JPH09116507A - モニタリング用光デバイス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は主光路上の光ビームからモニタ用ビ
ームを分岐するためのモニタリング用光デバイスに関
し、大型化を伴うことなしに偏光依存性を小さくするこ
とを目的とする。 【解決手段】 主光路上の光ビームからモニタ用ビーム
を分岐するビーム分岐手段１４と、モニタ用ビームを受
けて互いに直交する偏波面を有する第１及び第２のビー
ムに分離する偏光ビームスプリッタ３２と、所定のトレ
ランスカーブを呈する受光領域を有するモニタ用ポート
２４とから構成し、ビーム分岐手段１４における分岐比
の偏光依存性がモニタ用ポート２４への第１及び第２の
ビームの結合効率の差によって相殺されるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般的に、光増幅
器に適用されるのに適したモニタリング用光デバイスに
関し、さらに詳しくは、主光路上の光ビームからモニタ
用ビームを分岐してこのモニタ用ビームのパワー等のパ
ラメータを測定するために使用するモニタリング用光デ
バイスに関する。

【０００２】長距離光増幅中継伝送システム等のような
光増幅技術を応用した光通信システムにおいては、偏光
依存性の排除が重要な技術的課題となっている。光増幅
器へ入力する信号光の偏光状態は、送信光源として使用
されるレーザダイオードからの直線偏光が光ファイバ伝
送路を伝搬する間にファイバへの応力の印加や温度変化
等の様々な擾乱を受ける結果、時間と共に変化する。ギ
ガビット級の超高速な通信を行う上では、いかなる偏光
状態においても安定な増幅特性が必要であり、そのため
には、光増幅器或いは光増幅器に組み込まれる光回路に
は偏光依存性がないか或いは極めて小さいことが要求さ
れる。

【０００３】

【従来の技術】従来、Ｅｒ（エルビウム）等の希土類元
素がドープされたドープファイバと、ポンプ光を出力す
るポンプ光源と、ドープファイバの信号光入力端又は信
号光出力端に接続されてポンプ光をドープファイバへ供
給する光カプラとを備えた光増幅器が知られている。

【０００４】この種の光増幅器において、ＡＬＣ（自動
レベルコントロール）を行って光出力レベルを一定に保
とうとする場合には、カプラ膜等を用いて主光路上の光
ビームからモニタ用ビームを分岐し、モニタ用ビームの
パワーを光／電気変換器によりその出力レベルに変換
し、この出力レベルが一定になるようにポンプ光のパワ
ーがフィードバック制御される。

【０００５】上述のカプラ膜等を用いたモニタ用ビーム
の分岐比に偏光依存性があると、光増幅器の安定度が悪
くなり、規格の光出力レベルを維持する事ができない。
モニタ用ビームの分岐比の偏光依存性を小さくするため
に、従来は、第１に、主光路にデポラライザを入れるこ
とが行われており、第２に入射角の小さいカプラ膜の使
用が行われており、第３に特殊な膜材料或いは膜構成の
カプラ膜の採用が行われている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】一般に、光通信に用い
られるレーザダイオードの出力光のコヒーレンシーは高
いので、これをデポラライズするには長大な複屈折材料
が必要となり、大型でしかも高価格なデポラライザが必
要になる。

【０００７】入射角の小さいカプラ膜は、あとで詳しく
説明するように装置の大型化を伴う。特殊な膜材料又は
膜構成の採用は、装置の高価格化を招くと共に、カプラ
膜設計上の自由度を小さくし所望の分岐比を得ることが
困難になるという問題を生じさせる。

【０００８】よって、本発明の目的は、大型化を伴うこ
となしに偏光依存性を小さくすることができるモニタリ
ング用光デバイスを提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の側面によ
ると、主光路上の光ビームからモニタ用ビームを分岐す
るビーム分岐手段と、該モニタ用ビームを受け、第１の
偏波面を有する第１のビームと該第１の偏波面に垂直な
第２の偏波面を有する第２のビームとに分離して出力す
る偏光ビームスプリッタと、中央部が高く該中央部から
離れるに従って減少する結合効率のトレランスカーブを
呈する受光領域を有し、該受光領域内に上記第１及び第
２のビームが入るように設けられるモニタ用ポートとを
備え、上記ビーム分岐手段における分岐比の偏光依存性
が上記モニタ用ポートへの上記第１及び第２のビームの
結合効率の差によって相殺されるように、上記偏光ビー
ムスプリッタにおける上記第１及び第２のビームの分離
条件並びに上記モニタ用ポートの配置位置が設定される
モニタリング用光デバイスが提供される。

【００１０】本発明の第２の側面によると、主光路上の
光ビームからモニタ用ビームを分岐するビーム分岐手段
と、該モニタ用ビームの光路上に設けられ所定の偏波面
を有する直線偏光成分を通過させる偏光子と、該偏光子
を透過した光を受けるモニタ用ポートとを備え、上記ビ
ーム分岐手段における分岐比の偏光依存性を排除するよ
うに上記偏光子が配置されるモニタリング用光デバイス
が提供される。

【００１１】本発明の第１の側面によると、ビーム分岐
手段における分岐比の偏光依存性がモニタ用ポートへの
第１及び第２のビームの結合効率の差によって相殺され
るようにしており、また、本発明の第２の側面による
と、ビーム分岐手段における分岐比の偏光依存性を、各
偏光に通過損失の差を与えて相殺するように偏光子が配
置されるので、本発明の目的が達成される。

【００１２】モニタ用ポートは、例えば、所定の受光径
を有するフォトダイオード等の光／電気変換素子であ
る。レンズを備えた光／電気変換素子をモニタ用ポート
として用いてもよいし、モニタ用ポートとして光ファイ
バの第１励振端を用い、この光ファイバの第２励振端に
光／電気変換素子を接続してもよい。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に従って詳細に説明する。図１は本発明を適用可能
な光増幅器のブロック図である。この光増幅器は、光送
信機と、光受信機と、これらの間に敷設される光ファイ
バ伝送路とを備えた光通信システム（光通信装置）にお
いて光ファイバ伝送路の途中に設けられる光中継器に適
用可能である。入力ポート２へ供給された増幅すべき信
号光は、光カプラ４を介してドープファイバ６の第１端
に入力される。ドープファイバ６にはＥｒ（エルビウ
ム）等の希土類元素がドープされている。

【００１４】レーザダイオード８からのポンプ光は、波
長カプラ１０を介してドープファイバ６へその第２端か
ら入力する。入力ポート２へ供給された信号光の入力レ
ベルをモニタリングするために、光カプラ４で分岐され
た光はフォトダイオード１１で光／電気変換される。

【００１５】ドープファイバ６内で増幅された信号光
は、波長カプラ１０を介してモニタリング用光デバイス
１２へ供給される。モニタリング用光デバイス１２は、
主光路上の光ビームからモニタ用ビームを分岐するため
に、光カプラ１４を有している。波長カプラ１０と光カ
プラ１４の間には、光アイソレータ１６及び帯域通過フ
ィルタ（ＢＰＦ）１８がこの順に設けられている。

【００１６】光アイソレータ１６は、光増幅媒体である
ドープファイバ６を含む光共振器構造が構成されて発振
等の不都合が生じることを防止するために設けられてお
り、光帯域通過フィルタ１８は、主光路上の光ビームの
うち信号光を選択的に透過させポンプ光及び自然放出光
を除去するために設けられている。

【００１７】光カプラ１４で分岐された光の一方は出力
ポートＯＰから図示しない光ファイバ伝送路へ送出さ
れ、他方はモニタ用ポートＭＰへ供給される。モニタ用
ポートＭＰは、例えば、以下の説明で採用される光／電
気変換素子としてのフォトダイオードであり、或いは、
一方の接続端に光／電気変換素子が接続される光ファイ
バの他方のレンズ付接続端である。

【００１８】図２は図１の光増幅器に適用可能な従来の
モニタリング用光デバイスを示す図である。主光路上の
光ビームは、この例では、それぞれ球レンズ等の凸レン
ズを有するファイバコリメータ２０及び２２間に形成さ
れる平行ビームとして提供される。ファイバコリメータ
２０及び２２とモニタ用ポートＭＰ（図１参照）として
のフォトダイオード２４とは、ハウジング２６′の側壁
に設けられている。

【００１９】光アイソレータ１６、光帯域通過フィルタ
１８及び光カプラ１４は主光路ＭＯＰ上にこの順に配置
され、フォトダイオード２４は光カプラ１４の反射光路
上に設けられている。尚、ファイバコリメータ２０は図
１の波長カプラ１０の信号光出力ポートに接続され、フ
ァイバコリメータ２２は図１の出力ポートＯＰに対応し
ている。

【００２０】図２のモニタリング用光デバイスでは、光
カプラ１４における分岐比の偏光依存性を小さくするた
めに、光カプラ１４への入射角を小さな値（例えば５
°）にしている。その結果、光カプラ１４からフォトダ
イオード２４へ至る反射光路と主光路ＭＯＰとのなす角
が小さくなり、フォトダイオード２４をファイバコリメ
ータ２０の近傍に配置せざるを得ず、ハウジング２６′
が大型化してしまう。

【００２１】図３は本発明のモニタリング用光デバイス
の第１実施形態を示す図である。このモニタリング用光
デバイスは、図２のデバイスと同様図１の光増幅器に適
用可能である。この実施形態では、図２の比較的大型な
ハウジング２６′に代えて小型なハウジング２６を使用
するために、光カプラ１４における入射角をほぼ４５°
に設定している。これにより、主光路ＭＯＰと光カプラ
１４での反射光路とのなす角をほぼ９０°にすることが
でき、デバイスの小型化が可能になる。

【００２２】光カプラ１４は、ガラス等からなる透明基
板２８と、透明基板２８上に形成された誘電体多層膜等
からなるカプラ膜３０とから構成されている。カプラ膜
３０への入射角が４５°程度である場合、カプラ膜３０
における透過ビームと反射ビームの分岐比が入射ビーム
の偏光状態に依存して変化することが知られている。こ
のような偏光依存性を小さくするために、この実施形態
では偏光ビームスプリッタ３２をカプラ膜３０とフォト
ダイオード２４との間に配置している。

【００２３】偏光ビームスプリッタ３２は、カプラ膜３
０からの反射ビームであるモニタ用ビームを受け、これ
を互いに直交する偏波面を有する２つのビームに分離し
て出力する。そして、フォトダイオード２４が所定の受
光径（例えば１００μｍ）を有していることにより生じ
る結合効率のトレランスカーブを考慮してフォトダイオ
ード２４の配置位置を設定することによって、偏光ビー
ムスプリッタ３２からフォトダイオード２４に入力する
第１及び第２のビームの結合効率に差を生じさせ、これ
によりカプラ膜３０における分岐比の偏光依存性を相殺
するようにしている。具体的には次の通りである。

【００２４】図４は図３のモニタリング用光デバイスの
主要部の配置説明図である。ビーム分岐手段はカプラ膜
３０を含み、カプラ膜３０における入射角はほぼ４５°
に設定されている。モニタ用ビームはカプラ膜３０にお
ける反射ビームである。

【００２５】偏光ビームスプリッタ３２は、その結晶軸
（光学軸）３２Ａがカプラ膜３０からの反射ビームに対
して所定の角度θ（例えば４５°）だけ傾斜した複屈折
平板からなる。フォトダイオード２４は、所定の受光径
を有しており、この受光径によって例えば円形の受光領
域２４Ａが画定される。符号２４Ｂ及び２４Ｃはフォト
ダイオード２４の出力端子を表している。

【００２６】以下の説明では、カプラ膜３０への入射ビ
ームのＳ波成分をＳ１とし、Ｐ波成分をＰ１とする。Ｓ
波は電場ベクトルの振動面が入射面に対して垂直な直線
偏光として定義され、Ｐ波は電場ベクトルの振動面が入
射面に対して平行な直線偏光として定義される。

【００２７】入射面は、入射光線と入射点における法線
とを含む平面或いは入射光線と反射光線とを含む平面と
して定義される。また、カプラ膜３０での反射ビームに
おけるＳ波成分及びＰ波成分をそれぞれＳ２及びＰ２と
し、偏光ビームスプリッタ３２で分岐される２つのビー
ムのうちビームＳ２に対応するものをＳ３とし、ビーム
Ｐ２に対応するものをＰ３とする。

【００２８】尚、ビームＳ１及びＰ１は実際には同じ位
置にあり、ビームＳ２及びＰ２も同じ位置にあるが、図
面の明瞭さを確保するために、これらはわずかにずらし
て図示されている。また、カプラ膜３０における透過ビ
ームのＳ波成分をＳ４とし、Ｐ波成分をＰ４とする。

【００２９】今、ビームＳ１に対するカプラ膜３０の透
過率が９０％であるとすると、ビームＳ１に対するカプ
ラ膜３０の反射率は原理的には１０％であり、ビームＳ
１に対する光カプラ１４の分岐比は１０：９０となる。
一方、ビームＰ１に対するカプラ膜の透過率及び反射率
は例えばそれぞれ９２％及び８％であり、ビームＰ１に
対する光カプラ１４の分岐比は８：９２となる。このよ
うにカプラ膜３０における入射角がほぼ４５°と比較的
大きい値であることにより分岐比の偏光依存性が生じて
いるのである。

【００３０】この偏光依存性をＳ波成分及びＰ波成分の
比で定義するものとすると、透過ビームにおける偏光依
存性は０．１ｄＢであるのに対して、反射ビームにおけ
る偏光依存性は約１．０ｄＢとなる。このように偏光依
存性が約１．０ｄＢもあると、反射ビームをそのままフ
ォトダイオードで受けてその出力信号に基づきＡＬＣを
正確に行うことはできない。

【００３１】この実施形態では、カプラ膜３０での反射
ビームを互いに直交する偏波面を有する２つのビームに
分離するために、偏光ビームスプリッタ３２として複屈
折平板を用いている。複屈折平板は均一厚みを有する例
えばルチル結晶からなる。

【００３２】複屈折平板は、ビームＳ２及びＰ２がそれ
ぞれ複屈折平板の常光及び異常光に対応するように配置
される。常光は複屈折平板内を直進して位置ずれせずに
ビームＳ３として出力し、異常光はビームＳ３とは異な
る位置からビームＳ３と平行に出力する（ビームＰ
３）。

【００３３】ビームＳ３に対するビームＰ３のシフト量
（位置ずれ量）をｄとすると、シフト量ｄは次式で与え
られる。 ｄ＝ｔ（ｎｏ² −ｎｅ² ）ｔａｎθ／（ｎｏ² ｔａｎ²
θ＋ｎｅ² ） ここで、ｔは複屈折平板の厚み、ｎｏ及びｎｅはそれぞ
れ複屈折平板における常光及び異常光の屈折率である。
複屈折平板がルチルからなり、角度θが４５°である場
合、シフト量ｄは複屈折平板の厚みｔのほぼ１／１０と
なる。即ち、厚み２００μｍのルチル板を使用すると、
シフト量として約２０μｍが得られる。

【００３４】図５は受光領域のトレランスカーブの例を
示す図である。縦軸は結合効率、横軸は受光領域内にお
ける直線上の位置を表している。受光領域の中央部にお
いて最大結合効率が得られ、この中央部から離れるに従
って結合効率が次第に減少するようなトレランスカーブ
を呈していることが明らかである。例えば一般的なフォ
トダイオードにおいては、受光領域の中央部から約２０
μｍ離れた位置における結合効率は最大結合効率よりも
約１ｄＢ低い。

【００３５】そこで、図４の実施形態では、カプラ膜３
０での反射による分岐比が小さいビームＰ２に対応する
位置ずれした異常光（ビームＰ３）がフォトダイオード
２４の受光領域２４Ａのほぼ中央部に入射するようにす
る。こうすると、分岐比の大きいビームＳ２に対応する
ビームＳ３は受光領域２４Ａにおいて結合効率が最大結
合効率よりも１ｄＢ小さい位置に入射し、カプラ膜３０
における分岐比の偏光依存性がビームＳ３及びＰ３の受
光素子２４に対する結合効率の差によって相殺され、偏
光依存性をなくすことができる。

【００３６】また、カプラ膜３０への入射角をほぼ４５
°にしているので、このモニタリング用光デバイスを小
型にすることができる。このようにカプラ膜での反射ビ
ームにおける偏光依存性がビームシフト量による結合効
率の差に完全に対応するようにしておくことによって、
モニタリング用光デバイスの偏光依存性をなくすことが
できるが、ビームシフトによる結合効率の差が反射ビー
ムにおける偏光依存性に完全に対応していない場合であ
っても、本発明を適用することによってモニタリング用
光デバイスの偏光依存性を小さくすることができる。

【００３７】図４の実施形態では、ビームＳ２及びＰ２
がそれぞれ複屈折平板の常光及び異常光に対応するよう
にしているが、ビームＳ２及びＰ２が複屈折平板の異常
光及び常光にそれぞれ対応するように変更してもよい。
この場合には、常光がフォトダイオードの受光領域の中
央部に入射するようにフォトダイオードを配置する。

【００３８】図６は本発明のモニタリング用光デバイス
の第２実施形態を示す図である。この実施形態は、モニ
タ用ビームを受けるための光／電気変換素子として、大
径の受光領域を有する太陽電池等の受光素子２４′を用
い、これに伴って特定の偏光ビームスプリッタ３２′を
用いている点で特徴付けられる。

【００３９】受光素子２４′として用いることができる
太陽電池は安価であり、例えば直径５ｍｍの受光領域を
有している。この場合、本発明を実施するために偏光ビ
ームスプリッタで分離される第１及び第２のビームのシ
フト量として１乃至２ｍｍを得ようとすると、偏光ビー
ムスプリッタとして複屈折平板を用いた場合に１０乃至
２０ｍｍの厚みが必要であり、偏光ビームスプリッタが
高価になる。

【００４０】そこで、この実施形態では、偏光分離膜を
有する偏光ビームスプリッタを用いる。即ち、偏光ビー
ムスプリッタ３２′は、三角プリズム３４と、三角プリ
ズム３４の斜面上に形成された偏光分離膜３６と、偏光
分離膜３６を挟むように三角プリズム３４に固着された
平行プリズム３８とを有している。

【００４１】光カプラ１４のカプラ膜３０における主光
路からの反射ビームが偏光分離膜３６に入射すると、紙
面に平行な偏波面を有する偏光成分は偏光分離膜３６を
透過しさらに三角プリズム３４を透過して受光素子２
４′の受光領域の中央部に入射する。

【００４２】一方、カプラ膜３０での反射ビームのうち
紙面に垂直な偏波面を有する偏光成分は、偏光分離膜３
６で反射し、さらに平行プリズム３８の全反射面で反射
して受光素子２４′の受光領域における中央部から所定
のシフト量だけ異なる位置に入射する。

【００４３】こうすることによって、第１実施形態にお
ける動作原理に準じた原理に従って、カプラ膜３０にお
ける分岐比の偏光依存性が小さくなる乃至はなくなり、
例えば光増幅器において良好にＡＬＣを実施することが
できるようになる。

【００４４】図７は本発明のモニタリング用光デバイス
の第３実施形態を示す図である。この実施形態では、入
力側のファイバコリメータ２０と光アイソレータ１６と
の間に光カプラ４０を設け、ハウジング２６に固定され
たファイバコリメータ４２を介して供給されるレーザダ
イオード４４からの監視光に基づくビームを主光路ＭＯ
Ｐ上のビームに結合している。

【００４５】ファイバコリメータ２０から供給される信
号光の波長は例えば１．５５μｍ帯にあり、監視光の波
長は信号光とは異なる例えば１．６５μｍ帯にある。監
視光は、例えば、このモニタリング用光デバイスが適用
される光中継器における監視情報を端局に伝送するため
に信号光に重畳されるものである。

【００４６】このような監視光を重畳するための構成が
モニタリング用光デバイスに付加されている場合、モニ
タ用ポートとしてのフォトダイオード２４を用いて正確
なＡＬＣを行うためには、フォトダイオード２４の手前
で監視光を除去することが望ましい。なぜなら、監視光
がフォトダイオード２４に入力してしまうと、信号光の
正確な出力レベルを検知することができず、ポンプ光パ
ワーのフィードバック制御が不正確になるからである。

【００４７】そこで、この実施形態では、フォトダイオ
ード２４に入力する光から監視光を除去するために、偏
光ビームスプリッタ３２と一体的に光帯域通過フィルタ
４６を設けている。光帯域通過フィルタ４６は、図示さ
れているように偏光ビームスプリッタ３２のモニタ用ビ
ーム伝搬方向上流側に設けられていてもよいし、下流側
に設けられていてもよい。

【００４８】光帯域通過フィルタ４６は波長１．５５μ
ｍ帯にある信号光を選択的に透過させ、それ以外の波長
帯域にある監視光等の不要な光を除去する。従って、こ
のような機能を有するものであれば、光帯域通過フィル
タ以外にも光ハイパスフィルタや光ローパスフィルタも
採用可能である。

【００４９】図８は本発明のモニタリング用光デバイス
の第４実施形態を示す図である。この実施形態は、本発
明の第１の側面による第１乃至第３実施形態における偏
光ビームスプリッタに代えて偏光子４８を設けている点
で特徴付けられる。

【００５０】偏光子４８はカプラ膜３０における反射ビ
ーム（モニタ用ビーム）の光路上に設けられており、所
定の偏波面を有する直線偏光成分を透過させる。そし
て、偏光子４８を透過した光がモニタ用ポートとしての
フォトダイオード２４に入射する。

【００５１】偏光子４８は、カプラ膜３０における分岐
比の偏光依存性が小さくなる乃至はなくなるように配置
される。具体的には次の通りである。図９は偏光子の配
置の説明図である。図において、符号５０はカプラ膜３
０（図８参照）における反射ビームの光路を示してい
る。

【００５２】また、光路５０に付随して示されているＳ
及びＰは、それぞれ、カプラ膜３０での反射ビームにお
けるＳ波成分及びＰ波成分を表している。また、符号４
８Ａは偏光子４８の主軸（偏光子４８を透過する直線偏
光の偏波面に平行な軸）を表している。

【００５３】今、主軸４８ＡとＰ波成分の偏波面とがな
す角をφとすると、 φ＝ｔａｎ^-1（Ｒｐ／Ｒｓ） となるように設定される。ここで、Ｒｐはカプラ膜３０
におけるＰ波成分の反射率であり、Ｒｓはカプラ膜３０
におけるＳ波成分の反射率である。

【００５４】このような特定の配置形態で偏光子４８を
設けておくことによって、カプラ膜３０におけるＳ波及
びＰ波の反射率の違いを偏光子４８の透過率の違いで相
殺することができ、カプラ膜３０における分岐比の偏光
依存性を小さくし乃至はなくすことができる。また、本
発明の第１の側面による場合と同様にカプラ膜への入射
角をほぼ４５°に設定することができるので、モニタリ
ング用光デバイスを小型にすることができる。

【００５５】本発明の第１の側面による実施形態の説明
においては、偏光ビームスプリッタから出力される第１
及び第２のビームが互いに平行であるとしたが、本発明
の第１の側面はこれに限定されない。例えば、偏光ビー
ムスプリッタとして複屈折平板に代えて複屈折楔板を用
い、第１及び第２のビームが互いに異なる方向へ分離し
て出力されるようにしてもよい。また、図６の第２実施
形態においては、平行プリズム３８に代えて、偏光分離
膜３６に対して平行でない全反射面を有するプリズムを
用い、第１及び第２のビームが互いに異なる方向へ分離
して出力されるようにしてもよい。

【００５６】尚、本発明の第２の側面を実施する場合に
は、偏光子としては、ガラスに微細金属線を串状に溶け
込ませたポーラガラスや誘電体と金属とを交互に積層さ
せたラミポール等を用いることができる。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の第１又は
第２の側面によると、大型化を伴うことなしに偏光依存
性を小さくすることができるモニタリング用光デバイス
の提供が可能になるという効果が生じる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用可能な光増幅器のブロック図であ
る。

【図２】モニタリング用光デバイス（従来技術）を示す
図である。

【図３】本発明のモニタリング用光デバイスの第１実施
形態を示す図である。

【図４】図３のモニタリング用光デバイスの主要部の配
置説明図である。

【図５】受光領域のトレランスカーブの例を示す図であ
る。

【図６】本発明のモニタリング用光デバイスの第２実施
形態を示す図である。

【図７】本発明のモニタリング用光デバイスの第３実施
形態を示す図である。

【図８】本発明のモニタリング用光デバイスの第４実施
形態を示す図である。

【図９】図８のモニタリング用光デバイスにおける偏光
子の配置の説明図である。

【符号の説明】

６ ドープファイバ １２ モニタリング用光デバイス １４ 光カプラ ２４ フォトダイオード ３２，３２′ 偏光ビームスプリッタ ４８ 偏光子

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 主光路上の光ビームからモニタ用ビーム
   を分岐するビーム分岐手段と、 該モニタ用ビームを受け、第１の偏波面を有する第１の
   ビームと該第１の偏波面に垂直な第２の偏波面を有する
   第２のビームとに分離して出力する偏光ビームスプリッ
   タと、 中央部が高く該中央部から離れるに従って減少する結合
   効率のトレランスカーブを呈する受光領域を有し、該受
   光領域内に上記第１及び第２のビームが入るように設け
   られるモニタ用ポートとを備え、 上記ビーム分岐手段における分岐比の偏光依存性が上記
   モニタ用ポートへの上記第１及び第２のビームの結合効
   率の差によって相殺されるように、上記偏光ビームスプ
   リッタにおける上記第１及び第２のビームの分離条件並
   びに上記モニタ用ポートの配置位置が設定されるモニタ
   リング用光デバイス。
2. 【請求項２】 上記ビーム分岐手段は透明基板上に形成
   されたカプラ膜からなり、 上記モニタ用ビームは上記カプラ膜における反射ビーム
   であり、 上記偏光ビームスプリッタはその結晶軸が上記反射ビー
   ムに対して所定の角度だけ傾斜した複屈折平板であり、 上記第１及び第２の偏波面は上記主光路上の光ビームと
   上記反射ビームとによって定義される上記カプラ膜の入
   射面に対してそれぞれ垂直及び平行であり、 上記第１及び第２のビームはそれぞれ上記複屈折平板の
   常光及び異常光のうちの一方及び他方に相当し、 該常光及び異常光が上記複屈折平板から互いに平行に出
   力するように上記分離条件が設定される請求項１記載の
   モニタリング用光デバイス。
3. 【請求項３】 上記モニタ用ポートは所定の受光径を有
   する光／電気変換素子である請求項１記載のモニタリン
   グ用光デバイス。
4. 【請求項４】 上記偏光ビームスプリッタは第１及び第
   ２のプリズムと該第１及び第２のプリズム間に介在する
   偏光分離膜とからなり、 該第１及び第２のプリズムは上記第１及び第２のビーム
   が互いに平行になるような形状を有している請求項３記
   載のモニタリング用光デバイス。
5. 【請求項５】 主光路上の光ビームからモニタ用ビーム
   を分岐するビーム分岐手段と、 該モニタ用ビームの光路上に設けられ所定の偏波面を有
   する直線偏光成分を通過させる偏光子と、 該偏光子を透過した光を受けるモニタ用ポートとを備
   え、 上記ビーム分岐手段における分岐比の偏光依存性を排除
   するように上記偏光子が配置されるモニタリング用光デ
   バイス。
6. 【請求項６】 請求項１乃至５のいずれかに記載の光デ
   バイスを有することを特徴とする光増幅器又は光通信装
   置。