JPH0912677A - 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 57
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 24
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000013638 trimer Substances 0.000 claims abstract description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims abstract description 4
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical group C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims description 6
- UBVXRQAPDRCBOE-UHFFFAOYSA-N 2-[1,2,2-tris(2-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(C=1C(=CC=CC=1)O)C(C=1C(=CC=CC=1)O)C1=CC=CC=C1O UBVXRQAPDRCBOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001649 bromium compounds Chemical group 0.000 claims 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 10
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 10
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 abstract description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 6
- BJSADSPMCGIFMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-[1,2,2-tris[2-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]ethyl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1C(C=1C(=CC=CC=1)OCC1OC1)C(C=1C(=CC=CC=1)OCC1OC1)C1=CC=CC=C1OCC1CO1 BJSADSPMCGIFMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 23
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 11
- -1 glycidyl ether compound Chemical class 0.000 description 11
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 4
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethyl-4-methylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound CCC1=NC(C)=CN1CCC#N UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=CN=C(C)N1 LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KSIFCIGYWZLLRY-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-ethylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound CCC1=CC=CC=C1OCC1OC1 KSIFCIGYWZLLRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- QCTJRYGLPAFRMS-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound OC(=O)C=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 QCTJRYGLPAFRMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1N=C=O MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NCCN1 QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCVGSSQICKMAIA-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NCCN1 NCVGSSQICKMAIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWSLLSXLURJCDF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CC1=NCCN1 VWSLLSXLURJCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound N1CCN=C1C1=CC=CC=C1 BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-1h-imidazole Chemical compound CC(C)C1=NC=CN1 FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTYIFQSAIPDZQW-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CC(C)C1=NCCN1 BTYIFQSAIPDZQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQHUDZKKDCTQET-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NCCN1 FQHUDZKKDCTQET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJUVAPMVTXLLFR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)CN=C1C1=CC=CC=C1 JJUVAPMVTXLLFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical group O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940091173 hydantoin Drugs 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】印刷配線板とした場合に、吸湿性が低く、優れ
た耐熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変色性を有し、
かつ高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を提供する。 【構成】(a)1,1,2,2−テトラキス(グリシジ
ルオキシフェニル)エタン、その二量体、その三量体及
びそれらの混合物、及び(b)ビスフェノールAとホル
ムアルデヒドの縮合物、(c)難燃剤、(d)硬化促進
剤を必須成分として配合してなる印刷配線板用エポキシ
樹脂組成物。
た耐熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変色性を有し、
かつ高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を提供する。 【構成】(a)1,1,2,2−テトラキス(グリシジ
ルオキシフェニル)エタン、その二量体、その三量体及
びそれらの混合物、及び(b)ビスフェノールAとホル
ムアルデヒドの縮合物、(c)難燃剤、(d)硬化促進
剤を必須成分として配合してなる印刷配線板用エポキシ
樹脂組成物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、印刷配線板などの製造
に用いられる印刷配線板用エポキシ樹脂組成物に関す
る。
に用いられる印刷配線板用エポキシ樹脂組成物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】電子機器の小型化、高性能化に伴い、そ
の中に搭載される印刷配線板は、高多層化、薄物化、ス
ルーホールの小径化及び穴間隔の減少などによる高密度
化が進行している。さらに近年では、半導体チップを印
刷配線板上に直接搭載し樹脂封止した、プラスチックピ
ングリッドアレイやプラスチックボールグリッドアレイ
等の半導体パッケージに、印刷配線板が用いられるよう
になっている。半導体パッケージに用いられる場合、印
刷配線板はその製造工程において175℃以上の高温で
ワイヤボンディングや樹脂封止といった工程を経ること
になる。その際に印刷配線板の強度や弾性率が不足する
とボンディングワイヤの接続不良や樹脂封止後のそり、
ねじれ等の問題が発生する。175℃以上の高温域での
硬度や弾性率等の高温特性を向上させるためには、従来
以上の高いTg(ガラス転移温度)が必要である。半導
体パッケージ用の印刷配線板はこれまで以上の高密度配
線が要求されており、絶縁信頼性が重要である。
の中に搭載される印刷配線板は、高多層化、薄物化、ス
ルーホールの小径化及び穴間隔の減少などによる高密度
化が進行している。さらに近年では、半導体チップを印
刷配線板上に直接搭載し樹脂封止した、プラスチックピ
ングリッドアレイやプラスチックボールグリッドアレイ
等の半導体パッケージに、印刷配線板が用いられるよう
になっている。半導体パッケージに用いられる場合、印
刷配線板はその製造工程において175℃以上の高温で
ワイヤボンディングや樹脂封止といった工程を経ること
になる。その際に印刷配線板の強度や弾性率が不足する
とボンディングワイヤの接続不良や樹脂封止後のそり、
ねじれ等の問題が発生する。175℃以上の高温域での
硬度や弾性率等の高温特性を向上させるためには、従来
以上の高いTg(ガラス転移温度)が必要である。半導
体パッケージ用の印刷配線板はこれまで以上の高密度配
線が要求されており、絶縁信頼性が重要である。
【0003】これらの要求に対して、印刷配線板の絶縁
材料としてはエポキシ樹脂の高Tg化が進んでいる。高
Tg化の手法としては、特開平2−41316号公報に
見られるように、多官能エポキシ樹脂をジシアンジアミ
ドで硬化させる系が広く検討されている。しかしなが
ら、ジシアンジアミド硬化系では吸湿性が高くなる欠点
がある。これは、今後の印刷配線板の更なる高密度化に
伴う高い絶縁信頼性を満足することは困難となる。特に
絶縁特性の中で、絶縁材料上または絶縁材料内の配線や
回路パターンあるいは電極などを構成する金属が、高湿
度環境下、電位差の作用によって絶縁材料上または絶縁
材料内を移行する金属マイグレーション(電食)の発生
は非常に大きな問題となってきた。
材料としてはエポキシ樹脂の高Tg化が進んでいる。高
Tg化の手法としては、特開平2−41316号公報に
見られるように、多官能エポキシ樹脂をジシアンジアミ
ドで硬化させる系が広く検討されている。しかしなが
ら、ジシアンジアミド硬化系では吸湿性が高くなる欠点
がある。これは、今後の印刷配線板の更なる高密度化に
伴う高い絶縁信頼性を満足することは困難となる。特に
絶縁特性の中で、絶縁材料上または絶縁材料内の配線や
回路パターンあるいは電極などを構成する金属が、高湿
度環境下、電位差の作用によって絶縁材料上または絶縁
材料内を移行する金属マイグレーション(電食)の発生
は非常に大きな問題となってきた。
【0004】これに対して、多官能性フェノール樹脂を
硬化剤に用いた印刷配線板は、吸水率が低く耐電食性が
良好となる。ただし、このような多官能性フェノールを
用いた印刷配線板は、フェノール類の種類によっては加
熱処理時に変色する問題が生じる場合がある。特公昭6
2−28168号公報では、この加熱変色性を向上させ
る目的で、フェノールまたはビスフェノールAを主原料
とするハイオルソフェノール・ホルムアルデヒド樹脂を
配合した系を提案しているが、175℃以上の高温での
使用に耐えるTgは得られない。
硬化剤に用いた印刷配線板は、吸水率が低く耐電食性が
良好となる。ただし、このような多官能性フェノールを
用いた印刷配線板は、フェノール類の種類によっては加
熱処理時に変色する問題が生じる場合がある。特公昭6
2−28168号公報では、この加熱変色性を向上させ
る目的で、フェノールまたはビスフェノールAを主原料
とするハイオルソフェノール・ホルムアルデヒド樹脂を
配合した系を提案しているが、175℃以上の高温での
使用に耐えるTgは得られない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる状況
に鑑みなされたもので、印刷配線板とした場合に吸湿性
が低く、優れた耐熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変
色性を有しかつ高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を
提供することを目的とする。
に鑑みなされたもので、印刷配線板とした場合に吸湿性
が低く、優れた耐熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変
色性を有しかつ高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を
提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明のエポ
キシ樹脂組成物は、(a)1,1,2,2−テトラキス
(ヒドロキシフェニル)エタンのグリシジルエーテル化
物、その二量体、その三量体及びそれらの混合物及び、
(b)ビスフェノールAとホルムアルデヒドの縮合物、
(c)難燃剤、(d)硬化促進剤を必須成分として配合
してなることを特徴とする。
キシ樹脂組成物は、(a)1,1,2,2−テトラキス
(ヒドロキシフェニル)エタンのグリシジルエーテル化
物、その二量体、その三量体及びそれらの混合物及び、
(b)ビスフェノールAとホルムアルデヒドの縮合物、
(c)難燃剤、(d)硬化促進剤を必須成分として配合
してなることを特徴とする。
【0007】以下、本発明を詳細に説明する。(a)の
1,1,2,2−テトラキス(ヒドロキシフェニル)エ
タンのグリシジルエーテル化物、その二量体、その三量
体及びそれらの混合物の分子量については特に限定する
ものではなく、縮合及びエポキシ化の方法についても特
に限定するものではない。また、本発明においては、
(a)のエポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂を併用しても
よい。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビス
フェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポ
キシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラツク型エポキ
シ樹脂、ビスフェノーAノボラック型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポ
キシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、グリシジルエステ
ル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、
ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポ
キシ樹脂、その他、二官能フェノール類のグリシジルエ
ーテル化物、二官能アルコールのグリシジルエーテル化
物、及びそれらの水素添加物などがある。これらの化合
物はどのようなものでもよく、また、何種類かを併用す
ることができる。
1,1,2,2−テトラキス(ヒドロキシフェニル)エ
タンのグリシジルエーテル化物、その二量体、その三量
体及びそれらの混合物の分子量については特に限定する
ものではなく、縮合及びエポキシ化の方法についても特
に限定するものではない。また、本発明においては、
(a)のエポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂を併用しても
よい。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビス
フェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポ
キシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラツク型エポキ
シ樹脂、ビスフェノーAノボラック型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポ
キシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、グリシジルエステ
ル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、
ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポ
キシ樹脂、その他、二官能フェノール類のグリシジルエ
ーテル化物、二官能アルコールのグリシジルエーテル化
物、及びそれらの水素添加物などがある。これらの化合
物はどのようなものでもよく、また、何種類かを併用す
ることができる。
【0008】(b)のビスフェノールAとホルムアルデ
ヒドの縮合物の分子量については制限がなく、ビスフェ
ノールAモノマーが含まれていても良い。また、ビスフ
ェノールAとホルムアルデヒドの縮合物以外の硬化剤を
併用してもよく、例えば、ビスフェノールA、ビスフェ
ノールF、ポリビニルフェノール、またはフェノール、
クレゾール、アルキルフェノール、カテコール、ビスフ
ェノールFなどのノボラック樹脂などがある。これらの
化合物の分子量はどのようなものでも良く、また何種類
かを併用することができる。配合量は、エポキシ基に対
してフェノール性水酸基が0.5〜1.5当量の範囲で
あることが好ましい。
ヒドの縮合物の分子量については制限がなく、ビスフェ
ノールAモノマーが含まれていても良い。また、ビスフ
ェノールAとホルムアルデヒドの縮合物以外の硬化剤を
併用してもよく、例えば、ビスフェノールA、ビスフェ
ノールF、ポリビニルフェノール、またはフェノール、
クレゾール、アルキルフェノール、カテコール、ビスフ
ェノールFなどのノボラック樹脂などがある。これらの
化合物の分子量はどのようなものでも良く、また何種類
かを併用することができる。配合量は、エポキシ基に対
してフェノール性水酸基が0.5〜1.5当量の範囲で
あることが好ましい。
【0009】(c)の難燃剤は一般に難燃剤と称される
ものであればどのようなものでもよく、例えば、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹
脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環
式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、グリシジル
エステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ
樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート
型エポキシ樹脂、その他、二官能フェノール類のグリシ
ジルエーテル化物、二官能アルコールのグリシジルエー
テル化物などのハロゲン化物、ビスフェノールA、ビス
フェノールF、ポリビニルフェノール、またはフェノー
ル、クレゾール、アルキルフェノール、カテコール、ビ
スフェノールFなどのノボラツク樹脂などのハロゲン化
物、三酸化アンチモン、トリフェニルフォスフェートな
どがあるが、特に、難燃剤がテトラブロムビスフェノー
ルA、テトラブロムビスフェノールAのグリシジルエー
テル化物、フェノールとホルムアルデヒドの縮合物のグ
リシジルエーテル化物の臭素化物であると好ましい。
ものであればどのようなものでもよく、例えば、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹
脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環
式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、グリシジル
エステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ
樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート
型エポキシ樹脂、その他、二官能フェノール類のグリシ
ジルエーテル化物、二官能アルコールのグリシジルエー
テル化物などのハロゲン化物、ビスフェノールA、ビス
フェノールF、ポリビニルフェノール、またはフェノー
ル、クレゾール、アルキルフェノール、カテコール、ビ
スフェノールFなどのノボラツク樹脂などのハロゲン化
物、三酸化アンチモン、トリフェニルフォスフェートな
どがあるが、特に、難燃剤がテトラブロムビスフェノー
ルA、テトラブロムビスフェノールAのグリシジルエー
テル化物、フェノールとホルムアルデヒドの縮合物のグ
リシジルエーテル化物の臭素化物であると好ましい。
【0010】(d)の硬化促進剤としては、エポキシ基
とフェノール性水酸基のエーテル化反応を促進させるよ
うな触媒機能を持つ化合物であればどのようなものでも
良く、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属
化合物、イミダゾール化合物、有機りん化合物、第二級
アミン、第三級アミン、第四級アンモニウム塩などがあ
る。イミノ基がアクリロニトリル、イソシアネート、メ
ラミンアクリレートなどでマスク化されたイミダゾール
を用いると、従来の2倍以上の保存安定性を有するプリ
プレグを得ることができる。そのため、硬化促進剤がイ
ソシアネートマスクイミダゾールであることがより好ま
しい。
とフェノール性水酸基のエーテル化反応を促進させるよ
うな触媒機能を持つ化合物であればどのようなものでも
良く、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属
化合物、イミダゾール化合物、有機りん化合物、第二級
アミン、第三級アミン、第四級アンモニウム塩などがあ
る。イミノ基がアクリロニトリル、イソシアネート、メ
ラミンアクリレートなどでマスク化されたイミダゾール
を用いると、従来の2倍以上の保存安定性を有するプリ
プレグを得ることができる。そのため、硬化促進剤がイ
ソシアネートマスクイミダゾールであることがより好ま
しい。
【0011】ここで用いられるイミダゾール化合物とし
ては、イミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2ーフェニルイミダゾ
ール、2−ウンデシルイミダゾール、1−べンジル−2
−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾー
ル、4,5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミ
ダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシル
イミダゾリン、2−へプタデシルイミダゾリン、2−イ
ソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾー
ル、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチ
ルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、2,
4−ジメチルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチル
イミダゾリンなどがあり、マスク化剤としては、アクリ
ロニトリル、フェニレンジイソシアネート、トルイジン
イソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、メチレ
ンビスフェニルイソシアネート、メラミンアクリレート
などがある。これらの硬化促進剤は何種類かを併用して
もよく、配合量はエポキシ樹脂100重量部に対して
0.01〜5重量部が好ましい。0.01重量部より少
ないと促進効果が小さく、5重量部より多いと保存安定
性が悪くなる。
ては、イミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2ーフェニルイミダゾ
ール、2−ウンデシルイミダゾール、1−べンジル−2
−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾー
ル、4,5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミ
ダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシル
イミダゾリン、2−へプタデシルイミダゾリン、2−イ
ソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾー
ル、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチ
ルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、2,
4−ジメチルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチル
イミダゾリンなどがあり、マスク化剤としては、アクリ
ロニトリル、フェニレンジイソシアネート、トルイジン
イソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、メチレ
ンビスフェニルイソシアネート、メラミンアクリレート
などがある。これらの硬化促進剤は何種類かを併用して
もよく、配合量はエポキシ樹脂100重量部に対して
0.01〜5重量部が好ましい。0.01重量部より少
ないと促進効果が小さく、5重量部より多いと保存安定
性が悪くなる。
【0012】本発明に係るエポキシ樹脂組成物は、各種
の形態で利用されるが基材に塗布、含浸する際には、し
ばしば溶剤が用いられる。それらの溶剤としては、アセ
トン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、メチ
ルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチレングリコール
モノメチルエーテル、N,N−ジメチルアセトアミド、
メタノール、エタノールなどがありこれらは何種類かを
混合しても良い。
の形態で利用されるが基材に塗布、含浸する際には、し
ばしば溶剤が用いられる。それらの溶剤としては、アセ
トン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、メチ
ルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチレングリコール
モノメチルエーテル、N,N−ジメチルアセトアミド、
メタノール、エタノールなどがありこれらは何種類かを
混合しても良い。
【0013】本発明に係るエポキシ樹脂組成物には、無
機充填剤として、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、
ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪
素、窒化珪素、窒化ホウ素、ベリリア、マグネシア、ジ
ルコニア、フォーステライト、ステアライト、スピネ
ル、ムライト、チタニアなどの粉体、及びチタン酸カリ
ウム、炭化珪素、窒化珪素、アルミナなどの単結晶繊
維、ガラス繊維などを1種類以上配合することができ
る。
機充填剤として、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、
ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪
素、窒化珪素、窒化ホウ素、ベリリア、マグネシア、ジ
ルコニア、フォーステライト、ステアライト、スピネ
ル、ムライト、チタニアなどの粉体、及びチタン酸カリ
ウム、炭化珪素、窒化珪素、アルミナなどの単結晶繊
維、ガラス繊維などを1種類以上配合することができ
る。
【0014】前記(a)〜(d)を配合して得たワニス
は、ガラス布、ガラス不織布または紙、ガラス以外を成
分とする布などの基材に含浸させ、乾燥炉内で80〜2
00℃の範囲で乾燥させることにより、印刷配線板用プ
リプレグを得る。プリプレグは150〜190℃、20
〜80kgf/cm2の範囲で加熱加圧して印刷配線板
または金属張積層板を製造することに用いられる。
は、ガラス布、ガラス不織布または紙、ガラス以外を成
分とする布などの基材に含浸させ、乾燥炉内で80〜2
00℃の範囲で乾燥させることにより、印刷配線板用プ
リプレグを得る。プリプレグは150〜190℃、20
〜80kgf/cm2の範囲で加熱加圧して印刷配線板
または金属張積層板を製造することに用いられる。
【0015】ここでの乾燥とは、溶剤を使用した場合に
は溶剤を除去すること、溶剤を使用しない場合には室温
で流動性がなくなるようにすることをいう。
は溶剤を除去すること、溶剤を使用しない場合には室温
で流動性がなくなるようにすることをいう。
【0016】
【作用】本発明では、1,1,2,2−テトラキス(ヒ
ドロキシフェニル)エタンのグリシジルエーテル化物、
その二量体、その三量体及びそれらの混合物及びビスフ
ェノールAとホルムアルデヒドの縮合物、難燃剤、硬化
促進剤を用いることにより、従来のエポキシ樹脂組成物
に比べ、グリシジルエーテル基とフェノール性水酸基の
反応率が高く、硬化物の架橋密度が高くなるため印刷配
線板とした場合に吸湿性が低く、優れた耐熱性と高温特
性、耐電食性、耐加熱変色性を有しかつ高いTgを与え
るエポキシ樹脂組成物を得ることができる。
ドロキシフェニル)エタンのグリシジルエーテル化物、
その二量体、その三量体及びそれらの混合物及びビスフ
ェノールAとホルムアルデヒドの縮合物、難燃剤、硬化
促進剤を用いることにより、従来のエポキシ樹脂組成物
に比べ、グリシジルエーテル基とフェノール性水酸基の
反応率が高く、硬化物の架橋密度が高くなるため印刷配
線板とした場合に吸湿性が低く、優れた耐熱性と高温特
性、耐電食性、耐加熱変色性を有しかつ高いTgを与え
るエポキシ樹脂組成物を得ることができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0018】[実施例1]1,1,2,2−テトラキス
(グリシジルオキシフェニル)エタン(エポキシ当量2
00)100重量部とビスフェノールAノボラック樹脂
(水酸基当量114)37重量部及びテトラブロモビス
フェノールA(臭素含有率58%、水酸基当量272)
48重量部をメチルエチルケトンで溶解した。硬化促進
剤として、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチル
イミダゾール0.3重量部を配合し、不揮発分65%の
ワニスを作製した。
(グリシジルオキシフェニル)エタン(エポキシ当量2
00)100重量部とビスフェノールAノボラック樹脂
(水酸基当量114)37重量部及びテトラブロモビス
フェノールA(臭素含有率58%、水酸基当量272)
48重量部をメチルエチルケトンで溶解した。硬化促進
剤として、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチル
イミダゾール0.3重量部を配合し、不揮発分65%の
ワニスを作製した。
【0019】[実施例2]1,1,2,2−テトラキス
(グリシジルオキシフェニル)エタン53重量部と臭素
化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(臭素含有率49
%、エポキシ当量400)47重量部及びビスフェノー
ルAノボラック樹脂44重量部をメチルエチルケトンで
溶解した。硬化促進剤として、1−シアノエチル−2−
エチル−4−メチルイミダゾール0.3重量部を配合
し、不揮発分65%のワニスを作製した。
(グリシジルオキシフェニル)エタン53重量部と臭素
化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(臭素含有率49
%、エポキシ当量400)47重量部及びビスフェノー
ルAノボラック樹脂44重量部をメチルエチルケトンで
溶解した。硬化促進剤として、1−シアノエチル−2−
エチル−4−メチルイミダゾール0.3重量部を配合
し、不揮発分65%のワニスを作製した。
【0020】[実施例3]1,1,2,2−テトラキス
(グリシジルオキシフェニル)エタン38重量部と臭素
化フェノールノボラック型エポキシ樹脂(臭素含有率3
5.3%、エポキシ当量284)62重量部及びビスフ
ェノールAノボラック樹脂46重量部をメチルエチルケ
トンで溶解した。硬化促進剤として、1−シアノエチル
−2−エチル−4−メチルイミダゾール0.3重量部を
配合し、不揮発分65%のワニスを作製した。
(グリシジルオキシフェニル)エタン38重量部と臭素
化フェノールノボラック型エポキシ樹脂(臭素含有率3
5.3%、エポキシ当量284)62重量部及びビスフ
ェノールAノボラック樹脂46重量部をメチルエチルケ
トンで溶解した。硬化促進剤として、1−シアノエチル
−2−エチル−4−メチルイミダゾール0.3重量部を
配合し、不揮発分65%のワニスを作製した。
【0021】[実施例4]1−シアノエチル−2−エチ
ル−4−メチルイミダゾールに代えて、イソシアネート
マスクイミダゾールを0.5重量部配合した以外は実施
例1と同様の配合でワニスを作製した。
ル−4−メチルイミダゾールに代えて、イソシアネート
マスクイミダゾールを0.5重量部配合した以外は実施
例1と同様の配合でワニスを作製した。
【0022】[比較例1]実施例1において、1,1,
2,2−テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタ
ンに代えて、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(エポキシ当量195)100重量部とビスフェノール
Aノボラック樹脂38重量部及びテトラブロモビスフェ
ノールA48重量部とした以外は実施例1と同様の配合
でワニスを作製した。
2,2−テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタ
ンに代えて、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(エポキシ当量195)100重量部とビスフェノール
Aノボラック樹脂38重量部及びテトラブロモビスフェ
ノールA48重量部とした以外は実施例1と同様の配合
でワニスを作製した。
【0023】[比較例2]実施例1において、ビスフェ
ノールAノボラック樹脂に代えてフェノールノボラック
樹脂(水酸基当量106)35重量部及びテトラブロモ
ビスフェノールA47重量部とした以外は実施例1と同
様の配合でワニスを作製した。
ノールAノボラック樹脂に代えてフェノールノボラック
樹脂(水酸基当量106)35重量部及びテトラブロモ
ビスフェノールA47重量部とした以外は実施例1と同
様の配合でワニスを作製した。
【0024】[比較例3]低臭素化エポキシ樹脂(臭素
含有率21%、エポキシ当量485)80重量部と1,
1,2,2−テトラキス(グリシジルオキシフェニル)
エタン20重量部に、あらかじめエチレングリコールモ
ノメチルエーテルに溶解したジシアンジアミド1重量部
を配合した。硬化促進剤として1−シアノエチル−2−
エチル−4−メチルイミダゾール0.2重量部を配合
し、不揮発分65%のワニスを作製した。
含有率21%、エポキシ当量485)80重量部と1,
1,2,2−テトラキス(グリシジルオキシフェニル)
エタン20重量部に、あらかじめエチレングリコールモ
ノメチルエーテルに溶解したジシアンジアミド1重量部
を配合した。硬化促進剤として1−シアノエチル−2−
エチル−4−メチルイミダゾール0.2重量部を配合
し、不揮発分65%のワニスを作製した。
【0025】[比較例4]比較例3において、1,1,
2,2−テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタ
ンに代えてo−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂と
した以外は、比較例3と同様の配合でワニスを作製し
た。
2,2−テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタ
ンに代えてo−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂と
した以外は、比較例3と同様の配合でワニスを作製し
た。
【0026】各実施例及び比較例1〜4の主な配合を表
1に示す。各実施例及び比較例1〜4で得られたワニス
を、厚みが0.2mmのガラス布に含浸し、160℃で
2〜5分加熱してプリプレグを得た。得られたプリプレ
グ4枚を重ね、その両側に18μmの銅箔を重ね、17
5℃、90分、2.5MPaのプレス条件で両面銅張積
層板を作製した。得られた両面銅張積層板について、T
g、はんた耐熱性、吸水率、耐電食性、加熱変色性なら
びに常温及び200℃での曲げ強さ、曲げ弾性率を調べ
た。その結果を表2及び表3に示す。なお、これらの両
面銅張積層板は全て、UL−94 V0相当の耐燃性を
有することを確認した。
1に示す。各実施例及び比較例1〜4で得られたワニス
を、厚みが0.2mmのガラス布に含浸し、160℃で
2〜5分加熱してプリプレグを得た。得られたプリプレ
グ4枚を重ね、その両側に18μmの銅箔を重ね、17
5℃、90分、2.5MPaのプレス条件で両面銅張積
層板を作製した。得られた両面銅張積層板について、T
g、はんた耐熱性、吸水率、耐電食性、加熱変色性なら
びに常温及び200℃での曲げ強さ、曲げ弾性率を調べ
た。その結果を表2及び表3に示す。なお、これらの両
面銅張積層板は全て、UL−94 V0相当の耐燃性を
有することを確認した。
【0027】試験方法は以下の通りである。 Tg:銅箔をエッチングし、TMA(熱機械分析)によ
り測定。単位:℃ はんだ耐熱性:銅箔をエッチングし、プレッシャークッ
カーテスター中に2時間保持した後、260℃のはんだ
に20秒間浸漬して、外観を目視で調べた。表中NGと
は、ミーズリング、ふくれ発生を意味する。 吸水率:銅箔をエッチングし、プレッシャークッカーテ
スター中に4時間保持した前後の重量の差から算出し
た。単位:% 加熱変色性:銅箔をエッチングし、気中において160
℃で5時間処理した後、目視により評価した。変色のな
いものを〇,若干変色したものを△、変色したものを×
とした。 曲げ試験:JISC6481に従い、常温及び200℃
で測定した。単位:曲げ強さ(MPa)、曲げ弾性率
(GPa)。 耐電食性試験:スルーホール穴壁間隔を350μmとし
たテストパターンを用いて、各試料について400穴の
絶縁抵抗を経時的に測定した。試験条件は、85℃、9
0%RH雰囲気中100V印加して行い、導通破壊が発
生するまでの時間を測定した。
り測定。単位:℃ はんだ耐熱性:銅箔をエッチングし、プレッシャークッ
カーテスター中に2時間保持した後、260℃のはんだ
に20秒間浸漬して、外観を目視で調べた。表中NGと
は、ミーズリング、ふくれ発生を意味する。 吸水率:銅箔をエッチングし、プレッシャークッカーテ
スター中に4時間保持した前後の重量の差から算出し
た。単位:% 加熱変色性:銅箔をエッチングし、気中において160
℃で5時間処理した後、目視により評価した。変色のな
いものを〇,若干変色したものを△、変色したものを×
とした。 曲げ試験:JISC6481に従い、常温及び200℃
で測定した。単位:曲げ強さ(MPa)、曲げ弾性率
(GPa)。 耐電食性試験:スルーホール穴壁間隔を350μmとし
たテストパターンを用いて、各試料について400穴の
絶縁抵抗を経時的に測定した。試験条件は、85℃、9
0%RH雰囲気中100V印加して行い、導通破壊が発
生するまでの時間を測定した。
【0028】
【表1】
【0029】
【表2】
【0030】
【表3】
【0031】以上の結果から、次のことが分る。エポキ
シ樹脂に、1,1,2,2−テトラキス(グリシジルオ
キシフェニル)エタンを用いた実施例1〜4は、190
℃以上の高いTgを有し、はんだ耐熱性、耐電食性も良
好である。また、常温における曲げ強さ、曲げ弾性率に
対する200℃における曲げ強さ、曲げ弾性率の低下が
小さい。また、硬化促進剤にイソシアネートマスクイミ
ダゾールを用いた実施例4は、プリプレグの保存安定性
が良好である。さらに、ビスフェノールAノボラック樹
脂を用いた実施例1〜4及び比較例1は加熱変色性が良
好である。これに対して、エポキシ樹脂にo−クレゾー
ルノボラツク型エポキシ樹脂を用いた比較例1及び、ビ
スフェノールAノボラック樹脂に代えてフェノールノボ
ラック樹脂を用いた比較例2は、Tgが低く、200℃
における曲げ強さ、曲げ弾性率とも低い。また、硬化剤
にジシアンジアミドを用いた比較例3及び4は吸水率が
大きく、耐電食性に劣る。
シ樹脂に、1,1,2,2−テトラキス(グリシジルオ
キシフェニル)エタンを用いた実施例1〜4は、190
℃以上の高いTgを有し、はんだ耐熱性、耐電食性も良
好である。また、常温における曲げ強さ、曲げ弾性率に
対する200℃における曲げ強さ、曲げ弾性率の低下が
小さい。また、硬化促進剤にイソシアネートマスクイミ
ダゾールを用いた実施例4は、プリプレグの保存安定性
が良好である。さらに、ビスフェノールAノボラック樹
脂を用いた実施例1〜4及び比較例1は加熱変色性が良
好である。これに対して、エポキシ樹脂にo−クレゾー
ルノボラツク型エポキシ樹脂を用いた比較例1及び、ビ
スフェノールAノボラック樹脂に代えてフェノールノボ
ラック樹脂を用いた比較例2は、Tgが低く、200℃
における曲げ強さ、曲げ弾性率とも低い。また、硬化剤
にジシアンジアミドを用いた比較例3及び4は吸水率が
大きく、耐電食性に劣る。
【0032】
【発明の効果】本発明の印刷配線板用エポキシ樹脂組成
物は、印刷配線板とした場合に吸湿性が低く、優れた耐
熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変色性を有し、かつ
高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を得ることができ
る。
物は、印刷配線板とした場合に吸湿性が低く、優れた耐
熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変色性を有し、かつ
高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を得ることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 1/03 610 7511−4E H05K 1/03 610L (72)発明者 佐瀬 茂雄 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内
Claims (5)
- 【請求項1】(a)1,1,2,2−テトラキス(ヒド
ロキシフェニル)エタンのグリシジルエーテル化物、そ
の二量体、その三量体及びそれらの混合物及び、(b)
ビスフェノールAとホルムアルデヒドの縮合物、(c)
難燃剤、(d)硬化促進剤を必須成分として配合してな
る印刷配線板用エポキシ樹脂組成物。 - 【請求項2】難燃剤がテトラブロモビスフェノールAで
ある請求項1記載の印刷配線板用エポキシ樹脂組成物。 - 【請求項3】難燃剤がテトラブロモビスフェノールAの
グリシジルエーテル化物である請求項1記載の印刷配線
板用エポキシ樹脂組成物。 - 【請求項4】難燃剤がフェノールとホルムアルデヒドの
縮合物のグリシジルエーテル化物の臭素化物である請求
項1記載の印刷配線板用エポキシ樹脂組成物。 - 【請求項5】硬化促進剤がイソシアネートマスクイミダ
ゾールである請求項1記載の印刷配線板用エポキシ樹脂
組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16067395A JPH0912677A (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16067395A JPH0912677A (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0912677A true JPH0912677A (ja) | 1997-01-14 |
Family
ID=15720012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16067395A Pending JPH0912677A (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0912677A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11209456A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-08-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 印刷配線板用難燃性エポキシ樹脂組成物及びこれを用いたプリプレグ、金属箔張り積層板 |
| EP0870805A3 (en) * | 1997-04-07 | 2000-02-09 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Epoxy composition for printed circuit boards |
| US6156865A (en) * | 1998-11-19 | 2000-12-05 | Nec Corporation | Flame retardant thermosetting resin composition |
| WO2007046262A1 (ja) * | 2005-10-18 | 2007-04-26 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、感光性樹脂組成物およびその硬化物 |
| WO2010074119A1 (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-01 | ナミックス株式会社 | 外部電極用導電性ペースト、及びそれを用いて形成した外部電極を有する積層セラミック電子部品 |
-
1995
- 1995-06-27 JP JP16067395A patent/JPH0912677A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0870805A3 (en) * | 1997-04-07 | 2000-02-09 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Epoxy composition for printed circuit boards |
| US6180250B1 (en) * | 1997-04-07 | 2001-01-30 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Epoxy composition for printed circuit boards |
| JPH11209456A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-08-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 印刷配線板用難燃性エポキシ樹脂組成物及びこれを用いたプリプレグ、金属箔張り積層板 |
| US6156865A (en) * | 1998-11-19 | 2000-12-05 | Nec Corporation | Flame retardant thermosetting resin composition |
| WO2007046262A1 (ja) * | 2005-10-18 | 2007-04-26 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、感光性樹脂組成物およびその硬化物 |
| US7884172B2 (en) | 2005-10-18 | 2011-02-08 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Tetraglycidyl ether of 1,1,2,2-tetrakis(hydroxyphenyl)ethane |
| WO2010074119A1 (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-01 | ナミックス株式会社 | 外部電極用導電性ペースト、及びそれを用いて形成した外部電極を有する積層セラミック電子部品 |
| JP5400801B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2014-01-29 | ナミックス株式会社 | 外部電極用導電性ペースト、それを用いて形成した外部電極を有する積層セラミック電子部品及び積層セラミック電子部品の製造方法 |
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