JPH09119815A - フィルム厚の測定方法及び装置 - Google Patents
フィルム厚の測定方法及び装置Info
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Abstract
%を超える関数スペクトル幅を有する光信号を低コヒー
レンス光源(12)からフィルム(13)に送り、反射光
を集めて結合手段(15)により干渉計(18)に結合し
て、干渉光信号を発生する。低密度でサンプリングした
前記干渉光信号のフーリエ変換の位相勾配を周波数の関
数として求め、その結果からフィルム(13)の厚さを
測定する。
Description
るものであり、とりわけ、フィルム、シート、または、
ウェブの厚さを測定するための装置及び方法に関するも
のである。
制御は、極めて重要である。例えば、写真フィルムの製
造では、裏引き層に均一な乳剤の層を形成することが必
要になる。プロセス制御の観点からすると、フィルムの
製造後に実験室でフィルム厚を測定するよりも、フィル
ム製造プロセス中に、フィルム厚の測定が行えるほうが
有利である。オフ・ラインでサンプルの測定を行う場
合、かなりの量の欠陥材料の加工が済むまで、機械的動
作不良の補正を実施することができない。このため、無
駄を生じることになる。本明細書では「フィルム」とい
う用語にはシート及びウェブが含まれている。
る方法は、接触法と非接触法に分割することが可能であ
る。接触法の1つでは、フィルムの両面に物理的に接触
することになるマイクロメータが用いられる。これらの
方法には、測定中にフィルムを物理的に変形させるた
め、測定が不正確になったり、ピッチングまたはスクラ
ッチによってフィルムに損傷を与える可能性があるとい
う欠点が備わっている。さらに、この方法は、高速移動
するフィルム・ウェブのオン・ライン測定に用いるのが
困難である。
のような亜原子粒子のビームの減衰に基づく非接触法も
既知のところである。例えば、このタイプの先行技術の
1つでは、フィルムによる電子ビームの減衰を利用し
て、フィルム厚が求められる。この方法には、3つの欠
点がある。第1に、減衰がフィルムの化学組成と密度に
よって決まるので、該システムは、フィルムの各タイプ
毎に較正しなければならない。第2に、該システムは、
一般に、放射線源に依存して、粒子ビームを発生する。
コスト、安全性、及び、生理学的理由から、一般に、放
射線材料の利用は制限することが望ましい。第3に、一
方の面に放射線源を配置し、もう一方の面に検出器を配
置することができるようにするため、一般に、フィルム
の両面に対するアクセスが必要になる。
ィルム厚を測定する方法も既知のところである。ここで
の論述のため、光学自己相関器は、可変差分時間遅延を
有する干渉計であると定義される。マイケルソン干渉計
が、こうした自己相関器の一例である。例えば、フラー
ノイ(Flournoy)に与えられた米国特許第3,
319,515号の明細書には、マイケルソン干渉計を
利用したフィルム厚測定の記載がある。このシステムの
場合、フィルムは、フィルム表面に対してある角度をな
す平行ビームの照射を受ける。フィルムの正面及び背面
によって、反射光信号が発生する。次に、反射光を入力
として受信するマイケルソン干渉計において発生する自
己相関スペクトルのピークを調べることによって、2つ
の反射表面間の距離が求められる。
イプの自己相関テクノロジの適用には、いくつかの問題
がある。干渉計の出力は、いくつかのピークを示す包絡
線関数によって変調される正弦フリンジ・パターンであ
る。極めて薄いフィルムの厚さを正確に測定するために
は、各ピークの中心を高い精度で求めなければならな
い。先行技術のシステムでは、干渉計の出力は、基本と
なる正弦波のサイクル毎に少なくとも2つのサンプルが
選択される、ナイキスト基準によって指定される割合で
サンプリングが行われる。高速処理を必要とするシステ
ムの場合、結果生じるデータ・点数によって、該システ
ムにかなりの計算上の負担をかけることになる。この負
担に適応するために、測定システムのコストを増すこと
になる、より高価な計算エンジンを利用しなければなら
ない。
ムの照射に用いる低コヒーレンス光源のスペクトル幅に
よって決まる。さらに詳細に後述するように、光源の幅
が増すほど、その差をより正確に求めることが可能にな
る。先行技術による干渉計を用いたフィルム測定システ
ムでは、白色光源と発光ダイオード(LED)のいずれ
かが用いられている。白色光源の場合、必要なスペクト
ル幅が得られるが、フィルムに結合可能な光の強度が低
すぎるので、多くの用途において十分なS/N比(信号
対雑音比)が得られない。LED光源の場合、より強い
パワーが得られるが、光源のスペクトル幅が狭すぎて、
最適な分解能が得られない。
目的は、薄膜の厚さを測定するための改良された装置及
び方法を提供することにある。
定装置の接触を必要としないシステムを提供することに
ある。
なる正弦波の周期毎に2つ以上のサンプルを必要とする
サンプリング・レートを必要とせずに、フィルム厚を正
確に求めるシステムを提供することにある。
トル幅の広い光源で得られる利点を得ると同時に、測定
を受けるフィルムに対して、白色光源を用いて結合する
ことが可能な光の強度を上回る強度の光を結合するシス
テムを提供することにある。
は、当該技術の熟練者には、下記の詳細な説明及び添付
の図面から明らかになるであろう。
測定するための装置及び方法である。2つ以上のLED
を備えた光源から発生するのが望ましい低コヒーレンス
光信号によって、フィルムの照射が行われる。フィルム
の表面から反射した光は、集められ、干渉計に結合され
る。干渉計からの信号出力の一部に関するフーリエ変換
の勾配を用いて、フィルム厚が求められる。本発明の望
ましい実施例の場合、干渉計の出力は、低コヒーレンス
光信号のサイクル毎に2つ未満の点でサンプリングされ
る。
るフィルム13の厚さの測定を示す図1及び2を参照す
ることによってより容易に理解することが可能になる。
装置10は、超高輝度発光ダイオードまたはLEDが望
ましい光源12によって発生する低コヒーレンス光を用
いてフィルム13を照射する。ここでの、低コヒーレン
ス光源は、その中心周波数の0.1%を超える関数スペ
クトル幅を備えた光源であると定義される。その光は、
光ファイバ14及びレンズ15を介してフィルム13に
送られる。レンズ15は、フィルム13上に光を集束さ
せ、反射光の一部を集めて、ファイバ14に結合して戻
す。集光の一部は、光学結合器16及びファイバ17を
介して自己相関器18に送られる。光ファイバと共に用
いられる光学結合器は、当該技術において周知のところ
であり、従って、これ以上詳細な説明は行わない。
ィルム13に入射した光がフィルム13の2つの表面か
ら反射することによって生じる2つの光信号が含まれ
る。フィルム13がηに等しい群屈折率及び厚さLを備
えている場合、2つの光信号は、時間的に2ηL/cだ
け分離されることになる(ここで、cは光の速度であ
る)。自己相関器に入射する光は、ビーム分割器19に
よって2つのビームに分割され、異なる光路を通ること
になる。第1の光路は、固定鏡20の位置によって決ま
り、第2の光路は、可動鏡21の位置によって決まる。
異なる光路を通り抜けると、光はビーム分割器19によ
って再結合されて、フォトダイオード22に送られ、光
の強度が測定され、その測定値はデータ処理手段23に
より処理され所望の厚さが算出される。光の強度測定と
厚さの算定については、以下で述べる。
ての光の強度が示されている。この強度関数は、51〜
53で示すように干渉縞の3つの「パケット」または
「バースト」を備えている。大きいパケット51は、X
=0に対応する。このパケットは、光路の長さが等しい
場合に生じるので、各反射による光は、可干渉性により
それ自体と干渉する。2つの小さいピークは、光路が測
定を受けるフィルムの2つの表面間における光学距離だ
け異なるために生じる。これらのパケットは、測定を受
けるフィルムの2つの表面において発生する反射間の相
互干渉によって生じる。これらのパケットは、フィルム
の2つの表面間の光路に等しいX値、すなわち、X0=
ηLのところに位置する。従って、フィルム厚を測定す
る問題は、干渉計の出力におけるパケット間の距離を求
める問題に還元される。
ザを利用して、Xの較正が行われる。基準レーザからの
光は、自己相関器に入射する光と混合される。基準レー
ザの波長は、フィルムに加えられる信号を発生するため
に用いられる光源の波長と十分に異なっているので、基
準レーザからの干渉縞はカラー・フィルタによって分別
することが可能である。基準縞は、フォトダイオード2
2からの出力のサンプリングをトリガするために用いら
れる。こうした構成については、参考までに本書に組み
込まれている同時係属出願(米国特許出願第08/30
4,247号)に示されている。
は、典型的なパケットの拡大図である図3に示すよう
に、極めて多くなる可能性がある。ここの縞の間の距離
は、光源12によって発生する光の波長に対応する。パ
ケットの幅は、波長より1桁以上大きくなる可能性があ
る、光源12によって発生する光のコヒーレンス長によ
って決まる。従って、フィルム厚が10〜100μmの
オーダの場合の測定精度は、求めることが可能な2つの
パケット間の距離の精度によって制限される。
方法の1つでは、パケット強度のフーリエ変換の位相が
利用される。例えば、ダニエルソン(Danielso
n)が応用光学(Applied Optics), Vol.30,No.21,第29
75-2979頁に示すところによれば、従来の干渉計の出力
から得られるパケットの中心は、干渉計の出力のフーリ
エ変換から求めることが可能である。パケットはxの原
点から△xだけ変位した中心を有しているものと考える
ことにする。そうすると、パケットのフーリエ変換の位
相が−2π△xに等しい勾配を備えているのは明らかで
ある。この所見を利用して、パケット中心の推定をさら
に精密なものにすることが可能である。
にする。このパケットのフーリエ変換が、図4及び図5
に示されている。図4は、周波数領域におけるフーリエ
変換の絶対値に関するプロットであり、図5は、周波数
Sの関数としてのフーリエ変換の位相に関するプロット
である。位相の勾配を測定することによって、原点から
の変位X0を求めることが可能になる。以上の分析で
は、X=0における大きいパケットの中心が十分な精度
で分かっているものと仮定している。しかし、これは必
要条件ではない。空間領域の原点におけるパケットの中
心が正確に分からない場合、そのパケットについて該プ
ロセスを反復することによって、仮定される原点に対す
る位置を求めることが可能である。2つのパケット間の
距離は、各パケットの分析において得られた位置の差と
して減算によって求めることが可能である。
フーリエ変換の位相を十分な精度で求めることができる
ものと仮定している。上記案の基礎となる理論は、雑音
がパケットのフーリエ変換に比べて小さいものと仮定し
ている。従って、周波数領域における勾配の測定に用い
られる点は、フーリエ変換の絶対値がどの雑音に比べて
も大きいスペクトル領域に対応する。典型的な点が図4
に65及び66で示されている。
勾配の精度は、位相信号のS/N比と点65と66の間
の距離の関数である。一般に、点の離隔距離が増すと、
周波数領域における間隔がより接近した点に比べて精度
が高くなる。しかし、点間の最大距離は、フーリエ・ス
ペクトルの絶対値の幅によって決まる。というのも、こ
の領域外の点は、S/N比の悪いスペクトル領域に対応
するためである。点65と66の間のある数の点におけ
る位相を測定することによって、勾配を求める精度を多
少は高めることが可能になるが、点65と66の間の距
離を増すことができれば、点65と66の間の任意の特
定の点集合に関して、精度が向上することになる。
源12のスペクトル幅によって決まる。従って、光源の
出力のスペクトル幅が増すと、原理的には、求めること
が可能な勾配の精度が高くなる。最も広い光源は、白色
光源であるが、こうした光源は比較的強度が低い。上述
のように、信号が雑音・レベルに比べて大きいことも重
要である。多くの用途では、従来の白熱光源によって得
られる強度は低すぎて、必要なS/N比が得られない。
の問題は、周波数が分離された2つの光源から成る光源
を用いることによって克服される。例えば、赤と緑のL
EDからの光を結合することが可能である。図1に関連
して上述の単一LEDの代わりに、この複合光源が用い
られる。次に、こうした光源のスペクトルと75で示す
従来の白色光源のスペクトルの比較である図6を参照す
る。個々のLEDスペクトルが、76及び77で示され
ている。図7に示す2つの光源のピーク・スペクトル強
度点78、79で、位相ラインの勾配を求めるのに必要
な位相測定を実施することが可能である。点の離隔距離
は、白色光によって得られる離隔距離とほぼ同じにし、
同時に、LEDの高出力パワーが維持されるようにする
ことが可能である。これに関して留意すべきは、図6に
示す白色光の曲線は、LEDのスペクトル曲線に対して
正確な比率で描かれていないということである。
長多重化結合器から構成することが可能である。こうし
た構成が、図8に100で示されている。赤のLED光
源102は、第1の光ファイバ106の端部にイメージ
形成され、緑のLED光源104は、第2の光ファイバ
108の端部にイメージ形成される。2つの光ファイバ
は、結合器104によって接合される。結合器の一方の
分岐からの光によって、所望の複合光源が得られる。
に求められるようにするのに十分な点数で、干渉計から
のパケットのサンプリングを行うことが必要になる。位
相勾配測定技法を用いて、先行技術のシステムにおい
て、一般的に利用されるナイキスト基準を用いた波形の
サンプリングを実施する場合、点数は極めて多くなる可
能性がある。この基準は、正弦波の各サイクル毎に約2
つの点の測定を必要とします。測定値のフーリエ変換に
固有の計算上の作業負荷は、NlogNのオーダであ
り、ここで、Nは各パケットにおけるサンプル数であ
る。従って、サンプル数を減少させるのが有利である。
サンプル数が多いと、実施可能な測定速度の制限及び/
または各計器に含めなければならない計算エンジンのコ
ストの大幅な増大を伴う可能性がある。
形は、パケットの包絡線によって変調される一定の周波
数の正弦搬送波とみなすことが可能であるとする所見を
利用して、この厳しい計算上の作業負荷が回避される。
この結果、サンプリングしなければならない有効周波数
が、基本となる搬送波の高周波数の代わりに、パケット
の包絡線の有効周波数まで低下することになる。結果と
して、本発明は、パケットの包絡線における少数のサン
プルを利用して、正確な変位測定値を得ることが可能に
なる。
た光学自己相関器が利用されているが、留意すべきは、
光学スペクトル分析器の出力のフーリエ変換を利用する
ことによって、同じ出力を得ることができるという点で
ある。光学スペクトル分析器は、可動部品が不要であ
り、従って、用途によっては有利である。
の熟練者には、本発明に対するさまざまな修正が明らか
になるであろう。以下に、本発明の実施態様の数例を列
記する。
波数の0.1%を超える関数スペクトル幅を有する光信
号を発生するための低コヒーレンス光源(12、10
0)と、前記光信号をフィルム(13)に送り、前記フ
ィルム(13)から反射する光を集めて、集光信号を発
生するための結合手段(15)と、前記集光信号を干渉
計(18)に結合して、干渉光信号を発生するための手
段(16)と、前記干渉光信号のフーリエ変換の位相勾
配を周波数の関数として求めるための処理手段(23)
とを備えた、フィルム(13)の厚さを測定するための
測定装置(10)。
相関器であることを特徴とする、実施態様1に記載の測
定装置(10)。 (実施態様3)前記低コヒーレンス光源(100)が、
第1と第2の光源(102、103)を備え、前記第1
と第2の光源(12、100)が光学スペクトルの異な
る領域の光を放出することを特徴とする、実施態様1に
記載の測定装置(10)。 (実施態様4)前記処理手段が、前記入力光周波数のサ
イクル毎に2つ未満のサンプルについて、前記干渉光信
号の強度をサンプリングすることを特徴とする、実施態
様1に記載の測定装置(10)。 (実施態様5)前記干渉計(18)が、前記集光信号の
振幅を周波数の関数として表す信号から成る出力を有す
る光学スペクトル分析器と、前記出力のフーリエ変換を
生成するための手段とを備えたことを特徴とする、実施
態様1に記載の測定装置(10)。
2、100)からの光信号でフィルム(13)を照射
し、その中心周波数が0.1%を超える関数スペクトル
幅を有する光信号を発生するステップと、前記フィルム
(13)から反射する光を集めて、集光信号を発生する
ステップと、前記集光信号を干渉計(18)に結合し
て、干渉光信号を発生するステップと、前記干渉光信号
のフーリエ変換の位相勾配を周波数の関数として求める
ステップとを備えた、フィルム(13)の厚さを測定す
るための方法。 (実施態様7)前記干渉計(18)が自己相関器である
ことを特徴とする、実施態様6に記載の測定方法。
(12、100)が、第1と第2の光源(102、10
3)を備えたことと、前記第1と第2の光源(102、
103)が、光学スペクトルの異なる領域の光を放出す
ることを特徴とする、実施態様6に記載の測定方法。 (実施態様9)前記位相勾配を周波数の関数として求め
るステップが、前記入力光周波数のサイクル毎に2つ未
満のサンプルについて、前記干渉光信号の強度をサンプ
リングするステップからなることを特徴とする、実施態
様6に記載の測定方法。
い測定光の帯域幅を実現し、測定標本のサンプリングが
少数であるから、高精度で高速な厚さ測定が実現され
る。
ク図である。
る信号を示す図である。
る。
示す干渉計の周波数の関数としての出力におけるピーク
の1つに関するフーリエ変換の絶対値のグラフである。
示す干渉計の周波数の関数としての出力におけるピーク
の1つに関するフーリエ変換の位相のグラフである。
図1に示す干渉計の周波数の関数としての出力における
ピークの1つに関するフーリエ変換の絶対値のグラフで
ある。
図1に示す干渉計の周波数の関数としての出力における
ピークの1つに関するフーリエ変換の位相のグラフであ
る。
ある。
Claims (1)
- 【請求項1】中心周波数を有し該中心周波数の0.1%
を超える関数スペクトル幅を有する光信号を発生するた
めの低コヒーレンス光源と、 前記光信号をフィルムに送り、前記フィルムから反射す
る光を集めて、集光信号を発生するための結合手段と、 前記集光信号を干渉計に結合して、干渉光信号を発生す
るための手段と、 前記干渉光信号のフーリエ変換の位相勾配を周波数の関
数として求めるための処理手段とを備えた、 フィルムの厚さを測定するための測定装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/520,029 US5610716A (en) | 1995-08-28 | 1995-08-28 | Method and apparatus for measuring film thickness utilizing the slope of the phase of the Fourier transform of an autocorrelator signal |
| US520,029 | 1995-08-28 |
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| JP3922742B2 JP3922742B2 (ja) | 2007-05-30 |
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