JPH09129432A - 積層インダクタ及びその製造方法 - Google Patents
積層インダクタ及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH09129432A JPH09129432A JP7308278A JP30827895A JPH09129432A JP H09129432 A JPH09129432 A JP H09129432A JP 7308278 A JP7308278 A JP 7308278A JP 30827895 A JP30827895 A JP 30827895A JP H09129432 A JPH09129432 A JP H09129432A
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- JP
- Japan
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- laminated
- magnetic
- powder
- laminated inductor
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高周波帯域でもインダクタンスが安定し、Q
特性に優れた積層インダクタを提供すること。 【解決手段】 Ni、Zn、Cu、Feを主成分とする
スピネル型軟磁性フェライト粉末を含有する磁性体層用
ペーストと、Ag、CuまたはNiの金属粉末を含有す
る導電体層用ペーストを印刷法により積層し、これを同
時焼成する積層インダクタの製造方法において、前記磁
性体層用ペーストとして、前記スピネル型軟磁性粉末と
シリコーン樹脂を混合して用いる。
特性に優れた積層インダクタを提供すること。 【解決手段】 Ni、Zn、Cu、Feを主成分とする
スピネル型軟磁性フェライト粉末を含有する磁性体層用
ペーストと、Ag、CuまたはNiの金属粉末を含有す
る導電体層用ペーストを印刷法により積層し、これを同
時焼成する積層インダクタの製造方法において、前記磁
性体層用ペーストとして、前記スピネル型軟磁性粉末と
シリコーン樹脂を混合して用いる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品に使用さ
れる積層インダクタ及びその製造方法に関する。
れる積層インダクタ及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器技術の進歩により、電子
機器内で扱われる信号の周波数帯域が高周波側に広が
り、その帯域は、数100MHz〜数GHzにまで及ん
でいる。この様な高周波帯域における、信号の分離、或
いは合成等の回路で使用されるインダクタに対しては、
目的周波数帯域で高利得(Q)を有することが要求さ
れ、一般には、巻線チップインダクタが利用されてい
る。
機器内で扱われる信号の周波数帯域が高周波側に広が
り、その帯域は、数100MHz〜数GHzにまで及ん
でいる。この様な高周波帯域における、信号の分離、或
いは合成等の回路で使用されるインダクタに対しては、
目的周波数帯域で高利得(Q)を有することが要求さ
れ、一般には、巻線チップインダクタが利用されてい
る。
【0003】一般的に、巻線チップインダクタは、信頼
性が高い反面、金型成形や切削加工を必要とするため、
コスト高になるという問題点を有する。
性が高い反面、金型成形や切削加工を必要とするため、
コスト高になるという問題点を有する。
【0004】これに対し、磁性体粉末を含む磁性体層用
ペーストと導電性粉末を含む導電体層用ペーストを交互
に印刷し、同時焼成した積層インダクタは、巻線チップ
インダクタよりも信頼性が高く、低コストであるため、
上記高周波帯域における利用が検討されている。
ペーストと導電性粉末を含む導電体層用ペーストを交互
に印刷し、同時焼成した積層インダクタは、巻線チップ
インダクタよりも信頼性が高く、低コストであるため、
上記高周波帯域における利用が検討されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、50M
Hz程度の周波数までは高いインダクタンスが得られる
が、高周波化に伴う磁気共鳴等の現象により、100M
Hz以上の高周波域では、急激にインダクタンスが低下
し、インダクタとして全く機能しなくなるという問題点
があった。また、Qピークを示す周波数領域も30MH
z程度であった。
Hz程度の周波数までは高いインダクタンスが得られる
が、高周波化に伴う磁気共鳴等の現象により、100M
Hz以上の高周波域では、急激にインダクタンスが低下
し、インダクタとして全く機能しなくなるという問題点
があった。また、Qピークを示す周波数領域も30MH
z程度であった。
【0006】本発明は、高周波帯域でもインダクタンス
が安定し、Q特性に優れた積層インダクタの製造方法を
提供することにある。
が安定し、Q特性に優れた積層インダクタの製造方法を
提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、積層構造を有
する磁性体層の間に導電体層が形成された積層インダク
タにおいて、100重量部の磁性フェライト粉末と、該
磁性フェライト粉末に対して、2〜500重量部のシリ
コーン樹脂を含む磁性体層用ペーストを用いることを特
徴とする積層インダクタである。
する磁性体層の間に導電体層が形成された積層インダク
タにおいて、100重量部の磁性フェライト粉末と、該
磁性フェライト粉末に対して、2〜500重量部のシリ
コーン樹脂を含む磁性体層用ペーストを用いることを特
徴とする積層インダクタである。
【0008】本発明は、磁性体粉末とバインダを混練し
たペーストで磁性体層を形成し、この磁性体層に所定の
パターンの導電体層を形成し、その後、積層し、焼成
し、層間の導体の接続と外部電極を形成して構成する積
層インダクタの製造方法において、前記磁性体層を構成
するペーストとして、100重量部の磁性フェライト粉
末と、該磁性フェライト粉末に対して、2〜500重量
部のシリコーン樹脂を含むペーストを用いたことを特徴
とする積層インダクタの製造方法である。
たペーストで磁性体層を形成し、この磁性体層に所定の
パターンの導電体層を形成し、その後、積層し、焼成
し、層間の導体の接続と外部電極を形成して構成する積
層インダクタの製造方法において、前記磁性体層を構成
するペーストとして、100重量部の磁性フェライト粉
末と、該磁性フェライト粉末に対して、2〜500重量
部のシリコーン樹脂を含むペーストを用いたことを特徴
とする積層インダクタの製造方法である。
【0009】磁性体層用ペーストをスピネル型軟磁性フ
ェライト粉末とシリコーン樹脂の混合物で構成し、熱処
理により、シリコーン樹脂の有機質を除去し、SiO2
に変化させて、インダクタンスを低下させ、インダクタ
ンスの周波数特性を改善し、その結果、高周波帯域まで
使用可能な積層インダクタが得られる。
ェライト粉末とシリコーン樹脂の混合物で構成し、熱処
理により、シリコーン樹脂の有機質を除去し、SiO2
に変化させて、インダクタンスを低下させ、インダクタ
ンスの周波数特性を改善し、その結果、高周波帯域まで
使用可能な積層インダクタが得られる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。磁性体層用粉末として、スピネル系Ni−Cu−
Znフェライト粉末を用意した。粉末の平均粒径は約1
μmである。又、フェライト粉末に混合するシリコーン
樹脂として、常温で固形状のものを使用した。これらを
表1の比率で溶剤と混合し、混合物を三本ロールで混練
して磁性体層用ペーストを作製した。
する。磁性体層用粉末として、スピネル系Ni−Cu−
Znフェライト粉末を用意した。粉末の平均粒径は約1
μmである。又、フェライト粉末に混合するシリコーン
樹脂として、常温で固形状のものを使用した。これらを
表1の比率で溶剤と混合し、混合物を三本ロールで混練
して磁性体層用ペーストを作製した。
【0011】
【0012】導電体層用粉末として、平均粒径0.5μ
mのAg粉末を用意した。この粉末を表2の比率でバイ
ンダ、溶剤とそれぞれ配合し、配合物を三本ロールで混
練して、導電体層用ペーストを作製した。
mのAg粉末を用意した。この粉末を表2の比率でバイ
ンダ、溶剤とそれぞれ配合し、配合物を三本ロールで混
練して、導電体層用ペーストを作製した。
【0013】
【0014】次に、作製した磁性体層用ペーストを印刷
法により厚さ0.5mmに積層した。その上に、導電体
層用ペーストと磁性体層用ペーストを用いて5.5ター
ンの導電体の積層巻線を形成するように、印刷積層を行
った。この時、一層の積層厚は、磁性体層で約30μ
m、導電体層で約15μmとした。更にその上に、磁性
体層用ペーストを印刷法により、厚さ0.5mmに積層
した。全体の積層厚さは約1.3mmとした。
法により厚さ0.5mmに積層した。その上に、導電体
層用ペーストと磁性体層用ペーストを用いて5.5ター
ンの導電体の積層巻線を形成するように、印刷積層を行
った。この時、一層の積層厚は、磁性体層で約30μ
m、導電体層で約15μmとした。更にその上に、磁性
体層用ペーストを印刷法により、厚さ0.5mmに積層
した。全体の積層厚さは約1.3mmとした。
【0015】ここでは、導電体の積層巻線数を5.5タ
ーンとしたが、これ以外の巻線数でもよく、必要な特性
を得るには、40ターン程度を限界として、巻線を調整
すればよい。
ーンとしたが、これ以外の巻線数でもよく、必要な特性
を得るには、40ターン程度を限界として、巻線を調整
すればよい。
【0016】上記のように作製した積層体を、3mm×
1.5mmの大きさに切断した。この切断した積層体を
脱バインダ後、600℃で同時焼成を行った。
1.5mmの大きさに切断した。この切断した積層体を
脱バインダ後、600℃で同時焼成を行った。
【0017】次に、焼成した積層体に、導電体の積層巻
線のリードが露出している面に、Agを主成分とした導
電性ペーストを塗布し、約300℃で焼き付けを行い、
外部電極を形成した。
線のリードが露出している面に、Agを主成分とした導
電性ペーストを塗布し、約300℃で焼き付けを行い、
外部電極を形成した。
【0018】図1に、得られた積層インダクタの構成を
示す。図1(a)は平面図、図1(b)は断面図であ
る。ここで、1は磁性体層、2は導電体層、3は外部電
極である。
示す。図1(a)は平面図、図1(b)は断面図であ
る。ここで、1は磁性体層、2は導電体層、3は外部電
極である。
【0019】上記のように作製した積層インダクタの、
周波数とインダクタンス(L)及びQの関係をYHP製
インピーダンスアナライザーHP4191Aを用いて評
価した。
周波数とインダクタンス(L)及びQの関係をYHP製
インピーダンスアナライザーHP4191Aを用いて評
価した。
【0020】図2は、実施例で作製した積層インダクタ
の、周波数とL及びQの関係を示す図である。尚、比較
例として、磁性体層を実施例と同じスピネル系Ni−C
u−Znフェライトのみを用いて作製した積層インダク
タの周波数とインダクタンス及びQの関係も併せて示し
た。
の、周波数とL及びQの関係を示す図である。尚、比較
例として、磁性体層を実施例と同じスピネル系Ni−C
u−Znフェライトのみを用いて作製した積層インダク
タの周波数とインダクタンス及びQの関係も併せて示し
た。
【0021】図2より、本実施例の積層インダクタにお
いて、比較例より、粉末の占積率は低下するため、Lは
若干低下するものの、100MHz以上まではLがフラ
ットな特性を示し、又、Qピークを示す周波数領域も1
00MHz以上の領域に到達していることがわかる。
いて、比較例より、粉末の占積率は低下するため、Lは
若干低下するものの、100MHz以上まではLがフラ
ットな特性を示し、又、Qピークを示す周波数領域も1
00MHz以上の領域に到達していることがわかる。
【0022】なお、実施例では、表1及び表2の配合比
でペーストを作製したが、これ以外の成分、配合比でも
印刷可能で導電体の断線が生じないようなペーストが得
られるものであればよい。又、本実施例の磁性体層用ペ
ーストにおいて、シリコーン樹脂の配合比を、粉末10
0重量部に対して10重量部としているが、この配合比
はフェライト粉末が充分な強度を得る量であればよい。
また、上限値に関しては、特性面を考慮すると500重
量部が好ましい。従って、配合量は粉末100重量部に
対して、2重量部以上500重量部以下であればよい。
でペーストを作製したが、これ以外の成分、配合比でも
印刷可能で導電体の断線が生じないようなペーストが得
られるものであればよい。又、本実施例の磁性体層用ペ
ーストにおいて、シリコーン樹脂の配合比を、粉末10
0重量部に対して10重量部としているが、この配合比
はフェライト粉末が充分な強度を得る量であればよい。
また、上限値に関しては、特性面を考慮すると500重
量部が好ましい。従って、配合量は粉末100重量部に
対して、2重量部以上500重量部以下であればよい。
【0023】さらに、本実施例では 配合物の混練に三
本ロールを使用したが、これ以外にもホモジェナイザや
サンドミル等を使用してもよい。
本ロールを使用したが、これ以外にもホモジェナイザや
サンドミル等を使用してもよい。
【0024】また、本実施例では、600℃で焼成を行
ったが、Agが焼成される温度であればよい。
ったが、Agが焼成される温度であればよい。
【0025】又、本実施例では、一つの積層体素子の大
きさを3mm×1.5mmとしたが、これ以外の大きさ
でもよく、その場合、導電体の積層巻線の大きさを調整
すればよい。
きさを3mm×1.5mmとしたが、これ以外の大きさ
でもよく、その場合、導電体の積層巻線の大きさを調整
すればよい。
【0026】また、本実施例では、外部電極としてAg
を主成分とした導電性ペーストを用いたが、これ以外に
も、カーボンやCu,Ni等を主成分とした導電性ペー
ストでも良い。
を主成分とした導電性ペーストを用いたが、これ以外に
も、カーボンやCu,Ni等を主成分とした導電性ペー
ストでも良い。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高周波帯域でもインダクタンスが安定し、Q特性に優れ
た積層インダクタの製造方法を提供することができた。
高周波帯域でもインダクタンスが安定し、Q特性に優れ
た積層インダクタの製造方法を提供することができた。
【図1】積層インダクタの構成を示す図。図1(a)は
平面図。図1(b)は断面図。
平面図。図1(b)は断面図。
【図2】実施例及び比較例の積層インダクタにおける周
波数とインダクタンス及びQの関係を示す図。
波数とインダクタンス及びQの関係を示す図。
1 磁性体層 2 導電体層 3 外部電極 A 実施例 B 比較例
Claims (2)
- 【請求項1】 積層構造を有する磁性体層の間に導電体
層が形成された積層インダクタにおいて、100重量部
の磁性フェライト粉末と、該磁性フェライト粉末に対し
て、2〜500重量部のシリコーン樹脂を含む磁性体層
用ペーストを用いることを特徴とする積層インダクタ。 - 【請求項2】 磁性体粉末とバインダを混練したペース
トで磁性体層を形成し、この磁性体層に所定のパターン
の導電体層を形成し、その後、積層し、焼成し、層間の
導体の接続と外部電極を形成して構成する積層インダク
タの製造方法において、前記磁性体層を構成するペース
トとして、100重量部の磁性フェライト粉末と、該磁
性フェライト粉末に対して、2〜500重量部のシリコ
ーン樹脂を含むペーストを用いたことを特徴とする積層
インダクタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7308278A JPH09129432A (ja) | 1995-10-31 | 1995-10-31 | 積層インダクタ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7308278A JPH09129432A (ja) | 1995-10-31 | 1995-10-31 | 積層インダクタ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09129432A true JPH09129432A (ja) | 1997-05-16 |
Family
ID=17979113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7308278A Pending JPH09129432A (ja) | 1995-10-31 | 1995-10-31 | 積層インダクタ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09129432A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102262950A (zh) * | 2010-05-31 | 2011-11-30 | 比亚迪股份有限公司 | 一种镍锌铜软磁铁氧体及其制备方法 |
| JP2013138231A (ja) * | 2005-11-01 | 2013-07-11 | Toshiba Corp | 電源icパッケージ |
-
1995
- 1995-10-31 JP JP7308278A patent/JPH09129432A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013138231A (ja) * | 2005-11-01 | 2013-07-11 | Toshiba Corp | 電源icパッケージ |
| CN102262950A (zh) * | 2010-05-31 | 2011-11-30 | 比亚迪股份有限公司 | 一种镍锌铜软磁铁氧体及其制备方法 |
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