JPH09113228A - 膜厚計 - Google Patents
膜厚計Info
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- JPH09113228A JPH09113228A JP26574495A JP26574495A JPH09113228A JP H09113228 A JPH09113228 A JP H09113228A JP 26574495 A JP26574495 A JP 26574495A JP 26574495 A JP26574495 A JP 26574495A JP H09113228 A JPH09113228 A JP H09113228A
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- Japan
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- light
- film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明なフィルムの表・裏面からの反射レーザ
光を信号処理することにより薄いフィルムの膜厚を検出
可能とする。 【解決手段】 反射レーザ光を多数個並んだＣＣＤ素子
が受け、この素子の出力をディジタル化し、さらに２値
化した上で演算処理することにより膜厚を検出する。
光を信号処理することにより薄いフィルムの膜厚を検出
可能とする。 【解決手段】 反射レーザ光を多数個並んだＣＣＤ素子
が受け、この素子の出力をディジタル化し、さらに２値
化した上で演算処理することにより膜厚を検出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は透明なフィルムの厚
みを測定する膜厚計に関する。
みを測定する膜厚計に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光線をフィルムに照射し、その表
面、裏面からの反射光の光路差を用いて膜厚を測定する
方法は透明なフィルムの厚みを片側から測定できるため
インフレーションフィルムのようなチューブ状のフィル
ムを外側から測定できるため、非常に有用である。また
この原理の膜厚計のうち半導体レーザ発光素子を発光
に、ＣＣＤ素子を受光に用いた膜厚計は可動部を持たな
いため工業用にオンラインで使用する場合に耐久性、取
り扱い易さの上で適当であったが、３００μｍ以下の厚
み測定は困難で、その薄物への拡大が望まれていた。
面、裏面からの反射光の光路差を用いて膜厚を測定する
方法は透明なフィルムの厚みを片側から測定できるため
インフレーションフィルムのようなチューブ状のフィル
ムを外側から測定できるため、非常に有用である。また
この原理の膜厚計のうち半導体レーザ発光素子を発光
に、ＣＣＤ素子を受光に用いた膜厚計は可動部を持たな
いため工業用にオンラインで使用する場合に耐久性、取
り扱い易さの上で適当であったが、３００μｍ以下の厚
み測定は困難で、その薄物への拡大が望まれていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】薄物の測定が困難な理
由はＣＣＤ素子の出力を離散化しないアナログ時系列信
号として処理していたため、ＣＣＤ素子の搬送波を除去
するためのフィルタが必要でその適用によって波形が鈍
ってしまうためである。この対策としてこれまではレー
ザ光を細くして対処していたが、この反射光のスポット
径がＣＣＤ素子を構成する１個１個の受光素子の大きさ
の１０倍程度まで小さくなるとＣＣＤ素子上では光路差
を区別できてもフィルタの影響で波形が鈍るため測定が
できなくなり大幅な改善は困難であった。また、厚み演
算において厚みをフィルタ処理されたＣＣＤ素子信号か
ら演算する場合しきい値を用いた２値化をおこない、そ
の立ち上がり時間の差をもって厚み信号としていたため
反射光の分布形状やそのピークの高さとしきい値の関係
で測定誤差が生じていた。
由はＣＣＤ素子の出力を離散化しないアナログ時系列信
号として処理していたため、ＣＣＤ素子の搬送波を除去
するためのフィルタが必要でその適用によって波形が鈍
ってしまうためである。この対策としてこれまではレー
ザ光を細くして対処していたが、この反射光のスポット
径がＣＣＤ素子を構成する１個１個の受光素子の大きさ
の１０倍程度まで小さくなるとＣＣＤ素子上では光路差
を区別できてもフィルタの影響で波形が鈍るため測定が
できなくなり大幅な改善は困難であった。また、厚み演
算において厚みをフィルタ処理されたＣＣＤ素子信号か
ら演算する場合しきい値を用いた２値化をおこない、そ
の立ち上がり時間の差をもって厚み信号としていたため
反射光の分布形状やそのピークの高さとしきい値の関係
で測定誤差が生じていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】透明なフィルムの表面と
裏面から反射してくるレーザ光の光路差をＣＣＤ素子の
受光位置の差として検出するレーザ光源と該ＣＣＤ素子
が一体になっている膜厚計において、該ＣＣＤ素子上の
光強度分布を時系列信号として又は全体を同時に取出
し、該時系列信号の場合は同時に発生する該ＣＣＤ素子
の読みだし信号により同期的にＡ／Ｄ変換し、また並列
に全体を該同時に取り出した場合は個々の該ＣＣＤ素子
の出力信号をそれぞれＡ／Ｄ変換し、該ＣＣＤ素子１個
１個に対する強度信号を得て、該強度信号を予め設定し
たしきい値より大きいか、小さいかの判断をし２値信号
とし、該２値信号に現れた該表面と該裏面からの反射に
よる２つの山の中心間距離をもとめ、この距離を該ＣＣ
Ｄ素子上での表面と裏面からの反射光の光路差とし、求
められた該中心間距離に予め測定して決定しておいた係
数を乗じることによりフィルムの厚みとして出力し、以
上を１周期としてこれをくり返し行うことによってフィ
ルムの厚み測定を連続的に行うことで上記課題を解決で
きる。
裏面から反射してくるレーザ光の光路差をＣＣＤ素子の
受光位置の差として検出するレーザ光源と該ＣＣＤ素子
が一体になっている膜厚計において、該ＣＣＤ素子上の
光強度分布を時系列信号として又は全体を同時に取出
し、該時系列信号の場合は同時に発生する該ＣＣＤ素子
の読みだし信号により同期的にＡ／Ｄ変換し、また並列
に全体を該同時に取り出した場合は個々の該ＣＣＤ素子
の出力信号をそれぞれＡ／Ｄ変換し、該ＣＣＤ素子１個
１個に対する強度信号を得て、該強度信号を予め設定し
たしきい値より大きいか、小さいかの判断をし２値信号
とし、該２値信号に現れた該表面と該裏面からの反射に
よる２つの山の中心間距離をもとめ、この距離を該ＣＣ
Ｄ素子上での表面と裏面からの反射光の光路差とし、求
められた該中心間距離に予め測定して決定しておいた係
数を乗じることによりフィルムの厚みとして出力し、以
上を１周期としてこれをくり返し行うことによってフィ
ルムの厚み測定を連続的に行うことで上記課題を解決で
きる。
【０００５】また、膜厚計の上記の処理において、該Ｃ
ＣＤ素子の出力より得られた該ＣＣＤ素子の１個１個に
対する該強度信号の自己相関関数を求め中央のピークと
その両側にあるピークのどちらかとの距離を該表面と該
裏面からの反射光の該ＣＣＤ素子上での該光路差とし、
予め測定して決定しておいた係数を乗じて膜厚とするこ
とで上記課題を解決できる。
ＣＤ素子の出力より得られた該ＣＣＤ素子の１個１個に
対する該強度信号の自己相関関数を求め中央のピークと
その両側にあるピークのどちらかとの距離を該表面と該
裏面からの反射光の該ＣＣＤ素子上での該光路差とし、
予め測定して決定しておいた係数を乗じて膜厚とするこ
とで上記課題を解決できる。
【０００６】さらに、膜厚計の上記処理において該ＣＣ
Ｄ素子の出力より得られた該ＣＣＤ素子の１個１個に対
する該強度信号の処理で該表面、該裏面からの該反射光
が存在する時間範囲を記録して、次回の処理では該信号
の該記録された該時間範囲より予め設定された範囲だけ
広い時間範囲のみ処理対象とすることで処理に必要な時
間を減少できることを見いだした。
Ｄ素子の出力より得られた該ＣＣＤ素子の１個１個に対
する該強度信号の処理で該表面、該裏面からの該反射光
が存在する時間範囲を記録して、次回の処理では該信号
の該記録された該時間範囲より予め設定された範囲だけ
広い時間範囲のみ処理対象とすることで処理に必要な時
間を減少できることを見いだした。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に図１〜図１０を用いて説明する。図１では全体の構成
を示し、図２ではＣＣＤ素子各素子上での受光光量の強
度分布を、図３から図５で処理中の信号の内容を示す。
図１の１から４は市販のレーザ式膜厚計を構成する部分
である。本発明においては光学系とレーザ光源及びＣＣ
Ｄ素子の駆動のみに使用している。レーザ光源２から照
射されたレーザ光が円筒状のフィルム１２の表面と裏面
で反射し、異なる光路を通ってＣＣＤ素子３に入射す
る。従って直線上に受光素子が配置されたＣＣＤ素子３
上には表面と裏面から反射された光の２つの強度分布が
存在する。このＣＣＤ素子上に現れる光強度分布を図２
に示す。
に図１〜図１０を用いて説明する。図１では全体の構成
を示し、図２ではＣＣＤ素子各素子上での受光光量の強
度分布を、図３から図５で処理中の信号の内容を示す。
図１の１から４は市販のレーザ式膜厚計を構成する部分
である。本発明においては光学系とレーザ光源及びＣＣ
Ｄ素子の駆動のみに使用している。レーザ光源２から照
射されたレーザ光が円筒状のフィルム１２の表面と裏面
で反射し、異なる光路を通ってＣＣＤ素子３に入射す
る。従って直線上に受光素子が配置されたＣＣＤ素子３
上には表面と裏面から反射された光の２つの強度分布が
存在する。このＣＣＤ素子上に現れる光強度分布を図２
に示す。
【０００８】このようにＣＣＤ素子３上の素子１個１個
の感じた光強度は通常のＣＣＤ素子３では読みだしタイ
ミング信号に同期して時間追って出力される。この出力
とＣＣＤ素子３の読みだしタイミング信号を信号変換器
４より取出して同期式Ａ／Ｄコンバータ５へ入力する。
同期式Ａ／Ｄコンバータ５ではＣＣＤ素子３の読み出し
タイミング信号を元に図２に示される各受光するＣＣＤ
素子３上の光量データをそれぞれの強度を示すディジタ
ル値に変換する。従ってＣＣＤ素子３の読み出し時の搬
送波にまったく影響されずに、図２に示されるＣＣＤ素
子３上の光強度分布を得ることができる。ここでは見易
さのためにこの波形は間を直線で補間した図３の実線の
形で図示する。これで波形はディジタル化されたため、
これ以降の処理はコンピュータのソフトウエアで容易に
実現できる。もちろんハードウエアを用いて実現するこ
とも可能である。
の感じた光強度は通常のＣＣＤ素子３では読みだしタイ
ミング信号に同期して時間追って出力される。この出力
とＣＣＤ素子３の読みだしタイミング信号を信号変換器
４より取出して同期式Ａ／Ｄコンバータ５へ入力する。
同期式Ａ／Ｄコンバータ５ではＣＣＤ素子３の読み出し
タイミング信号を元に図２に示される各受光するＣＣＤ
素子３上の光量データをそれぞれの強度を示すディジタ
ル値に変換する。従ってＣＣＤ素子３の読み出し時の搬
送波にまったく影響されずに、図２に示されるＣＣＤ素
子３上の光強度分布を得ることができる。ここでは見易
さのためにこの波形は間を直線で補間した図３の実線の
形で図示する。これで波形はディジタル化されたため、
これ以降の処理はコンピュータのソフトウエアで容易に
実現できる。もちろんハードウエアを用いて実現するこ
とも可能である。
【０００９】以下に波形処理方法について説明する。該
波形を６から１１で示される厚み演算手段を用いて膜厚
へと変換する。しきい値処理装置６ではしきい値記録手
段１０に設定された予め実験によって適当な値に定めら
れたしきい値１７と該強度分布を比較してこれをを越す
か越さないかの判断を行い、その結果を図４のように矩
形波として得る。もちろんしきい値の決定は予め行わ
ず、毎回の波形から例えばしきい値上のデータの割合が
一定になるような指標を用いてその場で計算することも
可能である。次にピーク間演算手段７で示される該強度
分布の山の間の距離を測定する方法を説明する。図４の
データを元に図３の反射光１５、１６で表わされた山の
中央の時間差を演算する。そのためには例えば左端から
順番に１８、１９、２０、２１で示される立ち上がりと
立ち下がりまでの素子数を求め、それをＸ１、Ｘ２、Ｘ
３、Ｘ４とすると（Ｘ３＋Ｘ４―Ｘ１―Ｘ２）／２とい
う演算により行うことができる。次に掛け算手段８によ
り予め設定され記録手段１１に貯えられたたＣＣＤ素子
３の素子数差から膜厚へ変換する係数を該距離にかける
ことによって実際の膜厚を得ることができる。このよう
にして得られる厚みを出力手段９によって外部に出力及
び表示することができる。この後同一の測定を繰り返す
ことにより連続した膜厚測定を行うことができる。
波形を６から１１で示される厚み演算手段を用いて膜厚
へと変換する。しきい値処理装置６ではしきい値記録手
段１０に設定された予め実験によって適当な値に定めら
れたしきい値１７と該強度分布を比較してこれをを越す
か越さないかの判断を行い、その結果を図４のように矩
形波として得る。もちろんしきい値の決定は予め行わ
ず、毎回の波形から例えばしきい値上のデータの割合が
一定になるような指標を用いてその場で計算することも
可能である。次にピーク間演算手段７で示される該強度
分布の山の間の距離を測定する方法を説明する。図４の
データを元に図３の反射光１５、１６で表わされた山の
中央の時間差を演算する。そのためには例えば左端から
順番に１８、１９、２０、２１で示される立ち上がりと
立ち下がりまでの素子数を求め、それをＸ１、Ｘ２、Ｘ
３、Ｘ４とすると（Ｘ３＋Ｘ４―Ｘ１―Ｘ２）／２とい
う演算により行うことができる。次に掛け算手段８によ
り予め設定され記録手段１１に貯えられたたＣＣＤ素子
３の素子数差から膜厚へ変換する係数を該距離にかける
ことによって実際の膜厚を得ることができる。このよう
にして得られる厚みを出力手段９によって外部に出力及
び表示することができる。この後同一の測定を繰り返す
ことにより連続した膜厚測定を行うことができる。
【００１０】次に別の実施の形態を説明する。上記膜厚
計を実現する場合において膜厚となるべきＣＣＤ素子３
上の２つのピーク間を測定するために図３で示される光
強度信号の自己相関関数をとると図５となり、０の部分
を除く最初のピークの場所が２つの山の間の距離とな
る。この手段を図１の６、７、１０に換え、膜厚計を構
成した。
計を実現する場合において膜厚となるべきＣＣＤ素子３
上の２つのピーク間を測定するために図３で示される光
強度信号の自己相関関数をとると図５となり、０の部分
を除く最初のピークの場所が２つの山の間の距離とな
る。この手段を図１の６、７、１０に換え、膜厚計を構
成した。
【００１１】さらに別の実施の形態を説明する。上記膜
厚演算のための時間が十分でないときは図６に示したよ
うに波形選択装置１２を同期式ＡＤコンバータ５としき
い値処理装置６の間に挿入し、反射光存在領域記録手段
１３でＸ１で表わされた素子番号とＸ４で表わされる素
子番号を記録しておき、次回の演算では端の素子から演
算するのではなく記録された値と反射光存在領域拡張長
さ記録手段１４に保存された予め決められた変動範囲δ
を用いて、Ｘ１ーδとＸ４＋δの範囲のみを取出して上
記の膜厚演算対象にすることで処理時間を短縮すること
ができる。Ｘ１はセンサ１と被測定フィルム１２の位置
関係で決定されるが、測定毎には大きく変化することは
ない。従って変動範囲δを予め適当な値に設定しておく
ことができる。
厚演算のための時間が十分でないときは図６に示したよ
うに波形選択装置１２を同期式ＡＤコンバータ５としき
い値処理装置６の間に挿入し、反射光存在領域記録手段
１３でＸ１で表わされた素子番号とＸ４で表わされる素
子番号を記録しておき、次回の演算では端の素子から演
算するのではなく記録された値と反射光存在領域拡張長
さ記録手段１４に保存された予め決められた変動範囲δ
を用いて、Ｘ１ーδとＸ４＋δの範囲のみを取出して上
記の膜厚演算対象にすることで処理時間を短縮すること
ができる。Ｘ１はセンサ１と被測定フィルム１２の位置
関係で決定されるが、測定毎には大きく変化することは
ない。従って変動範囲δを予め適当な値に設定しておく
ことができる。
【００１２】以上説明した膜厚計を用いてインフレーシ
ョンフィルムの周方向の厚みを正確なフィルム上の位置
と対応させて計測することができる。このときは図７に
示すセンサ１を回転移動させ、その時の角度をロータリ
ーエンコーダ２３で検出し取込むようにインターフェー
スを設置する。この構成でセンサ１をまず適当な速度で
時計回りに回転させ、適当な角度毎に膜厚を本発明によ
る膜厚計２２により測定し、記録手段２４に記録してお
く。従って記録手段２４の中の記録位置はフィルムの膜
厚を測定した位置に対応している。１回転の測定が終了
したら次に同じ速度でセンサ１を反時計回りに回転させ
測定を行い、記録手段２５に記録しておく。取得するデ
ータの個数は時計回り、反時計回りで同数で、必要とす
る回転方向の角度分解能によって決まるが、実験では２
５６分割とした。もちろん記録手段２４及び２５におけ
る個数と分解能が一致していれば測定時のデータ個数は
一致している必要はない。ただし、必要な角度分解能を
満たす個数以上は必要である。
ョンフィルムの周方向の厚みを正確なフィルム上の位置
と対応させて計測することができる。このときは図７に
示すセンサ１を回転移動させ、その時の角度をロータリ
ーエンコーダ２３で検出し取込むようにインターフェー
スを設置する。この構成でセンサ１をまず適当な速度で
時計回りに回転させ、適当な角度毎に膜厚を本発明によ
る膜厚計２２により測定し、記録手段２４に記録してお
く。従って記録手段２４の中の記録位置はフィルムの膜
厚を測定した位置に対応している。１回転の測定が終了
したら次に同じ速度でセンサ１を反時計回りに回転させ
測定を行い、記録手段２５に記録しておく。取得するデ
ータの個数は時計回り、反時計回りで同数で、必要とす
る回転方向の角度分解能によって決まるが、実験では２
５６分割とした。もちろん記録手段２４及び２５におけ
る個数と分解能が一致していれば測定時のデータ個数は
一致している必要はない。ただし、必要な角度分解能を
満たす個数以上は必要である。
【００１３】これらのデータはセンサが対象となるイン
フレーションフィルムに接触して回転した場合図８に示
す様に正しい角度と厚みの関係２９の点線で示した本来
の角度から測定結果３０、３１で示すように前後に同じ
角度ずつずれたものとなっている。記録手段２４及び２
５に貯えられた厚みデータは相互相関関数計算手段２６
によって演算され、図９のような波形が得られる。も
し、センサ１の回転に伴うインフレフィルムの回転移動
がなければ記録手段２４、２５にたくわれられた測定結
果３０、３１の波形は一致し、図９の相互相関関数は中
央にピークを持つはずである。図８のようにずれがある
場合、図９の相互相関関数のピークは中央よりずれ、こ
のずれが測定結果３０、３１の波形ずれを示すことにな
る。測定結果３０、３１はそれぞれ前後にずれているの
で検出されたずれの１／２が実際のずれになる。最終的
に記録手段２４ないし２５に貯えられたデータを相互相
関関数演算手段２６により演算されたずれ分だけデータ
をずらす装置データずらし器２７により補正を行い、出
力装置２８へ角度と対応した厚みを書き出し、図１０に
示す出力を得る。なお、このずらし操作により後または
前へはみ出したデータはずらし操作によって空白になっ
た前または後の部分を補充する事によって１周分のデー
タを欠落なくずらすことができる。以上の実施の形態に
よりこれまでは困難であった比較的薄い膜の厚み検出及
び周方向の移動測定による膜の移動補正が実施できる。
フレーションフィルムに接触して回転した場合図８に示
す様に正しい角度と厚みの関係２９の点線で示した本来
の角度から測定結果３０、３１で示すように前後に同じ
角度ずつずれたものとなっている。記録手段２４及び２
５に貯えられた厚みデータは相互相関関数計算手段２６
によって演算され、図９のような波形が得られる。も
し、センサ１の回転に伴うインフレフィルムの回転移動
がなければ記録手段２４、２５にたくわれられた測定結
果３０、３１の波形は一致し、図９の相互相関関数は中
央にピークを持つはずである。図８のようにずれがある
場合、図９の相互相関関数のピークは中央よりずれ、こ
のずれが測定結果３０、３１の波形ずれを示すことにな
る。測定結果３０、３１はそれぞれ前後にずれているの
で検出されたずれの１／２が実際のずれになる。最終的
に記録手段２４ないし２５に貯えられたデータを相互相
関関数演算手段２６により演算されたずれ分だけデータ
をずらす装置データずらし器２７により補正を行い、出
力装置２８へ角度と対応した厚みを書き出し、図１０に
示す出力を得る。なお、このずらし操作により後または
前へはみ出したデータはずらし操作によって空白になっ
た前または後の部分を補充する事によって１周分のデー
タを欠落なくずらすことができる。以上の実施の形態に
よりこれまでは困難であった比較的薄い膜の厚み検出及
び周方向の移動測定による膜の移動補正が実施できる。
【００１４】
【発明の効果】従来と同じレーザ光源とＣＣＤ素子受光
素子を用いてもこれまでより薄物の測定が可能で、高精
度な測定が可能となった。また、同じ厚みのものを測定
する場合にはこれまでより太いレーザ光を使用すること
ができ、光学系を簡略化することもできる。本方式によ
る膜厚計は片側からしか測定することのできないインフ
レーションフィルムを測定する場合に特に有効である。
素子を用いてもこれまでより薄物の測定が可能で、高精
度な測定が可能となった。また、同じ厚みのものを測定
する場合にはこれまでより太いレーザ光を使用すること
ができ、光学系を簡略化することもできる。本方式によ
る膜厚計は片側からしか測定することのできないインフ
レーションフィルムを測定する場合に特に有効である。
【図１】本発明の膜厚計の全体構成図。
【図２】図１のＣＣＤ素子上の光強度分布。
【図３】図２の信号のディジタル化光強度分布。
【図４】図３の２値化光強度分布。
【図５】図４の光強度分布の自己相関関数。
【図６】本発明の演算範囲絞り込み機能をもった膜厚計
の全体構成図。
の全体構成図。
【図７】本発明のインフレーションフィルム周方向膜厚
分布測定の全体構成図。
分布測定の全体構成図。
【図８】図７の膜厚計の接触移動によるフィルム移動の
影響。
影響。
【図９】図８波形の相互相関関数。
【図１０】図７で得られた正しい角度と膜厚の関係出
力。
力。
１ センサ ２ レーザ光源 ３ ＣＣＤ素子 ４ 信号変換器 ５ 同期式ＡＤ変換器 ６ しきい値処理装置 ７ ピーク間演算手段 ８ かけ算手段 ９ 演算結果出力手段 １０ しきい値記憶手段 １１ 素子数膜厚変換係数記憶手段 １２ 被測定フィルム １３ 反射光存在領域記録手段 １４ 反射光存在領域拡張長さ記録手段 １５ フィルム表面による反射光 １６ フィルム裏面による反射光 １７ しきい値 １８ 表面反射光強度分布立ち上がり １９ 表面反射光強度分布立ち下がり ２０ 裏面反射光強度分布立ち上がり ２１ 裏面反射光強度分布立ち下がり ２２ 本発明による膜厚計 ２３ 角度測定器 ２４ 時計回り測定時厚み分布の記録手段 ２５ 反時計回り測定時厚み分布の記録手段 ２６ 相互相関関数演算手段 ２７ データずらし器 ２８ 出力装置 ２９ 正しい角度と厚みの関係（推定） ３０ 時計回りでの角度と厚みの測定結果 ３１ 反時計回りでの角度と厚みの測定結果 ３２ ずれ量計算結果
Claims (3)
- 【請求項１】 透明なフィルムの表面と裏面から反射し
てくるレーザ光の光路差をＣＣＤ素子の受光位置の差と
して検出するレーザ光源と該ＣＣＤ素子が一体になって
いる膜厚計において、該ＣＣＤ素子上の光強度分布を時
系列信号として又は全体を同時に取出し、該時系列信号
の場合は同時に発生する該ＣＣＤ素子の読みだし信号に
より同期的にＡ／Ｄ変換し、また並列に全体を該同時に
取り出した場合は個々の該ＣＣＤ素子の出力信号をそれ
ぞれＡ／Ｄ変換し、該ＣＣＤ素子１個１個に対する強度
信号を得て、該強度信号を予め設定したしきい値より大
きいか小さいかの判断をし２値信号とし、該２値信号に
現れた該表面と該裏面からの反射による２つの山の中心
間距離を求め、この距離を該ＣＣＤ素子上での表面と裏
面からの反射光の光路差とし、求められた該中心間距離
に予め測定して決定しておいた係数を乗じることにより
フィルムの厚みとして出力し、以上を１周期としてこれ
をくり返し行えるシステム構成を有する膜厚計。 - 【請求項２】 請求項１において、該ＣＣＤ素子の出力
より得られた該ＣＣＤ素子の１個１個に対する該強度信
号の自己相関関数を求め中央のピークとその両側にある
ピークのどちらかとの距離を該表面と該裏面からの反射
光の該ＣＣＤ素子上での該光路差とし、該係数を乗じて
膜厚とする膜厚計。 - 【請求項３】 請求項１又は２において該ＣＣＤ素子の
出力より得られた該ＣＣＤ素子の１個１個に対する該強
度信号の処理で該表面、該裏面からの該反射光が存在す
る時間範囲を記録して、次回の処理では該信号の該記録
された該時間範囲より予め設定された範囲だけ広い時間
範囲のみ処理対象として処理に必要な時間を減少させた
膜厚計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26574495A JPH09113228A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 膜厚計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26574495A JPH09113228A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 膜厚計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09113228A true JPH09113228A (ja) | 1997-05-02 |
Family
ID=17421402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26574495A Pending JPH09113228A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 膜厚計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09113228A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005088243A1 (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Tokyo University Of Agriculture And Technology Tlo Co. Ltd. | ３次元形状計測システム及び３次元形状計測方法 |
| JP2007520077A (ja) * | 2004-01-30 | 2007-07-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 部品の消耗を監視するための方法とシステム |
| CN114812457A (zh) * | 2022-06-28 | 2022-07-29 | 太原理工大学 | 光路对准自调节的激光超声金属复合板测厚装置及方法 |
-
1995
- 1995-10-13 JP JP26574495A patent/JPH09113228A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007520077A (ja) * | 2004-01-30 | 2007-07-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 部品の消耗を監視するための方法とシステム |
| WO2005088243A1 (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Tokyo University Of Agriculture And Technology Tlo Co. Ltd. | ３次元形状計測システム及び３次元形状計測方法 |
| CN114812457A (zh) * | 2022-06-28 | 2022-07-29 | 太原理工大学 | 光路对准自调节的激光超声金属复合板测厚装置及方法 |
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