボンブラックを主体とするものが一般的である
が、これ以外にも、炭酸カルシウム、アルミナ、酸化チ
タン、α−酸化鉄等が挙げられる。また、磁性粉末とし
ては、磁性層に用いるものとして上述したもののいずれ
も使用可能である。それらを単独又は組み合わせて用い
てもよい。結合剤及びその他の添加剤としては、磁性層
に用いるものとして上述したもののいずれも使用可能で
あり、それらを単独又は組み合わせて用いてもよい。
【0050】上記非磁性支持体上の塗膜は、上記の上層
磁性層及び下層非磁性層の形成材料を塗料化して塗布、
乾燥して形成される。
磁性層及び下層非磁性層の形成材料を塗料化して塗布、
乾燥して形成される。
【0051】この塗料化に用いられる溶剤は、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノ
ール、プロパノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチ
ル、エチレングリコールアセテート等のエステル系溶
媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、2−エト
キシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンク
ロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が用いられる。
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノ
ール、プロパノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチ
ル、エチレングリコールアセテート等のエステル系溶
媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、2−エト
キシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンク
ロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が用いられる。
【0052】上記塗料の作製のための分散・混練には、
ロールミル、ボールミル、サンドミル、アジター、ニー
ダー、エクストルーダー、ホモジナイザー、超音波分散
機等が用いられる。
ロールミル、ボールミル、サンドミル、アジター、ニー
ダー、エクストルーダー、ホモジナイザー、超音波分散
機等が用いられる。
【0053】更に、このようにして形成された塗料を非
磁性基体上に同時に重層塗布するのがよいが、これに
は、主にダイコーターが用いられる。ダイコーターのリ
ップ構成は、2リップ方式、3リップ方式、4リップ方
式等が用いられる。
磁性基体上に同時に重層塗布するのがよいが、これに
は、主にダイコーターが用いられる。ダイコーターのリ
ップ構成は、2リップ方式、3リップ方式、4リップ方
式等が用いられる。
【0054】図3は、本発明の磁気記録媒体の一例(ビ
デオ用の磁気テープ)を示すものである。即ち、非磁性
支持体1の一方の面に、結合剤を含有した下層非磁性層
4を介して、磁性粉及び結合剤等を含有した上層磁性層
2を有している。また、他方の面に、一点鎖線の如く
に、非磁性粉末と結合剤とを主体とするバックコート層
3を有していてもよい。
デオ用の磁気テープ)を示すものである。即ち、非磁性
支持体1の一方の面に、結合剤を含有した下層非磁性層
4を介して、磁性粉及び結合剤等を含有した上層磁性層
2を有している。また、他方の面に、一点鎖線の如く
に、非磁性粉末と結合剤とを主体とするバックコート層
3を有していてもよい。
【0055】非磁性支持体1上に下層非磁性層4及び上
層磁性層2を形成するには、乾燥されていない湿潤状態
(下層非磁性層が塗布後にまだ溶剤を含んでいて粘着性
を示す状態)にある下層非磁性層4の上に上層磁性層2
を重ねて塗布する方式(いわゆるウエット・オン・ウエ
ット塗布方式=湿潤重層塗布方式)を採用する。
層磁性層2を形成するには、乾燥されていない湿潤状態
(下層非磁性層が塗布後にまだ溶剤を含んでいて粘着性
を示す状態)にある下層非磁性層4の上に上層磁性層2
を重ねて塗布する方式(いわゆるウエット・オン・ウエ
ット塗布方式=湿潤重層塗布方式)を採用する。
【0056】この場合、ダイレクトグラビア法、リバー
スグラビア法、オフセットグラビア法、押し出し塗布等
の公知の塗布方式のうち、いずれか1種類を2基設置し
たり、1基から2種の塗布液を供給して塗布、或いは2
種類を1基ずつ設置する方法等を用いることができる。
スグラビア法、オフセットグラビア法、押し出し塗布等
の公知の塗布方式のうち、いずれか1種類を2基設置し
たり、1基から2種の塗布液を供給して塗布、或いは2
種類を1基ずつ設置する方法等を用いることができる。
【0057】図4は、本発明による好ましい製造方法の
例を示すものである。この製造方法においては、例えば
図3(具体的には図1)の媒体を製造するに当たり、ま
ず供給ロールから繰り出されたフィルム状支持体1を矢
印D方向へ送りながら、図4(A)のように、エクスト
ルージョン方式の2基の押し出しコーター21A、21Bに
より下層非磁性層4及び上層磁性層2用の各塗料4’及
び2’を順次重層塗布するか、或いは図4(B)のよう
に、1基の押し出しコーター21により各塗料4’及び
2’を同時に重層塗布する。
例を示すものである。この製造方法においては、例えば
図3(具体的には図1)の媒体を製造するに当たり、ま
ず供給ロールから繰り出されたフィルム状支持体1を矢
印D方向へ送りながら、図4(A)のように、エクスト
ルージョン方式の2基の押し出しコーター21A、21Bに
より下層非磁性層4及び上層磁性層2用の各塗料4’及
び2’を順次重層塗布するか、或いは図4(B)のよう
に、1基の押し出しコーター21により各塗料4’及び
2’を同時に重層塗布する。
【0058】押し出しコーター21A、21B、21には、液
溜り部23、24が設けられ、各塗料2’、4’をウエット
・オン・ウエット方式で順次若しくは同時に重ねる。こ
うしたウエット・オン・ウエット方式における湿潤重層
塗布においては、下層非磁性層4が湿潤状態4’のうち
に上層磁性層2の磁性塗料2’を塗布するので、下層の
表面(即ち、上層と境界面)が滑らかになると共に上層
の表面性が良好になってカレンダー処理を省略できるこ
とがあり、かつ、上下層間の接着性も向上する。
溜り部23、24が設けられ、各塗料2’、4’をウエット
・オン・ウエット方式で順次若しくは同時に重ねる。こ
うしたウエット・オン・ウエット方式における湿潤重層
塗布においては、下層非磁性層4が湿潤状態4’のうち
に上層磁性層2の磁性塗料2’を塗布するので、下層の
表面(即ち、上層と境界面)が滑らかになると共に上層
の表面性が良好になってカレンダー処理を省略できるこ
とがあり、かつ、上下層間の接着性も向上する。
【0059】この結果、特に高密度記録のために高出
力、低ノイズの要求される磁気記録媒体としての要求性
能を満たしたものとなり、かつ、高耐久性の性能が要求
されることに対しても膜剥離をなくし、膜強度が向上
し、耐久性が十分となる。また、ドロップアウトも低減
することができ、信頼性も向上する。
力、低ノイズの要求される磁気記録媒体としての要求性
能を満たしたものとなり、かつ、高耐久性の性能が要求
されることに対しても膜剥離をなくし、膜強度が向上
し、耐久性が十分となる。また、ドロップアウトも低減
することができ、信頼性も向上する。
【0060】なお、上記の重層塗布後は、塗布された磁
性層は、強磁性粉末を配向させる処理、即ち磁場配向処
理を施した後、乾燥されることが好ましい。この配向に
は、ソレノイド・マグネットやコバルト磁石等を単独で
或いは組み合わせて用いることができる。また乾燥方法
は一般に熱風による乾燥が施される。この際、配向性が
高くなるように配向しながら適度の乾燥工程を設けるこ
とが好ましい。
性層は、強磁性粉末を配向させる処理、即ち磁場配向処
理を施した後、乾燥されることが好ましい。この配向に
は、ソレノイド・マグネットやコバルト磁石等を単独で
或いは組み合わせて用いることができる。また乾燥方法
は一般に熱風による乾燥が施される。この際、配向性が
高くなるように配向しながら適度の乾燥工程を設けるこ
とが好ましい。
【0061】このように記録層を塗布した媒体は、その
後にカレンダー処理、硬化処理、バック層塗布、スリッ
ト処理等、その媒体がより良い特性を示すような処理が
施される。
後にカレンダー処理、硬化処理、バック層塗布、スリッ
ト処理等、その媒体がより良い特性を示すような処理が
施される。
【0062】
【実施例】以下、本発明を具体的な実施例により説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。各例において、「部」は特に指定しない限り「重量
部」を意味する。
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。各例において、「部」は特に指定しない限り「重量
部」を意味する。
【0063】実施例1 下記の組成にて上層磁性層用の塗料(上層磁性塗料)を
調整した。
調整した。
【0064】 <上層磁性塗料> 強磁性金属粉末 (Fe系、保磁力Hc=125kA/m 、飽和磁化量σs=120emu/g) 100部 ポリ塩化ビニル樹脂 (−OSO3 K含有:日本ゼオン社製 MR−110) 10部 ポリエステルポリウレタン樹脂 (−OSO3 Na含有:東洋紡績社製 UR−8300) 10部 カーボンブラック(平均粒径 20nm) 4部 アルミナ(平均粒径 200nm) 6部 ミリスチン酸 1部 ステアリン酸ブチル 1部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 150部
【0065】上記組成の塗料をサンドミルにて24時間分
散した後、硬化剤コロネートL(日本ポリウレタン社
製)を5部添加して上層用磁性塗料とした。
散した後、硬化剤コロネートL(日本ポリウレタン社
製)を5部添加して上層用磁性塗料とした。
【0066】また、下記の組成にて下層非磁性層用の塗
料(下層非磁性塗料)を調製した。
料(下層非磁性塗料)を調製した。
【0067】 <下層非磁性塗料> スチレン−ブタジエンブロック共重合体(スチレン分 30重量%) 100部 トルエン 900部
【0068】上記組成の塗料をディスパーにて4時間溶
解し、下層用非磁性塗料とした。
解し、下層用非磁性塗料とした。
【0069】得られた上層用磁性塗料と下層用非磁性塗
料を用いて押し出し式塗布方式にて厚さ14μmのポリエ
チレンテレフタレート支持体の上に 100m/分の速度で図
4(A)のようにして重層塗布し、配向処理、乾燥処
理、カレンダー処理、硬化処理、裁断処理を施し、磁気
テープを作成した。なお、塗布の際、乾燥後の上層磁性
層の厚みが 0.1μm、下層非磁性層の厚みが 2.0μmと
なるようにした。
料を用いて押し出し式塗布方式にて厚さ14μmのポリエ
チレンテレフタレート支持体の上に 100m/分の速度で図
4(A)のようにして重層塗布し、配向処理、乾燥処
理、カレンダー処理、硬化処理、裁断処理を施し、磁気
テープを作成した。なお、塗布の際、乾燥後の上層磁性
層の厚みが 0.1μm、下層非磁性層の厚みが 2.0μmと
なるようにした。
【0070】実施例2 実施例1と同じ塗料を用い、同様にして磁気テープを作
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
0.2μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
0.2μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
【0071】実施例3 実施例1と同じ塗料を用い、同様にして磁気テープを作
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
0.4μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
0.4μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
【0072】実施例4 実施例1と同じ塗料を用い、同様にして磁気テープを作
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
0.7μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
0.7μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
【0073】実施例5 実施例1と同じ塗料を用い、同様にして磁気テープを作
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
1.0μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
1.0μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
【0074】実施例6 ポリエステルポリウレタン樹脂(ガラス転移点 10℃) 100部 メチルエチルケトン 900部 からなる組成の塗料をディスパーにて4時間溶解し、下
層用非磁性塗料とした。
層用非磁性塗料とした。
【0075】そして、この下層用非磁性塗料を用いる以
外は実施例1と同様にして、磁気テープを作成した。乾
燥後の下層非磁性層の厚みが 2.0μmと一定になるよう
に調整した。上層磁性層の厚みについては、乾燥後の厚
みが 0.2μmになるように調整した。
外は実施例1と同様にして、磁気テープを作成した。乾
燥後の下層非磁性層の厚みが 2.0μmと一定になるよう
に調整した。上層磁性層の厚みについては、乾燥後の厚
みが 0.2μmになるように調整した。
【0076】実施例7 ブタジエン・ゴム(ガラス転移点 −85℃) 100部 トルエン 900部 からなる組成の塗料をディスパーにて4時間溶解し、下
層用非磁性塗料とした。
層用非磁性塗料とした。
【0077】そして、この下層用非磁性塗料を用いる以
外は実施例1と同様にして、磁気テープを作成した。乾
燥後の下層非磁性層の厚みが 2.0μmと一定になるよう
に調整した。上層磁性層の厚みについては、乾燥後の厚
みが 0.2μmになるように調整した。
外は実施例1と同様にして、磁気テープを作成した。乾
燥後の下層非磁性層の厚みが 2.0μmと一定になるよう
に調整した。上層磁性層の厚みについては、乾燥後の厚
みが 0.2μmになるように調整した。
【0078】比較例1 上層磁性塗料のみを押し出し式塗布方式にて、厚さ14μ
mのポリエチレンテレフタレート支持体の上に 100m/分
の速度で、乾燥後の厚みが 2.0μmとなるように塗布し
(下層非磁性塗料は塗布せず)、配向処理、乾燥処理、
カレンダー処理、硬化処理、裁断処理を施し、磁気テー
プを作成した。
mのポリエチレンテレフタレート支持体の上に 100m/分
の速度で、乾燥後の厚みが 2.0μmとなるように塗布し
(下層非磁性塗料は塗布せず)、配向処理、乾燥処理、
カレンダー処理、硬化処理、裁断処理を施し、磁気テー
プを作成した。
【0079】比較例2 実施例1と同じ塗料を用い、同様にして磁気テープを作
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
1.2μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
成した。但し、塗布の際、乾燥後の上層磁性層の厚みを
1.2μm、下層非磁性層の厚みを 2.0μmとした。
【0080】実施例8 ポリ塩化ビニル樹脂(ガラス転移点 80℃) 100部 メチルエチルケトン 900部 からなる組成の塗料をディスパーにて4時間溶解し、下
層用非磁性塗料とした。
層用非磁性塗料とした。
【0081】そして、この下層用非磁性塗料を用いる以
外は実施例1と同様にして、磁気テープを作成した。乾
燥後の下層非磁性層の厚みが 2.0μmと一定になるよう
に調整した。上層磁性層の厚みについては、乾燥後の厚
みが 0.2μmになるように調整した。
外は実施例1と同様にして、磁気テープを作成した。乾
燥後の下層非磁性層の厚みが 2.0μmと一定になるよう
に調整した。上層磁性層の厚みについては、乾燥後の厚
みが 0.2μmになるように調整した。
【0082】実施例9 ポリエステルポリウレタン樹脂(ガラス転移点 40℃) 100部 メチルエチルケトン 900部 からなる組成の塗料をディスパーにて4時間溶解し、下
層用非磁性塗料とした。
層用非磁性塗料とした。
【0083】そして、この下層用非磁性塗料を用いる以
外は実施例1と同様にして、磁気テープを作成した。乾
燥後の下層非磁性層の厚みが 2.0μmと一定になるよう
に調整した。上層磁性層の厚みについては、乾燥後の厚
みが 0.2μmになるように調整した。
外は実施例1と同様にして、磁気テープを作成した。乾
燥後の下層非磁性層の厚みが 2.0μmと一定になるよう
に調整した。上層磁性層の厚みについては、乾燥後の厚
みが 0.2μmになるように調整した。
【0084】比較例3 実施例1において、下記の下層非磁性塗料組成を用いる
以外は同様にして、磁気テープを作成した。
以外は同様にして、磁気テープを作成した。
【0085】 ポリエステルポリウレタン樹脂(東洋紡績社製 UR−8300) 50部 カーボンブラック (CABOT社製 商品名 BP−L) 100部 ポリイソシアネート (日本ポリウレタン社製 商品名 コロネートL) 5部 ミリスチン酸 1部 メチルエチルケトン 100部 メチルイソブチルケトン 100部 トルエン 50部
【0086】比較例4 実施例1において、下層非磁性塗料中にカーボンブラッ
ク(CABOT社製BP−L)を 200部添加した以外は
同様にして、磁気テープを作成した。
ク(CABOT社製BP−L)を 200部添加した以外は
同様にして、磁気テープを作成した。
【0087】以上の各例を下記の表1にまとめて示し
た。各例により作成されたテープについて以下に示す評
価を行い、測定結果を下記の表2に示す。
た。各例により作成されたテープについて以下に示す評
価を行い、測定結果を下記の表2に示す。
【0088】表面粗さ(Ra(nm)):接触型表面粗さ
測定器(小坂研究所製SE−30H)により測定した。
測定器(小坂研究所製SE−30H)により測定した。
【0089】スチル耐久性(分):1/2インチ・ビデ
オデッキ(ソニー社製)を耐久性評価用に改造し、図5
のように、回転ドラム41と記録・再生機能を持ち、固定
用ジグ42からガイドピン43を介してドラム41に架けられ
たテープ20又は30の同一部分のみの出力変化を追うこと
ができるビデオテープレコーダ(VTR)40を作成し、
荷重44=50gwの条件で出力が再生1回目の半分になるま
での時間を測定した。なお、常温(25℃)と−5℃の二
つの環境で測定を行った。また、測定は最長2時間で打
ち切った。
オデッキ(ソニー社製)を耐久性評価用に改造し、図5
のように、回転ドラム41と記録・再生機能を持ち、固定
用ジグ42からガイドピン43を介してドラム41に架けられ
たテープ20又は30の同一部分のみの出力変化を追うこと
ができるビデオテープレコーダ(VTR)40を作成し、
荷重44=50gwの条件で出力が再生1回目の半分になるま
での時間を測定した。なお、常温(25℃)と−5℃の二
つの環境で測定を行った。また、測定は最長2時間で打
ち切った。
【0090】Y−S/N(dB):1/2インチ・ビデオ
デッキ(ソニー社製)にて輝度信号を記録し、比較例1
で得られたテープを基準テープとしてそのS/Nの差を
求めた。
デッキ(ソニー社製)にて輝度信号を記録し、比較例1
で得られたテープを基準テープとしてそのS/Nの差を
求めた。
【0091】
【0092】
【0093】
【0094】
【0095】表2に示す結果から、次の(1)〜(3)
のことが分かる。 (1)まず、上層磁性層の塗布厚が 0.2μmの時の下層
非磁性層(下層樹脂層)の効果を見ると、実施例2、6
〜9のように、上層磁性層が表面性良く、かつ均一に塗
布されているので、電磁変換特性では下層樹脂層の種類
に関わりなく高い値が得られている。次に、耐久性の点
から見ると、下層樹脂層に実施例2、6、7に示した合
成ゴム系樹脂やガラス転移点の低いポリエステルポリウ
レタン樹脂を用いた場合、下層樹脂層による緩衝効果が
現れるので、耐久性、特に低温での耐久性は向上してい
る。但し、樹脂層のガラス転移点が比較的高い実施例8
や実施例9では、下層樹脂層による緩衝効果が薄れるの
で、電磁変換特性は良好であるが、耐久性向上の効果は
弱くなっている。
のことが分かる。 (1)まず、上層磁性層の塗布厚が 0.2μmの時の下層
非磁性層(下層樹脂層)の効果を見ると、実施例2、6
〜9のように、上層磁性層が表面性良く、かつ均一に塗
布されているので、電磁変換特性では下層樹脂層の種類
に関わりなく高い値が得られている。次に、耐久性の点
から見ると、下層樹脂層に実施例2、6、7に示した合
成ゴム系樹脂やガラス転移点の低いポリエステルポリウ
レタン樹脂を用いた場合、下層樹脂層による緩衝効果が
現れるので、耐久性、特に低温での耐久性は向上してい
る。但し、樹脂層のガラス転移点が比較的高い実施例8
や実施例9では、下層樹脂層による緩衝効果が薄れるの
で、電磁変換特性は良好であるが、耐久性向上の効果は
弱くなっている。
【0096】従って、下層に樹脂層を設けるならば、ガ
ラス転移点の低い樹脂を用いることが望ましいことが分
かる。但し、ここで用いたスチレン−ブタジエンブロッ
ク共重合体とは、一つの分子中でスチレン成分からなる
ブロックとブタジエン成分からなるブロックとに分か
れ、ガラス転移点を測定した場合にはスチレン成分に起
因する 100℃のピークとブタジエン成分に起因する−85
℃のピークが現れ、単純にガラス転移点を求めることは
できない。従って、下層樹脂層に用いられる樹脂のガラ
ス転移点の規定はできないが、単一のピークを持つ樹脂
では、実施例6と8及び9との比較から、ガラス転移点
は常温以下にあることが望ましい。
ラス転移点の低い樹脂を用いることが望ましいことが分
かる。但し、ここで用いたスチレン−ブタジエンブロッ
ク共重合体とは、一つの分子中でスチレン成分からなる
ブロックとブタジエン成分からなるブロックとに分か
れ、ガラス転移点を測定した場合にはスチレン成分に起
因する 100℃のピークとブタジエン成分に起因する−85
℃のピークが現れ、単純にガラス転移点を求めることは
できない。従って、下層樹脂層に用いられる樹脂のガラ
ス転移点の規定はできないが、単一のピークを持つ樹脂
では、実施例6と8及び9との比較から、ガラス転移点
は常温以下にあることが望ましい。
【0097】(2)次に、磁性層の厚みを変えたときの
特性の変化について見ると、実施例1〜5から、厚みが
厚くなるに従って上下層同時塗布の効果が薄れるため、
表面性が低下して、電磁変換特性も磁性層のみの塗布
(比較例1の単層塗布)と同程度にまで低下している。
また、耐久性に関しても下層樹脂層の緩衝効果が薄れる
ため、磁性層の単層塗布と同程度にまで低下している。
特に比較例2のように、上層磁性層の厚みが 1.2μmに
まで達すると、耐久性に対する効果は見られなかった。
特性の変化について見ると、実施例1〜5から、厚みが
厚くなるに従って上下層同時塗布の効果が薄れるため、
表面性が低下して、電磁変換特性も磁性層のみの塗布
(比較例1の単層塗布)と同程度にまで低下している。
また、耐久性に関しても下層樹脂層の緩衝効果が薄れる
ため、磁性層の単層塗布と同程度にまで低下している。
特に比較例2のように、上層磁性層の厚みが 1.2μmに
まで達すると、耐久性に対する効果は見られなかった。
【0098】従って、上層磁性層の厚みとしては、1μ
m以下とすべきであり、好ましくは0.5μm以下であ
る。
m以下とすべきであり、好ましくは0.5μm以下であ
る。
【0099】(3)比較例3は、従来公知の下層非磁性
層を有する場合であるが、電磁変換特性及び耐久性共に
最も悪くなることが分かる。また、比較例4では、下層
非磁性層において、実施例1と同様の合成ゴムを用いて
もカーボンブラックの如き非磁性顔料を添加しているた
めに、電磁変換特性及び耐久性共に、実施例1に(更に
は実施例8や9にも)及ばないことが分かる。
層を有する場合であるが、電磁変換特性及び耐久性共に
最も悪くなることが分かる。また、比較例4では、下層
非磁性層において、実施例1と同様の合成ゴムを用いて
もカーボンブラックの如き非磁性顔料を添加しているた
めに、電磁変換特性及び耐久性共に、実施例1に(更に
は実施例8や9にも)及ばないことが分かる。
【0100】
【発明の作用効果】磁性層を薄層化すると、電磁変換特
性が向上することは周知の事実であるが、磁性層のみを
非磁性支持体上に設けようとした場合、磁性層の表面性
は非磁性支持体の表面性に大きく左右されるので、薄層
化はテープの表面性を悪化させるという欠点があった。
しかし、本発明のように、実質的に結合剤からなる非磁
性層を下層に設けることによって、磁性層を上層として
塗布乾燥した後の下層非磁性層との界面を平滑とし、上
層磁性層の表面性を向上させることができ、また、下層
を結合剤、特に比較的柔らかい樹脂(ガラス転移点の低
い樹脂)で塗布し、これが湿潤状態のうちに上層磁性層
を塗布することによって、上層磁性層が1μm以下と薄
層であっても、その耐久性を向上させることができる。
性が向上することは周知の事実であるが、磁性層のみを
非磁性支持体上に設けようとした場合、磁性層の表面性
は非磁性支持体の表面性に大きく左右されるので、薄層
化はテープの表面性を悪化させるという欠点があった。
しかし、本発明のように、実質的に結合剤からなる非磁
性層を下層に設けることによって、磁性層を上層として
塗布乾燥した後の下層非磁性層との界面を平滑とし、上
層磁性層の表面性を向上させることができ、また、下層
を結合剤、特に比較的柔らかい樹脂(ガラス転移点の低
い樹脂)で塗布し、これが湿潤状態のうちに上層磁性層
を塗布することによって、上層磁性層が1μm以下と薄
層であっても、その耐久性を向上させることができる。
【図1】(A)は本発明に基づく磁気記録媒体の要部を
模式的に示す断面図、(B)は従来の磁気記録媒体の要
部を模式的に示す断面図である。
模式的に示す断面図、(B)は従来の磁気記録媒体の要
部を模式的に示す断面図である。
【図2】塗料及び樹脂溶液のフローカーブを模式的に示
したグラフである。
したグラフである。
【図3】本発明に基づく磁気記録媒体の一構成例を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図4】同磁気記録媒体の製造における湿潤重層塗布時
のコーター部分を示す二例の概略断面図である。
のコーター部分を示す二例の概略断面図である。
【図5】磁気記録媒体の耐久性評価に用いる装置の概略
断面図である。
断面図である。
1・・・非磁性支持体 2・・・上層磁性層 2’・・・磁性塗料 3・・・バックコート層 4・・・下層非磁性層 4’・・・非磁性塗料 5、15・・・界面 7、10・・・粉体 21、21A、21B・・・コーター
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 5/842 7303−5D G11B 5/842 Z
Claims (8)
- 【請求項1】 非磁性支持体上に、下層非磁性層と、磁
性粉及び結合剤を主体とする上層磁性層とが重層塗布に
よって形成され、前記上層磁性層の厚みが1μm以下で
あり、かつ、前記下層非磁性層が主として結合剤からな
っていて前記上層磁性層との間に平滑な界面を有してい
る磁気記録媒体。 - 【請求項2】 下層非磁性層が実質的に結合剤からなっ
ている、請求項1に記載した磁気記録媒体。 - 【請求項3】 下層非磁性層の結合剤が、ブタジエンを
含むゴム状重合体を主体としている、請求項1に記載し
た磁気記録媒体。 - 【請求項4】 下層非磁性層の結合剤のガラス転移点
が、単一のピークを持つ結合剤であるときには常温以下
である、請求項1に記載した磁気記録媒体。 - 【請求項5】 非磁性支持体上に、下層非磁性層と、磁
性粉及び結合剤を主体とする上層磁性層とが重層塗布に
よって形成され、前記上層磁性層の厚みが1μm以下で
あり、かつ、前記下層非磁性層が主として結合剤からな
っていて前記上層磁性層との間に平滑な界面を有してい
る磁気記録媒体を製造するに際し、前記非磁性支持体上
に主として結合剤からなる前記下層非磁性層を塗布し、
この下層非磁性層が湿潤状態のうちに、強磁性粉末と結
合剤を含む前記上層磁性層を前記下層非磁性層上に塗布
する、磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項6】 下層非磁性層を実質的に結合剤で形成す
る、請求項5に記載した製造方法。 - 【請求項7】 下層非磁性層の結合剤として、ブタジエ
ンを含むゴム状重合体を主に使用する、請求項5に記載
した製造方法。 - 【請求項8】 下層非磁性層の結合剤のガラス転移点
が、単一のピークを持つ結合剤であるときには常温以下
である、請求項5に記載した製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28684795A JPH09106532A (ja) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28684795A JPH09106532A (ja) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09106532A true JPH09106532A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17709808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28684795A Pending JPH09106532A (ja) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09106532A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003006840A (ja) * | 2001-06-25 | 2003-01-10 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
-
1995
- 1995-10-06 JP JP28684795A patent/JPH09106532A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003006840A (ja) * | 2001-06-25 | 2003-01-10 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
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