JPH09121018A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH09121018A
JPH09121018A JP7278613A JP27861395A JPH09121018A JP H09121018 A JPH09121018 A JP H09121018A JP 7278613 A JP7278613 A JP 7278613A JP 27861395 A JP27861395 A JP 27861395A JP H09121018 A JPH09121018 A JP H09121018A
Authority
JP
Japan
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substrate
insulating substrate
adhered
solder
wide
Prior art date
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Pending
Application number
JP7278613A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Hayakawa
誠一 早川
Yukio Kamida
行雄 紙田
Tatsuya Shigemura
達也 茂村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP7278613A priority Critical patent/JPH09121018A/ja
Publication of JPH09121018A publication Critical patent/JPH09121018A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874—On different surfaces
    • H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00—Package configurations
    • H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/754—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】モジュール型半導体装置の製造時間の短縮と製
造コストの低減を図り、かつ耐湿性を向上する。 【解決手段】放熱板に凹部が設けられその凹部に絶縁基
板を接着し、さらに前記凹部内部をレジンにより封入す
る。 【効果】絶縁基板を放熱板の凹部底面上に接着すること
により、放熱板に対する絶縁基板の位置決めが治具なし
で行うことができる。装置内部がレジンと支持基板によ
ってのみ封入されているので、装置の耐湿性を向上させ
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は内部絶縁型の半導体
モジュールに係り、特に比較的大電流容量のパッケージ
型パワー半導体モジュールに好適な半導体装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の半導体装置の構造を図2
に示す。
【0003】この図において、1は半導体素子、2a〜
2cはソルダー、3は絶縁基板、4は金属層、5は支持
基板、6は配線端子、7は金属ワイヤ、8はケース、9
はゲル充填物、10はレジンである。
【0004】絶縁基板3は、アルミナなどの絶縁材で作
られ、その一方の面には、配線パターンが形成された金
属層4aが、他方の面には、半田などのろう材による接
合を可能とするための金属層4bがそれぞれ設けられて
いる。
【0005】そして、複数個の半導体素子1は、絶縁基
板3の一方の面に形成されている金属層4aの所定の部
分にソルダー2cにより接着され、さらに絶縁基板3の
もう一方の面に形成されている金属層4bが支持基板5
にソルダー2bにより、支持基板5に積層される。そし
て、これらの半導体素子1は、金属ワイヤ7により、金
属層4aの所定の部分に対して配線が施されている。
【0006】支持基板5は、半導体素子1で発生した熱
を拡散させるヒートシンクを兼ねているが、実装状態で
は所定の冷却フィンに取り付けられる。
【0007】配線端子6は、金属層4aに形成されてい
る配線パターンの所定の部分と外部導線とを接続するも
のである。
【0008】ケース8は半導体装置の容器を構成するも
ので、絶縁材により、側板部を有する底のない箱形に作
られており、支持基板5に接着することにより内部が封
止されるようになっている。このとき、ケース内部に
は、半導体素子を保護するためのゲル9が封入され、そ
のうえをレジン10を注入し固化を行う。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
方法では、半導体素子を基板に接着する工程,絶縁基板
を支持基板に接着する工程,配線端子を絶縁基板に接着
する工程の3工程で位置決めのための治具が必要であ
り、製造コストが高く、また製造時間も多く必要であ
る。
【0010】また、装置内部が支持基板,ケース,レジ
ンにより、封入されているので、空気中の水分が支持基
板,ケース間の接着が不完全な場合、支持基板,ケース
の隙間から装置内部に浸入し半導体素子の劣化を引き起
こす。
【0011】本発明は、従来のこのような問題点を解決
するためのもので、その目的は、支持基板と絶縁基板と
の接着において治具を不要とすることで、製造時間を短
縮し、また、半導体素子内部を支持基板とレジンにより
封入することで装置内部への水分の浸入を防止すること
である。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明は支持基板に絶
縁基板と同じ大きさあるいは絶縁基板の大きさより大き
く、なおかつ支持基板の凹部が絶縁基板の大きさより大
きいことによる絶縁基板のずれが絶縁基板と配線端子の
接続に影響しない程度の大きさを持った凹部を設け、前
記凹部の底面に前記絶縁基板を接着し、前記絶縁基板の
金属層に配線端子を接着し、さらに、前記凹部内部にレ
ジンを注入した半導体装置である。
【0013】この発明における半導体装置は支持基板に
絶縁基板と同じ大きさあるいは絶縁基板の大きさより大
きく、なおかつ支持基板の凹部が絶縁基板の大きさより
大きいことによる絶縁基板のずれが絶縁基板と配線端子
の接続に影響しない程度の大きさを持った凹部を設けた
ことにより、支持基板に対する絶縁基板の位置決めが治
具なしで容易に行えるため、製造コストを低減でき、時
間も短縮できる。
【0014】また、配線端子を絶縁基板上の金属層に接
着後、支持基板内に設けられた凹部にレジンを注入する
ことにより、装置内部が支持基板とレジンにより封入さ
れ、装置内部への空気中の水分の浸入を防ぐことができ
る。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施例を図1に
ついて説明する。
【0016】図1において、絶縁基板の長手方向を縦と
して、縦60mm×横100mm,高さ10mm、支持基板5
には縦51.8mm×横46.3mm,深さ6mmの凹部5aが
設けられており、その凹部5aの水平方向の中心は絶縁
基板3の配置位置の中心である。ここで、支持基板は熱
伝導性の良い銅製である。また凹部以外の部分は同じ厚
みを有しているので、モジュール全体の厚みを薄くでき
る。従って、応用装置に組み込むと、実装スペースを低
減でき装置のサイズを低減できる。
【0017】支持基板の凹部5a底面に厚さ0.2mm の
金属層4a,4bが両面に貼り付けられた縦51.5mm
×横46mm,厚さ0.5mmの絶縁基板3がソルダー2a
により接着され、絶縁基板3上の金属層4aには半導体
素子1がソルダー2cにより、また縦20mm×横1mm,
高さ35mmの配線端子6がソルダー2bにより接着され
ている。この配線端子6と金属層4aとの接続には位置
決めのための治具が必要になる。また、半導体素子の金
属パッドとそれに対応する金属層4aとは金属ワイヤ7
にて接続されている。この金属ワイヤ7の金属層4aか
らの高さ3mmである。さらに凹部5a内部にはレジン1
0が注入されている。このレジン10は配線端子6aが
金属層4aと接続された後、凹部5a内部に注入され
る。
【0018】次に配線端子6aと金属層4aとの接続に
用いる治具の一例を図3に示す。
【0019】治具11には縦20.2mm×横1.2mm,深
さ25mmの凹部11aが設けられており、その凹部11
aに配線端子6が挿入できるようになっている。また治
具11には縦60.5mm×横100.5mm,深さ10mmの
凹部11bが設けられており、支持基板5がはめ込める
ようになっている。配線端子6と金属層4aとの接続
は、治具11の凹部11aに配線端子6を挿入した後、
ソルダー2bを支持基板5と接着してある絶縁基板3上
の金属層4aの所定位置に滴下し、配線端子6を挿入し
た治具11を支持基板5にはめ込み、加熱することで行
う。
【0020】次に本実施例の作用について説明する。こ
の発明による半導体装置は放熱板2に凹部を設けたこと
により絶縁基板3の位置決めが治具なしで容易に行え、
製造時間を短縮できる。また構成部品のうち、ケース,
ゲルが不要となるため製造コストを低減できる。さら
に、半導体装置内部が支持基板5とレジン10により封
入されていることにより、装置内部への空気中水分の浸
入を防止できる。
【0021】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、放熱板
に凹部を設けその凹部上に絶縁基板を装着できるように
したので、絶縁基板の位置決めが治具なしで容易に行
え、作業性を改善できる。また、構成部品の内、ケー
ス,レジンが不要となるため、製造コストも低減でき
る。さらに、装置内部がレジンと支持基板により封入さ
れているので半導体装置内部への水分の浸入を防止でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体装置の一実施例を示す説明
図である。
【図2】従来例を示す説明図である。
【図3】本発明による半導体装置の組立方法の一例を示
す説明図である。
【符号の説明】
1…半導体素子、2a…絶縁基板下部のソルダー、2b
…配線端子下部のソルダー、2c…半導体素子下部のソ
ルダー、3…絶縁基板、4…金属層、5…支持基板、6
…配線端子、7…金属ワイヤ、8…ケース、9…ゲル、
10…レジン、11a…治具内の配線端子挿入用凹部、
11b…治具内の支持基板挿入用凹部。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体素子及び電極端子を搭載した絶縁基
    板と、凹部を有し、凹部以外の部分は大略同じ厚さを有
    する金属性支持基板とを有し、 前記絶縁基板は前記凹部の底部に接着されることを特徴
    とする半導体装置。
  2. 【請求項2】請求項1の半導体装置において、前記凹部
    内に、前記半導体素子を封入するようにレジンを注入す
    ることを特徴とする半導体装置。
JP7278613A 1995-10-26 1995-10-26 半導体装置 Pending JPH09121018A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP2600399A2 (en) 2011-11-30 2013-06-05 Hitachi Ltd. Power semiconductor device
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