JPH09115476A - プラズマイオン質量分析装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 試料による装置内部の汚染を軽減して安定な
測定を行うための機構を提供する。 【解決手段】 イオンレンズが、イオンビームを収束さ
せるためのアインツェルレンズとイオンビームを偏向さ
せる偏向器および１対以上で構成された補正電極を持
ち、これらの電極に印加する電圧を任意に制御できる機
構を持つ。またはイオンビームの流路の途中に遮蔽版を
持ちこの遮蔽版をイオン流路に出し入れするための駆動
機構を有する。 【効果】 試料中の微量不純物を効率よく検出できるば
かりでなく、安定した測定ができるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】この発明は、試料中の微量元素の
同定・定量測定を行うプラズマイオン質量分析装置に関
するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来の技術の構成例を図３を用いて説明
する。図３において、１はプラズマ発生装置、２はプラ
ズマ発生装置１により発生したプラズマである。プラズ
マ発生装置１は、例えば「ＩＣＰ発光分析の基礎と応
用」（原口：著、講談社サイエンティフィク）に開示さ
れている誘導結合プラズマの発生装置や、例えば特開平
１−３０９３００に開示されているマイクロ波誘導プラ
ズマの発生装置がある。分析する試料（図示せず）は、
プラズマ発生装置１によって維持されたプラズマ２に導
入されてイオン化する。３はサンプリングコーン、４は
スキマーコーン、５は真空ポンプである。サンプリング
コーン３は円錐の先端に径が０．８から１．２ｍｍの穴
の開いた形状をしており、スキマーコーン４は円錐の先
端に径が０．３から０．６ｍｍの穴の開いた形状をして
いる。サンプリングインターフェースは、サンプリング
コーン３とスキマーコーン４で構成されている。サンプ
リングコーン３とスキマーコーン４の間は、分析時には
５の真空ポンプ（一般的にはロータリーポンプが使用さ
れる）により１Ｔｏｏｒ程度に排気される。６は真空容
器、７はイオンレンズ、８は質量分析器、９は検出器、
１２はデータ処理部である。真空容器６の内部は、別の
真空ポンプ５、５により排気されており、イオンレンズ
７の設置された部屋で１０のマイナス４乗Ｔｏｒｒ程
度、検出器９の設置された部屋で１０のマイナス６乗Ｔ
ｏｒｒ程度に維持される。なお別の真空ポンプ５、５
は、ターボ分子ポンプや油拡散ポンプが一般的に使用さ
れている。 【０００３】プラズマ２でイオン化した試料はプラズマ
２の光と共に、サンプリングコーン３およびスキマーコ
ーン４の穴を通過してイオンレンズ７に入射する。イオ
ンレンズ７は、イオンを収束し、入射した成分のうちイ
オンのみを質量分析器８に導く働きをしている。質量分
析器８は入射したイオンのうち所定の質量のみを通過さ
せる働きをしており、例えば四重極質量分析計が使用さ
れる。検出器９は質量分析器８を通過したイオンを検出
して電気信号としてデータ処理部１２に送る働きをして
おり、例えばガリレオ社のチャンネルトロンが使用され
る。データ処理部１２では検出器９で検出されたときの
質量分析器８の設定からイオンの質量を算出してイオン
種の同定を行い、検出器９の検出強度から同定したイオ
ンすなわち試料中の不純物の濃度を算出する。 【０００４】次にイオンレンズ７について図２を用いて
説明する。図２はイオンレンズの概略構成図である。図
２において、１３はサンプリングインターフェース軸、
１４ａ・１４ｂ・１４ｃは収束レンズ１５の電極、１５
ａ・１５ｂは偏向器１５の偏向電極、１６はアパーチ
ャ、１７は質量分析器軸である。イオンレンズ７は、収
束レンズとしての電極１４ａ・１４ｂ・１４ｃ、偏向器
１５としての偏向電極１５ａ・１５ｂおよびアパーチャ
１６で構成されている。サンプリングインターフェース
軸１３はサンプリングコーン３の穴とスキマーコーン４
の穴の中心を外挿したもので、スキマーコーン４の穴を
通過したイオンのビームはサンプリングインターフェー
ス軸１３に沿ってイオンレンズに入射する。収束レンズ
１４は電極１４ａ・１４ｂ・１４ｃ構成されており、サ
ンプリングインターフェース軸１３を中心とする穴の開
いた板状の形状をしている。収束レンズ１４の電極１４
ａ・１４ｂ・１４ｃの各々に適当な電圧を印加するとイ
オンのビームは収束する。この様な収束レンズ１４は、
アインツェルレンズと呼ばれる。 【０００５】偏向器１５は、サンプリングインターフェ
ース軸１３に沿って入射したビーム状となっているイオ
ンビームの軸を平行にずらすために設けられている。つ
まり、偏向器１５の一対である電極１５ａにて入射した
イオンビームは所定の角度にて偏向され、そしてその偏
向されたイオンビームは、偏向器１５の一対である電極
１５ｂにて、その所定の角度にて逆方向に偏向される。
質量分析器軸１７は質量分析器８により選択されたイオ
ンが入射する入射窓の光軸に相当するもので、サンプリ
ングインターフェース軸１３とは１０ｍｍ程度の間隔で
平行に位置する。これにより、イオンビームの軸（光
軸）は、偏向器１５により、サンプリングインターフェ
ース軸１３から質量分析器軸１７に偏向されることにな
る。ここで、イオンビームは偏向器１５により偏向され
るが、プラズマ２からの光は、サンプリングインターフ
ェースであるサンプリングコーン３とスキマーコーン４
の穴を通過するが、偏向器１５にて直進するため、質量
分析器８や検出器９に入射しなくなる。 【０００６】質量分析器８により、試料中の検出すべき
成分のイオンのみが、質量分析器８を質量分析器軸１７
に沿って通過する。質量分析器８を通過したイオンは、
検出器９の入射窓９ａに到達し、検出器９により所望の
成分のイオンが検出される。そして、検出器９からの検
出信号は、データ処理部１２に入力され、試料中の所定
成分（微量の不純物）の濃度として計算される。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】プラズマイオン質量分
析装置は高感度であるある反面、高濃度の試料や試料中
に高濃度のマトリックス成分が含まれている場合、これ
らの高濃度成分が装置内部を汚染してメモリーとして残
留して測定値に変動を与えたり、装置内部のインターフ
ェース部、イオンレンズ、質量分析器及び検出器に付着
して分析装置としての性能劣化をひきおこすものであっ
た。 【０００８】試料測定の場合、実測定時間の他に試料が
プラズマに導入される信号が安定するまでの時間及び測
定終了後プラズマから試料が無くなるまでの時間も試料
成分のイオンがプラズマイオン質量分析装置の特に検出
器にも入るために前記の不具合の発生を加速していた。 【０００９】 【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するために、実測定時間以外には試料成分を装置内部
に入れないようにするための装置および方法を提供する
物であり、試料をプラズマ中でイオン化するプラズマイ
オン源と、生成したイオンを真空容器内に導くサンプリ
ングインターフェースと、前記真空容器内に設置された
イオンレンズ、質量分析器および検出器を有するプラズ
マイオン質量分析装置において、９０度偏向電極が作る
四重極場を電極に与える電位や極性を変化させることに
より前記イオンビームの方向を高速にスイッチングさせ
ることやサンプリングコーンとイオンの質量により分離
する質量分析器の間に設けたシャッターにより、試料の
測定時間のみイオンビームを質量分析器及び検出器に導
入させることを特徴とするプラズマイオン質量分析装置
である。 【００１０】前記プラズマイオン質量分析装置におい
て、軸ずらし型イオンレンズ電極に与える電位や極性を
変化させることにより前記イオンビームの方向を高速に
スイッチングさせることにより、試料の測定時間のみイ
オンビームを質量分析器及び検出器に導入させることを
特徴とするプラズマイオン質量分析装置である。 【００１１】前記プラズマイオン質量分析装置におい
て、プラズマから生成したイオンの流路の途中に電磁ソ
レノイド等のアクチュエータにより遮蔽板を高速に出し
入れすることによりプラズマイオン源から前記検出器へ
のイオン又は粒子の流入を防ぐためのシャッター手段を
有し、試料の測定時間のみイオンビームを質量分析器及
び検出器に導入させることを特徴とするプラズマイオン
質量分析装置である。 【００１２】 【実施例】次に本発明の実施例を図を用いて詳細に述べ
る。図１及び図４は90度偏向型の偏向器を用いた本発明
の一実施例である。図３と同様にサンプリングコーン３
とスキマーコーン４よりなるサンプリングインターフェ
ース２２等は、図３と同様のものであり、従来技術の項
で示した図２及び３と主にイオンレンズ７が異なるるも
のである。サンプリングインターフェース２２を通過
し、サンプリングインターフェース軸１３に沿って収束
レンズ１４にビームとして入射したイオンは、従来と同
様に、収束レンズ１４により収束される。 【００１３】収束レンズ１４を通過したイオンビーム
は、四重極偏向器２０のイオンビーム入射部前方に配置
された偏向器入り口アパーチャ１９を通過する。偏向器
入り口アパーチャ１９通過するイオンビームの外形を成
形するものである。偏向器１５としてほぼ円柱を１／４
に分割した形状でそれぞれ平行且つ対象位置にＲ面を向
かい合わせた配置の四重極電極２０ａ・２０ｂ・２０ｃ
・２０ｄよりなる四重極偏向器２０に入射口に、イオン
ビームは入射し、１つの四重極電極２０ｃのＲ面に沿っ
て９０度偏向される。四重極偏向器２０のイオンビーム
の出射口に配置された補正電極２１（補正電極２１は４
つの電極、２１ａ・２１ｂ・２１ｃ・２１ｄにより構成
される。 【００１４】収束レンズ１４の各電極１８ａ・１８ｂ・
１８ｃに適当な電圧を印加することにより、サンプリン
グインターフェース軸１３に沿って入射したイオンビー
ムは質量分析器の入口近傍で焦点を結ぶように収束させ
ることができる。四重極偏向器２０の四重極電極２０ａ
・２０ｂ・２０ｃ・２０ｄに適当な電圧を印加すること
により入射したイオンビームを９０度偏向させることが
できる。質量分析器入口アパーチャ１９は質量分析器軸
１７を中心とする穴の開いた板状の形状をしており、適
当な電圧を印加することにより質量分析器８に対して適
当なエネルギーのイオンのビームを送り込む働きをして
いる。この質量分析器入口アパーチャ１９は１枚とは限
らず、数枚で構成されることもある。 このように構成
されたイオンレンズでは、検出すべきイオンのビームは
質量分析器８に導く働きをすると共に、検出器９（図１
には図示せず）に対してバックグランドノイズとして悪
影響を及ぼすプラズマの光２５や中性粒子２３は四重極
偏向器２０中で直進して質量分析器８以降には至らせな
い働きをしている。 【００１５】補正電極２１の各電極、２１ａ・２１ｂ・
２１ｃ・２１ｄに適当な電圧を印加することにより四重
極偏向器２０を出射したイオンビームの軸を質量分析器
入口アパーチャ１９の穴に合わせることができる。つま
り、図１に示したイオンビームの軌道２４が得られる。 【００１６】次に、イオンビームを検出器９に到達しな
いようするシャッター手段について説明する。補正電極
２１の各電極、２１ａ・２１ｂ・２１ｃ・２１ｄの内、
一組の対向した電極（例えば電極２１ａと電極２１ｂ）
には、ブランキング電源３０が接続されている。ブラン
キング電源３０は、ある程度高い電圧を一組の対向した
電極に印加するものであり、補正電極２１を通過しよう
としたイオンビームを質量分析器入口アパーチャ１９や
質量分析器８に到達しないようにするものである。つま
り、一組の対向した電極（例えば電極２１ａと電極２１
ｂ）をブランキング電極として作用させるものである。
また、ブランキング電源３０には、図示しないスイッチ
が設けられており、任意にブランキング電極としての作
用を制御することができる。つまり、シャッター機構の
機能を有するものである。更には、ブランキング電源３
０のスイッチは、プラズマイオン質量分析装置の実質的
な分析操作を行うスイッチと連動することにより、測定
時以外に自動的に、イオンビームが質量分析器入口アパ
ーチャ１９や質量分析器８に到達しないようにすること
ができる。 【００１７】更に、別の実施例、特にシャッター手段に
ついておもに説明する。ブランキング電源３０の替わり
に、四重極偏向器２０の各電極に印加する電圧を変える
ことにより、イオンビームが質量分析器入口アパーチャ
１９や質量分析器８に到達しないようにすることができ
る。サンプリングインターフェースから入射したイオン
ビームは測定時には前記の質量分析器８を経て検出器９
に導入して電気信号に変換されるが、測定していない時
には四重極偏向器２０の各電極２０ａ・２０ｂ・２０ｃ
・２０ｄの印加電圧を０Ｖに設定し偏向角を０度として
イオンビームを直進させることによりシャッター機構を
実現することができる。このシャッター機構により測定
時以外は補正電極２１、アパーチャ１６、質量分析器
８、検出器９（図示せず）にイオンビームが入射されし
ないため、これらの電極や検出器９に対してイオンに由
来する汚染が回避できる。 【００１８】図２において、シャッター手段として、軸
外しイオンレンズの場合の実施例を示す。偏向器１５の
偏向電極１５ａ・１５ｂに適当な電圧を印加することに
より入射したイオンビームを偏向させてアパーチャ１６
にイオンビームを通過させて質量分析器を経て検出器に
導入して電気信号に変換されるが、測定していない時に
は偏向器１５ａ・１５ｂの印加電圧を０Ｖに設定し偏向
角を０度としてイオンビームを直進させることによりシ
ャッター機構を実現することができる。このシャッター
機構により測定時以外は１６のアパーチャ、８質量分析
器、検出器（図示せず）にイオンビームが入射しないた
め、これらの電極や検出器９に対してイオンに由来する
汚染が回避できる。 【００１９】図５に軸外しイオンレンズにおけるイオン
の流路の途中に電磁ソレノイド等のアクチュエータ３１
により遮蔽板３２を高速に出し入れするシャッター機構
を設けた場合の実施例を示す。図２と同様な部分は、こ
こで説明を省略する。測定していない時には遮蔽板３２
をイオンビームの流路（光軸）に入れることのよりシャ
ッター機構を実現することができる。このシャッター機
構により測定時以外は１６のアパーチャ、８質量分析
器、検出器（図示せず）にイオンビームが入射しないた
め、これらの電極や検出器に対してイオンに由来する汚
染が回避できる。なお、アクチュエータ３１により遮蔽
板３２を高速に出し入れするシャッター機構は、サンプ
リングインターフェースと質量分析器８との間ならば、
いかなる所にも配置することができる。 【００２０】つまり、前述したシャッター手段を、サン
プリングインターフェースと質量分析器８との間のいか
なる所にも配置することにより、本発明の目的を達成す
ることができる。 【００２１】 【発明の効果】本発明によると、従来の技術で問題とな
っていた帯電を引き起こす膜がイオンレンズ、質量分析
器に付着することが少ないために、いつでも安定して検
出することができ検出器の寿命も延ばすことができる。
その結果、信頼性の高い分析が可能になる。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の主要部の断面図である。 【図２】従来の装置のイオンレンズ部の断面図である。 【図３】従来の装置の断面図である。 【図４】本発明の主要部の斜視図である。 【図５】別の実施例の主要部の断面図である。 【符号の説明】 １ プラズマ発生装置 ２ プラズマ ３ サンプリングコーン ４ スキマーコーン ７ イオンレンズ ８ 質量分析器 ９ 検出器 １３ サンプリングインターフェース軸 １４ 収束レンズ １５ 偏向器 １７ 質量分析軸 ２０ 四重極偏向器 ２１ 補正電極 ３０ ブランキング電源 ３１ アクチュエータ ３２ 遮蔽板

【手続補正書】 【提出日】平成８年１０月４日 【手続補正１】 【補正対象書類名】図面 【補正対象項目名】図１ 【補正方法】変更 【補正内容】 【図１】 【手続補正２】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】０００２ 【補正方法】変更 【補正内容】 【０００２】 【従来の技術】従来の技術の構成例を図３を用いて説明
する。図３において、１はプラズマ発生装置、２はプラ
ズマ発生装置１により発生したプラズマである。プラズ
マ発生装置１は、例えば「ＩＣＰ発光分析の基礎と応
用」（原口：著、講談社サイエンティフィク）に開示さ
れている誘導結合プラズマの発生装置や、例えば特開平
１−３０９３００に開示されているマイクロ波誘導プラ
ズマの発生装置がある。分析する試料（図示せず）は、
プラズマ発生装置１によって維持されたプラズマ２に導
入されてイオン化する。３はサンプリングコーン、４は
スキマーコーン、５は真空ポンプである。サンプリング
コーン３は円錐の先端に径が０．８から１．２ｍｍの穴
の開いた形状をしており、スキマーコーン４は円錐の先
端に径が０．３から０．６ｍｍの穴の開いた形状をして
いる。サンプリングインターフェースは、サンプリング
コーン３とスキマーコーン４で構成されている。サンプ
リングコーン３とスキマーコーン４の間は、分析時には
５の真空ポンプ（一般的にはロータリーポンプが使用さ
れる）により１Ｔｏｒｒ程度に排気される。６は真空容
器、７はイオンレンズ、８は質量分析器、９は検出器、
１２はデータ処理部である。真空容器６の内部は、別の
真空ポンプ５、５により排気されており、イオンレンズ
７の設置された部屋で１０のマイナス４乗Ｔｏｒｒ程
度、検出器９の設置された部屋で１０のマイナス６乗Ｔ
ｏｒｒ程度に維持される。なお別の真空ポンプ５、５
は、ターボ分子ポンプや油拡散ポンプが一般的に使用さ
れている。 【手続補正３】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】０００４ 【補正方法】変更 【補正内容】 【０００４】次にイオンレンズ７について図２を用いて
説明する。図２はイオンレンズの概略構成図である。図
２において、１３はサンプリングインターフェース軸、
１４ａ・１４ｂ・１４ｃは収束レンズ１５の電極、１５
ａ・１５ｂは偏向器１５の偏向電極、１６はアパーチ
ャ、１７は質量分析器軸である。イオンレンズ７は、収
束レンズ１４としての電極１４ａ・１４ｂ・１４ｃ、偏
向器１５としての偏向電極１５ａ・１５ｂおよびアパー
チャ１６で構成されている。サンプリングインターフェ
ース軸１３はサンプリングコーン３の穴とスキマーコー
ン４の穴の中心を外挿したもので、スキマーコーン４の
穴を通過したイオンのビームはサンプリングインターフ
ェース軸１３に沿ってイオンレンズに入射する。収束レ
ンズ１４は電極１４ａ・１４ｂ・１４ｃ構成されてお
り、サンプリングインターフェース軸１３を中心とする
穴の開いた板状の形状をしている。収束レンズ１４の電
極１４ａ・１４ｂ・１４ｃの各々に適当な電圧を印加す
るとイオンのビームは収束する。この様な収束レンズ１
４は、アインツェルレンズと呼ばれる。 【手続補正４】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１３ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１３】収束レンズ１４を通過したイオンビーム
は、四重極偏向器２０のイオンビーム入射部前方に配置
された偏向器入り口アパーチャ１９を通過する。偏向器
入り口アパーチャ１９は通過するイオンビームの外形を
成形するものである。偏向器１５としてほぼ円柱を１／
４に分割した形状でそれぞれ平行且つ対称位置にＲ面を
向かい合わせた配置の四重極電極２０ａ・２０ｂ・２０
ｃ・２０ｄよりなる四重極偏向器２０の入射口に、イオ
ンビームは入射し、１つの四重極電極２０ｃのＲ面に沿
って９０度偏向される。四重極偏向器２０のイオンビー
ムの出射口に配置された補正電極２１（補正電極２１は
４つの電極、２１ａ・２１ｂ・２１ｃ・２１ｄにより構
成される。 【手続補正５】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１４ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１４】収束レンズ１４の各電極１４ａ・１４ｂ・
１４ｃに適当な電圧を印加することにより、サンプリン
グインターフェース軸１３に沿って入射したイオンビー
ムは質量分析器８の入口近傍で焦点を結ぶように収束さ
せることができる。四重極偏向器２０の四重極電極２０
ａ・２０ｂ・２０ｃ・２０ｄに適当な電圧を印加するこ
とにより入射したイオンビームを９０度偏向させること
ができる。質量分析器入口アパーチャ１９は質量分析器
軸１７を中心とする穴の開いた板状の形状をしており、
適当な電圧を印加することにより質量分析器８に対して
適当なエネルギーのイオンのビームを送り込む働きをし
ている。この質量分析器入口アパーチャ１９は１枚とは
限らず、数枚で構成されることもある。 このように構
成されたイオンレンズは、検出すべきイオンのビームを
質量分析器８に導く働きをすると共に、検出器９（図１
には図示せず）に対してバックグランドノイズとして悪
影響を及ぼすプラズマの光２５や中性粒子２３は四重極
偏向器２０中で直進して質量分析器８以降には至らせな
い働きをしている。 【手続補正６】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１７ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１７】更に、別の実施例、特にシャッター手段に
ついておもに説明する。ブランキング電源３０の替わり
に、四重極偏向器２０の各電極に印加する電圧を変える
ことにより、イオンビームが質量分析器入口アパーチャ
１９や質量分析器８に到達しないようにすることができ
る。サンプリングインターフェースから入射したイオン
ビームは測定時には前記の質量分析器８を経て検出器９
に導入して電気信号に変換されるが、測定していない時
には四重極偏向器２０の各電極２０ａ・２０ｂ・２０ｃ
・２０ｄの印加電圧を０Ｖに設定し偏向角を０度として
イオンビームを直進させることによりシャッター機構を
実現することができる。このシャッター機構により測定
時以外は補正電極２１、アパーチャ１６、質量分析器
８、検出器９（図１には図示せず）にイオンビームが入
射されしないため、これらの電極や検出器に対してイオ
ンに由来する汚染が回避できる。 【手続補正７】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１８ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１８】図２において、シャッター手段として、軸
外しイオンレンズの場合の実施例を示す。偏向器１５の
偏向電極１５ａ・１５ｂに適当な電圧を印加することに
より入射したイオンビームを偏向させてアパーチャ１６
にイオンビームを通過させて質量分析器を経て検出器に
導入して電気信号に変換されるが、測定していない時に
は偏向器１５ａ・１５ｂの印加電圧を０Ｖに設定し偏向
角を０度としてイオンビームを直進させることによりシ
ャッター機構を実現することができる。このシャッター
機構により測定時以外はアパーチャ１６、質量分析器
８、検出器９（図示せず）にイオンビームが入射しない
ため、これらの補正電極等の電極や検出器に対してイオ
ンに由来する汚染が回避できる。 【手続補正８】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１９ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１９】図５に軸外しイオンレンズにおけるイオン
の流路の途中に電磁ソレノイド等のアクチュエータ３１
により遮蔽板３２を高速に出し入れするシャッター機構
を設けた場合の実施例を示す。図２と同様な部分は、こ
こで説明を省略する。測定していない時には遮蔽板３２
をイオンビームの流路（光軸）に入れることによりシャ
ッター機構を実現することができる。このシャッター機
構により測定時以外はアパーチャ１６、質量分析器８、
検出器９（図示せず）にイオンビームが入射しないた
め、これらの電極、補助電極２１や検出器に対してイオ
ンに由来する汚染が回避できる。なお、アクチュエータ
３１により遮蔽板３２を高速に出し入れするシャッター
機構は、サンプリングインターフェースと質量分析器８
との間ならば、いかなる所にも配置することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 試料をプラズマ中でイオン化するプラズ
   マイオン源と、生成したイオンを真空容器内に導くサン
   プリングインターフェースと、前記真空容器内に設置さ
   れた前記イオンを収束させるためのイオンレンズと、前
   記イオンを質量分離する質量分析器と、前記質量分析器
   により分離された所定の質量のイオンを検出する検出器
   を有するプラズマイオン質量分析装置において、試料を
   質量分析している時間以外の期間はプラズマイオン源か
   ら前記質量分析器へのイオン又は粒子の流入を防ぐため
   のシャッター手段を設けたことを特徴とするプラズマイ
   オン源質量分析装置。 【請求項２】 前記シャッター手段は前記イオンを９０
   度偏向させる９０度偏向電極を備え前記偏向電極に印加
   させる電位及び極性を変化させるシャッター手段である
   請求項１記載のプラズマイオン源質量分析装置。 【請求項3 】 前記シャッター手段は前記イオンを収束
   するための軸ずらし型電極であり、前記軸ずらし型電極
   に印加させる電位及び極性を変化させるシャッター手段
   である請求項１記載のプラズマイオン源質量分析装置。 【請求項４】 前記シャッター手段は前記プラズマイオ
   ン質量分析装置において、プラズマから生成したイオン
   の流路の途中にイオン流を遮るための遮蔽板を出し入れ
   するシャッター手段である請求項１記載のプラズマイオ
   ン源質量分析装置。